JPS6095799A - プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ - Google Patents
プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリInfo
- Publication number
- JPS6095799A JPS6095799A JP58203975A JP20397583A JPS6095799A JP S6095799 A JPS6095799 A JP S6095799A JP 58203975 A JP58203975 A JP 58203975A JP 20397583 A JP20397583 A JP 20397583A JP S6095799 A JPS6095799 A JP S6095799A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rows
- memory cell
- row
- columns
- cell array
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims 7
- 210000000352 storage cell Anatomy 0.000 claims 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 abstract description 20
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 14
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 241000219122 Cucurbita Species 0.000 description 1
- 235000009852 Cucurbita pepo Nutrition 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/08—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/18—Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
- G11C29/24—Accessing extra cells, e.g. dummy cells or redundant cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B69/00—Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、藏気的に内科を誓き込む事が出来ゐ読み出し
専用メモ1ハすなわちプログラマブル・リード・オンリ
・メモリ(以下P−ROMと略記する)に関し、特にP
−ROMに書き込む前の6白紙”状態での回路のテスト
方式に関するものである。
専用メモ1ハすなわちプログラマブル・リード・オンリ
・メモリ(以下P−ROMと略記する)に関し、特にP
−ROMに書き込む前の6白紙”状態での回路のテスト
方式に関するものである。
最近P−ROMはユーザが1個毎に自由に記憶させる内
容を書き込める融通性の故に極めて広汎な各種情報処理
・制御用途に多用されている。かかるP−ROMの記憶
セルとしては第1図(a)に示される様にベースオープ
ンのトランジスタのコレクタをメモリの行線Xに、エミ
ッタを列線YIC接続したいわゆる接合破壊型のものが
ある。この方式では未書き込みでは記憶セルは非導通状
態を呈し、エミッタ・ベース接合を焼きつけて短絡させ
る事によシ導通させて第2図(a)の如く書き込みを行
うものである。又第1図(b)に示される様にダイオー
ド1とヒユーズ2を直列に接続して行列間(X−Y間)
に接続したいわゆるヒユーズ方式のものにあっては、未
書き込み状態で導通し、書き込みは第2図(b)の如く
ヒユーズ2を溶断させて行列間合非導通として行ってい
るものである。しかしながらこの様な記憶セルへの論理
情報の書き込みの問題として書き込み歩留シの問題があ
る。
容を書き込める融通性の故に極めて広汎な各種情報処理
・制御用途に多用されている。かかるP−ROMの記憶
セルとしては第1図(a)に示される様にベースオープ
ンのトランジスタのコレクタをメモリの行線Xに、エミ
ッタを列線YIC接続したいわゆる接合破壊型のものが
ある。この方式では未書き込みでは記憶セルは非導通状
態を呈し、エミッタ・ベース接合を焼きつけて短絡させ
る事によシ導通させて第2図(a)の如く書き込みを行
