JPS61181816A - 変性エポキシ樹脂の製造方法 - Google Patents
変性エポキシ樹脂の製造方法Info
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- JPS61181816A JPS61181816A JP60020102A JP2010285A JPS61181816A JP S61181816 A JPS61181816 A JP S61181816A JP 60020102 A JP60020102 A JP 60020102A JP 2010285 A JP2010285 A JP 2010285A JP S61181816 A JPS61181816 A JP S61181816A
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- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 15
- -1 diisocyanate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 3
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 2
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 abstract 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 abstract 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 11
- WDGCBNTXZHJTHJ-UHFFFAOYSA-N 2h-1,3-oxazol-2-id-4-one Chemical group O=C1CO[C-]=N1 WDGCBNTXZHJTHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMTLVUCMBWBYSO-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 WMTLVUCMBWBYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 239000012261 resinous substance Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス転移温度を下げずに耐熱衝撃性を付与
した半導体封止用の変性エポキシ樹脂の製造方法に関す
るものである。
した半導体封止用の変性エポキシ樹脂の製造方法に関す
るものである。
半導体製品の技術革新は、目覚ましく高密度化ととも:
:、素子サイズの大型化、パッケージの小形、薄形化、
更に実装の合理化により封止用樹脂に対する要求は一段
と厳しいものになってきている。
:、素子サイズの大型化、パッケージの小形、薄形化、
更に実装の合理化により封止用樹脂に対する要求は一段
と厳しいものになってきている。
従来、一般にノボ2ツク型エポキシ樹脂、ノボラック硬
化剤の配合物が多く用いられているが、成形品を半田浸
漬処理するとその急激な熱衝撃によって樹脂またはチッ
プのクラック、リードフレームまたはチップとの界面剥
離などの欠陥を生じて耐湿性、信頼性の大巾な低下をひ
き起こしている。
化剤の配合物が多く用いられているが、成形品を半田浸
漬処理するとその急激な熱衝撃によって樹脂またはチッ
プのクラック、リードフレームまたはチップとの界面剥
離などの欠陥を生じて耐湿性、信頼性の大巾な低下をひ
き起こしている。
一方、通常の2官能性エポキシ樹脂、例えば油化シェル
エポキシ社製のエピコート828と2官能性イソシアネ
ート化合物、例えば4.4′−ジフェニルメタン・ジイ
ソシアネートとを反応させて、イソシアネート変性エポ
キシ樹脂を得ることは、特開昭50−48100号公報
、特開昭55−160021 号公報など1:より公
知であるが、塩素含有率が比較的多いため、この分野に
適用しても耐湿性、信頼性が悪くて使えない。
エポキシ社製のエピコート828と2官能性イソシアネ
ート化合物、例えば4.4′−ジフェニルメタン・ジイ
ソシアネートとを反応させて、イソシアネート変性エポ
キシ樹脂を得ることは、特開昭50−48100号公報
、特開昭55−160021 号公報など1:より公
知であるが、塩素含有率が比較的多いため、この分野に
適用しても耐湿性、信頼性が悪くて使えない。
また、これらの公知の製造方法を塩素含有率の少ない2
官能性エポキシ樹脂に適用しても、適度な融点と溶融粘
度を有する保存性の良い固形の変性エポキシ樹脂を得る
ことは困難であった。
官能性エポキシ樹脂に適用しても、適度な融点と溶融粘
度を有する保存性の良い固形の変性エポキシ樹脂を得る
ことは困難であった。
本発明は、従来のエポキシ樹脂封止における半田浸漬処
理による耐湿性、信頼性の大巾な低下を克服せんとして
研究した結果、塩素含有率の少ないインシアヌレートお
