JPS6116301B2 - - Google Patents
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Landscapes
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
本発明は、新規な被覆組成物に関し、更に詳し
くは熱や放射線エネルギーにより架橋硬化し、諸
物性に優れた被膜を与える新規な被覆組成物の提
供を目的とする。 従来、放射線により架橋硬化する被覆組成物は
多数公知であるが、これら従来の被覆組成物の主
たる被膜形成成分は、比較的低分子量のモノマー
やオリゴマーであるため、形成された被膜の密着
性、屈曲性、耐衝撃性等が不十分であり、また、
全てのモノマーやオリゴマー分子を完全に高分子
化することも困難であり、種々の問題を生じてい
る。 本発明者は上述の如き従来技術の欠点を解決す
べく鋭意研究の結果、特定の多官能性高分子物を
主たる被膜形成成分として使用することにより、
上述の従来技術の欠点が解決されることを知見し
て本発明を完成した。 すなわち、本発明は、被膜形成成分および媒体
を含む被覆組成物において、主たる被膜形成成分
がα,β−エチレン性不飽和カルボニル基を有す
るモノヒドロキシまたはモノアミノ化合物、平均
分子量が約1000〜10000の末端ポリヒドロキシま
たはポリアミノオリゴマーおよびポリイソシアネ
ート化合物から得られる平均分子量が約8000〜
50000の反応性成物であり、上記媒体が水または
比較的揮発性の高い非反応性有機溶剤であり、且
つ、上記被膜形成成分は被覆組成物全量の5〜60
重量%の範囲であることを特徴とする被覆組成物
である。 本発明を更に詳細に説明すると、本発明で使用
する化合物(A)はアクリル酸、メタクリ酸、クロト
ン酸、マレイン酸、イタコン酸等のα,β−エチ
レン性不飽和カルボン酸とポリオール化合物また
はモノアミノポリオール化合物等の多官能化合物
とを、水酸基またはアミノ基が1個残るように反
応させることによつて得られるものであつて、例
えば、好ましいものとして、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート等である。これらの
化合物(A)は、本発明において使用する被膜形成成
分である多官能重合体の末端官能基を形成する。 オリゴマー(B)はポリマー鎖末端に水酸基または
アミノ基を有するものであつて、例えば、そのポ
リマー鎖として、1,2または1,4−ポリブタ
ジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ブ
タジエン−スチレンコポリマー、スチレン−イソ
プレンコポリマー、ブタジエン−アクリロニトリ
ルコポリマーあるいはそれらの部分または完全水
素添加物等;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リプチレン、エチレン−ピロピレンコポリマー
等;ポリスチレン等;ポリメチルアクリレート;
ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサ
イド、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイ
ドコポリマー、ポリテトラメチレンエーテル等;
ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペー
ト、ポリエチレンブチレンアジペート、ポリε−
カプロラクトン、ポリブチレンテレフタレート、
ビスフエノールAとポリブチレンオキサイドとの
付加生成物とアジピン酸、テレフタル酸、イソフ
タル酸等とのポリエステル等;ダイマー酸とエチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアル
キレンジアミンとのポリアミド、アゼライン酸、
セバシン酸等のジカルボン酸とヘキサメチレンジ
アミン等とのボリアミド;ジオールとジイソシア
ネートとからなるポリウレタン等であり、これら
の重合体鎖は単独重合体、ランダムコポリマーグ
ラフトコポリマー、ブロツクコポリマー等いずれ
の形式のものでもよい。 このような重合体鎖は、その平均分子量が約
1000〜10000のものであり、この範囲の平均分子
量のものが本発明の所期の目的の達成に好まし
い。 また、末端基として最も好ましいものは水酸基
でありほぼ2個好ましい。 本発明で使用するポリイソシアネート化合物と
しては、例えば、トリレンジイソシアネート、
4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート、ナ
フタレンジイソシアネート、トリジンジイソシア
ネート、フエニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、ビス(イ
ソシアネートメチル)シクロヘキサン、ジシクロ
ヘキシルメタンジイソシアネート、リジンジイソ
シアネート、トリメチルヘキサメチルジイソシア
ネート等である。 上述の化合物(A),(B)およびポリイソシアネート
化合物はいずれも例示であつて、これら以外の公
