JPS6110584A

JPS6110584A - イミダゾイソキノリン化合物およびその製造方法

Info

Publication number: JPS6110584A
Application number: JP60132634A
Authority: JP
Inventors: Ikuo Ueda; 育男植田; Yoichi Shiokawa; 塩川　洋一; Masayuki Kato; 加藤　眞行; Nobukiyo Konishi; 小西　信清; Atsushi Akaha; 厚赤羽
Original assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1984-06-18
Filing date: 1985-06-18
Publication date: 1986-01-18
Also published as: US4686227A; EP0165545A3; US4738967A; GB8415540D0; EP0165545A2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「産業上の利用分野」この発明の下記一般式（■）で示される化合物およびそ
の塩は抗潰瘍作用を有し、医薬として有用である。

「従来の技術」イミダゾ［２．１−ａ］イソキノリン骨格をもつ化合物
は知られているが、本願の様な置換基をもつイミダゾ［
２．１−ａ３イソキノリン化合物は知られていない。

［発明が解決しようとする問題点」抗潰瘍作用を有し、医薬として有用な化合物は数多く知
られているが、この発明はさらに優れた医薬品の開発を
意図してなされたものである。

「問題を解決するための手段」この発明は新規イミダゾイソキノリン化合物およびその
塩に関する。さらに詳しくは、この発明は抗潰瘍作用を
有する新規イミダゾインキノリン化合物およびその塩、
それらの製造法およびそれらを含有する医薬組成物に関
する。

この発明のイミダゾイソキノリン化合物は新規であり、
次の一般式（Ｉ）（式中、Ｒ”（ｒｉ低級アルキル、Ｒ３は水素、ハロゲ
ン捷たはアル（低級）アルコキシ；およびＲは低級アル
カノイル保Ｄ　さｈｆｃカルボキシ、カルバモイルシカルバモイ
／ｌ／，ハロホルミル、シアンｉｆｃｌｄ低級アルキル
で置換されていてもよいアミノメチレンアミノ、シアノ
捷たは低級アルギルて置換され−（いてもよいイミノメ
チルアミノ、寸たは式：−Ｒ２〔式中、Ａは低級アルキ
レン；およびＲ２はシ（低級）アルキルアミノ、シアノ
、低級アルコキシ、適当な置換基を有していてもよいＮ
−含有複素環基、低級アルキニルオキシ、低級アルケニ
ルオキシ、低級アルキルチオ、アミノ（低級）アルキル
チオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホ
ニル、カルボキシ、保護されたカルボキシ、カルバモイ
ル、ヒドロキシカルバモイル、ヒドロキシ、低級アルカ
ノイルオキシ、２個のオキソ基を有する複素環アミノ（
低級）アルキルチオ、水素または式：（式中、Ｒ４，　Ｒ５およびＲ６はそれぞれ低級アルキ
ル；Ｘは酸残基を意味する）で示される基を意味する〕
で示される基を意味する）によって示すことができる。

この発明によれば、目的化合物（Ｉ）およびその塩は次
の製造方法により製造することができる：製造法ｌ製造法２（Ｉｂ）またはその塩（Ｉｃ）製造法３（Ｉｃ）（Ｉｄ）またはその塩製造法４（Ｉｅ）　　　　　　　　　　（Ｉｆ）またはその塩　
　　　　　　またはその塩製造法５（ＩＩ）　　　　　　　　　　　　　（Ｉｇ）またはそ
の塩　　　　　　　　　　またはその塩製造法６（Ｉｌｌ　　　　　　　　　　　　（Ｉｈ）またはその
塩　　　　　　　　　またはその塩製造法７（Ｉｈ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｉ）またはその
塩　　　　　　　　　またはその塩製造法８（Ｉｉ）　　　　　　　　　　　　　（Ｉｊ）またはそ
の塩　　　　　　　　　　またはその塩製造法９（Ｉｊ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｋ）またはその
塩　　　　　　　　　またはその塩製造法１０またはその塩また、はその塩製造法１１（Ｉｎ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｏ）またはその
塩　　　　　　　　　またはその塩製造法１２（Ｉｐ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｑ）またはその
塩　　　　　　　　　　またはその塩製造法１３（Ｉｒ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｓ）またはその
塩　　　　　　　　またはその塩製造法１４（Ｉｓ）またはそのカルボキシ基　　　またはそのアミ７基にに
おける反応性誘導体ま　　　　おける反応性誘導体また
はその塩　　　　　　　　　たはその塩（Ｉｔ）またはその塩製造法１５（Ｉｕ）　　　　　　　　　（Ｉｖ）またはその塩　　　　　　　またはその塩製造法１６（Ｉｘ）またはその塩製造法１７（Ｉｌまたはその塩上記製造方法の式中、ＲＩ　Ｒ’、　Ｒ３，Ｒ’、　Ｒ
Ｆ′、　Ｒ’。

ＡおよびＸはそれぞれ前記と同じ；Ｒ：はジ（低級）アルキルアミノまたは適当な置換基を
有していてもよいＮ−含有複素環基；尻はシアノ、低級
アルコキシ、ジ（低級）アルキルアミノ、適当な置換基
を有していてもよいＮ−含有複素環基、低級アルキニルオキシ、低級アルケニルオキシ、低級ア
ルキルチオ、アミノ（低級）アルキルチオ、またＩｌｉ
２個のオキソ基を有する複素環アミノ（低級）アルキル
チオ；Ｒ，２はテトラゾール−５−イル；Ｒ７は低級アルキル；Ｒ，ＬＦｉシアノアミノメチレンアミノまたはシアノイ
ミノメチルアミノ；Ｒ８は低級アルキル；Ｒ１）は低級アルキルアミノメチレンアミノまたは低級
アルキルイミノメチルアミノ；Ａ１　　は低級アルキレン；Ｒ９は２個のオキソ基を有する複素環基；Ｙｌ　　はハ
ロゲン、Ｒ１は低級アルキルチオ；Ｒ二　は低級アルキルスルフィニルまたは低級アルキル
スルホニルＲＩＧは低級アルキル；Ｒｏ　　は保護されたカルボキシまたは保護されたカル
ボキシ（低級）アルキル、兎　はカルボキシまたはカルボキシ（低級）アルキル；Ｒ１１は水素首だはヒドロキシ；Ｒｅｆｄカルバモイルカルバモイル（低級）アルキルまたはヒドロキシカルバ
モイル（低級）アルキル；Ｒｆ　　はカルボキシまたはエステル化さねたカルボキ
シ：Ｒｆ２は低級アルキル；およびＹ２　　はハロゲンである。

数種の出発化合物（Ｉｔ）は新規であり、次の製造法に
より製造することができる：製造法Ａまたはその塩（Ｉｌａ）またはその塩〔式中、Ｒ１は前記に同じ；Ｒ１はハロゲンまたはアル
（低級）アルコキシ；Ｙ３はハロゲンでアルコ０目的化
合物（Ｉ）の好適な塩は慣用の無毒な塩であり、アルカ
リ金属塩（例えば、ナトリウム塩、カリクム塩、等）お
よびアルカリ土類金属塩（例えば、カルシツム塩、マグ
ネシウム塩、等）のような金属塩、アンモニウム塩、有
機塩基塩（例えば、トリメチルアミノ塩、トリメチルア
ミノ塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルア
ミノ塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミノ塩、等
）、有機酸塩（例えば、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸
塩、トルエンスルホン酸塩、等）、無機酸塩（例えば、
塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩、等）、アミ
ノ酸（例えば、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸、等うとの塩、等が挙げられる。

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の適切な例および説明
を以下詳細に述べる。

「低級」とは、特に指示なき限りは、炭素原子１〜６個
を意味する。

「シアノまたは低級アルキルで置換されていてもよいア
ミノメチレンアミノ」、「シアンまたは低級アルキルで
置換されていてもよいイミノメチルアミノ」、「ジ（低
級）アルキルアミ／」、「低級アルキルチオ」、「アミ
ノ（低級）アルキルチオ」、「低級アルキルスルフィニ
ル」、「低級アルキルスルホニル」、「２個のオキソ基
を有する複素環アミノ（低級）アルキルチオ」、［低級
アルキルアミノメチレンアミノ」、「低級アルキルイミ
ノメチルアミ／′」、［カルボキシ（低級）アルキルＪ
、「保護されたカルボキシ（　［級）　フルキル」、「
カルバモイルＣＵｆ＆）アルキル」および「ヒドロキシ
カル２パモイル（低Ｉ＆）アルキル」中の「低級アルキ
ル部分」および「低級アルキル」の好適な例としては、
メチル、メチル、プロピル、インプロビル、ブチル、ｔ
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、等が挙げられる。

好適な「ハロゲン」としては、塩素、臭素、フッ素首た
はヨウ素が挙げられる。

好適な「アル（低級）アルコキシ」としては、フェニル
（低９）アルコキシ（例えば、ベンジルオキシ、フェネ
チルオキシ、等）、等が挙げられる。

「低級アルカノイルオキシ」における「低級アルカノイ
ル部分」および「低級アルカノイル」の好適な例として
は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ンブチリル、バレリル、インバレリル、ヘキサノイ゛ル
、等が挙げられる。

「保護されたカルボキシ（低級）アルキル」における「
保護されたカルボキシ部分」および「保護されたカルボ
キシ」の好適な例としては、エステル化されたカルボキ
シ、等が挙げられる。

「エステル化されたカルボキシ」における「エステル部
分」の好適な例としては、低級アルキルエステル（例、
ｉば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエス
テル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブ
チルエステル、ｔ−ブチルエステル、ペンチルエステル
、ヘキシルエステル、１−シクロプロピルエチルエステ
ル、等）〔該低級アルキルエステルは少なくとも１つの
適切な置換基を有していてもよい（例えば、低級アルカ
ノイルオキシ（低級）アルキルエステル〔例えば、アセ
トキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエス
テル、ブチリルオキシメチルエステル、パレジルオキシ
メチルエステノヘ　ピパロイルオキシメチルエステル、
ヘキサノイルオキシメチルエステル、１（または２）−
アセトキシエチルエステル、１（捷たは２捷たは３）−
アセトキシプロピルエステル、１（または２または３捷
たは４）−アセトキシブチルエステル、１（または２）
−プロピオニルオキシエチルエステル、１（または２捷
たは３）−プロピオニルオキシプロピルエステル、１（
まだは２）−ブチリルオキシエチルエステル、１（また
は２）−イソブチリルオキシエチルエステル、１（また
は２）−ピバロイルオキシエチルエステル、１（または
２）−ヘキサノイルオキシエチルエステル、インブチリ
ルオキシメチルエステル、２−エチルブチリルオキシメ
チルエステル、３，３−ジメチルブチリルオキシメチル
エステル、１（または２）−ペンタノイルオキシエチル
エステル、等］、低級アルカンスルホニル（低級）アル
キルエステル［例、ｔＪｆ、２−メシルエチルエステル
、等］、モノ（またけジまたはトリ）−ハロ（低級）ア
ルキルエステル［例ｔｆｌｆ、２−ヨードエチルエステ
／Ｌ／、　　２，２．２　　）　’）クロロエチルエス
テル、等］、低級アルコキシカルホニルオキシ（低級）
アルキルエステル［例工ば、メトキシカルボニルオキシ
メチルエステル、エトキシカルボニルオキシメチルエス
テル、２−メトキシカルボニルオキシエチルエステル、
１−エトキシカルボニルオキシエチルエステル、１−イ
ンプロポキシカルボニルオキシエチルエステル、等］捷
たけフタリジリデン（低級）アルキルエステル）〕；低
級アアリールエステル例えば、ビニルエステル、アリル
エステル、”Ｆ　）　；　低級アルキニルエステル（例
、ｔば、エチニルエステル、プロピニルエステル、等）
；アル（低級）アルキルエステル〔例えば、モノ（まだ
はジまたはトリ）フェニル（低級）アルキルエステル、
等〕［該アル（低級）アルキルエステルは少なくとも１
つの適切な置換基を有していてもよい（例えば、ベンジ
ルエステル、４−メトキシベンジルエステ／Ｌ７゜４−
ニトロペンジルエステノへ７エネチルエステル、トリチ
ルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（メトキシ
フェニル）メチルエステル、３．４−ジメトキシベンジ
ルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル
ベンジルエステル、等月；少なくとも１つの適切な置換
基を有していてもよいアリールエステル（例えば、フェ
ニルエステル、４−クロロフェニルエステル、トリルエ
ステル、ｔ−ブチルフェニルエステル、キシリルエステ
ル、メシチルエステル、クメニルエステル、等）、等の
ようなものが挙げられる。

