JPS61113605A - 置換ジエチニルベンゼン化合物の重合体およびその製造方法 - Google Patents
置換ジエチニルベンゼン化合物の重合体およびその製造方法Info
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- JPS61113605A JPS61113605A JP23399184A JP23399184A JPS61113605A JP S61113605 A JPS61113605 A JP S61113605A JP 23399184 A JP23399184 A JP 23399184A JP 23399184 A JP23399184 A JP 23399184A JP S61113605 A JPS61113605 A JP S61113605A
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 21
- -1 diethynyl benzene compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims abstract description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 abstract 2
- JOQIFKPQIWBQFK-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(prop-1-enyl)benzene Chemical compound CC=CC1=CC=C(C=CC)C=C1 JOQIFKPQIWBQFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical class [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- KZFYHPDWSXPHBV-UHFFFAOYSA-N methoxymethylbenzene Chemical class CO[C]C1=CC=CC=C1 KZFYHPDWSXPHBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 abstract 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I molybdenum pentachloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)(Cl)(Cl)Cl GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotungsten Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)Cl YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKWKLYQRFRGPM-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylguanidine acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCCCCCN=C(N)N YIKWKLYQRFRGPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- IZXPFTLEVNQLGD-UHFFFAOYSA-N 2-ethynylnaphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC(C#C)=CC=C21 IZXPFTLEVNQLGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000272814 Anser sp. Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- MELUCTCJOARQQG-UHFFFAOYSA-N hex-2-yne Chemical compound CCCC#CC MELUCTCJOARQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylacetylene Chemical group C[Si](C)(C)C#C CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分計〕
本発明は良好外分離性と透過性、特に気体に対して優れ
た分離性と透過性を有し、物質混合物、411に気体混
合物の分離膜用材料として有用な置換ジェチニルベンゼ