知の化合物(A),(B)およびポリイソシアネート化合
物も本発明で使用することができる。また、いず
れの化合物も単独でも混合物でも使用することが
できる。 本発明で使用する被膜形成成分は上述の各成分
を反応させることにより製造されるが、その製造
方法自体は、従来のポリウレタンあるいはポリ尿
素の製造方法に準ずる。但し、原料がα,β−エ
チレン性不飽和カルボニル基を有するので、反応
時に反応系に約50〜2000ppmにハイドロキノ
ン、ブチルハイドロキノン、ベンゾキノン、P−
メトロキシフエノール等の重合禁止剤を存在させ
て、原料および生成物の架橋を防止するのが好ま
しい、またすべての原料を同時に反応させてもよ
いが、所期の構造を形成させるため、また、生成
物の分子量分布をできるだけ狭くするために原料
の反応順序を規定し、段階的に反応させるプレポ
リマー法を採用するのが望ましい。このようなプ
レポリマー法自体は公知であり、公知の方法を採
用することができる。このような反応は不活性溶
剤中で行つてもよいし、無溶剤で行つてもよい。
使用する溶剤自体は公知の溶剤がそのまま使用で
きる。 上記の如くして得られる被膜形成成分であるポ
リマーの構造はその主鎖がオリゴマー(B)とポリイ
ソシアネート化合物からなるポリウレタンまたは
ポリ尿素鎖であり、末端に化合物(A)の残基である
α,β−エチレン性不飽和カルボニル基が結合し
ている構造である。また、その平均分子量は原料
の使用比率等を変更することにより種々の平均分
子量のものが得られるが、本発明の被膜形成成分
において特に好ましいものは平均分子量が約8000
〜50000の範囲のものである。 本発明の被覆組成物は上記の被膜形成成分と、
該成分を溶解または分散させる非反応性の媒体を
必須成分とする。媒体が水である場合には水中分
散体や水中乳化体とするのが一般的であり、媒体
が有機溶剤である場合には一般に溶液状あるいは
非水エマルジヨン型、油中水型の乳化体である。 好ましくは非反応性有機溶剤は比較的揮発性の
高い有機溶剤、例えば、トルエン、キシレン、ソ
ルベルトナフサ、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、イソパラフイン類、リグロイン、ミネ
ラルスピリツト等の炭化水素系;酢酸エチル、酢
酸ブチル、酪酸ブチル等のエステル系;メチルエ
チルケトン、メチルイソブチケトン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール等のケトン類;ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール等のアルコール類;メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等
のエーテル、エステル系等;ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等のアミド系等が好ま
しいものであり、これらの有機溶剤は単独でも混
合物でもよい。このような媒体中に加える被膜形
成成分の量は、被覆組成物の使用方法、必要とす
る添加剤等により変化するが、一般的には被覆組
成物全量中の被膜形成成分が5〜60、好ましくは
10〜40重量%になる範囲である。 本発明の被覆組成物は、物品の表面に塗布後、
被膜形成成分を架橋硬化せしめて優れた被膜を形
成するものであるが、その架橋硬化方法や被膜が
必要とする各種物性に応じて各種の添加物を加え
る。 加熱架橋硬化型組成物の場合はベンゾイルパー
オキサイド、ラウロイパーオキサイド、キユメン
ハイドロパーオキサイド、メチルエチルケトンパ
ーオキサイド、過硫酸塩、アゾビスイソブチロニ
トリル、アゾビスシアノバレリン酸、その他の重
合開始剤を被膜形成成分100重量部あたり、約0.1
〜10、好ましくは0.5〜5重量部の割合で使用す
る。またN,N−ジメチルアニリン、ナフテン酸
コバルト、亜硫酸ナトリウムを併用してドツクス
系とするのも好ましい。 光硬化型の場合は、ベンゾイン、ベンゾインア
ルキルエーテル、ベンゾフエノン、ベンジル、ア
ンスラキノン、ベンゾインジメチルケタール、2
−エチルチオキサントン、その他の光重合開始剤
を、被膜形成成分100重量部あたり約0.1〜10、好
ましくは約1〜5重量部の割合で使用する。 電子線等の高エネルギー線により架橋硬化する
場合は、上述の如き重合開使剤の使用か必須では
ない。 上述の如き本発明の被覆組成物は、その他各種
の添加剤を包含することができる。例えば、染願
料、着色剤、充填剤、強磁性微粒子材料、導電性
材料、鉱物繊維その他の任意の添加剤が必要に応
じて添加される。 以上の如き本発明の被覆組成物は金属製品、プ
ラスチツク成形品、木材、合板、紙、プラスチツ
クフイルム、レザー、織布、その他各種物品の保
護被覆、装飾被覆、印刷インキ、捺染剤等のバイ
ンダー、製版用画像レジスト、シヤドーマスク、
ネームプレート、プリント配線、集積回路等の腐
食加工用レジスト、その他の各種の物品に利用で
きる。 本発明の被覆組成物の各種物品の適用および架
橋硬化方法自体は従来公知の方法でよい。 本発明の被覆組成物により得られる架橋硬化被