よびオキサゾリドン環を含有する変性エポキシ樹脂を用
いることにより、半導体封止装置の耐熱衝撃性が改善さ
れるとの知見を得、更にこの知見を基に種々研究を進め
て本発明を完成するに至ったものである。
理による耐湿性、信頼性の大巾な低下を克服せんとして
研究した結果、塩素含有率の少ないインシアヌレートお
よびオキサゾリドン環を含有する変性エポキシ樹脂を用
いることにより、半導体封止装置の耐熱衝撃性が改善さ
れるとの知見を得、更にこの知見を基に種々研究を進め
て本発明を完成するに至ったものである。
その目的とするところは、ガラス転移温度を下げずに耐
熱衝撃性を付与した塩素含有率の少ない半導体封止用の
固形変性エポキシ樹脂の製造方法を提供するにある。
熱衝撃性を付与した塩素含有率の少ない半導体封止用の
固形変性エポキシ樹脂の製造方法を提供するにある。
〔発明の構成〕
本発明は、塩素含有率1000 pPTI以下の2官能
性エポキシ化合物100部と、2官能性イソシアネート
化合物4〜10部と、反応触媒0.005〜O,OS部
とを撹拌しながら140〜180℃で、イソシアネート
基が消失するまで反応させ、これに2官能性イソシアネ
ート化合物の総量が15〜30部になるよう&:2官能
性イソシアネート化合物を逐次添加し、更にイソシアネ
ート基が消失するまで、反応させることを特徴とする変
性エポキシ樹脂の製造方法である。
性エポキシ化合物100部と、2官能性イソシアネート
化合物4〜10部と、反応触媒0.005〜O,OS部
とを撹拌しながら140〜180℃で、イソシアネート
基が消失するまで反応させ、これに2官能性イソシアネ
ート化合物の総量が15〜30部になるよう&:2官能
性イソシアネート化合物を逐次添加し、更にイソシアネ
ート基が消失するまで、反応させることを特徴とする変
性エポキシ樹脂の製造方法である。
本発明において用いられる2官能性エポキシ化合物は、
塩素含有率を10001)frfT以下、更に好ましく
は700 ppm以下にした1分子中に2個のエポキシ
基を有するビスフェノールAあるいはビスフェノールF
型のもので、好ましくはエポキシ当量が500以下、更
に好ましくは300以下のものがよい。
塩素含有率を10001)frfT以下、更に好ましく
は700 ppm以下にした1分子中に2個のエポキシ
基を有するビスフェノールAあるいはビスフェノールF
型のもので、好ましくはエポキシ当量が500以下、更
に好ましくは300以下のものがよい。
塩素含有率は、多いと耐湿性、信頼性が悪化する。2官
能性エポキシの樹脂骨格は経済性、作業性および反応性
などからビスフェノールAあるいはビスフェノールF型
のものがバランスがとれていてよい。エポキシ当量は太
き過ぎると得られる変性樹脂の融点、溶融粘度が高くな
り作業性が非常に悪くなる。
能性エポキシの樹脂骨格は経済性、作業性および反応性
などからビスフェノールAあるいはビスフェノールF型
のものがバランスがとれていてよい。エポキシ当量は太
き過ぎると得られる変性樹脂の融点、溶融粘度が高くな
り作業性が非常に悪くなる。
2酉能性インシアネ一ト化合物は、通常の芳香族ジイソ
シアネート、例えばフェニレンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルエーテ
ルジイソシアネートまたは、これらの混合物でよい。好
ましくは、塩素含有率100 pI)m以下のものがよ
い。最初加える2官能性イソシアネート化合物は、2官
能性エポキシ化合物100部に対し、4〜10部がよく
、少な過ぎても多過ぎてもオキサゾリドン環の生成が少
ないか、あるいは殆んど生成しないでインシアヌレート
環だけが生成し、ゲル化するか又は多量のイソシアネー
ト基を残して保存性の悪い粘稠な樹脂状になり、適度な
融点のものが得られない。
シアネート、例えばフェニレンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルエーテ
ルジイソシアネートまたは、これらの混合物でよい。好
ましくは、塩素含有率100 pI)m以下のものがよ
い。最初加える2官能性イソシアネート化合物は、2官
能性エポキシ化合物100部に対し、4〜10部がよく
、少な過ぎても多過ぎてもオキサゾリドン環の生成が少
ないか、あるいは殆んど生成しないでインシアヌレート
環だけが生成し、ゲル化するか又は多量のイソシアネー
ト基を残して保存性の悪い粘稠な樹脂状になり、適度な
融点のものが得られない。
後から逐次添加される2官能性インシアネ一ト化合物は
、その総量が15〜30部になるように添加するとよい
。少な過ぎると得られる変性樹脂の融点が低く、常温で
は粘稠な樹脂状物となり、作業性が悪く、また硬化物の
ガラス転移温度が低下し、耐熱性、耐湿性、信頼性も良
くない。多過ぎると融点および溶融粘度が高くなって作
業が困難になり、反応中、ゲル化し易くなる。
、その総量が15〜30部になるように添加するとよい
。少な過ぎると得られる変性樹脂の融点が低く、常温で
は粘稠な樹脂状物となり、作業性が悪く、また硬化物の
ガラス転移温度が低下し、耐熱性、耐湿性、信頼性も良