ン化合物の重合体とその製造法KI$lIするものであ
る。
た分離性と透過性を有し、物質混合物、411に気体混
合物の分離膜用材料として有用な置換ジェチニルベンゼ
ン化合物の重合体とその製造法KI$lIするものであ
る。
混合気体分離膜用材料として、ポリジメチルシロキサン
、ポリジメチルシロキサン−ポリカーボネートブロック
共重合体(米国特許第シタ10.μj6号、同第3,1
71/、りrt号)、ポリジメチルシロキサン共重合体
(41開昭!乙−コtJ−0弘号)、ポリ(弘−メチル
ペアf7−/ )(特開昭!7−弘203号)、アルキ
ル基ないしフェニル基を置換基とするポリアルキン(特
開昭!7−7り0607号、特開昭バー1rJyor号
、特開昭よター/Pt06号等)、シリル基を置換基と
するポリアルキン(J、 AffI@r、Chew、
Soc、 10j + 7u’H頁(/913’))等
が知られている。しかし、これらは気体透過性、分離性
、成膜性および膜の耐久性のすべてを満足しうるもので
はなかった。
、ポリジメチルシロキサン−ポリカーボネートブロック
共重合体(米国特許第シタ10.μj6号、同第3,1
71/、りrt号)、ポリジメチルシロキサン共重合体
(41開昭!乙−コtJ−0弘号)、ポリ(弘−メチル
ペアf7−/ )(特開昭!7−弘203号)、アルキ
ル基ないしフェニル基を置換基とするポリアルキン(特
開昭!7−7り0607号、特開昭バー1rJyor号
、特開昭よター/Pt06号等)、シリル基を置換基と
するポリアルキン(J、 AffI@r、Chew、
Soc、 10j + 7u’H頁(/913’))等
が知られている。しかし、これらは気体透過性、分離性
、成膜性および膜の耐久性のすべてを満足しうるもので
はなかった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは優れた気体透過性 、分離性、膜σ性およ
び耐久性を備えた気体分離膜用材料を得く〈鋭意検討し
た結果、かさ高い置換基を有する1−’IJアルキンに
さらに架橋性の官能基を導入する二とにより上記物性を
満足しうる重合体が得られることを見い出した。
び耐久性を備えた気体分離膜用材料を得く〈鋭意検討し
た結果、かさ高い置換基を有する1−’IJアルキンに
さらに架橋性の官能基を導入する二とにより上記物性を
満足しうる重合体が得られることを見い出した。
すなわち、本発明K>ける重合体とは、下記構造式(り
で表わされる構造単位の繰り返しよりなる重量平均分子
量/、 000ないしs、ooo、oooの線状重合体
である。
で表わされる構造単位の繰り返しよりなる重量平均分子
量/、 000ないしs、ooo、oooの線状重合体
である。
R。
(式中のR1およびR3はそれぞれ炭素数/ないし20
のアルキル基、炭素数3ないし20のシクロアルキル基
、炭素数lないし2Qのアルキル基または炭素数6ない
し20のアリール基または炭素数7ないし20のアリー
ルアルキル基を置換基としてもつシリル基の中よ抄選ば
れた基であり、エチニル基は分子主鎖に対してメタ位ま
たはメタ位に結合したものである。) 構造式(INKおけるR1およびR2のアルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、ブチル基等が挙げられるが、特に好ま
しいのはメチル基であり、シクロアルキル基としてはシ
クロヘキシル基等が挙げられる。また、R1およびR,
のシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチル
シリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられるが、こ
れらのうち特に好ましいのはトリメチルシリル基である
。
のアルキル基、炭素数3ないし20のシクロアルキル基
、炭素数lないし2Qのアルキル基または炭素数6ない
し20のアリール基または炭素数7ないし20のアリー
ルアルキル基を置換基としてもつシリル基の中よ抄選ば
れた基であり、エチニル基は分子主鎖に対してメタ位ま
たはメタ位に結合したものである。) 構造式(INKおけるR1およびR2のアルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、ブチル基等が挙げられるが、特に好ま
しいのはメチル基であり、シクロアルキル基としてはシ
クロヘキシル基等が挙げられる。また、R1およびR,
のシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチル
シリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられるが、こ
れらのうち特に好ましいのはトリメチルシリル基である
