JPS61107549A - 光デイスクのプリフオ−マツト形成方法 - Google Patents
光デイスクのプリフオ−マツト形成方法Info
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- JPS61107549A JPS61107549A JP22953384A JP22953384A JPS61107549A JP S61107549 A JPS61107549 A JP S61107549A JP 22953384 A JP22953384 A JP 22953384A JP 22953384 A JP22953384 A JP 22953384A JP S61107549 A JPS61107549 A JP S61107549A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、追記形または消去可能な光ディスクのプリフ
ォーマツティングの作成方法の牧舎に関するものである
。
ォーマツティングの作成方法の牧舎に関するものである
。
追記形、または消去再録可能な光ディスクにおいては、
トラッキング案内用の案内溝を基板に形成する他に、ト
ラック番号やセクタ一番号をあらかじめ基板に形成（プ
リフォーマツティング）している。
トラッキング案内用の案内溝を基板に形成する他に、ト
ラック番号やセクタ一番号をあらかじめ基板に形成（プ
リフォーマツティング）している。
その方法として、第１図に示す如く、ガラス原盤１にフ
ォトレジスト２を塗布したあと、アルゴンレーザやヘリ
ウム・カドミウムレーザで、案内λ 溝３として幅約０．８μｍ１深さ−（約７００人０）を
形成するための露光と同時に、より強い光で、現象λ 後Ｔの深さになるプリフォーマットのデータ４をプリフ
ォーマット領域５に書き込んでいる。
ォトレジスト２を塗布したあと、アルゴンレーザやヘリ
ウム・カドミウムレーザで、案内λ 溝３として幅約０．８μｍ１深さ−（約７００人０）を
形成するための露光と同時に、より強い光で、現象λ 後Ｔの深さになるプリフォーマットのデータ４をプリフ
ォーマット領域５に書き込んでいる。
になるように、現象と露光の条件のみで制御しなければ
ならす、製作時の歩留まりと特性は非常に悪い。
ならす、製作時の歩留まりと特性は非常に悪い。
本発明は、この問題点を解決するものである。
本発明の目的は、トラッキング用案内溝とプリフォーマ
ットのデータピットの深さと幅と位置とが精度よく、か
つ、歩留まシ良く製作できる光ディスクのプリフォーマ
ット形成方法を提供するにある。
ットのデータピットの深さと幅と位置とが精度よく、か
つ、歩留まシ良く製作できる光ディスクのプリフォーマ
ット形成方法を提供するにある。
この目的を達成するために、本願は、プリフォーマット
のほどこされる光ディスクにおいて、一面側にトラッキ
ング用のための案内溝を形成するための溝または山の案
内部が形成された金属板と、該金属板の一面側に塗布さ
れたフォトレジストとを具備し、前記案内部に基づきト
ラッキングを行うと共にプリフォーマットのピットを前
記金属板の前記一面に書き込むことを特徴とする光ディ
スクのプリフォーマット形成方法を構成したものである
。
のほどこされる光ディスクにおいて、一面側にトラッキ
ング用のための案内溝を形成するための溝または山の案
内部が形成された金属板と、該金属板の一面側に塗布さ
れたフォトレジストとを具備し、前記案内部に基づきト
ラッキングを行うと共にプリフォーマットのピットを前
記金属板の前記一面に書き込むことを特徴とする光ディ
スクのプリフォーマット形成方法を構成したものである
。
□
以下、実施例について説明する
〔実施例〕
第２因は本発明の一実施例の要部作成説明図である。
図において、１）は案内溝１）１の形成されたマザー板
である。案内溝１）１の形成されたマザー板１）は、以
下の周知の方法によって作られる。
である。案内溝１）１の形成されたマザー板１）は、以
下の周知の方法によって作られる。
λ
即ち、ガラス盤に丁の厚さのレジストを塗布し、レーザ
ーで露光して幅０．８μｍの案内溝１）１を形成する。
ーで露光して幅０．８μｍの案内溝１）１を形成する。
次に、これに電鋳を行い、ニッケル板のマスター板を作
成する。このマスターから、更に、電鋳を行ってニッケ
ルのマザー板１）を作る。１２はマザー板１）に塗布さ
れたポジタイプのレジストである。
成する。このマスターから、更に、電鋳を行ってニッケ
ルのマザー板１）を作る。１２はマザー板１）に塗布さ
れたポジタイプのレジストである。
以上の構成において、半導体レーザ又はヘリウム・ネオ
ンレーザ−３により案内＃ １）１をトラッキングしな
がら、ブリフオマットのためのピット形成領域ではフォ
トレジスト１２に対し、十分な露光を与えるアルゴンレ
ーザ又はヘリウム・カドミウムレーザ（図示せず）によ
シ案内溝１）１に誓込みを行う。
ンレーザ−３により案内＃ １）１をトラッキングしな