くない。多過ぎると融点および溶融粘度が高くなって作
業が困難になり、反応中、ゲル化し易くなる。
塩素含有率の少ない2官能性エポキシ化合物と2官能性
インシアネ一ト化合物との反応は、塩素含有率の比較的
多い通常の2官能性エポキシ樹脂の場合と異なり、これ
らの2官能性インシアネ一ト化合物を最初に全量添加す
るか、または一様の速さで逐次添加するとオキサゾリド
ン環の生成が極度に減少する。得られる変性樹脂は、イ
ンシアヌレート環は生成しているが、イソシアネート基
が多量に残存する保存性の急い粘稠な樹脂状物かまたは
ゲル化物で適度な融点を有する保存性の良い変性樹脂は
得られない。その作用機構は、まだ定かでないが不純物
として存在する少量の塩素がオキサゾリドン環の生成(
二大きく関与している。
インシアネ一ト化合物との反応は、塩素含有率の比較的
多い通常の2官能性エポキシ樹脂の場合と異なり、これ
らの2官能性インシアネ一ト化合物を最初に全量添加す
るか、または一様の速さで逐次添加するとオキサゾリド
ン環の生成が極度に減少する。得られる変性樹脂は、イ
ンシアヌレート環は生成しているが、イソシアネート基
が多量に残存する保存性の急い粘稠な樹脂状物かまたは
ゲル化物で適度な融点を有する保存性の良い変性樹脂は
得られない。その作用機構は、まだ定かでないが不純物
として存在する少量の塩素がオキサゾリドン環の生成(
二大きく関与している。
反応触媒は、通常の3級アミン、イミダゾール類、ホス
フィン類などが使用できる。*+;、1.8−ジアザ−
ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(ル系化合物塩
が有効である。触媒量は、上記の配合量に対し0.00
5〜008部、更に好ましくはo、oos〜0.05部
が適当で多過ぎるとゲル化し易く、少な過ぎると反応が
非常に遅く、またオキサゾリドン環の生成が減少して適
度な融点の保存性の良い変性樹脂が得られない。
フィン類などが使用できる。*+;、1.8−ジアザ−
ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(ル系化合物塩
が有効である。触媒量は、上記の配合量に対し0.00
5〜008部、更に好ましくはo、oos〜0.05部
が適当で多過ぎるとゲル化し易く、少な過ぎると反応が
非常に遅く、またオキサゾリドン環の生成が減少して適
度な融点の保存性の良い変性樹脂が得られない。
反応温度は、140〜180℃の範囲がよい。低過ぎる
とオキサゾリドン環の生成が減少し、適度な融点の保存
性のよいものが得られず、高過ぎるとゲル化し易く、反
応のコントロールが難しくなる。
とオキサゾリドン環の生成が減少し、適度な融点の保存
性のよいものが得られず、高過ぎるとゲル化し易く、反
応のコントロールが難しくなる。
本発明方法に従うと、塩素含有率の少ない2官能性エポ
キシ樹脂でも、イソシアネート基が消失してオキサゾリ
ドン環およびインシアヌレート環を形成し、適度な融点
および溶融粘度の変性エポキシ樹脂が得られる。これを
半導体封止用に用いると、ガラス転移温度を下げずに半
田処理の熱衝撃に耐える耐湿性の良い成形品が得られる
ので、工業的な変性エポキシ樹脂の製法として好適であ
る。
キシ樹脂でも、イソシアネート基が消失してオキサゾリ
ドン環およびインシアヌレート環を形成し、適度な融点
および溶融粘度の変性エポキシ樹脂が得られる。これを
半導体封止用に用いると、ガラス転移温度を下げずに半
田処理の熱衝撃に耐える耐湿性の良い成形品が得られる
ので、工業的な変性エポキシ樹脂の製法として好適であ
る。
実施例1゜
塩素含有率soo ppmのビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(エポキシ当量: 175 ) 100部と、2
.4−トリレンジイソシアネート7部にDBU 0.0
1部を加え、150℃で撹拌しながら60分反応させ、
これに2.4−トリレンジイソシアネート15部を6
0分かけて滴下し、更に60分反応させた。
シ樹脂(エポキシ当量: 175 ) 100部と、2
.4−トリレンジイソシアネート7部にDBU 0.0
1部を加え、150℃で撹拌しながら60分反応させ、
これに2.4−トリレンジイソシアネート15部を6
0分かけて滴下し、更に60分反応させた。
得られた変性樹脂は、赤外スペクトルで2260cIL
−1のイソシアネート基の吸収が消失し、1750α〜
1のオキサゾリドン環のC=Oと、1710 cIn−
” のイソシアヌレート環のC=0の吸収が、はぼ同
程度認められ、91QcrIL−’のエポキシ基の吸収
も残存していた。融点68℃ 比較例1゜ 実施例1、の2.4− )リレンジイソシアネートを分
割せずに全量22部を最初に添加し、150℃で撹拌し
ながら18080分反応た。
−1のイソシアネート基の吸収が消失し、1750α〜
1のオキサゾリドン環のC=Oと、1710 cIn−
” のイソシアヌレート環のC=0の吸収が、はぼ同
程度認められ、91QcrIL−’のエポキシ基の吸収
も残存していた。融点68℃ 比較例1゜ 実施例1、の2.4− )リレンジイソシアネートを分