。
本発明における置換ジェチニルベンゼン化合物の重合体
を得るには種々の方法を用いうるが、構造式(n)で表
わされる化合物を単量体として、モリブデン、タングス
テン、ニオブ、タンタルのいずれかの金属カルペン化合
物を触媒として行なうのが、工程の簡便さから好ましい
。
を得るには種々の方法を用いうるが、構造式(n)で表
わされる化合物を単量体として、モリブデン、タングス
テン、ニオブ、タンタルのいずれかの金属カルペン化合
物を触媒として行なうのが、工程の簡便さから好ましい
。
式1
(式中のR1、R2はそれぞれ炭素数lないしλ0のア
ルキル基、炭素数3.ないし2oのシクロアルキル基、
炭素数lないし2oのアルキル基または炭素数6ないし
20のアリール基または炭素数7ないし20のアリール
アルキル基を置換基としてもつシリル基の中から選ばれ
た基であり、エチニル基は互いにメタ位1+はメタ位に
結合したものである。) 構造式(If)で表わされる化合物の具体例としては、
/、 IA−ビス(フロビニル)ベンゼン、i、3−ヒ
ス()tx ビニル)ベンゼン、/、3−ビス(ヘキシ
ニル)ベンゼン、4弘−ビス(オクテニル)ベンゼン、
/、3−ビス(トリメチルシリルエチニル)ベンゼン、
43−ビス(トリエチルシリルエチニル)ベンゼン、4
3−ビス(トリフェニルシリルエチニル)ベンゼン等が
挙げられる。
ルキル基、炭素数3.ないし2oのシクロアルキル基、
炭素数lないし2oのアルキル基または炭素数6ないし
20のアリール基または炭素数7ないし20のアリール
アルキル基を置換基としてもつシリル基の中から選ばれ
た基であり、エチニル基は互いにメタ位1+はメタ位に
結合したものである。) 構造式(If)で表わされる化合物の具体例としては、
/、 IA−ビス(フロビニル)ベンゼン、i、3−ヒ
ス()tx ビニル)ベンゼン、/、3−ビス(ヘキシ
ニル)ベンゼン、4弘−ビス(オクテニル)ベンゼン、
/、3−ビス(トリメチルシリルエチニル)ベンゼン、
43−ビス(トリエチルシリルエチニル)ベンゼン、4
3−ビス(トリフェニルシリルエチニル)ベンゼン等が
挙げられる。
これらの化合物を用いて、本発明の置換ジェチニルベン
ゼン化合物の重合体を製造する際には、一般的にエチニ
ル基を重合させるために用いられる触媒を用いることが
できるが、 構造式(π)で表ワサれるジェチニル化合
物のエチニル基の片方りけを選択的に重合し、線状重合
体を得るための触媒としては、例えば、構造式(Mlで
表わされる金属カルペン触媒が好ましい。
ゼン化合物の重合体を製造する際には、一般的にエチニ
ル基を重合させるために用いられる触媒を用いることが
できるが、 構造式(π)で表ワサれるジェチニル化合
物のエチニル基の片方りけを選択的に重合し、線状重合
体を得るための触媒としては、例えば、構造式(Mlで
表わされる金属カルペン触媒が好ましい。
構造弐億)で表わされる化合物の具体例としては、例工
ば、メトキシフェニルカルペンペンタカルボニルタング
ステン、ジフェニルカルペンペンタカルボニルタングス
テン、メトキシメチルカルペンペンタカルボ二ルタング
ステン、メトキシ7二二ルカルペンペンタカルボニルモ
リブテン、シフェニルカルペンベンタカルボニルモlJ
7’7”ン等カ好ましい。
ば、メトキシフェニルカルペンペンタカルボニルタング
ステン、ジフェニルカルペンペンタカルボニルタングス
テン、メトキシメチルカルペンペンタカルボ二ルタング
ステン、メトキシ7二二ルカルペンペンタカルボニルモ
リブテン、シフェニルカルペンベンタカルボニルモlJ
7’7”ン等カ好ましい。
構造式(1)で表わされる化合物を用いて、選択的に線
状重合体を得る丸めの他の好ましい触媒としては、六塩
化タングステンまたは五塩化モリブデンに一般式(転)
で表わされる一置換アセチレンを作用させたもの、また
は五塩化タンタル、五塩化ニオブに一般式Mで表わされ
る二置換アセチレンを作用させた触媒が挙げられる。
状重合体を得る丸めの他の好ましい触媒としては、六塩
化タングステンまたは五塩化モリブデンに一般式(転)
で表わされる一置換アセチレンを作用させたもの、また
は五塩化タンタル、五塩化ニオブに一般式Mで表わされ
る二置換アセチレンを作用させた触媒が挙げられる。
Al−c=c−H(5)
(式中人、は炭素数lないし20のアルキル基、炭素数
6ないし一〇のアリール基、炭素数7ないし20のアリ
ールアルキル基、炭素数3ないしコOのシクロアルキル
基、炭素数lをいし20のフルキル基または炭素数乙な
いし20のアリール基または炭素数7ないしλOのアリ
ールアルキル基を置換基としてもつシリル基の中より選
はれた基である。) A冨−〇 =E C−As (’/
) −(式中に鵞、Asはそれぞれ炭素数/fk
いしコ0のアルキル基、炭素数6ないし20のアリール