うものである。又第1図(b)に示される様にダイオー
ド1とヒユーズ2を直列に接続して行列間(X−Y間)
に接続したいわゆるヒユーズ方式のものにあっては、未
書き込み状態で導通し、書き込みは第2図(b)の如く
ヒユーズ2を溶断させて行列間合非導通として行ってい
るものである。しかしながらこの様な記憶セルへの論理
情報の書き込みの問題として書き込み歩留シの問題があ
る。
すなわち、P−ROMは未書き込み状態すなわち6白紙
”状態でユーザーに提供しなければならないので、ユー
ザーで書き込んで始めて不良となってあられれる。しか
るに書き込み不良のモードとしては周辺回路の誤動作に
よって生ずるものや、記憶セル自身のオープン及びショ
ート不良によるもの等雑多種のものがあるが、接合破壊
型に限って言うならば固定記憶セル自身の寄生PNP)
ランジスタによる書き込み電流のまわ)込みによって生
ずる書き込み不良モードがある。
”状態でユーザーに提供しなければならないので、ユー
ザーで書き込んで始めて不良となってあられれる。しか
るに書き込み不良のモードとしては周辺回路の誤動作に
よって生ずるものや、記憶セル自身のオープン及びショ
ート不良によるもの等雑多種のものがあるが、接合破壊
型に限って言うならば固定記憶セル自身の寄生PNP)
ランジスタによる書き込み電流のまわ)込みによって生
ずる書き込み不良モードがある。
第3図を参照して上記不良モードのメカニズムを説明す
る。固定記憶セル″Qll〜Q14.Q21〜Qz4の
うち既に記憶−tzルQi 2.Ql 4.Q21、Q
211が書き込みによってベース・エミッタのPN接合
が焼きつけられている場合、記憶セルQtiを選択して
書き込みを行う時、列線Ylから行線Xlに書き込み電
流を流しても記憶セルQ21とQ2+1で構成される寄
生PNPNのサイリスタ作用によって導通状態になる事
があル、それによって矢印方向(Yl−Q21−Q22
−Ql2−XI)に電流が流れるので選択された記憶セ
ルQllへの書き込みが出来ない事になる。これは寄生
トランジスタ作用によるものであ、す、例えば第4図に
示す寄生PNP)ランジスタTIは記憶セルQ21のベ
ースがPm、、行線X2がN型。
る。固定記憶セル″Qll〜Q14.Q21〜Qz4の
うち既に記憶−tzルQi 2.Ql 4.Q21、Q
211が書き込みによってベース・エミッタのPN接合
が焼きつけられている場合、記憶セルQtiを選択して
書き込みを行う時、列線Ylから行線Xlに書き込み電
流を流しても記憶セルQ21とQ2+1で構成される寄
生PNPNのサイリスタ作用によって導通状態になる事
があル、それによって矢印方向(Yl−Q21−Q22
−Ql2−XI)に電流が流れるので選択された記憶セ
ルQllへの書き込みが出来ない事になる。これは寄生
トランジスタ作用によるものであ、す、例えば第4図に
示す寄生PNP)ランジスタTIは記憶セルQ21のベ
ースがPm、、行線X2がN型。
記憶セルQ22のベースがP型で構成される。そしてN
PNトランジスタT2は記憶セルQzz自身であシ、T
町とTgの電流利得の積が1を越える時TlとT2のP
NPNがサイリスタとして導通する。従って接合破壊型
のp=RoMはこのサイリスタ作用によって、所望の情
報を書込む事が出来ない場合が生じる欠点がある。
PNトランジスタT2は記憶セルQzz自身であシ、T
町とTgの電流利得の積が1を越える時TlとT2のP
NPNがサイリスタとして導通する。従って接合破壊型
のp=RoMはこのサイリスタ作用によって、所望の情
報を書込む事が出来ない場合が生じる欠点がある。
本発明の目的は前述の如き不良モードを未書き込み状態
すなわち6白紙″状態で未然に特性試験の段階で不良と
してMl)除く事にある。
すなわち6白紙″状態で未然に特性試験の段階で不良と
してMl)除く事にある。
その目的を達成する為に本発明のP−ROMはユーザー
が使用する正規の固定記憶セルアレイの他に複数行のテ
スト用の記憶セルを設け、そのテスト用記憶セルにテス
ト用として製造段階にて拡散されるパターンを寄生PN
PN効来が起こりやすい様な構造とする事によって寄生
PNPNの導通の有無を検出し、導通していれば書込不
良が生ずる事を予測してこのチップを不良として取シ除
くものである。
が使用する正規の固定記憶セルアレイの他に複数行のテ
スト用の記憶セルを設け、そのテスト用記憶セルにテス
ト用として製造段階にて拡散されるパターンを寄生PN
PN効来が起こりやすい様な構造とする事によって寄生
PNPNの導通の有無を検出し、導通していれば書込不
良が生ずる事を予測してこのチップを不良として取シ除
くものである。
以下本発明の実施例について詳細に説明する。