割せずに全量22部を最初に添加し、150℃で撹拌し
ながら18080分反応た。
得られた樹脂は、赤外スペクトルで226Q cm−1
のイソシアネート基の吸収が残存し、1710 cII
L−1のイソシアヌレート環のC=0は生成しているが
、1750cIL−1のオキサゾリドン環のC=Oの吸
収は殆んど認められなかった。室温では粘稠な樹脂状物
であった。
のイソシアネート基の吸収が残存し、1710 cII
L−1のイソシアヌレート環のC=0は生成しているが
、1750cIL−1のオキサゾリドン環のC=Oの吸
収は殆んど認められなかった。室温では粘稠な樹脂状物
であった。
比較例2゜
実施例1の2.4−トリレンジイソシアネートの全量を
60分かけて逐次添加し、更に12020分反応た。
60分かけて逐次添加し、更に12020分反応た。
得られた樹脂は、赤外スペクトルで2260 cIIt
−”のイソシアネート基の吸収が残存し、1710cK
−1のインシアヌレート環のC=0は生成しているが、
1750 cIL”のオキサゾリドン環のC=Oの吸収
は極くわずかであった。室温では、粘稠な樹脂状物であ
った。
−”のイソシアネート基の吸収が残存し、1710cK
−1のインシアヌレート環のC=0は生成しているが、
1750 cIL”のオキサゾリドン環のC=Oの吸収
は極くわずかであった。室温では、粘稠な樹脂状物であ
った。
実施例2゜
mi含有率450 pl)mのビスフェノールF型エポ
キシ樹脂(エポキシ当量: 165 ) 100部と4
.4’−ジフェニルメタンシイツクアネート8部に2−
エチル−4−メチルイミダゾール0503部を加え、1
70℃で撹拌しながら45分反応させ、これに2.4−
トリレンジイソシアネート12部を45分かけて滴下し
、更に60分反応させた。
キシ樹脂(エポキシ当量: 165 ) 100部と4
.4’−ジフェニルメタンシイツクアネート8部に2−
エチル−4−メチルイミダゾール0503部を加え、1
70℃で撹拌しながら45分反応させ、これに2.4−
トリレンジイソシアネート12部を45分かけて滴下し
、更に60分反応させた。
得られた変性樹脂は、イソシアネート基の残存しないオ
キサゾリドン環のC==Oとインシアヌレート環のU=
Oの赤外スペクトルがほぼ同程度のエポキシ樹脂で融点
は70℃であった。
キサゾリドン環のC==Oとインシアヌレート環のU=
Oの赤外スペクトルがほぼ同程度のエポキシ樹脂で融点
は70℃であった。
実施例1および2の変性エポキシ樹脂に通常のノボラッ
ク型エポキシ樹脂と同様にノボラック硬化剤、硬化促進
剤、充てん剤、離型剤、シランカップリング剤を配合し
、ロール混練して成形材料とした。
ク型エポキシ樹脂と同様にノボラック硬化剤、硬化促進
剤、充てん剤、離型剤、シランカップリング剤を配合し
、ロール混練して成形材料とした。
いずれも適度な溶融粘度を有し、ロール作業性は良好で
あった。トランスファー成形による成形品は原料のエポ
キシ樹脂が2官能性であるにもかかわらず、多官能性の
ノボラック型エポキシ樹脂と同等のガラス転移温度を有
し、半田処理に対する耐熱衝撃性は従来のノボラック型
エポキシ樹脂より大巾に向上した。
あった。トランスファー成形による成形品は原料のエポ
キシ樹脂が2官能性であるにもかかわらず、多官能性の
ノボラック型エポキシ樹脂と同等のガラス転移温度を有
し、半田処理に対する耐熱衝撃性は従来のノボラック型
エポキシ樹脂より大巾に向上した。
Claims (1)
- 塩素含有率1000ppm以下の2官能性エポキシ化合
物100部と、2官能性イソシアネート化合物4〜10
部と、反応触媒0.005〜0.08部とを、撹拌しな
がら、140〜180℃でイソシアネート基が消失する
まで反応させ、これに2官能性イソシアネート化合物の
総量が15〜30部になるように、2官能性イソシアネ
ート化合物を、逐次添加し更にイソシアネート基が消失
するまで反応させることを特徴とする変性エポキシ樹脂
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60020102A JPS61181816A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 変性エポキシ樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60020102A JPS61181816A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 変性エポキシ樹脂の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61181816A true JPS61181816A (ja) | 1986-08-14 |
JPH058729B2 JPH058729B2 (ja) | 1993-02-03 |
Family
ID=12017749