基、炭素数7ないし20のアリールアルキル基、炭素数
3ないし20のシクロアルキル基、炭素数lないしλ0
のアルキル基または炭素数乙ないし20のアリール基ま
九は炭素数7ないし20のアリールアルキル基を置換基
としてもつシリル基の中より選ばれた基である。ただし
、A4 、AIが同時に上記のシリル基である場合を除
く。) 一般式(支)で表わされる化合物としては、例えば、フ
ェニルアセチレン、α−ないしβ−ナフチルアセチレン
、/−7’チン、l−ペンチン、l−ヘキシン、トリメ
チルシリルアセチレン等が、一般式(Mで表わされる化
合物としては、例えば、2−ヘキシン、λ−オクチン、
x−デシン、l−フェニルプロピン、/−フェニルヘキ
シン、I−ト+)Jチルシリルプロピン等が好ましい。
6ないし一〇のアリール基、炭素数7ないし20のアリ
ールアルキル基、炭素数3ないしコOのシクロアルキル
基、炭素数lをいし20のフルキル基または炭素数乙な
いし20のアリール基または炭素数7ないしλOのアリ
ールアルキル基を置換基としてもつシリル基の中より選
はれた基である。) A冨−〇 =E C−As (’/
) −(式中に鵞、Asはそれぞれ炭素数/fk
いしコ0のアルキル基、炭素数6ないし20のアリール
基、炭素数7ないし20のアリールアルキル基、炭素数
3ないし20のシクロアルキル基、炭素数lないしλ0
のアルキル基または炭素数乙ないし20のアリール基ま
九は炭素数7ないし20のアリールアルキル基を置換基
としてもつシリル基の中より選ばれた基である。ただし
、A4 、AIが同時に上記のシリル基である場合を除
く。) 一般式(支)で表わされる化合物としては、例えば、フ
ェニルアセチレン、α−ないしβ−ナフチルアセチレン
、/−7’チン、l−ペンチン、l−ヘキシン、トリメ
チルシリルアセチレン等が、一般式(Mで表わされる化
合物としては、例えば、2−ヘキシン、λ−オクチン、
x−デシン、l−フェニルプロピン、/−フェニルヘキ
シン、I−ト+)Jチルシリルプロピン等が好ましい。
一般式(ト)あるいは、一般式(ト)で表わされる化合
物を、大塩化タングステン、五塩化モリブデンあるいけ
、五塩化タンタル、五塩化ニオブと作用させるKは、相
当する金属塩化物1モル当、り/−10モル当量の、好
ましくは2〜3モル当量の一置換アセチレンないし二置
換アセチレンを、後記の重合用溶媒中で0〜ioo℃、
好ましくFi20〜10℃で30分〜2時間反応すれば
よい。その後の重合反応は、この触媒溶液を直接単量体
溶液に滴下することで行なわれる。
物を、大塩化タングステン、五塩化モリブデンあるいけ
、五塩化タンタル、五塩化ニオブと作用させるKは、相
当する金属塩化物1モル当、り/−10モル当量の、好
ましくは2〜3モル当量の一置換アセチレンないし二置
換アセチレンを、後記の重合用溶媒中で0〜ioo℃、
好ましくFi20〜10℃で30分〜2時間反応すれば
よい。その後の重合反応は、この触媒溶液を直接単量体
溶液に滴下することで行なわれる。
以上説明した触媒を用いて本発明の置換ジェチニルベン
ゼン化合物の重合を行危う時に用いうる溶媒としては、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、四塩化炭素、
クロロホルム等のハセゲン化炭化水素、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類が代表例として挙げられ
、反応温度としては、一般的忙0〜ixo℃、好ましく
はλ0−10℃が適当であり、さら忙反応雰囲気として
は、窒素、アルゴン等の不活性ガス中での反応が好まし
い。
ゼン化合物の重合を行危う時に用いうる溶媒としては、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、四塩化炭素、
クロロホルム等のハセゲン化炭化水素、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類が代表例として挙げられ
、反応温度としては、一般的忙0〜ixo℃、好ましく
はλ0−10℃が適当であり、さら忙反応雰囲気として
は、窒素、アルゴン等の不活性ガス中での反応が好まし
い。
本発明において、単量体(II)はj Omol/1以
下の濃度で反応することが好ましく 、49 K /
(7mol/l以下の濃度が好ましい。また、使用する
触媒はj moVl以下の濃度が好ましく、特に/ m
ol/l以下の濃度が好ましい。触媒/単量体のモル比
は//j以下が好ましく、特VC//10〜17ioo
oが好ましい。
下の濃度で反応することが好ましく 、49 K /
(7mol/l以下の濃度が好ましい。また、使用する
触媒はj moVl以下の濃度が好ましく、特に/ m
ol/l以下の濃度が好ましい。触媒/単量体のモル比