好ｉｉｉ！［’ｒハロポルミル」としては、フルオロホ
ルミル、クロロホルミル、フロモホルミルおよびヨード
ホルミルが挙げられる。

好適な「低級アルキレン」としては、メチレン、エチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレンま
だはへキサメチレンが挙げられる。

好適な「低級アルコキシ」としては、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、七−ブト
キシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、等が挙げられ
る。

［適当な置換基を有していてもよいＮ−含有複素環基に
おける「Ｎ−含有複素環部分」の好適な例としては、窒
素原子を含む、飽和もしくは不飽和の、単環または多環
の複素環基があり、特に望ましいＮ−含有複素環基とし
ては、１〜４個の窒素原子を含有する不飽和３〜８員複
素単環基〔例えば、ピロリル、ピロリニル、゛イミダゾ
リル、ピラゾリル、トリアゾリル（例えば、４Ｈ−１，
２，４−トリアゾリル、ＩＨ−１，２，３−、）リアゾ
リル、２Ｈ−１，２，３−！−リアゾリル、等）、テト
ラゾリル（例えば、ｌＨ−テトラゾリル、２Ｉ（−テト
ラゾリル、等）、ジヒドロトリアジニル、等）；１〜４
個の窒素原子を含有する飽和３〜８員複素単環基（例え
ば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピ
ペラジニル、等）；１〜５個の窒素原子を有する不飽和
縮合複素環基（例えば、インドリル、イソインドリル、
ベンズイミダゾリル、ＩＨ−イングゾリル、等）のよう
な複素環基が挙けられる。

「適当な置換基を有していてもよいＮ−含有複素環基」
における適当な置換基としては、低級アルキル（例えば
、メチル、エチル、プロピ／ｌ／、イソプロピル、ブチ
ル、イソジチル、ｔ−グチル、ペンチル、ヘキシル、’
４？　）　、ヒドロキシ（低ｆ）アルキル（例えば、ヒ
ドロキシメチル、１または２−ヒドロキシエチル、ｌま
たは２またＩ／ｉ３−ヒドロキシプロピル、１または２
まだは３または４−ヒドロキシブチル、■または２″！
ｉたは３または４または５−ヒドロキシペンチル、ｌま
たは２または３または４または５または６−ヒドロキシ
ヘキシル、等）、等が挙げられる。

好適な「低級アルキニルオキシ」としては、エチニルオ
キシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、ペンテニル
オキシ、ヘキシニルオキシ、等が挙げられる。

好適な「低級アルケニルオキシ」としては、ビニルオキ
シ、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテニルオ
キシ、ヘキセニルオキシ、等が挙けられる。

「２個のオキソ基を有する複素環アミノ（低級）アルキ
ルチオ」および「２個のオキソ基を有する複素環基」に
おける「複素環部分」の好適な例は窒素、硫黄および酸
素原子から選ばれた少なくとも１つのへテロ原子を含有
するＩ飽和もしくは不飽和の単環または多環の複素環基が挙げ
られ、好捷しい複素環基としては、１〜４個の窒素原子
を含有する不飽和３〜６員複素単環基［例えば、ピロリ
ル、ピロリニル、イミダゾリル、ビラゾリノペ　ピリジ
ル、ビリミジニノへピラジニル、ピリダジニル、トリア
ゾリル（例えば、４Ｈ−１，２，４−）リアゾリル、Ｉ
Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−）
リアゾリル、等）、テトラゾリル（例えば、ＩＨ−テト
ラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル、等）、等に１〜４個の
窒素原子を含有する飽和３〜６員複素単環基（例えば、
ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラ
ジニル、等）；１〜５個の窒素原子を含有する不飽和縮
合複素環基［例えば、インドリル、イソインドリル、イ
ントリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリノへイソキ
ノリル、イングゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラシ
ロピリダジニル（例え１ハ、テトラシロ（１，５−ｂｌ
ピリダジニル、等）、等３１１〜２個の酸素原子および
】〜３個の窒素原子を含有する不飽和３〜６員複素単環
基（例えば、オキサシリル、インオキサシリル、オキサ
ジアゾリル（例えば、１，２．４−オキサジアゾリル、
１．３．４−オキサジアゾリル、１．２．５−オキサジ
アゾリル、等）、等１１１〜２個の酸素原子および１〜
３個の窒素原子を含有する飽和３〜６員複素単環基（例
えば、モルホリニル、等）；１〜２個の酸素原子および
１〜３個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基（例
えば、ベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾリル、
’り；１〜２個の硫黄原子および１〜３個の窒素原子を
含有する不飽和３〜６員複紫単環基〔例えば、チアゾリ
ル、チアジアゾリル（例えば、１，２．４−チアジアゾ
リル、１．３．４−チアジアゾリル、１．２．５−チア
ジアゾリル、等）、等１１１〜２個の硫黄原子および１
〜３個の窒素原子を含有する飽和３〜６員複素単環基（
例えば、チアゾリジニル、等）；１〜２個の硫黄原子お
よび１〜３個の窒素原子を含有する不飽和結合複素環基
（例えば、ベンゾトアゾリル、１．２−ベンズイソチア
ゾリル、２．１−ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアジ
アゾリル、等）、等のような複素環基が挙けられる。

好適な「酸残基」としては、ノ・ロゲン化水素酸の残基
〔即ち、ハロゲン（例えば、塩素、臭素、フッ素または
フッ素）〕、（低級）−アルキル硫酸（例えば、メチル
硫酸、エチル硫酸、等）等のような酸の残基が挙げられ
る。

目的化合物（Ｉｌの好ましい実施態様は以下の通りであ
る：Ｒ１の好ましい実施態様は低級アルキル（さらに好まし
くはメチル）；Ｒ３は水素、ハロゲン（さらに好ましくは塩素）捷たは
アル（低級）アルコキシ［さらに好ましくはフェニル（
低級）アルコキシ、最も好ましくはベンジルオキシ］；
およびＲは低級アルカノイル、ニトロソ、アミノ、カルボキシ
、保護されたカルボキシ［さらに好ましくはエステル化
されたカルボキシ、最も好ましくは低級アルコキシカル
ボニル］、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、ハ
ロホルミル、シアノアミノメチレンアミノ、低級アルキ
ルアミノメチレンアミノ、シアノイミノメチルアミノ、
低級アルキルイミノメチルアミノ、捷たは式、−Ａ−Ｐ
ｔ２〔式中、Ａは低級アルキレン（さらに好ましくはメ
チレン）であり、Ｒ２はジ（低級）アルキルアミノ（さ
らに好ましくはジメチルアミノ）、シアン、低級アルコ
キシ（さらに好ましくけメトキシ捷たけエトキシ）、低
級アルキルまたはヒドロキシ（低級）アルキルを有して
いてもよいＮ−含有複素環基［さらに好ましくは、ヒド
ロキシ（低級）アルキルを有する１〜４個の窒素原子を
含有する飽和３〜８員複素単環基または低級アルキルを
有していてもよい１〜４個の窒素原子を含有する不飽和
３〜８員複素単環基、最も好ましくはヒドロキシ（低級
）アルキルを有するピペラジニル、テトラゾリル、イミ
ダゾリルまたは低級アルキルを有するイミダゾリル］、
低級アルキニルオキシ、低級アルケニルオキシ、低級ア
ルキルチオ、アミノＣｅｄ＆）アルキルチオ、低級アル
キルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、カルボキ
シ、保護されたカルボキシ（さらに好ましくけエステル
化されたカルボキシ、最も好ましくけ低級アルコキシカ
ルボニル）、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、
ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、２個のオキソ基
を有するベンズイソチアゾリルアミノ（低級）アルキル
チオ［さらに好ましくは（１，１−ジオキソ＝１，２−
ベンズインチアゾリル）アミノ（低級）アルキルチオ］
、水素または式：［式中、Ｒ４，Ｒ５およびＲ６はそれ
ぞれ低級アルキル；Ｘは酸残基（さらに好ましくは低級
アルキル硫酸の残基捷たはハロゲン）である〕で示され
る基１で示される基である。

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。

製造法１化合物（Ｔａ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）または
その塩と化合始動またはその塩および化合物（ＩＶ）と
反応させることにより製造することができる。

化合物（Ｉａ）および＠）の好適な塩としては化合物（
Ｉｌで例示したものが挙げられる。

化合物（■）の好適な塩としては化合物ＣＩ）で例示し
た酸付加塩が挙げられる。

この反応は通常、慣用の酸の存在下で行われる。

好適な酸としては、有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、トリフルオロ酢酸、等）および無機酸（例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、等）が挙げられる。

反応は通常、水、塩化メチレン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、アルコール（例えば、メタノール、エタノー
ル、等）等の溶媒、それらの混合物、または反応に悪影
響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。液体酸を溶
媒として使用することもできる。反応温度は特に限定さ
れず、反応は通常、冷却ないし加熱下に行われる。

製造法２化合物（Ｉｃ）は、化合物（Ｉｂ）またはその塩と化合
物ｍを反応させることにより製造することができる。

化合物（Ｉｂ）の好適な塩としては化合物（Ｉ）で例示
したような酸付加塩が挙げられる。

この反応は通常、アルコール（例えば、メタノール、エ
タノール、等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、テトラ上１゛ロフラン、アセトン、ジエチルエー
テルのような溶媒またはその他反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒中で行われる。

使用する化合物（ｖ）が液体の場合には、それを溶媒と
して使用することもできる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却ないし加
熱下に行われる。

製造法３化合物（Ｉｄ）またはその塩は、化合物（Ｉｃ）と化合
物（Ｖｌ）またはその塩を反応させることにより製造す
ることができる。

化合物（Ｉｄ）および（旬の好適な塩としては化合物（
Ｉ）で例示したようなものが挙げられる。

この反応は通常、アルコール（例えば、メタノーノへエ
タノール、等）、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、Ｎ
、Ｉ、Ｉ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテルのような溶媒またはその他反応に悪
影響を及ぼさない溶媒中で行われる。

使用する化合物（Ｖｌ）またはその塩が液体である場合
には、それは溶媒として使用することもできる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、室温または加
温下ないし加熱下に行われる。

製造法４化合物（Ｉｆ）またはその塩は、化合物（Ｉｅ）または
その塩とアジド化合物を反応させることにより製造する
ことができる。

化合物（Ｉｅ）および（Ｉｆ）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）で例示したような酸付加塩が挙げられる。

アジド化合物の好適な例としては、アジ化物の無機塩基
塩（例えば、アジ化ナトリクム、アジ化カリクム、アジ
化すチクム、アジ化カルシウム、アジ化バリクム、等）
、アジ化水素、アジ化水素酸、アジ化アンモニクム、等
が挙げられる。

この反応は通常、アルコール（例えば、エタノール、エ
タノール、等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのような
溶媒またはその他反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行
われる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、加温もしくは
加熱下に行われる。

製造法５化合物（Ｉｇ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）または
その塩をホルミル化反応に付すことにより製造すること
ができる。

化合物（Ｉｇ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したような酸付加塩が挙げられる。

このホルミル化は常法、例えば、化合物（ロ）またはそ
の塩とビルスマイヤー試薬（Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミドと塩化ホスホリル、等との反応により調製）を反応
させ（第１段階）、次いで生じた化合物を加水分解する
（第２段階）ことにより行うことができる。

（１）第１段階：この反応は通常、アルコール（例えば、メタノール、エ
タノーノへ等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのような
溶媒または反応に悪影響を及ぼさない他の溶媒中で行わ
れる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、加温または加
熱下に行われる。