膜は従来の紫外線ないし放射線硬化型の被膜に比
して、密着性、屈曲性、耐衝撃性、弾性、強靭
性、電気特性等各種の性能において優れている。 このような優れた性能は前述した本発明に被膜
形成成分の特定の構成に起因するものである。 次に参考例、実施例を挙げて本発明を具体的に
説明する。なお、文中、部または%となるのは重
量基準である。 参考例 1 ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,
2−ポリプタジエングリコール(平均分子量約
3000)およびトリレンジイソシアネートを当量比
で2:8:10の割合で3倍量のメチルエチルケト
ン中に溶解し、更に不揮発分の0.05%のハイドロ
キシノンおよび0.1%のジブチル錫ジラウリレー
トを添加し、50〜80℃で20時間反応させ、平均分
子量が約13000のポリウレタン樹脂溶液を得た。 参考例 2〜11 参考例1の資材に代えて、下記の資材を使用
し、参考例1と同様にして各種のポリウレタン樹
脂溶液を得た。参考例 2
くは熱や放射線エネルギーにより架橋硬化し、諸
物性に優れた被膜を与える新規な被覆組成物の提
供を目的とする。 従来、放射線により架橋硬化する被覆組成物は
多数公知であるが、これら従来の被覆組成物の主
たる被膜形成成分は、比較的低分子量のモノマー
やオリゴマーであるため、形成された被膜の密着
性、屈曲性、耐衝撃性等が不十分であり、また、
全てのモノマーやオリゴマー分子を完全に高分子
化することも困難であり、種々の問題を生じてい
る。 本発明者は上述の如き従来技術の欠点を解決す
べく鋭意研究の結果、特定の多官能性高分子物を
主たる被膜形成成分として使用することにより、
上述の従来技術の欠点が解決されることを知見し
て本発明を完成した。 すなわち、本発明は、被膜形成成分および媒体
を含む被覆組成物において、主たる被膜形成成分
がα,β−エチレン性不飽和カルボニル基を有す
るモノヒドロキシまたはモノアミノ化合物、平均
分子量が約1000〜10000の末端ポリヒドロキシま
たはポリアミノオリゴマーおよびポリイソシアネ
ート化合物から得られる平均分子量が約8000〜
50000の反応性成物であり、上記媒体が水または
比較的揮発性の高い非反応性有機溶剤であり、且
つ、上記被膜形成成分は被覆組成物全量の5〜60
重量%の範囲であることを特徴とする被覆組成物
である。 本発明を更に詳細に説明すると、本発明で使用
する化合物(A)はアクリル酸、メタクリ酸、クロト
ン酸、マレイン酸、イタコン酸等のα,β−エチ
レン性不飽和カルボン酸とポリオール化合物また
はモノアミノポリオール化合物等の多官能化合物
とを、水酸基またはアミノ基が1個残るように反
応させることによつて得られるものであつて、例
えば、好ましいものとして、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート等である。これらの
化合物(A)は、本発明において使用する被膜形成成
分である多官能重合体の末端官能基を形成する。 オリゴマー(B)はポリマー鎖末端に水酸基または
アミノ基を有するものであつて、例えば、そのポ
リマー鎖として、1,2または1,4−ポリブタ
ジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ブ
タジエン−スチレンコポリマー、スチレン−イソ
プレンコポリマー、ブタジエン−アクリロニトリ
ルコポリマーあるいはそれらの部分または完全水
素添加物等;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リプチレン、エチレン−ピロピレンコポリマー
等;ポリスチレン等;ポリメチルアクリレート;
ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサ
イド、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイ
ドコポリマー、ポリテトラメチレンエーテル等;
ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペー
ト、ポリエチレンブチレンアジペート、ポリε−
カプロラクトン、ポリブチレンテレフタレート、
ビスフエノールAとポリブチレンオキサイドとの
付加生成物とアジピン酸、テレフタル酸、イソフ
タル酸等とのポリエステル等;ダイマー酸とエチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアル
キレンジアミンとのポリアミド、アゼライン酸、
セバシン酸等のジカルボン酸とヘキサメチレンジ
アミン等とのボリアミド;ジオールとジイソシア
ネートとからなるポリウレタン等であり、これら
の重合体鎖は単独重合体、ランダムコポリマーグ
ラフトコポリマー、ブロツクコポリマー等いずれ
の形式のものでもよい。 このような重合体鎖は、その平均分子量が約
1000〜10000のものであり、この範囲の平均分子
量のものが本発明の所期の目的の達成に好まし
い。 また、末端基として最も好ましいものは水酸基
でありほぼ2個好ましい。 本発明で使用するポリイソシアネート化合物と