は//j以下が好ましく、特VC//10〜17ioo
oが好ましい。
線状重合体を収率よ〈得るには、単量体の反応率がrO
チ以内で反応を停止させたほうがよい。
チ以内で反応を停止させたほうがよい。
反応率が100%近くなるとゲル状物の生成が多くなる
。
。
重合反応の停止は、メタノール等の低級アルコール、ア
セトン等の低級ケトン類、水等により行なえる。
セトン等の低級ケトン類、水等により行なえる。
得られた重合体は一般にオレンジ色の粉末であり、一般
にハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ケトン系炭化
水素、エステル系炭化水素等に可溶であり、低級アルコ
ール、脂肪族炭化水素に不溶である。
にハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ケトン系炭化
水素、エステル系炭化水素等に可溶であり、低級アルコ
ール、脂肪族炭化水素に不溶である。
このようにして得られた重合体は、かさ高い置換基をも
つことから本質的に気体透過性が高く、さらに側鎖のエ
チニル基を熱ないし電磁波により架橋することで高温高
圧下での膜としての耐久性が高いものKなる。
つことから本質的に気体透過性が高く、さらに側鎖のエ
チニル基を熱ないし電磁波により架橋することで高温高
圧下での膜としての耐久性が高いものKなる。
さらに1この側鎖のエチニル基が電磁波により架橋でき
ることから、電子線レジスト、感光性レジストとして用
いることもできる。
ることから、電子線レジスト、感光性レジストとして用
いることもできる。
次に本発明を実施例により詳しく説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例1
/、 J −k’ス() IJ /チルシリルエチニル
)ヘンゼン77mmal t )ルエンlO−に溶解t
、、%ツマー溶液とした。別にトルエンj−に大塩化タ
ングステン 0.2 mtoolを加え、30分間攪拌
後フェニルアセチレン/ mmolを加え室温で1時間
攪拌したものを触媒溶液とした。この触媒溶液を上記モ
ノマー溶液に滴下し30℃で2時間攪拌下に反応させ念
。ここまでの操作はすべて窒素気流下に行なった。約コ
―のメタノールを加えて反応を停止した後、−過しp液
を約JOOtdのメタノール中に注ぐと重合物が析出し
てくる。析出した重合物を一過してメタノールでよく洗
浄し、室温下に真空で乾燥する。ポリマー収率約27チ
、オレンジ色の粉末であった。ゲルパーミェーションク
ロマトクラフィー(以下GPC) Kよれば、重量平均
分子量は約ZOOOであった。”C−NMRでトリメチ
ルシリル基の炭素がθ−付近に1エチニル基の炭素がタ
フ胛および107yp付近に1フエニルおよび共役二重
結合性炭素が/コ0〜/4を夕IPK重なって表われる
。さらに赤外スペクトルでCミCがコ/ 00elft
”付近に表われる。
)ヘンゼン77mmal t )ルエンlO−に溶解t
、、%ツマー溶液とした。別にトルエンj−に大塩化タ
ングステン 0.2 mtoolを加え、30分間攪拌
後フェニルアセチレン/ mmolを加え室温で1時間
攪拌したものを触媒溶液とした。この触媒溶液を上記モ
ノマー溶液に滴下し30℃で2時間攪拌下に反応させ念
。ここまでの操作はすべて窒素気流下に行なった。約コ
―のメタノールを加えて反応を停止した後、−過しp液
を約JOOtdのメタノール中に注ぐと重合物が析出し
てくる。析出した重合物を一過してメタノールでよく洗
浄し、室温下に真空で乾燥する。ポリマー収率約27チ
、オレンジ色の粉末であった。ゲルパーミェーションク
ロマトクラフィー(以下GPC) Kよれば、重量平均
分子量は約ZOOOであった。”C−NMRでトリメチ
ルシリル基の炭素がθ−付近に1エチニル基の炭素がタ
フ胛および107yp付近に1フエニルおよび共役二重
結合性炭素が/コ0〜/4を夕IPK重なって表われる
。さらに赤外スペクトルでCミCがコ/ 00elft
”付近に表われる。
実施例λ〜t
モノマーないし触媒を表/の化合物に変えるほかは実施
例1と同様にして1合体を得た。得られた重合体の重量
平均分子量を併せて表/に示す。
例1と同様にして1合体を得た。得られた重合体の重量
平均分子量を併せて表/に示す。
(以下余白)
応用例/
実施例7により得られたポリマーをトルエンに20重量
%溶解した溶液をミリポア社製メンブレンフィルターT
M−JPK均一に含浸させ、気体透過試験機により水素
および窒素の透過性を測定しイルムは約3ヨ0℃まで重
量減少を示さず、100℃において約100時間、上記
のガス透過速度に変化がなかった。
%溶解した溶液をミリポア社製メンブレンフィルターT
M−JPK均一に含浸させ、気体透過試験機により水素