（１１）第２段階（加水分解）：加水分解は常法により行うこをができる。

製造法６化合物（Ｉｈ）またはその塩は、化合物（Ｕ）　ｔたは
その塩をニトロソ化反応に付すことにより製造すること
ができる。

化合物（Ｉｈ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したような酸付加塩が挙げられる。

この反応で用いられる好適なニトロン化剤としては、低
級アルキル亜硝酸塩（例えば、亜硝酸ｔ−ブチル、亜硝
酸アミル、亜硝酸イソアミル等）等が挙げられる。

反応は通常、アルコール（例えば、メタノール、エタノ
ール等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルの
ような溶媒捷たは反応に悪影響を及ぼさないその他の溶
媒中で行われる。

製造法７化合物（■１）またはその塩は、化合物（Ｉｈ）または
その塩を還元反応に付すことにより製造することができ
る。

化合物（Ｉｉ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したような酸付加塩が挙げられる。

この反応に適用し得る還元方法としては、例えば、金属
（例えば、亜鉛、亜鉛アマルガム等）またはクロム化合
物（例えば、塩化第一クロム、酢酸第一クロム等）と有
機または無機酸（例えば、酢酸、プロピオン酸、塩酸等
）との組合せを利用した還元および慣用の金属触媒（例
えば、パラジウム炭素等）の存在下で行う慣用の接触還
元が挙げられる。

反応は通常、水、アルコール（例えば、メタノール、エ
タノール等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのような溶
媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行
われる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却ない１−
加熱下に行われる。

製造法８化合物（Ｉｊ）またはその塩は、化合物（■１）または
その塩と化合物（至）とを反応させることにより製造す
ることができる。

化合物（Ｉｊ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したような酸付加塩が挙げられる。

反Ｆ３は通常、アルコール（例えば、メタノール、エタ
ノール等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−シ／　４−ルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのような
溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で
行われる。

製造法９化合物（Ｉｋ）　４たはその塩は、化合物（Ｉｊ）また
はその塩と化合物（■）まだはその塩とを反応させるこ
とにより製造することができる。

化合物（Ｉｋ）および（ｎ）の好適な塩としては、化合
物（Ｉ）で例示したような酸付加塩が挙げられる。

製造法１０化合物（Ｉｎ＋）　ｉたはその塩は、化合物（Ｉｌ）ま
たはその塩と化合物（ＩＫ）またはその塩とを反応させ
ることにより製造することができる。

化合物（Ｉｆｆ）、（１ｍ）および（鉛の好適な塩とし
ては、化合物（Ｉ）で例示したような酸付加塩が挙げら
れる。

反応は通常、塩基の存在下に行われる。

適切な塩基としては、アルカリ金属水素化物（例えば、
水素化ナトリウム等）、アルカリ金属水酸化物（例えば
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ土
類金属水酸化物（例えば、水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸塩
（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸力ルシクム等）、ア
ルカリ金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素す）　ｌ）ク
ム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ金属酢酸塩（例え
ば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等）、アルカリ土類
金属燐酸塩（例えば、リン酸マグネシウム、リン酸力ル
シクム等）、アルカリ金属リン酸水素塩（例えば、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリクム等）等のよ
うな無機塩基およびトリアルキルアミノ（例えば、トリ
メチルアミノ、トリエチルアミノ等）、ピコリン、Ｎ−
メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン等のような有
機塩基が挙げられる。

反Ｅは通常、アルコール（例えば、メタノール、エタノ
ール等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−’；メチルホルムアミド
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのような溶媒
または反応に悪影響を及はさないその他の溶媒中で行わ
れる。

製造法１１化合物（Ｉｏ）またはその塩は、化合物（Ｉｎ）または
その塩を酸化反応に付すことに７より製造することがで
きる。

化合物（Ｉｎ）および（Ｉｏ）の好適な塩としては、化
合物＋Ｉ）で例示したような酸付加塩が挙げられる。

この酸化反応は常法、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、
過安息香酸、過酢酸、オゾン、過酸化水素、過ヨウ素酸
等のような酸化剤を用いる方法で行うことができる。

反応は通常、ベンゼン、　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジエチルエー
テルのような溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその
他の溶媒中で行われる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却下もしく
は室温で行われる。

製造法１２化合物（Ｉ（Ｉ）またはその塩は、化合物（Ｉｐ）また
はその塩と化合物（Ｘ）とを反応させ（第１段階）、次
いで得られた化合物を加水分解する（第２段階）ことに
より製造することができる。

化合物（ＩＰ）および（Ｉｑ）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）で例示したような酸付加塩が挙げられる。

（１）第１段階：この反応は通常、酸の存在下に行われる。適切な酸とし
ては、有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ト
リフルオロ酢酸等）および無機酸（例えば、塩酸、臭化
水素酸、硫酸等）が挙げられる。

この反応は通常、アルコール（例えば、メタノール、エ
タノール等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのような溶
媒または反応に悪影響を及はさないその他の溶媒中で行
われる。

（１（）第２段階（加水分解）：加水分解は常法により行うことができる。

製造法１３化合物（Ｉｓ）またはその塩は、化合物（Ｉｒ）または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。

化合物（■８）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したようなものが挙げられる。

化合物（Ｉｒ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したような酸付加塩が挙げられる。

この反応は、加水分解、還元等のような常法により行う
ことができる。

加水分解は塩基または酸の存在下に行うことが好ましい
。適切な塩基としては、アルカリ金属（例えば、ナトリ
ウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、マグ
ネシウム、カルシウム等）、その水酸化物または炭酸塩
もしくけ炭酸水素塩、１リアルキルアミノ（例えば、ト
リメチルアミノ、トリエチルアミノ等）等のような無機
塩基および有機塩基が挙げられる。適切な酸としては、
有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフル
オロ酢酸等）および無機酸（例えば、塩酸、臭化水素酸
、硫酸等）が挙げられる。

還元は、化学的還元および接触還元を含む常法により行
われる。

反応は通常、水、塩化メチレン、アルコール（例えば、
メタノール、エタノール等）のような溶媒、その混合物
、まだは反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行
われる。液体塩基または酸も溶媒として使用することが
できる。反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却
ないし加熱下に行われる。

製造法１４化合物（Ｉｔ）またはその塩は、化合物（Ｉｓ）または
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩と
化合物（届またはそのアミノ基における反応性誘導体ま
たはその塩とを反応させることにより製造することがで
きる。

化合物（■８）および（Ｉｔ）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）で例示したようなものが挙げられる。

化合物（ＸＩ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したような酸付加塩が挙げられる。

化合物（Ｉ８）のカルボキシ基における好適な反応性誘
導体としては、酸ノ・ロゲン化物、酸無水物、活性アミ
ド、活性化エステル等が挙げられる。

この反応は通常、水、アルコール（例えば、メタノール
、エタノール等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのよう
な溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中
で行われる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常；冷却ないし加
温下に行われる。

製造法１５化合物（Ｉｖ）またはその塩は、化合物（Ｉｕ）または
その塩を還元反応に付すことにより行うことができる。

化合物（Ｉｕ）および（ＩＶ）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）で例示したものが挙げられる。

適切な還元剤としては、水素化アルミニクムリチクム等
が挙げられる。

この反応は通常、アルコール（例えば、メタノール、エ
タノール等）、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−シｌ　ｆルホルムア
ミド、テトラヒドロ７ラン、ジエチルエーテルのような
溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で
行われる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却下ないし
は室温で行われる。

製造法１６化合物（Ｉｘ）またはその塩は、化合物（ＩＷ）または
その塩と化合物＠またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体またはその塩とを反応させることにより製造す
ることができる。

化合物（ＩＷ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したものが挙げられる。

化合物（２）の好適な塩としては、アルカリ金属塩（例
えば、ナトリウム塩、カリウム塩等）等が挙げられる。

化合物（Ｉｘ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で例
示したような酸付加塩が挙けられる。

化合物（９）のカルボキシ基における好適な反応性誘導
体としては、化合物（Ｉ８）で例示したものが挙げられ
る。

この反応は通常、ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ピリジン、ジエチルエーテ
ルのような溶媒捷たは反応に悪影響を及ぼさないその他
の溶媒中で行われる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却ないし加
温下に行われる。

製造法１７化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩＩ）または
その塩と化合物（ＸＩＶ）またはその塩とを反応させる
ことにより製造することができる。

化合物（Ｘ１１’）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）
で例示したものが挙げられる。

化合物（ＸＩｎ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で
例示したような酸付加塩が挙げられる。

この反応は通常、アルコール（例えば、メタノール、エ
タノール等）、ベンゼン、クロロホルム、Ｎ、Ｎ−ジブ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルのような溶媒捷たは反応に悪影響を及ぼさない溶媒
中で行われる。

反応は、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ金属
炭酸水素塩（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等）、トリ（低級）アルキルアミノ（例えば、ト
リメチルアミノ、トリエチルアミノ等）、ピリジンまた
はその誘導体（例えば、ピコリン、ルチジン、４−ジメ
チルアミノピリジン等）等のような無機まだは有機塩基
の存在下に行うことが好ましい。

反応温度は特に限定されず、反応は冷却下、室温または
加温もしくは加熱下に行うことができる。

出発化合物（Ｊｌａ）の製造法を下記に詳しく説明する
。

製造法Ａ化合物（Ｉｌａ）またはその塩は、化合物（Ｘｌｌｌａ
）　”！たけその塩と化合物（ＸＶ）とを反応させるこ
とにより製造することができる。

化合物（Ｉｌａ）および（＆）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）で例示したような酸付加塩が挙げられる。

この反応は、前記の製造法１７と同様の方法で行うこと
ができる。

この発明の目的化合物（Ｉ）およびその塩は新規なもの
であり、強い潰瘍抑制作用を示す。

目的化合物ＣＩ）の有用性を説明するため、目的化合物
（Ｉｌの薬理データのいくつかを下記に示す。

（Ａ）エタノール潰瘍抑制試験方法ニア週令、体重約２００ｙの雄性スプラーグ・ドーリ−（
Ｓｐｒａｇｕｅ　−Ｄａｗｌｅｙ）系ラットを１群５匹
とし、２４時間絶食後、エタノール潰瘍試験に用いた。

試験化合物は０．１％メチルセルロース水溶液に懸濁し
、この懸濁液（５ｍｅ／ｋｇ　）を各ラットに経口投与
した。

対照群には溶媒、即ち、０．１チメチルセルロース水溶
液（５ｍｅ／ｋｇ　）のみを同様にして与えた。

無水エタノール（５ｄ／に９　）を試験化合物投与３０
分後に経口投与し、１時間後、ラットを殺して胃を取り
出した。各ラットの潰瘍面積を測定した。試験化合物投
与群の平均面積（−）を対照群のそれと比較した。

結果：試験化合物ニア−クロロ−３−シアノメチル−２−メチ
ルイミダゾ［，２，１−ａ］ｌイソキノリン験化合物のＥＤ５ｏ値：０．９７ｒｎｇ／に９（Ｂ）
ストレス潰瘍抑制試験方法：体重約２００ｙのスプラーグ・ドーリ−（Ｓｐｒａｇｕ
ｅ−Ｄａｗｌｅｙ）　　系ラットを１群５匹として使用
した。

各ラットを小さなケージに固定し、呼吸が可能である程
度に水浴に浸けた。水浴の温度は２２°Ｃに保った。試
験化合物は固定直前に経口投与した。

７時間後、ラットを殺し、胃を取り出した。胃け２チホ
ルマリンで処理した。各ラットの潰瘍面積を測定した。

試験化合物投与群の平均面積（＋＋Ｊ）を対照動物のそ
れと比較した。

結果：試験化合物＝７−クロロ−３−シアノメチル−２−メチ
ルイミダゾ［２，１−ａ］インキノリン試験化合物のＥＤ５ｏ値：　１．８　ｍｙ／ｋｔｉ」１
記試験結果から明らかなように、この発明の目的化合物
（Ｉ）は抗潰瘍剤として有用である。