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60020102A Granted JPS61181816A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 変性エポキシ樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61181816A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3260481A1 (de) * | 2016-06-20 | 2017-12-27 | Henkel AG & Co. KGaA | Gehärtete zusammensetzung mit hoher schlagfestigkeit und temperaturbeständigkeit, basierend auf einem epoxidharz und einem polyisocyanat |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4937999A (ja) * | 1972-08-15 | 1974-04-09 | ||
JPS4993493A (ja) * | 1972-11-09 | 1974-09-05 | ||
JPS5048100A (ja) * | 1973-08-31 | 1975-04-28 | ||
JPS5626926A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-16 | Toshiba Corp | Epoxy resin molding material for sealing electronic part |
JPS5956748A (ja) * | 1983-08-29 | 1984-04-02 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置の |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP60020102A patent/JPS61181816A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4937999A (ja) * | 1972-08-15 | 1974-04-09 | ||
JPS4993493A (ja) * | 1972-11-09 | 1974-09-05 | ||
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JPS5626926A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-16 | Toshiba Corp | Epoxy resin molding material for sealing electronic part |
JPS5956748A (ja) * | 1983-08-29 | 1984-04-02 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置の |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP3260481A1 (de) * | 2016-06-20 | 2017-12-27 | Henkel AG & Co. KGaA | Gehärtete zusammensetzung mit hoher schlagfestigkeit und temperaturbeständigkeit, basierend auf einem epoxidharz und einem polyisocyanat |
WO2017220437A1 (de) * | 2016-06-20 | 2017-12-28 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Gehärtete zusammensetzung mit hoher schlagfestigkeit und temperaturbeständigkeit, basierend auf einem epoxidharz und einem polyisocyanat |
US11566113B2 (en) | 2016-06-20 | 2023-01-31 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Cured composition having high impact strength and temperature resistance, based on an epoxy resin and a polyisocyanate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH058729B2 (ja) | 1993-02-03 |
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