および窒素の透過性を測定しイルムは約3ヨ0℃まで重
量減少を示さず、100℃において約100時間、上記
のガス透過速度に変化がなかった。
Claims (2)
- (1)、下記構造式( I )で表わされる構造単位の繰
り返しよりなる重量平均分子量1,000ないし5,0
00,000の線状重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中のR_1およびR_2はそれぞれ炭素数1ないし
20のアルキル基、炭素数3ないし20のシクロアルキ
ル基、炭素数1ないし20のアルキル基または炭素数を
ないし20のアリール基または炭素数7ないし20のア
リールアルキル基を置換基としてもつシリル基の中から
選ばれた基であり、エチニル基は分子主鎖に対してメタ
位またはパラ位に結合したものである。) - (2)、構造式( I )で表わされる構造単位の繰り返
しよりなる重量平均分子量1,000ないしよ5,00
0,000の線状重合体の製造に際し、モリブデン、タ
ングステン、ニオブ、タンタルの中から選ばれた少なく
とも一つの金属カルペン化合物を触媒として、下記構造
式(II)で表わされる化合物を重合させることを特徴と
する重合体の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中のR_1、R_2はそれぞれ炭素数1ないし20
のアルキル基、炭素数3ないし20のシクロアルキル基
、炭素数1ないし20のアルキル基または炭素数6ない
し20のアリール基または炭素数7ないし20のアリー
ルアルキル基を置換基としてもつシリル基の中から選ば
れた基であり、エチニル基は互いにメタ位またはパラ位
に結合したものである。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23399184A JPS61113605A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 置換ジエチニルベンゼン化合物の重合体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23399184A JPS61113605A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 置換ジエチニルベンゼン化合物の重合体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61113605A true JPS61113605A (ja) | 1986-05-31 |
Family
ID=16963828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23399184A Pending JPS61113605A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 置換ジエチニルベンゼン化合物の重合体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61113605A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5162478A (en) * | 1990-09-17 | 1992-11-10 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Poly(silylene)vinylenes from ethynylhydridosilanes |
JP2008179699A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Fujifilm Corp | ポリ(アセチレン)化合物含有組成物 |
-
1984
- 1984-11-06 JP JP23399184A patent/JPS61113605A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5162478A (en) * | 1990-09-17 | 1992-11-10 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Poly(silylene)vinylenes from ethynylhydridosilanes |
JP2008179699A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Fujifilm Corp | ポリ(アセチレン)化合物含有組成物 |
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