がら、ブリフオマットのためのピット形成領域ではフォ
トレジスト１２に対し、十分な露光を与えるアルゴンレ
ーザ又はヘリウム・カドミウムレーザ（図示せず）によ
シ案内溝１）１に誓込みを行う。
露光後現像すると、誉込ピットに相当する部分に穴がろ
くので、たとえは、メチルアルコールと案内溝１）１に
更に約０．０７μｍ深さ）だけエツチングする。フォト
レジスト１２をはく離して、電鋳によシスタンパ−を作
成する。
くので、たとえは、メチルアルコールと案内溝１）１に
更に約０．０７μｍ深さ）だけエツチングする。フォト
レジスト１２をはく離して、電鋳によシスタンパ−を作
成する。
この場合′、トラッキングサーボのだめの案内溝１）１
形成とプリフォーマツティングのがットとを別工程にし
ているため、案内Ｉ１）１）１形成工程ではレジストの
厚みで案内溝１）１の深さを制御できるし、現像時間も
、オンラインモニターを用いて、案内溝１）１の仕上が
りに対しそ、最適化できる。更に、ブリフォーマツティ
ング工程でも、プリフォーマツティングの出来具合に工
程を最適化できるので、いずれにしても、仕上がシ精度
と歩留まりを飛躍的に向上できる。
形成とプリフォーマツティングのがットとを別工程にし
ているため、案内Ｉ１）１）１形成工程ではレジストの
厚みで案内溝１）１の深さを制御できるし、現像時間も
、オンラインモニターを用いて、案内溝１）１の仕上が
りに対しそ、最適化できる。更に、ブリフォーマツティ
ング工程でも、プリフォーマツティングの出来具合に工
程を最適化できるので、いずれにしても、仕上がシ精度
と歩留まりを飛躍的に向上できる。
而して、プリフォーマツティングを別工程にしたために
、プリフォーマツティングのピットが、案内＄ １）１
からはずれるおそれに対しては、シリフォーマツティン
グを、案内溝１）１のトラッキングを行いながら実行す
るため、案内溝１）１とプリフォーマツティングによる
ピットとの位置関係が正確に形成することができる。
、プリフォーマツティングのピットが、案内＄ １）１
からはずれるおそれに対しては、シリフォーマツティン
グを、案内溝１）１のトラッキングを行いながら実行す
るため、案内溝１）１とプリフォーマツティングによる
ピットとの位置関係が正確に形成することができる。
更に、プリフォーマツティングを別に行っているので、
案内溝１）１とデータトラックを別に設ける方式のスタ
ンパ−も容易に作成できる。
案内溝１）１とデータトラックを別に設ける方式のスタ
ンパ−も容易に作成できる。
本実施例においては、金や銀等を用いず、ニッケルを用
いたが、ニッケルは酸化しに＜＜、かつ、固いので型く
ずれを起しに＜＜、はく離性が良い理由のためである。
いたが、ニッケルは酸化しに＜＜、かつ、固いので型く
ずれを起しに＜＜、はく離性が良い理由のためである。
なお、前述の実施例においては、マザー板１）にプリフ
ォーマツティングする例について説明したが、これに限
ることはなく、スタンパ−にプリフォーマツティングを
行ってもよく、原盤をガラス盤でなく、ニッケル板等の
金属板を用いた場合、その原盤に直接プリフォーマツテ
ィングを行ってもよい。
ォーマツティングする例について説明したが、これに限
ることはなく、スタンパ−にプリフォーマツティングを
行ってもよく、原盤をガラス盤でなく、ニッケル板等の
金属板を用いた場合、その原盤に直接プリフォーマツテ
ィングを行ってもよい。
また、カッティングマシンとして、トラッキング用のレ
ーザ光源とプリフォーマツティング用のレーザ光源を別
にしたが、光パワーを調整して、トラッキング時には小
さいパワーで、プリフォーマット部の書込ピットの所で
は、光パワーを太きくして、書込ピットのみレジストが
現像時除去されるようにしても良い。
ーザ光源とプリフォーマツティング用のレーザ光源を別
にしたが、光パワーを調整して、トラッキング時には小
さいパワーで、プリフォーマット部の書込ピットの所で
は、光パワーを太きくして、書込ピットのみレジストが
現像時除去されるようにしても良い。
また、トラッキングの方法としては３ビ一ム方式、ある
いは、プッシュプル方式でもよいことは勿論である。
いは、プッシュプル方式でもよいことは勿論である。
また、プリフォーマツティングのピットの深さは、λ／
４でなくてもよく、（２ｎ＋１）λ／４（但しｎは車数
）程度でよく、穴でなく、最終ワークにおいて、凸状と
なってもよい。
４でなくてもよく、（２ｎ＋１）λ／４（但しｎは車数
）程度でよく、穴でなく、最終ワークにおいて、凸状と
なってもよい。
また、プリフォーマツティングは案内溝上でなく、溝と
溝の間に形成してもよいことは勿論である。この場合、
ディスク装置もこれに合わせることになる。
溝の間に形成してもよいことは勿論である。この場合、
ディスク装置もこれに合わせることになる。
以上説明したように、本発明は、プリフォーマットのほ
どこされる光ディスクにおいて、先ず、ｊ 案内溝
を最初に形成し、次に案内溝をトラッキングしながらプ
リフォーマットを行うようにした。