この発明の目的化合物（１）またはその塩を治療の目的
で投与するにあたっては、上記化合物を有効成分とし、
これに医薬上許容される押体、例えば経口または非経口
に適した有機もしくは無機、固体もしくは液体の賦形薬
を加えた製剤の形で使用できる。医薬製剤はカプセル、
錠剤、糖衣錠、溶液、懸濁液、エマルジョン等にすれば
よい。所望に応じて」−配装剤中に助剤、安定化剤、湿
潤剤または乳化剤、緩衝液およびその他の通常使用され
る添加剤が含寸れていてもよい。

化合物の投与量は患者の年令および状態により変化する
が、この発明の化合物を平均１回投与量約５■、１０■
、５０ｔｎｇ、１００〜．２５０〜．５００■、および
１１０００ｆｆ１投与すれば、潰瘍の治療に有効である
。一般的には、１日あたり、１■〜約６０００ｑまたは
それ以上投与してもよい。

以下製造例および実施例を示し、この発明を説明する。

製造例１５−クロロ−１−アミノイソキ／リン（２，８９）とク
ロロアセトン（５，４ｇりおよび無水エタノール（３５
ｍｅ）との混合物を６０℃で１６時間加熱し、吸引濾過
した。ろ液を真空中で蒸発濃縮し、残留固体をエタノー
ルで洗い、７−クロロ−２−メチルイミダゾ［２，１−
ａｌイソキノリン（２，８ｙ＞を得た。

融点：１８８’−１９１°ＣＩＲ（ヌジョール）：　　１４７０．　１３９０．　８
００ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）＋　２．４７（
３Ｈ，ｓ）、　　７．２２−７．８４（５Ｈ，ｍ）、　
　８．４０−８．５３（ＩＨ，ｍ）製造例２製造例１の方法に準じて、下記の化合物を得た。

（Ｉ）７−ベンジルオキシ−２−メチルイミダゾ［２゜
１−ａ］イソキノリン融点：８９−９０°ＣＩＲ（ヌジョール）：　　１６０２．　１５５０．　１
５１０．　１４８２゜１２６０ｃｍ’ ＮＭＲ（ＣＤＣ１１’３．δ）：　２．５０（３Ｈ，ｓ
）、　　５．１７（２Ｈ，ｓ）＋６、９３　（Ｉ　Ｈ＋
　ｄ；　Ｊ＝＝８Ｈｚ　）’＋　　７．１０７．８０　
（９Ｈ１ｍ　）。

８、１４　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ　）（２）８−
クロロ−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ］ｌインキノ
リン点：１３１−１３３℃ ＩＲ（ヌジョ　／ｌ／）：　　１６２５．　１５１０　
”Ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　２．３８
（３Ｈ，ｓ）、　　７．１２（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝７．５）１ｚ）、　　７．５８　（Ｉ　Ｌ　ｄｄ、
Ｊ＝＝９．５　Ｈｚ、　２Ｈｚ　）。

７．６８（ＩＨ，ｓ）、７．９２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈ
ｚ）、８．２８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝＝７．５Ｈｚ）、　
　８．３７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９．５Ｈｚ）実施例１３７％水性ホルムアルデヒド（０，４２ｙ）および５０
チ水性ジメチルアミノ（０，４６ｙ）との酢酸（３，２
ｍｅ）中溶液に７−クロロ−２−メチルイミダゾ［２，
１−ａｌイソキノリン（１９）を加え、混合物を５０℃
で３．５時間加温撹拌した。この溶液を氷水に注ぎ入れ
、水酸化す）　ＩＪクム水溶液で中和した。生じた沈殿
物を戸数し、水洗し、トルエンとｎ−ヘキサンとの混合
物で再結晶させて、７−クロロ−３−ジメチルアミノメ
チル−２−メチルイミダゾ（：２，１−ａｌインキノリ
ン（０，１’）を得た。

融点：１５７−１６０°Ｃ工Ｒ（ヌジョール）：　　１５２０．　１４８０．　１
４００．　１３８０゜１３７０、　１０２０．　７８０
ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ７？３．δ）：　２．２０（６
Ｈ，ｓ）、　　２．４７（３Ｈ，ｓ）。

３．６３（２Ｈ，ｓ）、　　７．２４−８．６０（５Ｈ
，ｍ）元素分析：Ｃ１５Ｈ１６ＣＩＮ。

計算値：　Ｃ６５，８Ｌ　　Ｎ５．８９．　　Ｎ１５．
３５゜Ｃｌ１２．９５実測値：　Ｃ６５，８６，Ｎ５．８０．　Ｎ１５．１６
゜（Ｊ’１２．５９実施例２実施例１と同様にして下記の化合物を得た。

（１）３−ジメチルアミノメチル−２−メチルイミダゾ
（２，１−ａノィソキノリシ融点：　９７−９９°ＣＩＲ（ヌジョールル　１７１０．　１４５０．　１３９
０．　１３８０゜１３７０ｃｍ’ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）：　２．２４（６Ｈ，ｓ）、
　　２．４８（３Ｈ，ｓ）。

３．６５（２Ｈ，ｓ）＋　　７．００（ＩＨ，、ｄ、　
Ｊ＝８Ｈｚ）、　　７．４７−７、７７　（３Ｈ１ｍ　
）　、８．０６　（ＩＨｌｄ、Ｊ””８Ｈｚ　）＋　　
８．６４−８．７３（ＩＨ，ｍ）元素分析：　Ｃｑ５Ｉ（＋ｙＮ３計算値：　０７５．２８．　　）（７，１６，Ｎ１７．
５６実測値：　Ｃ７４，９７，Ｎ７．１１．　　Ｎ１７
．３５（２）７−ベンジルオキシ−３−ジメチルアミノ
メチル−２−メチルイミダゾ［２，１〜ａ］イソキノリ
ン融点：１３５−１３７℃ ＩＲ（ヌジョール）＋　　１６００．　１５６０．　１
５１０．　１４８０゜１２６３ｃＩｎ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｅ３．δ）：　　２．２３（６Ｈ，ｓ）
、　　２．５０（３Ｈ，ｓ）。

３．６７（２Ｈ，ｓ）、　　５．２８（２Ｈ，ｓ）、　
　６．９７−７．７０（８Ｈ，ｍ）、　　８．００−８
．４０（２Ｈ，ｍ）（３）８−クロロ−３−ジメチルア
ミノメチル−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ〕イソキ
ノリン融点：１１７−１２０°Ｃ工Ｒ（ヌジョール）：　　１６３５．　１５１５ｃｍ　
”ＮＭＲ（ＤＭＳ　Ｏ−ｄ　６．δ）　：　２．１８（
６Ｈ，ｓ）、　２．３８（３Ｈ。

ｓ）＋　　３．７０（２Ｈ，ｓ）、　　７．１７（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）。

７．６０（ＩＨ，ｄａ、　、Ｔ＝９Ｈｚ、　２Ｈｚ）、
　　７．９５（ＩＨ，ｄ。

Ｊ−２Ｈｚ）、　　８．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝＝７．５
Ｈｚ）。

８．３８（ＩＨ，ｄ、、　Ｊ＝９Ｈｚ）実施例３３７％水性ホルムアルデヒド（１，ｓｙ）、１−（２−
ヒドロキシエチル）ピペラジン（２，３５９’）、水（
２ｍｅ）および酢酸（１２ｒｎＥ）の溶液に２−メチル
イミダゾ［２，１−ａｌインキノリン（３ｙ）を加え、
この溶液を５０℃で３時間加温撹拌した。

この溶液を氷水に注ぎ入れ、水酸化ナトリウムで中和し
た。

生じた沈殿を戸数し、水洗し、シリカゲル（６０２）ク
ロマトグラフィＫかけ、クロロホルムとメタノール（１
０：　１　）の混液で溶出した。溶出液を真空中で蒸発
濃縮し、残留固体を酢酸エチルとｎ−ヘキサンとの混合
物で再結晶させて、３−［４−（２−ヒドロキシエチル
）−１−ピペラジニルメチル〕−２−メチルイミグゾ［
２，１−ａ］ｌインキノリン２．２ｙ）を得た。

融点：１１５−１１７°Ｃ工Ｒ（ヌジョール）＋　　３２００．　２８００．　１
５１５．　１４１０゜１３４０、　１１６０．　１０８
０．　１０１０ｃｍ−１ＨＭＲ（１０１Ｏ！３．δ）＋
　２．３３−２．６０（１３Ｈ，ｍ）、　　３．６３（
２Ｈ，ｓ）、　　３．７０（２Ｈ，ｓ）、　　７．００
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）。

７．３３７．７８（３Ｈ，ｍ）、　　８．０３（ＩＨ，
ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）。

８、５０−８．７０（ＩＨ，ｍ）元素分析：　Ｃ１９Ｈ２４Ｎ４０計算値：　Ｃ７０，３４，Ｎ７．４６．　　Ｎ１７．２
７実測値：　Ｃ７０，７７、Ｎ７．５４．　Ｎ１７．１
８実施例４７−クロロ−３−ジメチルアミノメチル−２−メチルイ
ミグゾ［２，１−ａｌインキノリン（３，４ｙ）のテト
ラヒドロフラン（３０ｍｌり中溶液を水冷撹拌下に硫酸
ジメチル（３，５ｍｆｆ）のテトラヒドロフラン（２０
ｄ）溶液に滴下した。同じ条件で２時間撹拌した後、生
じた沈殿を戸数し、テトラヒドロフラン次いでエタノー
ルで洗い、７−り四ロー２−メチルー３−トリメチルア
ンモニオメチルイミグゾ［２，１−ａ］ｌインキノリン
メチルスルフアート（４，４ｙ）を得た。

融点：　２２０−２２３°Ｃ（分解）ＩＲ（ヌジョール）：　　１３９０．　１３６０．　１
２３０．　１０５０゜７５０ｃｍ” 実施例５３−ジメチルアミノメチル−２−メチルイミグゾ［２，
１−ａｌイソキノリン（７，Ｌ；’）のテトラヒドロフ
ラン（２０ｍｅ）溶液を硫酸ジメチル（１５ｍｅ　）の
テトラヒドロ７ラン（４０ｒｎｅ）溶液に水冷撹拌下に
滴下し、混合液を同条件で２時間撹拌した。反応混合液
にジエチルエーテル（６０ｒｎＩりを加え、水冷下で１
時間撹拌した。生じた沈殿をＦ取し、ジエチルエーテル
で洗い、エク／−ルで再結晶させて、２−メチル−３−
トリノチルアンモニオメチルイミダゾ［２，１−ａ］イ
ソキノリン・メチルスルフアート（ｌＯｙ）を得た。

融点：１４６−１４９℃ 工Ｒ（ヌジョール）：　　１６３０．　１５５０．　１
５１０．　１２４０゜１２２０、　１０１０．　７５０
ｃＩｎ実施例６ヨク化メチル（１，７ｇＩ）を８−クロロ−３−ジメチ
ルアミノメチル−２−メチルイミグゾ〔２，１−ａｌイ
ンキノリン（２，８；’）のエタノール（３４ｍｅ　）
溶液に室温で滴下し、混合物を１４時間撹拌した。生じ
た沈殿をＰ収し、エタノールで洗い、デシケーク−で乾
燥して、８−クロロ−２−メチル−３−トリノチルアン
モニオメチルイミグゾ［２，１−ａ］ｌインキノリンヨ
ーシト（３，５８ｙ）を得た。

融点：　１６９−１７０℃（分解）ＩＲ（ヌジョール）：　　１６３０ｃｍ−１ＮｕＲ（ｎ
Ｍｓｏ−ａ６．δ）：　２．５７（３Ｈ，ｓ＞、　　３
．１５（９Ｈ，ｓ）。

５．０３（２Ｈ，ｓ）、７．４０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７．
５Ｈｚ）、７．７０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、２Ｈ’
ｚ）、８．０５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）。

８−４８　（Ｉ　Ｈｒ　ｄ　、Ｊ＝９　Ｈｚ　）、＆　
６７　（Ｉ　Ｈｒ　ｄ、Ｊ−７，５Ｈｚ　）実施例７実施例６と同様にして、下記の化合物を得た。

７−ベンジルオキシ−２−メチル−３−トリノチルアン
モニオメチルイミグゾ［２，ｌ’ａ〕イソキノリン・ヨ
ーシト融点：　１９３−１９５℃（分解）ＩＲ（ヌジョール）・　１６００．　１５６ｏ、　　１
５１０．　１２７０側−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ
）：　２．５７（３Ｈ，ｓ）、　　３．２０（９Ｈ，８
）。