しては、例えば、トリレンジイソシアネート、
4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート、ナ
フタレンジイソシアネート、トリジンジイソシア
ネート、フエニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、ビス(イ
ソシアネートメチル)シクロヘキサン、ジシクロ
ヘキシルメタンジイソシアネート、リジンジイソ
シアネート、トリメチルヘキサメチルジイソシア
ネート等である。 上述の化合物(A),(B)およびポリイソシアネート
化合物はいずれも例示であつて、これら以外の公
知の化合物(A),(B)およびポリイソシアネート化合
物も本発明で使用することができる。また、いず
れの化合物も単独でも混合物でも使用することが
できる。 本発明で使用する被膜形成成分は上述の各成分
を反応させることにより製造されるが、その製造
方法自体は、従来のポリウレタンあるいはポリ尿
素の製造方法に準ずる。但し、原料がα,β−エ
チレン性不飽和カルボニル基を有するので、反応
時に反応系に約50〜2000ppmにハイドロキノ
ン、ブチルハイドロキノン、ベンゾキノン、P−
メトロキシフエノール等の重合禁止剤を存在させ
て、原料および生成物の架橋を防止するのが好ま
しい、またすべての原料を同時に反応させてもよ
いが、所期の構造を形成させるため、また、生成
物の分子量分布をできるだけ狭くするために原料
の反応順序を規定し、段階的に反応させるプレポ
リマー法を採用するのが望ましい。このようなプ
レポリマー法自体は公知であり、公知の方法を採
用することができる。このような反応は不活性溶
剤中で行つてもよいし、無溶剤で行つてもよい。
使用する溶剤自体は公知の溶剤がそのまま使用で
きる。 上記の如くして得られる被膜形成成分であるポ
リマーの構造はその主鎖がオリゴマー(B)とポリイ
ソシアネート化合物からなるポリウレタンまたは
ポリ尿素鎖であり、末端に化合物(A)の残基である
α,β−エチレン性不飽和カルボニル基が結合し
ている構造である。また、その平均分子量は原料
の使用比率等を変更することにより種々の平均分
子量のものが得られるが、本発明の被膜形成成分
において特に好ましいものは平均分子量が約8000
〜50000の範囲のものである。 本発明の被覆組成物は上記の被膜形成成分と、
該成分を溶解または分散させる非反応性の媒体を
必須成分とする。媒体が水である場合には水中分
散体や水中乳化体とするのが一般的であり、媒体
が有機溶剤である場合には一般に溶液状あるいは
非水エマルジヨン型、油中水型の乳化体である。 好ましくは非反応性有機溶剤は比較的揮発性の
高い有機溶剤、例えば、トルエン、キシレン、ソ
ルベルトナフサ、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、イソパラフイン類、リグロイン、ミネ
ラルスピリツト等の炭化水素系;酢酸エチル、酢
酸ブチル、酪酸ブチル等のエステル系;メチルエ
チルケトン、メチルイソブチケトン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール等のケトン類;ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール等のアルコール類;メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等
のエーテル、エステル系等;ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等のアミド系等が好ま
しいものであり、これらの有機溶剤は単独でも混
合物でもよい。このような媒体中に加える被膜形
成成分の量は、被覆組成物の使用方法、必要とす
る添加剤等により変化するが、一般的には被覆組
成物全量中の被膜形成成分が5〜60、好ましくは
10〜40重量%になる範囲である。 本発明の被覆組成物は、物品の表面に塗布後、
被膜形成成分を架橋硬化せしめて優れた被膜を形
成するものであるが、その架橋硬化方法や被膜が
必要とする各種物性に応じて各種の添加物を加え
る。 加熱架橋硬化型組成物の場合はベンゾイルパー
オキサイド、ラウロイパーオキサイド、キユメン
ハイドロパーオキサイド、メチルエチルケトンパ
ーオキサイド、過硫酸塩、アゾビスイソブチロニ
トリル、アゾビスシアノバレリン酸、その他の重
合開始剤を被膜形成成分100重量部あたり、約0.1
〜10、好ましくは0.5〜5重量部の割合で使用す
る。またN,N−ジメチルアニリン、ナフテン酸
コバルト、亜硫酸ナトリウムを併用してドツクス
系とするのも好ましい。 光硬化型の場合は、ベンゾイン、ベンゾインア
ルキルエーテル、ベンゾフエノン、ベンジル、ア
ンスラキノン、ベンゾインジメチルケタール、2
−エチルチオキサントン、その他の光重合開始剤
を、被膜形成成分100重量部あたり約0.1〜10、好
ましくは約1〜5重量部の割合で使用する。 電子線等の高エネルギー線により架橋硬化する
場合は、上述の如き重合開使剤の使用か必須では
ない。 上述の如き本発明の被覆組成物は、その他各種