どこされる光ディスクにおいて、先ず、ｊ 案内溝
を最初に形成し、次に案内溝をトラッキングしながらプ
リフォーマットを行うようにした。
この結果、案内溝の形成とプリフォーマット作条を別工
程で行えるので、各形成作業をｎ！度よく行うことがで
きると共に１歩留まシよく行うことができる。
程で行えるので、各形成作業をｎ！度よく行うことがで
きると共に１歩留まシよく行うことができる。
したがって、本発明によれは、トラッキング用案内溝と
プリフォーマツティングのチーターピントの深さと幅と
位置とが精変よく、かつ、歩留まり良く製作できる光デ
ィスクのプリフォーマット形成方法を実現することがで
きる。
プリフォーマツティングのチーターピントの深さと幅と
位置とが精変よく、かつ、歩留まり良く製作できる光デ
ィスクのプリフォーマット形成方法を実現することがで
きる。
第１図は従来よυ一般に使用されている従来例の構成説
明図、第２図は本発明の一実施例の安部作成説明図であ
る。 １）・・・マザー板、１）１・・・案内溝、１２・・・
レジスト、１３・・・レーザ。
明図、第２図は本発明の一実施例の安部作成説明図であ
る。 １）・・・マザー板、１）１・・・案内溝、１２・・・
レジスト、１３・・・レーザ。
Claims (2)
- （１）プリフォーマットのほどこされる光ディスクにお
いて、一面側にトラッキング用のための案内溝を形成す
るための溝または山の案内部が形成された金属板と、該
金属板の一面側に塗布されたフォトレジストとを具備し
、前記案内部に基づきトラッキングを行うと共にプリフ
ォーマットのピットを前記金属板の前記一面に書き込む
ことを特徴とする光ディスクのプリフォーマット形成方
法。 - （２）金属板としてニッケル板を使用したことを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の光ディスクのプリフォ
ーマット形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22953384A JPS61107549A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 光デイスクのプリフオ−マツト形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22953384A JPS61107549A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 光デイスクのプリフオ−マツト形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61107549A true JPS61107549A (ja) | 1986-05-26 |
Family
ID=16893656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22953384A Pending JPS61107549A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 光デイスクのプリフオ−マツト形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61107549A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4839251A (en) * | 1986-04-11 | 1989-06-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photo-mask for use in manufacturing an optical memory disc, a method for making the photo-mask and a method for manufacturing the optical memory disc |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP22953384A patent/JPS61107549A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4839251A (en) * | 1986-04-11 | 1989-06-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photo-mask for use in manufacturing an optical memory disc, a method for making the photo-mask and a method for manufacturing the optical memory disc |
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