５．１（２Ｈ，ｓ）＋　　５．３３（２Ｈ，ｓ）、　　
７．１３−７．７７（８Ｈ，ｍ）。

８．０６（ＩＨｌｄ、Ｊ−８Ｈ２）、８．６３（ｌＨ２
ｄｌＪ−８Ｈ２）実施例８７−クロロ−２−メチル−３−トリノチルアンモニオメ
チルイミダゾ［２，１−ａ］イソキノリン・メチルスル
７アート（２２）とシアン化ナトリクム（０，３２ｙ）
とのジメチルスルホキシド（１０ｍｅ　）中温合物を１
００°Ｃで３時間加熱撹拌し、室温に冷却した。混合物
を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。抽出液を塩
水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中で蒸発濃
縮した。残渣をシリカゲル（２０ｙ）のクロマトグラフ
ィにかけ、クロロホルム−メタノール（１０：１）Ｕ合
Ｍで溶出した。

溶出液を真空中で蒸発濃縮し、残留固体をエタノールで
再結晶させて、７−クロロ−３−シアノメチル−２−メ
チルイミダゾ［２，１−ａ］インキノリン（０，５ｙ）
を得る。

融点：１．９９−２０３°ＣＩＲ（ヌジョール）：　　２２５０．　１５１０．　１
４８０．　１４１０゜１３７０ｃＩｎＮＭＲ（ＤＭＳＯ，−ｄ６．δ）：　２．４５（３Ｈ，
ａ）、　　４．５１（２Ｈ，ｓ）。

７、３７−７゜８５（３Ｈ，ｍ）、　　８．３２−８．
４９（２Ｈ，ｍ）元素分析：　Ｃ３４ＪｏＣＩＮｓ計算値：　Ｃ６５，７５，Ｈ３，９４，Ｎ１６．４３実
測値：　Ｃ６６，１２，Ｈ４，２７，Ｎ１６．５５実施
例９実施例８と同様にして、下記の化合物を得た。

３−シアノメチル−２−メチルイミダゾ〔２，１−ａ］
ｌイソキノリン点：１６７−１７０°ＣＩＲ（ヌジョ−／Ｉ／）：　　２２５０．　１３９０．
　７９０．　７１０ｃ＋＋＋−１ＨＭＲ（ＣＤＣＩ！３
．δ）：　２．４３（３Ｈ，ｓ）、　　３．９３（２Ｈ
，ｓ）。

７．０３−７．８０（５Ｈ，ｍ）、　　８．５２−８．
７７（ＩＨ，ｍ）元素分析：　Ｃｌ４Ｈ１□Ｎ３計算値：　Ｃ７５，９９，Ｈ５，０１，Ｎ１８．９９実
測値：　Ｃ７６，１７，Ｈ５，０６，Ｎ１９．０７実施
例１０２−メチル−３−トリノチルアンモニオメチルイミダゾ
［２，１−ａ］ｌイソキノリンメチルスル７アート（４
，５ｙ）とイミダゾール（２，０２ｆｊｌ　）とのエタ
ノール（４５Ｗｄり中温合物を撹拌下に７時間還流し、
真空中で蒸発濃縮した。残渣に水を加え、生じた沈殿を
Ｆ取し、酢酸エチルとｎ−へキサンとの混合液で再結晶
させて、３．−（１−イミグゾリルメチル）−２−メチ
ルイミダゾ［２，１−ａｌイソキノリン（２，３ｙ）を
得た。

融点：１８９−１９１°ＣＩＲ（ヌジｇ−ル）：　　１６４０．１６１０．　１５
７０．１５５０゜１５１０σ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）：　２．５３（３Ｈ＋　ｓ）
、５．３６（２Ｈ９ｓ）。

６．６０−７．２０（３Ｈ，ｍ）、　　７．２３−７．
８０（５Ｈ，ｍ）。

８．５０−８．８０（ＩＨ，ｍ）元素分析：　Ｃｌ６　Ｈ１４Ｎ４計算値：　Ｃ７３，２６，Ｈ５，３８，Ｎ２１．３６実
測値：　Ｃ７２，７７、Ｈ５，３７，Ｎ２１．００実施
例１１２−メチル−３−トリノチルアンモニオメチルイミグゾ
［２，１−ａ、］イソキノリン・メチルスルフアート（
３ｙ）と２−メチルイミダゾール（１，６２）とのエタ
ノール（５０ｒｎり中温合物を撹拌下で４時間還流し、
真空中で蒸発濃縮した。残渣に水を加え、生じた沈殿を
Ｆ取し、酢酸エチルで再結晶させて、２−メチル−３−
（２−メチル−１−イミグゾリルメチル）イミダゾ［２
，１−ａ　ｊイソキノリン（０，８５ｙ）を得た。

融点：１８２−１８４℃ ＩＲ（ヌジョール”）：　　３３５０，３１００，１４
５０．　１３８０゜１２８０ｃ１ｎ−１ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）：　　２．４３（３Ｈ，ｓ）
、２．５０（３Ｈ，Ｂ）。

５．２０（２Ｈ，ｓ）、６．５８−７．８３（７Ｈ，ｍ
）８．５９−８．８２（ＩＨ，ｍ）元素分析：　Ｃｌ７Ｈ１６Ｎ４・１／２Ｈ２０計算値：
　Ｃ７１，５６，Ｈ６，００，Ｎ１９．６４゜Ｈ２Ｏ３
，１５実測値：　ｃ７１．４３．　Ｈ５，９１，Ｎ１９．３７
゜Ｈ２０３，３０実施例１２６０％水素化ナトリクム（０，２３５９）のプロパルギ
ルアルコール（９，３６ｍ１’）中温液に７−クロロ−
２−メチル−３−トリメチルアンモニオメチルイミダゾ
［２，１−ａｌイソキノリン・ヨーシト（２，０８ｙ）
を加え、混合物を１００℃で２時間加熱撹拌した。冷却
後、混合物を真空中で蒸発濃縮し、残渣をクロロホルム
に溶解させた。溶液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、真空中で蒸発濃縮した。残渣をシリカゲル（２０ｙ
）カラムクロマトグラフィにかけクロロホルム−メタノ
ール（１００：１）混合液で溶出して精製し、７−クロ
ロ−２−メチル−３−プロパルギルオキシメチルイミダ
ゾ［２，１−ａ］イソキノリンを得た。

この化合物を塩化水素のエタノール溶液で処理して、７
−９０ロー２−メ、チル−３−プロパルギルオキシメチ
ルイミダゾ［２，１−ａ〕イソキノリンの塩酸塩（ＩＰ
）を得た。

融点：　２１０−２１６°Ｃ（分解）ＩＲ（ヌジョール）：　　３２００．　２３６０．　１
６４５．　１５８０ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＦ３Ｃ００Ｈ，
δ）＝２．７０（１１（ｌｔ＋　Ｊ＝２Ｈｚ）＋　　２
．８０（３Ｈ，ｓ　）＋　　４．４７（２Ｈ１ｄ、　Ｊ
＝＝２Ｈｚ　）＋　　５−３ｏ　（２Ｈ９８）。

７．７３−８．７３（５Ｈ，ｍ）実施例１３実施例８および１０〜１２と同様にして、下記の化合物
を得た。

ｉ＋）７−ベンジルオキシ−３−シアノメチル−２−メ
チルイミダゾ［２，１−ａ］イソキノリン融点：１８９
−１９１℃ 工Ｒ（ヌジョール）：　　２２５０．　１６００．　１
５７０．　１５５０゜１２６０、　１０１０ｃＩｎ’ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）：　２．４３（３Ｈ＋　ｓ）
、３−８３（２Ｈ９ｓ）。

５．１５（２Ｈ，ｓ）、７．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ
ｚ）。

７．２０−７．７７（８Ｈ，ｍ）、８．１７（ＩＨ，’
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（２）８−クロロ−３−シアノメチル
−２−メチルイミダゾ（ｚ、１．−ａ］イソキノリン融点：　２５２−２５３°Ｃ（分解）ＩＲ（ヌジ−１−／ｌ／）　：　　２２５０．　　”１
６３０ｃＩｎ−１ＨＭＲ（ＤＭ８０−ａ、　、δ）　：
　２．４２　（３Ｈ＋　ｓ　）＋　　４−４７　（２Ｌ
　Ｂ　）；７．３３（ｌＨ＋ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）＋　　７
．６７（ｉＨ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ。

２Ｈｚ）、　　８．０３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）＋　
　８．２７（ＩＨ，ａ。

Ｊ＝７Ｈｚ　）＋　　８：　４２　（ＩＨ２ｄ、Ｊ＝９
Ｈｚ　）　　　。

（３）７−り四〇−３−メトキシメチルー２−メチルイ
ミグゾ［２，１−ａｌインキノリン融点：１４８−１４９℃ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！３．δ）：　２．５３（３Ｈ，ｓ）
、　　３．３３（３Ｈ，ｓ）。

４．７５（２Ｈ，ｓ）、　　７．２５−７．７３Ｃ３Ｈ
，ｓ）、　　８．０２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、
　　８．５７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−７，５Ｈ２゜２．５Ｈ
ｚ）（４）３−アリルオキシメチル−７−クロロ−２−メチ
ルイミダゾ［２，１−ａ〕イソキノリンの塩酸塩融点：１．７３−１７５°Ｃ（分解）工Ｒ（ヌジョール）：　　２３６０．　１６５０．　１
５８５．　１５２２ｃｍ−１ＨＭＲ（Ｄ２０．δ）　：
　　２．６４　（３Ｈ２Ｓ）、４．２８　（２Ｈｒ　ｄ
ｒ　Ｊ−６Ｈｚ）。

４．９０（２Ｈ１ｓ）、　　５．３６（ＬＨ，ｍ）、　
　５．６０（ＩＨ，ｍ）。

５．７３”６．５（ＩＨ，ｍ）、　　７．３０（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）。

７．１５−７．’７０（３Ｈ，ｍ）、　　８．０（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（５）７−クロロ−２−メチル−３
−メチルチオメチルイミダゾ［２，１−ａ］インキノリ
ン融点：　１４６−１４８℃ 工Ｒ（ヌジョール）＋　　１５６０．　１５００．　１
３６０ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：　２．
１９（３Ｈ１ｓ）＋　　２．６９（３Ｈ１ｓ）。

４．２２（２Ｈ，ｓ）、　　７．８７−８．７２（５Ｌ
ｍ）＋６＋３−（２−アミノエチル）チオメチル−７−
クロロ−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ］イソキ／リ
ン融点：９４℃ ＩＲ（ヌジョール）：　　３３１０．　１６１５．　１
５９５．　１５７０゜１５１０ｃ＋＋＋−１ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！３．δ）：　　１．８３．（２Ｈ，
ｓ）、　　２．４７（３Ｈ，ｓ）。

２．２０−２．９７（４Ｈ，ｍ）、　　３．９８（２Ｈ
，ｓ）、　　７．２０−７．７０（３Ｈ，ｍ）、’７．
９３（ＩＩ（、ｄ、Ｊ＝８Ｈ２）、８．５０（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝２Ｈｚ、７Ｈ２）実施例１４エタノール（５０ｍｆｆ）を７−クロロ−２−メチル−
３−トリメチルアンモニオメチルイミグゾ［２，１−ａ
］インキノリン・メチルスルフアート（２，３ｇりとイ
ミダゾール（０，９５ｙ）とのジメチルスルホキシド（
２０ｍｅ）中温合物に加え、１００℃で５時間加熱撹拌
した。エタノールを留去した後、残液を水に注ぎ入れた
。生じた沈殿をＰ取、乾燥し、酢酸エチルで再結晶させ
た。得られた結晶をシリカゲル（１６ｙ）クロマトグラ
フィにかケ、クロロホルムーメタノール（１０：１）混
合液で溶出した。溶出液を真空中で蒸発濃縮し、残液を
酢酸エチルで再結晶させて、７−クロロ−３−（１−イ
ミグゾリルメチル）−２−メチルイミダゾ（２，１−ａ
）インキノリン（０，７Ｐ）を得た。