の添加剤を包含することができる。例えば、染願
料、着色剤、充填剤、強磁性微粒子材料、導電性
材料、鉱物繊維その他の任意の添加剤が必要に応
じて添加される。 以上の如き本発明の被覆組成物は金属製品、プ
ラスチツク成形品、木材、合板、紙、プラスチツ
クフイルム、レザー、織布、その他各種物品の保
護被覆、装飾被覆、印刷インキ、捺染剤等のバイ
ンダー、製版用画像レジスト、シヤドーマスク、
ネームプレート、プリント配線、集積回路等の腐
食加工用レジスト、その他の各種の物品に利用で
きる。 本発明の被覆組成物の各種物品の適用および架
橋硬化方法自体は従来公知の方法でよい。 本発明の被覆組成物により得られる架橋硬化被
膜は従来の紫外線ないし放射線硬化型の被膜に比
して、密着性、屈曲性、耐衝撃性、弾性、強靭
性、電気特性等各種の性能において優れている。 このような優れた性能は前述した本発明に被膜
形成成分の特定の構成に起因するものである。 次に参考例、実施例を挙げて本発明を具体的に
説明する。なお、文中、部または%となるのは重
量基準である。 参考例 1 ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,
2−ポリプタジエングリコール(平均分子量約
3000)およびトリレンジイソシアネートを当量比
で2:8:10の割合で3倍量のメチルエチルケト
ン中に溶解し、更に不揮発分の0.05%のハイドロ
キシノンおよび0.1%のジブチル錫ジラウリレー
トを添加し、50〜80℃で20時間反応させ、平均分
子量が約13000のポリウレタン樹脂溶液を得た。 参考例 2〜11 参考例1の資材に代えて、下記の資材を使用
し、参考例1と同様にして各種のポリウレタン樹
脂溶液を得た。参考例 2
【表】参考例 3
【表】参考例 4
【表】
ネート
生成ポリマーの平均分子量 10000
参考例 5
生成ポリマーの平均分子量 10000
参考例 5
【表】参考例 6
資 材 当量比
トリメチロールプロパンジアクリレート 2
ポリオキシプロピレングリコール
(平均分子量2000) 8
トリレンジイソシアネート 10
生成ポリマーの平均分子量 9000 参考例 7
【表】
ネート
生成ポリマーの平均分子量 9000
参考例 8
生成ポリマーの平均分子量 9000
参考例 8
【表】参考例 9
【表】参考例 10
【表】参考例 11
【表】
実施例 1
参考例1のポリウレタン樹脂溶液80部、ベンゾ
イジメチルケタール2部、N−メチルジエタノー
ルアミン1部、メチルエチルケトン40部および少
量の添加剤(ワツクス、消泡剤、レベリング剤)
を配合し、本発明の被覆組成物を得た。 実施例 2〜8 実施例1と同様にして、下記の組成の本発明の
被覆組成物を得た。実施例 2
イジメチルケタール2部、N−メチルジエタノー
ルアミン1部、メチルエチルケトン40部および少
量の添加剤(ワツクス、消泡剤、レベリング剤)
を配合し、本発明の被覆組成物を得た。 実施例 2〜8 実施例1と同様にして、下記の組成の本発明の
被覆組成物を得た。実施例 2
【表】
【表】実施例 3
成分 使用量
参考例3の樹脂溶液 70部
2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピルフエノン 2部
2,2−ジエトキシアセトキシアセトフエノン
1部 イソプロピルアルコール 50部 トルエン 50部 酢酸エチル 65部 添加剤 少量実施例 4 成分 使用量 参考例4の樹脂溶液 80部 磁性粉末 150部 分散剤 1部 メチルエチルケトン 120部 トルエン 80部 シクロヘキサノン 100部実施例 5 成分 使用量 参考例5の樹脂溶液 100部 願料 20部 ベンゾインイソブチルエーテル 3部 酢酸エチル 15部 添加剤 少量実施例 6 成分 使用量 参考例11の樹脂溶液 70部 ベンゾインジメチルケタール 3部 2−エチルチオキサントン 0.5部実施例 7 成分 使用量 参考例10の樹脂溶液 80部 熱重合開始剤 3部 シリカ 3部 シクロヘキサノン 100部 酢酸エチル 100部 添加剤 少量実施例 8 成分 使用量 参考例11の樹脂溶液 70部 2,2−ジエトキシアセトンフエノン 3部 メチルベンゾイルフオルメート 0.5部 キシレン 30部 添加剤 少量 使用例 1〜8 上記本発明の被覆組成物を使用した結果を以下
に示す。使用例 1 使用した被覆組成物 実施例1 基材 合板 塗布手段 ロールコーター 塗布量(固形分) 10g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、20m/min. 塗膜の性質 耐薬品性大、耐汚染性大使用例 2 使用した被覆組成物 実施例2 基材 PVCシート 塗布手段 ロールコーター 塗布量(固形分) 5g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、40m/min. 塗膜の性質 強靭性大、耐摩耗性大使用例 3 使用した被覆組成物 実施例3 基材 ポリカーネート成形品 塗布手段 スプレー 塗布量(固形分) 3g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、50m/min. 塗膜の性質 表面硬度大、耐薬品性大 耐摩耗性大使用例 4 使用した被覆組成物 実施例4 基材 ボリエステルフイルム 塗布手段 グラビアコーター 塗布量(固形分) 5g/m2 硬化方法 電子線 硬化条件 50RM、40m/min. 塗膜の性質 電気絶縁性大、強靭性大、 密着性大使用例 5 使用した被覆組成物 実施例5 基材 紙 塗布手段 グラビア印刷 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×1本、30m/min. 塗膜の性質 光沢性大使用例 6 使用した被覆組成物 実施例6 基材 ガラスーガラスの接着 塗布手段 グラビアコーター 塗布量(固形分) 1g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×2本、80m/min. 塗膜の性質 接着強度大、強靭性大使用例 7 使用した被覆組成物 実施例7 基材 ガラスビン 塗布手段 デイツピング 塗布量(固形分) 10g/m2 硬化方法 加熱 硬化条件 140℃×10分 塗膜の性質 密着性大、強靭性大使用例 8 使用した被覆組成物 実施例8 基材 金属板 塗布手段 ロールコーター 塗布量(固形分) 5g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、30m/min. 塗膜の性質 強靭性大、防錆性大、後加工性大 尚、参考例6〜9のポリウレタン樹脂溶液を使
用し、実施例1〜8と同様にして得た本発明の被
覆組成物を使用例1〜8と同様にして使用して優
れた性膜が被膜が得られた。
1部 イソプロピルアルコール 50部 トルエン 50部 酢酸エチル 65部 添加剤 少量実施例 4 成分 使用量 参考例4の樹脂溶液 80部 磁性粉末 150部 分散剤 1部 メチルエチルケトン 120部 トルエン 80部 シクロヘキサノン 100部実施例 5 成分 使用量 参考例5の樹脂溶液 100部 願料 20部 ベンゾインイソブチルエーテル 3部 酢酸エチル 15部 添加剤 少量実施例 6 成分 使用量 参考例11の樹脂溶液 70部 ベンゾインジメチルケタール 3部 2−エチルチオキサントン 0.5部実施例 7 成分 使用量 参考例10の樹脂溶液 80部 熱重合開始剤 3部 シリカ 3部 シクロヘキサノン 100部 酢酸エチル 100部 添加剤 少量実施例 8 成分 使用量 参考例11の樹脂溶液 70部 2,2−ジエトキシアセトンフエノン 3部 メチルベンゾイルフオルメート 0.5部 キシレン 30部 添加剤 少量 使用例 1〜8 上記本発明の被覆組成物を使用した結果を以下
に示す。使用例 1 使用した被覆組成物 実施例1 基材 合板 塗布手段 ロールコーター 塗布量(固形分) 10g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、20m/min. 塗膜の性質 耐薬品性大、耐汚染性大使用例 2 使用した被覆組成物 実施例2 基材 PVCシート 塗布手段 ロールコーター 塗布量(固形分) 5g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、40m/min. 塗膜の性質 強靭性大、耐摩耗性大使用例 3 使用した被覆組成物 実施例3 基材 ポリカーネート成形品 塗布手段 スプレー 塗布量(固形分) 3g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、50m/min. 塗膜の性質 表面硬度大、耐薬品性大 耐摩耗性大使用例 4 使用した被覆組成物 実施例4 基材 ボリエステルフイルム 塗布手段 グラビアコーター 塗布量(固形分) 5g/m2 硬化方法 電子線 硬化条件 50RM、40m/min. 塗膜の性質 電気絶縁性大、強靭性大、 密着性大使用例 5 使用した被覆組成物 実施例5 基材 紙 塗布手段 グラビア印刷 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×1本、30m/min. 塗膜の性質 光沢性大使用例 6 使用した被覆組成物 実施例6 基材 ガラスーガラスの接着 塗布手段 グラビアコーター 塗布量(固形分) 1g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×2本、80m/min. 塗膜の性質 接着強度大、強靭性大使用例 7 使用した被覆組成物 実施例7 基材 ガラスビン 塗布手段 デイツピング 塗布量(固形分) 10g/m2 硬化方法 加熱 硬化条件 140℃×10分 塗膜の性質 密着性大、強靭性大使用例 8 使用した被覆組成物 実施例8 基材 金属板 塗布手段 ロールコーター 塗布量(固形分) 5g/m2 硬化方法 高圧水銀灯 硬化条件 160w/cm×3本、30m/min. 塗膜の性質 強靭性大、防錆性大、後加工性大 尚、参考例6〜9のポリウレタン樹脂溶液を使
用し、実施例1〜8と同様にして得た本発明の被
覆組成物を使用例1〜8と同様にして使用して優
れた性膜が被膜が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被膜形成成分および媒体を含む被覆組成物に