融点：　２２９−２３０°Ｃ工Ｒ（ヌジョール）＋　　１３９０．　１３７０．　１
２２０．　１０８０゜７９０側−１ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！３　＋δ）＝２．５８（３Ｈ，ｓ）
、、５．４２（２Ｈ，ｓ）。

６．８４−７．７０（７Ｈ，ｍ）、８．４８−８．６３
（ＩＨ，ｍ）元素分析：　Ｃｌ６Ｈ１３Ｃ／Ｈ＜計算値：　Ｃ６４，７６、Ｈ４，４１，Ｎ１８．８８実
測値：　Ｃ６４，９５，Ｈ４，５８，Ｎ１９．０２母液
を真空中で蒸発濃縮し、残留固体をジエチルエーテルで
再結晶サーせて、７−りロワー３−エトキシメチル−２
−メチルイミダゾ［２，１−ａ］ｌイソキノリンｏ、２
ｙ）を得た。

融点：　９４−９６℃ ＩＲ（ヌジョール）：　　１３８０．　１３６０．．１
１８０．　７８０ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）：
　１．２１（３Ｈ２ｔ、’、ｒ＝ニアｕＺ）、　　２．
５０（３Ｈ，ｓ）、　　３．５３（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、　　４．７７（２Ｈ，ｓ）、　　７．２３−８．
６１（５Ｈ，ｍ）元素分析：　Ｃ，５Ｈ１５ＣＩ！Ｎ２
０計算値：　Ｃ６５，５７，Ｈ５，５０，Ｎ１０．２０
゜Ｃ１１２，９１実測値：　Ｃ６５，６６、Ｈ５，４２，Ｎ１０．３７゜
Ｃ／１３．２１実施例１５３−シアノメチル−２−メチルイミダゾ［２，１７ａ’
ｌイソキノリン（２，ｓｙ）と塩化アンモニウム（０，
７４ｙ）とアジ化ナトリウム（０，１’）とのＮ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド（２８ｍ１）中温合物を１’２０
−１２５℃で１８時間加熱撹拌した。

この溶液を水に注ぎ入れ、濃塩酸で酸性ＫＬ、次いで炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和した。生じた沈殿を戸数
し、クロロホルムとメタノールの混合液で再結晶させて
、２−メチル−３−（’（ＩＨ−テトラゾール−５−イ
ル）メチルイミダゾ〔２，１−ａｌイソキノリン（２，
９Ｆ）を得た。

融点：　２５６−２５７℃ 工Ｒ（ヌジョール）：　　３４５０．　２５００（ｂｒ
ｏａｄ）、　　１６６０゜１５４０ｃ＋＋＋−１ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄ６．δ）　：　２−１２（３Ｌ　
ｓ）、４．７４（２Ｈ＋　ｓ）。

６．７０（３Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　　７．１８−８．５５
（６Ｌｍ）元素分析：　Ｃ１４Ｈ＋２Ｎｓ・Ｈ２０計算
値：　Ｃ５９，５６，Ｈ４，９９，Ｎ２９．７７実測値
：　Ｃ５９，３１，Ｈ５，０３，Ｎ２９．３３実施例１
６ツークロロ−２−メチルイミグゾ［２，１−ａ］インキ
ノリン（４９）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０
ｄ）中溶液を木冷下ＫＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド＜
５．７ｄ＞と塩化ホスホリル（１，８６ｒｎｌ）との混
液に滴下した。８５−９０℃で６時間撹拌した後、混合
液を氷水に注ぎ入れ、水酸化ナトリウムで塩基性にして
、８０℃で２０分間加熱し、冷却した。生じた沈殿を戸
数し、水洗し、メタノールで再結晶させて、７−クロロ
−３−ホルミル−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ、］
インキノリン（０，３５６ｆ）を得た。

融点：　２１３−２１４℃ ＩＲ（ヌジョール）：　　１６５５ｃ＋＋＋　’ＮＭＲ
（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：　３．１３（３Ｈ，ｓ）、　
　８．１０−８．８７（４Ｈ，ｍ）＋　　９．７２（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、　　１０．４５（ＩＨ，ｓ
）実施例１７亜硝酸イソアミル（１４０ｙ）を７−クロロ−２−メチ
ルイミダゾ［２，１−ａ］インキノリン（１７，１ｙ）
のジオキサン（１７０ｍｅ　）中懸濁液に５０℃で加え
、混合物を１５分間還流した。冷却後、生じた沈殿を戸
数し、ジオキサンおよびジエチルエーテルで順次洗い、
デシケーク−で乾燥して、７゛−クロロ−２−メチル−
３−二トロンイミダゾ［２，１’−ａ］ｌイソキノリン
７．７ｙ）を得た。

融点：　＞１９０℃（分解）工Ｒ（ヌジョール）：　　１６２０．　１５８５．　１
３５０．　１２５０゜１２００ｃｍ−１実施例１８亜鉛末（１ｏ、ｚｙ）を７−クロロ−２−メチル−３−
ニトロソイミダゾ［２，１−ａ］インキノリン（７，７
ｙ−）と酢酸（１００ｍｔ’）との水（７７ｍｅ）中温
合液に７時間かけて滴下し、混合液を吸引濾過した。Ｐ
液を真空中で蒸発濃縮し、残渣に炭酸水素ナトリウム水
を加えた後クロロホルムで抽出した。抽出液を水洗し、
真空中で蒸発濃縮した。

残留固体を酢酸エチルで洗い、デシグーターで乾燥して
、３−アミノ−７−クロロ−２−メチルイミダゾ［２，
１−ａ〕ｌイソキノリン５．８５ｙ）を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２５０．　３１５０．　１
６１０．　１５９０゜１５００ｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　２．３３（３Ｈ，
ｓ’）、　　４．８３（２Ｈ。

ｂｒｏａｄ　ｓ）、　　７．２８（ＩＬｄ、Ｊ＝８Ｈｚ
）、　　７．４３−７．７０（２Ｈ，ｍ）、　　８．１
０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）。

８．３０（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ、　７Ｈｚ）実施
例１９Ｎ−シアノホルムイミド酸エチル（３，２ｙ）を３−ア
ミノ−７−クロロ−２−メチルイミダゾ〔２，１−ａｌ
イソキノリン（２，３ｙ）のエタノール（６０ｍｆ）中
懸濁液に加え、混合物を室温で４５時間撹拌した。混合
液を真空中で蒸発濃縮し、残留−一体をジエチルエーテ
ルならびに酢酸エチルで順次洗って、Ｎ−シアノ−Ｎ’
−（７−クロロ−２−メチルイミダゾ（２，１−ａｌイ
ソキノリン−３−イル）ホルムアミジン（１，０ｙ）を
得た。

融点：　２０３−２０６℃（分解）′ ＩＲ（ヌジョール）：　　３２４０．　２２００．　１
６２０．　１５９５ｃＩｎＮＭＲ（ＤＭＳＱ−ｄ６．δ
）：　２．３３（３Ｈ，ｓ）、　　７．３−８．９（６
Ｈ，ｍ）実施例２０インプロピルアミノ（，２ｒｎｌ）をＮ−シア／−Ｎ’
−（７−クロロ−２−メチルイミダゾ（２，１７ａ）イ
ソキノリン−３−イル）ホルムアミジン（０，９５ｙ）
の水（１，５，ｍｆ）中懸濁液に加え、混合物を室温で
３０分間撹拌した。生じた沈殿をＦ取し、水洗し、エタ
ノールに溶解させた。この溶液に塩化水素のエタノール
中飽和溶液を加え、混合液を真空中で蒸発濃縮した。残
留固体をジエチルエーテルとエタノールとの混液および
インプロパツールで順次洗い、デシケータ−で乾燥して
、Ｎ−インプロピル−Ｎ’−（７−クロロ−２−メチル
イミダゾ（２，１−ａｌイソキノリン−３−イル）ホル
ムアミジンの二塩酸塩（０，７，３ｙ）を得た。

融点７１８９−１９０℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　’　１−２３　（３Ｈ
２ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ　）＋　　１３４（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝
７Ｈｚ）、　　２．５（３Ｈ，ｓ）、　４．０（ＩＨ，
ｍ）。

７、５−９．１（６Ｈ，ｍ　）実施例２１３−（２−アミノエチル）チオメチル−７−クロロ−２
−メチルイミダゾ［２，１−ａｌイソキノリン（１，５
ｙ）とトリエチルアミノ（０，５Ｆ）とのエチルアルコ
ール（３５ｒｎり中温合物に３−クロロ−１，２−ベン
ズイソチアゾール−１，１−ジオキシド（１，０ｙ）を
滴下した。室温で１時間撹拌した後、生じた沈殿を戸数
し、エチルアルコールで数回洗って、３−［２−［（７
−クロロ−２−メチルイミダゾ［２，１−ａｌイソキノ
リン−３−イル）メチルチオ〕エチルアミノ］　−１，
２−ベンズイソチアゾール−１，１−ジオキシド（２，
２ｙ）を得た。

融点：　２９１−２９４℃（分解）工Ｒ（ヌジョール）：　　３３００．　１６１５．　１
５８０ｃ＃Ｉ−１ＮＭＲ（ＤＭｌ−１Ｎ、　、δ）：　
２．４３（３Ｈ，ｓ）、　　２．７７（２Ｈ，ｔ。

Ｊ−７Ｈｚ）、　　３．６３（２Ｈ，ｎｒ）、　　４．
３（２Ｈ，ｓ）、　　７．２７−８．５０（９Ｈ，ｍ）
＋　　９．４（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）実施例２２７−クロロ−２−メチル−３−メチルチオメチルイミダ
ゾ［２，１−ａｌイソキノリン（２ｙ）のクロロホルム
（２０ｍｔ’）中溶液に氷冷下で７０チｍ−クロロ過安
息香酸（１，７８ｙ）を加えた。３０分間水冷下で撹拌
後、混合物を炭酸水素ナトリクム水、水及び塩水で順次
洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理し、真
空中で蒸発濃縮した。残渣をクロロホルム及びメタノー
ル（５０：１）混液を溶出液として使用するシリカゲル
（２５ｙ）カラムクロマトグラフィーで精製して固体を
得た。この固体をエタノールから再結晶して、７−クロ
ロ−２−／４ルー３−メチルスルフィニルメチルイえダ
シ［１，１−ａｌイソキノリン（１，３６ｙ）を得た。

融点：　２０５−２０７℃（分解）ＩＲ（ヌジョール）：　　１５９５．　１５６０．’１
５００．　１３６５゜１０５５、　１０２５ｃｍ−１Ｎｍ１０２５ｃｍ−１Ｎ、δ）　：　２．４２（３Ｈ２
ｓ　）＋　　２．５８（３Ｈ１ｓ　）。

４、ｎ（ｏｒ、ａ、Ｊ＝１ｓＨｚ）；　　４．７７（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝１５Ｈ２）＋７．２７−７．８’３（３Ｈ
，ｍ）、　　８．３０−８．６２（２Ｈ，ｍ）実施例２
３７−クロロ−２−メチル−３−メチルチオメチルイミダ
ゾ［２，１−ａ］インキノリン（２ｙ）のクロロホルム
（’４０　ｄ　）中溶液に氷冷下で７０％π−クロロ過
安息香酸（３，７４ｙ）を加え、混合液を室温で１時間
撹拌した。その混液を炭酸ナトリクム水および水で順次
洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理し、真
空中で蒸発濃縮した。残渣をクロロホルムとメタノール
との混液で再結晶させて、７−クロロ−２−メチル−３
−メチルスルホニルメチルイミダゾ［２，１−ａ］ｌイ
ンキノリン１．１７ｙ）を得た。

ｉＲ（ヌジＨ−ル）：　　１５６０．　１５００．　１
３１０．　１１２０ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＦＱ　Ｃ０ＯＨ
，δ）：　２．８２（，３Ｈ，ｓ）、　　３．４７（３
Ｈ，ｓ）。

５．１８．（２Ｈ，ｓ）、　　７．７５−８．７０（５
Ｈ，ｍ）実施例２４塩化水素のエタノール中飽和溶液（８０ｍｌ）中の７−
クロロ−３−シアノメチル−２−メチルイミダゾ［２，
１−ａ］ｌイソキノリン６ｙ）を５時間還流し、真空中
で蒸発濃縮した。残渣に炭酸水素ナトリクム水を加え、
クロロホルムで抽出した。

抽出液を塩水で洗い、マグネシウムで乾燥し、真空中で
蒸発濃縮した。残留する結晶を酢酸エチルで再結晶させ
て、７−クロロ−３−エトキシ力ルポニ出−メチルイミ
グゾ［２，１−ａ］ｌインキノリン　６．１　？　）を
得た。

融点：１３７−１３８℃ 工Ｒ（ヌジョール）：　　１７１５．　１５９０．　１
５６５．　１１９５ｃｍ−１Ｎｙｔ、Ｒ（ｃｐ３ｃｏｏ
Ｈ，ａ＞：、ｘ、’４ｚ（３ａ、　ｔ、　、Ｔ＝７Ｈ２
）。

２．６８（３Ｈ，ｓ）、　　４．３２（２Ｈ，ｓ）＋　
　４．４３（２Ｈ，ｑ＋Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．７２−８
．”６０（５Ｈ，ｍ）実施例２５水酸化ナトリウム（１，２５ｙ）の水（５＋＋＋１’）
中温１１７−クロロー３−エトキシカルボニルメチル−
２−メチルイミダゾ［２，１−ａｌイソキノリン（４，
７５７）とメタノール（４８ｄ）との混合物に加え、生
じた混合物を１．５時間還流した。冷却後、混合物を真
空中で蒸発濃縮し、残渣にＩＮ塩酸（３１，４ｄ）を水
冷下で加えた。生じた沈殿をｐ取し、水洗し、デシケー
タ−で乾燥し、エタノールとメタノールとの混液で洗っ
て、３−カルボキシメチル−７−クロロ−２−メチルイ
ミダゾ（２，１−ａｌイソキノリン（３，２ｆ）を得た
。

融点：　２７５−２７６℃（分解）工Ｒ（ヌジョール）：　　１６９０．　１５８５．　１
５００＞−１ＨＭＲ（Ｃ１ｉ’、Ｃ０ＯＨ，δ）：　２
．６８（３Ｈ，ｓ）、　　４．３２（２Ｈ，Ｅｌ）。

７．７０−８．５７（５Ｈ，ｍ）実施例２６実施例２５と同様にして、下記の化合物を得た。

３−カルボキシ−７−クロロ−２−メチルイミダゾ［２
，１−ａ］ｌインキノリン点：　２２８−２３０℃（分解）工Ｒ（ヌジョール）：　　２４５０．　１６８０．　１
４９５σ−１ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：　２．０
７（３Ｈ，ｓ）、　　７．７７−８．６３（４Ｈ，’ｍ
）、　　９．４７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）実施例
２７３−カルボキシ−７−クロロ−２−メチルイミダゾ［２
，１−ａｌイソキノリン（２，５ｙ）と塩化チオニル（
２０ｍ／）との混合物を１時間還流し、真空中で蒸発濃
縮した。残留固体をベンゼンで洗ンい、デｌケータ−で乾燥して、′７−クロロー３−タロ
ロホルミル−２−メチルイミダゾ［２，１−ａｌインキ
ノリンの塩酸塩（２，７５ｙ）を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　１７９０ｃｍ実施例２８２８％水酸化アンモニクム（５０ｍ／）に７−クロロ−
３−クロロホルミル−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ
ｌイソキノリンの塩酸塩（１，３ｙ）を加え、混合物を
水冷下で４０分間撹拌した。生じた沈殿を炉取し、水で
洗い、クロロホルムとメタノールとの混液で再結晶させ
て、３−カル／＜モイル−７−クロロ−２−メチルイミ
ダゾ［２，１−ａ］ｌインキノリン０．７！ＩＭ’）を
得た。

融点：　２８９−２９０℃（分解）工Ｒ（ヌジコール）：　　３３４０．　３１６０．　１
６３０．　１５９５ｃＩｎ−１ＨＭＲ（ＣＦ、Ｃ０ＯＨ
，δ）＋　３．（７０（３Ｈ，ｓ）、　　７．３３−７
．７３（２Ｈ，ｍ）、　　７．７３−７．９３（４Ｈ，
ｍ）、　　９．２０（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ）実施例２９塩化チオニル（ｏ、５ｓｄ）を３−カルボキシメチル−
７−クロロ−２−メチルイミダゾｊ２．１−ａ〕イソキ
ノリン（ｏ、５ｓｓｙ）の塩化メチレン（９Ｗｄり中懸
濁液に滴下し、混合物を室温で２時間撹拌した。生じた
沈殿を戸数し、塩化メチレンで洗い、２８チ水酸化アン
モニクム（２０’ｄ）で１時間処理した。得られた沈殿
をＦ取し、水洗し、エタノールで再結晶させて、３−カ
ルバモイルメチル−７−クロロ−２−メチルイミダゾ［
２，１−ａ］ｌイソキノリン　０．７５７　）を得た。

融点：　２８４−２８６℃ ＩＲ（ヌジョール）：　　３３５０．　３１００．　１
６６５．　１６１０゜５１０ｃｍＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：　２．７３（３Ｈ，ｓ
）、　　４．３（２，Ｈ，８）。

７．７３８．５７（５Ｈ，ｍ）実施例３０実施例２９と同様にして、下記の化合物を得た。

２−（７−クロロ−２−メチルイミダゾ〔２，１−ａ〕
ｌイソキノリン３−イル）アセトヒドロキサム酸融点：　２４９−２５４℃（分解）工Ｒ（ヌジ：１−＃）：　　３２００．　１６４５＋　
　１４１０ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＦ３Ｃｏｏ）Ｉ、δ）：
　２．７３（３Ｈ９ｓ）、　４．３３（２Ｈ＋　ｓ）。

７、７−８．７　（５Ｈ，ｍ　）実施例３１水素化アルミニウムリチクム（ｏ、６ｓｓｙ）を７−ク
ロロ−３−エトキシカルボニル−２−１＋ルイミダゾ（
２，１−ａｌイソキノリン（ｓ、　１ｙ　＞のテトラヒ
ドロ７ラン（４００ｒｎｌ）中温液に窒素雰囲気下で氷
冷しながら滴下し、混合物を室温で１．５時間撹拌した
。酢酸エチルを加えた後、混合物を真空中で蒸発濃縮し
、残渣を熱エタノールで抽出した。抽出液を活性炭で処
理し、真空中で蒸発濃縮した。残渣を９０チエタノール
で再結晶させて、７−クロロ−３−ヒドロキシメチル−
２−メチルイミダゾ（２，１−ａｌイソキ／リン（１，
９４ｙ）を得た。

融点：２３１−．２３２℃ ＩＲ（ヌジＥＦ−ル）：　　３１２０．　１５７０．　
１５００ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：　２
，７５（３Ｈ，ｓ）、　　５．４０（２Ｈ１８）。

７．８７−８．７０（５Ｈ，ｍ）実施例３２無水酢酸（０，７１ｐ　）を７−クロロ−３−ヒドロキ
シメチル−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ］インキノ
リン（１，４３ｙ）のピリジン（１４ｍＡ’）中懸濁液
に滴下し、混合物を室温で２４時間撹拌した。この混合
物を真空中で蒸発濃縮し、残渣に水を加えた後クロロホ
ルムで抽出しだ。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、活性炭で処理し、真空中で蒸発濃縮した。残留
する結晶を酢酸ｘチルとジイソプロビルエーテルとの混
液で再結晶させて、３−アセトキシメチル−７−クロロ
−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ］ｌイソキノリン０
．６ｙ）を得た。

融点：１３７−１３９°ｒＩＲ（ヌジョール）：　　１７３０．　１５７０．　１
５１０ｃ＋＋＋−１ＨＭＲ（ＣＤＣ７’３．δ）：　２
．０７（３Ｈ，８）＋　　２．５３（３Ｈ，Ｅｌ）。

５．４０（２Ｈ，ｓ）、　　７．２３−７．７５（３Ｈ
，ｍ）、　　８．０（１（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝７Ｈ２）、８．５０（ＩＨ２ｄｄ、Ｊ−６，５
，２，５Ｈ２）実施例３３１−アミノ−５−クロロイソキノリン（６，１ｙ）と２
−アセチル−２−ブロム酢酸エチル（１０，７５ｙ）お
よび炭酸水素ナトリクム（１４，３６ｙ）とのエタノー
ル（７２Ｔｎｌ’）中温合物を２時間撹拌して、吸引濾
過した。ｐ液を真空中で蒸発濃縮し、残渣ヲクロロボル
ムとメタノールとの混液に溶解させた。溶液をシリカゲ
ル（ＬＯｙ）で処理し、吸引濾過した。Ｆ液を真空中で
蒸発濃縮し、残渣をエタノールで再結晶させて、７−ク
ロロ−３−エトキシカルボニル−２−メチルイミダゾ［
２，１−ａｌイソキノリン（５，８３ｙ）を得た。

融点：１４０−１４１℃ ＩＲ（ヌジョール）：　　１６９０．　１４１５．　１
２６０．　１１９０゜１１００ｃｍｌ１００ｃｍ−１Ｎ／３　、δ）：　１．４６（３Ｈ，ｔ、
　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　２．７３（３Ｈ，ｓ）、　　４．
４０（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　７．２０−７．
７３（３Ｈ，ｍ）、８．４３（１１（、ｄｄ、　Ｊ＝７
Ｈｚ、　２．５Ｈｚ）；８．９３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝７
．５Ｈｚ）実施例３４１−アミノ−５−クロロイソキノリン（ＬＭ’）ノクロ
ロホルム（１５０ｍｔ’）中懸濁液に３−クロロ−２，
４−ペンクンジオン（１１，３ｙ）を滴下した。混合物
を６時間還流し、次いで室温で一晩静置した。こあ混合
物を炭酸水素ナトリクム水および水で順次洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、真空中で蒸発濃縮した。残渣をシ
リカゲル（２００ｙ）カラムのクロマトグラフィにかけ
クロロホルムで溶出して精製し、固体を得た。この固体
を酢酸エチルで再結晶させて、３−アセチル−７−クロ
ロ−２−メチルイミダゾ［２，１−ａ］インキノリン（
１，３ｙ）を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　１６３０．　１５００ｃｍＮ
ＭＲ（ＣＦ、Ｃ０ＯＨ，δ）：　２．９７（３Ｈ，ｓ）
、　１１５（３Ｈ，ｓ）。

７、８２−８．７２（４Ｈ’、　ｍ）、　　９．７６（
ＩＨ，ｄ’、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）実施例３５実施例３３および３４と同様にして、下記の化合物を得
た。

７−クロロ−２，３−ジメチルイミダゾ［２，’１−ａ
］インキノリン融点：１６７−１６９℃ ｒＲ（ヌジョール）：　　１５９５．　１５６８．　１
５０５ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：　２．
６７（６Ｈ，ｓ）、　　７．７−８．６（５Ｈ，ｍ）