おいて、主たる被膜形成成分がα,β−エチレン
性不飽和カルボニル基を有するモノヒドロキシま
たはモノアミノ化合物、平均分子量が約1000〜
10000の未端ポリヒドロキシまたはポリアミノオ
リゴマーおよびポリイソシアネート化合物から得
られる平均分子量が約8000〜50000の反応性成物
であり、上記媒体が水または比較的発揮性の高い
非反応性有機溶剤であり、且つ、上記被膜形成成
分は被覆組成物全量の5〜60重量%の範囲である
ことを特徴とする被覆組成物。 2 α,β−エチレン性不飽和カルボニル基がア
クリロイル基またはメタクリロイル基である特許
請求の範囲第1項に記載の被覆組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8147582A JPS58201856A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 被覆組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8147582A JPS58201856A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 被覆組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58201856A JPS58201856A (ja) | 1983-11-24 |
JPS6116301B2 true JPS6116301B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=13747424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8147582A Granted JPS58201856A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 被覆組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58201856A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11025884B2 (en) | 2018-11-16 | 2021-06-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Image capturing apparatus, control method thereof, and storage medium |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4929506A (en) * | 1987-12-31 | 1990-05-29 | General Electric Company | Coated polycarbonate articles |
DE19826716B8 (de) * | 1997-07-18 | 2010-06-10 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von strahlengehärteten Beschichtungen mit verbesserter Elastizität und hiermit beschichtete Substrate |
DE10248324A1 (de) * | 2002-10-17 | 2004-05-06 | Basf Coatings Ag | Thermisch und mit aktinischer Strahlung härtbarer Beschichtungsstoff und Verfahren zum Beschichten miktoporöser Oberflächen |
JP2010163594A (ja) * | 2008-12-15 | 2010-07-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂フィルム及びそれを用いためっき方法 |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP8147582A patent/JPS58201856A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11025884B2 (en) | 2018-11-16 | 2021-06-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Image capturing apparatus, control method thereof, and storage medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58201856A (ja) | 1983-11-24 |
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