Claims

【特許請求の範囲】１、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾１は低級アルキル；Ｒ＾３は水素、ハロゲ
ンまたはアル（低級）アルコキシ；およびＲ＾は低級ア
ルカノイル、ニトロソ、アミノ、カルボキシ、保護され
たカルボキシ、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル
、ハロホルミル、シアノまたは低級アルキルで置換され
ていてもよいアミノメチレンアミノ、シアノまたは低級
アルキルで置換されていてもよいイミノメチルアミノ、
または式：−Ａ−Ｒ＾２〔式中、Ａは低級アルキレン；
およびＲ＾２はジ（低級）アルキルアミノ、シアノ、低
級アルコキシ、適当な置換基を有していてもよいＮ−含
有複素環基、低級アルキニルオキシ、低級アルケニルオ
キシ、低級アルキルチオ、アミノ（低級）アルキルチオ
、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル
、カルボキシ、保護されたカルボキシ、カルバモイル、
ヒドロキシカルバモイル、ヒドロキシ、低級アルカノイ
ルオキシ、２個のオキソ基を有する複素環アミノ（低級
）アルキルチオ、水素または式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６はそれぞれ低級ア
ルキル；Ｘは酸残基を意味する）で示される基を意味す
る〕で示される基を意味する｝で示される化合物または
その塩。２、Ｒ＾３が水素、ハロゲンまたはフェニル（低級）ア
ルコキシ；Ｒが低級アルカノイル、ニトロソ、アミノ、
カルボキシ、エステル化されたカルボキシ、カルバモイ
ル、ヒドロキシカルバモイル、ハロホルミル、シアノア
ミノメチレンアミノ、低級アルキルアミノメチレンアミ
ノ、シアノイミノメチルアミノ、低級アルキルイミノメ
チルアミノ、または式：−Ａ−Ｒ＾２〔式中、Ａは低級
アルキレン；Ｒ＾２はジ（低級）アルキルアミノ、シア
ノ、低級アルコキシ、ヒドロキシ（低級）アルキルを有
する１〜４個の窒素原子を含有する飽和３〜８員複素単
環基、低級アルキルを有していてもよい１〜４個の窒素
原子を含有する不飽和３〜８員複素単環基、低級アルキ
ニルオキシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキルチオ
、アミノ（低級）アルキルチオ、低級アルキルスルフィ
ニル、低級アルキルスルホニル、カルボキシ、エステル
化されたカルボキシ、カルバモイル、ヒドロキシカルバ
モイル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、２個の
オキソ基を有するベンズイソチアゾリルアミノ（低級）
アルキルチオ、水素または式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６はそれぞれ低級ア
ルキル；Ｘは酸残基を意味する）で示される基を意味す
る〕で示される基である特許請求の範囲第１項に記載の
化合物。３、Ｒが低級アルカノイル、ニトロソ、アミノ、カルボ
キシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、ヒド
ロキシカルバモイル、ハロホルミル、シアノアミノメチ
レンアミノ、低級アルキルアミノメチレンアミノ、シア
ノイミノメチルアミノ、低級アルキルイミノメチルアミ
ノ、または式：−Ａ−Ｒ＾２〔式中、Ａは低級アルキレ
ン；Ｒ＾２はジ（低級）アルキルアミノ、シアノ、低級
アルコキシ、ヒドロキシ（低級）アルキルを有するピペ
ラジニル、テトラゾリル、イミダゾリル、低級アルキル
を有するイミダゾリル、低級アルキニルオキシ、低級ア
ルケニルオキシ、低級アルキルチオ、アミノ（低級）ア
ルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキル
スルホニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、
カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、ヒドロキシ、
低級アルカノイルオキシ、（１，１−ジオキソ−１，２
−ベンズイソチアゾリル）アミノ（低級）アルキルチオ
、水素または式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６はそれぞれ低級ア
ルキル；Ｘは低級アルキル硫酸の残基またはハロゲンを
意味する）で示される基を意味する〕で示される基であ
る特許請求の範囲第２項に記載の化合物。４、Ｒ＾３がハロゲン；Ｒが式：−Ａ−Ｒ＾２〔式中、
Ａは低級アルキレン；Ｒ＾２はシアノを意味する〕で示
される基である特許請求の範囲第３項に記載の化合物。５、７−クロロ−３−シアノメチル−２−メチルイミダ
ゾ〔２，１−ａ〕イソキノリンである特許請求の範囲第
４項に記載の化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は低級アルキル；Ｒ＾３は水素、ハロゲ
ンまたはアル（低級）アルコキシを意味する〕で示され
る化合物またはその塩と、式：Ｈ−Ｒ＾２＿ａ〔式中、
Ｒ＾２＿ａはジ（低級）アルキルアミノまたは適当な置
換基を有していてもよいＮ−含有複素環基を意味する〕
で示される化合物またはその塩および式：▲数式、化学
式、表等があります▼で示される化合物を反応させて、
式：▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＲ＾２＿ａはそれぞれ前
記に同じ〕で示される化合物またはその塩を得るか、または、（２）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ；Ｒ
＾４およびＲ＾５はそれぞれ低級アルキル；Ａは低級ア
ルキレンを意味する〕で示される化合物またはその塩と
、式：Ｒ＾６−Ｘ〔式中、Ｒ＾６は低級アルキル；Ｘは
酸残基を意味する〕で示される化合物を反応させて、式
： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６、Ａ
およびＸはそれぞれ前記に同じ〕で示される化合物を得
るか、または、（３）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６、Ａ
およびＸはそれぞれ前記に同じ〕で示される化合物と式
：Ｈ−Ｒ＾２＿ａ〔式中、Ｒ＾２＿ｂはシアノ、低級ア
ルコキシ、ジ（低級）アルキルアミノ、適当な置換基を
有していてもよいＮ−含有複素環基、低級アルキニルオ
キシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキルチオ、アミ
ノ（低級）アルキルチオ、または２個のオキソ基を有す
る複素環アミノ（低級）アルキルチオを意味する〕で示
される化合物またはその塩を反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾２＿ｂおよびＡはそれぞ
れ前記に同じ〕で示される化合物またはその塩を得るか
、または、（４）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前記に同じ
〕で示される化合物またはその塩とアジド化合物を反応
させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前記に同じ
；Ｒ＾２＿ｃはテトラゾール−５−イルを意味する〕で
示される化合物またはその塩を得るか、または、（５）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩をホルミル化反応に付して
、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩を得るか、または、（６）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩をニトロソ化反応に付して
、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩を得るか、または、（７）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩を還元反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩を得るか、または、（８）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩と式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾７は低級アルキルを意味する〕で示される
化合物を反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ；Ｒ
ａはシアノアミノメチレンアミノまたはシアノイミノメ
チルアミノを意味する〕で示される化合物またはその塩
を得るか、または、（９）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＲａはそれぞれ前記に同
じ〕で示される化合物またはその塩と式：Ｒ＾８−ＮＨ
＿２〔式中、Ｒ＾８は低級アルキルを意味する〕で示さ
れる化合物またはその塩を反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ；Ｒ
ｂは低級アルキルアミノメチレンアミノまたは低級アル
キルイミノメチルアミノを意味する〕で示される化合物
またはその塩を得るか、または、（１０）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前記に同じ
；Ａ＾１は低級アルキレンを意味する〕で示される化合
物またはその塩と式：Ｙ＾１−Ｒ＾９〔式中、Ｒ＾９は
２個のオキソ基を有する複素環基；Ｙ＾１はハロゲンを
意味する〕で示される化合物またはその塩を反応させて
、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾９、ＡおよびＡ＾１はそ
れぞれ前記に同じ〕で示される化合物またはその塩を得
るか、または、（１１）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前記に同じ
；Ｒ＾２＿ｄは低級アルキルチオを意味する〕で示され
る化合物またはその塩を酸化反応に付して、式：▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前記に同じ
；Ｒ＾２＿ｅは低級アルキルスルフィニルまたは低級ア
ルキルスルホニルを意味する〕で示される化合物または
その塩を得るか、または、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前記に同じ
〕で示される化合物またはその塩と式：Ｒ＾１＾０−Ｏ
Ｈ〔式中、Ｒ＾１＾０は低級アルキルを意味する〕で示
される化合物を反応させ、次いで得られた化合物を加水
分解して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾１＾０およびＡはそれぞ
れ前記に同じ〕で示される化合物またはその塩を得るか
、または、（１３）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ；Ｒ
ｃは保護されたカルボキシまたは保護されたカルボキシ
（低級）アルキルを意味する〕で示される化合物または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ；Ｒ
＿ｄはカルボキシまたはカルボキシ（低級）アルキルを
意味する〕で示される化合物またはその塩を得るか、または、（１４）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＲ＿ｄはそれぞれ前記に
同じ〕で示される化合物またはそのカルボキシ基におけ
る反応性誘導体またはその塩と式：Ｈ＿２Ｎ−Ｒ＾１＾
１〔式中、Ｒ＾１＾１は水素またはヒドロキシを意味す
る〕で示される化合物またはそのアミノ基における反応
性誘導体またはその塩を反応させて、式：▲数式、化学
式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ；Ｒ
＿ｅはカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、カルバ
モイル（低級）アルキルまたはヒドロキシカルバモイル
（低級）アルキルを意味する〕で示される化合物または
その塩を得るか、または、（１５）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ；Ｒ
＿ｆはカルボキシまたはエステル化されたカルボキシを
意味する〕で示される化合物またはその塩を還元反応に
付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ〕で
示される化合物またはその塩を得るか、または、（１６）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびＡはそれぞれ前記に同じ
〕で示される化合物またはその塩と式：Ｒ＾１＾２−Ｃ
ＯＯＨ〔式中、Ｒ＾１＾２は低級アルキルを意味する〕
で示される化合物またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体またはその塩を反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾１＾２およびＡはそれぞ
れ前記に同じ〕で示される化合物またはその塩を得るか
、または、（１７）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３は前記に同じ〕で示される化合物または
その塩と式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は前記に同じ；Ｒは低級アルカノイル、
ニトロソ、アミノ、カルボキシ、保護されたカルボキシ
、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、ハロホルミ
ル、シアノまたは低級アルキルで置換されていてもよい
アミノメチレンアミノ、シアノまたは低級アルキルで置
換されていてもよいイミノメチルアミノ、または式：−
Ａ−Ｒ＾２｛式中、Ａは前記に同じ；Ｒ＾２はジ（低級
）アルキルアミノ、シアノ、低級アルコキシ、適当な置
換基を有していてもよいＮ−含有複素環基、低級アルキ
ニルオキシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキルチオ
、アミノ（低級）アルキルチオ、低級アルキルスルフィ
ニル、低級アルキルスルホニル、カルボキシ、保護され
たカルボキシ、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル
、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、２個のオキソ
基を有する複素環アミノ（低級）アルキルチオ、水素ま
たは式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６およびＸはそれぞれ前
記に同じ〕で示される基を意味する｝で示される基；Ｙ
＾２はハロゲンを意味する〕で示される化合物またはそ
の塩を反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ
〕で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とす
る式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前記に同じ
〕で示される化合物またはその塩の製造方法。７、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は低級アルキル；Ｒ＾３＿ａはハロゲン
またはアル（低級）アルコキシを意味する〕で示される
化合物またはその塩。８、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３＿ａはハロゲンまたはアル（低級）アル
コキシを意味する〕で示される化合物またはその塩と式
： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は低級アルキル；Ｙ＾３はハロゲンを意
味する〕で示される化合物を反応させることを特徴とす
る式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾３＿ａは前記に同じ〕で示さ
れる化合物またはその塩の製造方法。９、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾１は低級アルキル；Ｒ＾３は水素、ハロゲ
ンまたはアル（低級）アルコキシ；およびＲは低級アル
カノイル、ニトロソ、アミノ、カルボキシ、保護された
カルボキシ、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、
ハロホルミル、シアノまたは低級アルキルで置換されて
いてもよいアミノメチレンアミノ、シアノまたは低級ア
ルキルで置換されていてもよいイミノメチルアミノ、ま
たは式：−Ａ−Ｒ＾２〔式中、Ａは低級アルキレン；お
よびＲ＾２はジ（低級）アルキルアミノ、シアノ、低級
アルコキシ、適当な置換基を有していてもよいＮ−含有
複素環基、低級アルキニルオキシ、低級アルケニルオキ
シ、低級アルキルチオ、アミノ（低級）アルキルチオ、
低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、
カルボキシ、保護されたカルボキシ、カルバモイル、ヒ
ドロキシカルバモイル、ヒドロキシ、低級アルカノイル
オキシ、２個のオキソ基を有する複素環アミノ（低級）
アルキルチオ、水素または式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６はそれぞれ低級ア
ルキル；Ｘは酸残基を意味する）で示される基を意味す
る〕で示される基を意味する｝で示される化合物または
その塩を有効成分とする抗潰瘍剤。