第5図は本発明の実施例を示す図であシ、ユーザー使用
の正規の記憶セルアレイとは別に2行の行線Xx’、X
z’lテスト用として設けたものであり、第3図で示し
た様な寄生PNPN効来が起こりやすいパターンを製造
段階で造ル込んだものである。すなわち正規の記憶セル
アレイの行線XI−Xnの他に更に2列の行線XI’、
X2’を増設し、列線はYl−Ymt−正規の記憶セル
アレイの列線と共用して2行Xm列のマトリクスを構成
し、行線X1′、Xz’と列線Yt−Ymとの交点にベ
ースオープンのトランジスタ(以下単にトランジスタと
略記する)及びベース・コレクタ接合ダイオード(以下
BCダイオードと略記)を配列する構成である。
の正規の記憶セルアレイとは別に2行の行線Xx’、X
z’lテスト用として設けたものであり、第3図で示し
た様な寄生PNPN効来が起こりやすいパターンを製造
段階で造ル込んだものである。すなわち正規の記憶セル
アレイの行線XI−Xnの他に更に2列の行線XI’、
X2’を増設し、列線はYl−Ymt−正規の記憶セル
アレイの列線と共用して2行Xm列のマトリクスを構成
し、行線X1′、Xz’と列線Yt−Ymとの交点にベ
ースオープンのトランジスタ(以下単にトランジスタと
略記する)及びベース・コレクタ接合ダイオード(以下
BCダイオードと略記)を配列する構成である。
第3図で示す様に寄生PNPN効来が起こる構造は隣接
した列線Yl、Y2上に書き込み済みの記憶セルと未書
き込みの記憶セル(ペース・オープントランジスタ)が
同一行線上に少なくとも1箇所以上あり1列aYx、Y
z上に接続されている記憶セルが1箇所以上書き込まれ
た状態全治するパターン構成である。
した列線Yl、Y2上に書き込み済みの記憶セルと未書
き込みの記憶セル(ペース・オープントランジスタ)が
同一行線上に少なくとも1箇所以上あり1列aYx、Y
z上に接続されている記憶セルが1箇所以上書き込まれ
た状態全治するパターン構成である。
従って第5図に示す本発明の実施例は第3図の様な寄生
PNPN効来が起こシ得る構成を別に増設した記憶セル
で模疑出きるパターン構成を採って居り、行線Xl′を
基線として、列線Ylとの交点は完全オープン状態(素
子が無い状態)、列線Y2との交点にはBCダイオード
Dlz、列線Y3との交点は再び完全オープン状態、列
線Y4との交点には再びBCダイオードD14′lr:
配置し、更に行線X2’f基線として列線Ylとの交点
にはBCダイオードD211列線Y2との交点にはトラ
ンジスタQ22’、列線Y3との交点にはBCダイオー
ドD23、列線Y4との交点にはトランジスタQz4’
i各々配置している。第3図に示す様な正規の記憶セル
アレイの書き込みパターンと出きる限9同一構成とする
ならば本来なら、Xl’ −YXとXi’ −Ysの各
交点にはそれぞれ第3図の正規の記憶セルQllとQl
aと同じトランジスタを配置すべきであるが、試験時の
検出効果音上げる為、すなわち行dXz’上の021と
Q22′ で構成される冨生PNPNi通してDlzを
介して流れる矢印の電流路の検出をよくする為に完全な
オープン状態にする必要がある。
PNPN効来が起こシ得る構成を別に増設した記憶セル
で模疑出きるパターン構成を採って居り、行線Xl′を
基線として、列線Ylとの交点は完全オープン状態(素
子が無い状態)、列線Y2との交点にはBCダイオード
Dlz、列線Y3との交点は再び完全オープン状態、列
線Y4との交点には再びBCダイオードD14′lr:
配置し、更に行線X2’f基線として列線Ylとの交点
にはBCダイオードD211列線Y2との交点にはトラ
ンジスタQ22’、列線Y3との交点にはBCダイオー
ドD23、列線Y4との交点にはトランジスタQz4’
i各々配置している。第3図に示す様な正規の記憶セル
アレイの書き込みパターンと出きる限9同一構成とする
ならば本来なら、Xl’ −YXとXi’ −Ysの各
交点にはそれぞれ第3図の正規の記憶セルQllとQl
aと同じトランジスタを配置すべきであるが、試験時の
検出効果音上げる為、すなわち行dXz’上の021と
Q22′ で構成される冨生PNPNi通してDlzを
介して流れる矢印の電流路の検出をよくする為に完全な
オープン状態にする必要がある。
更に詳しく説明するならば、奇行線XI’が選択(接地
)され、行線X 2 Lが非選択状態にある時、列線Y
1から定電流を流し込むと正常ならば、すなわちBCダ
イオード1)21とトランジスタQ22′で構成される
寄生)’NPNのPNP トランジスタとNPNトラン
ジスタの電流利得の積が1以下にあって非導通ならば列
線Ylと行線X11間には電流路が無い(Xl’ −Y
tの交点は完全オープンの為)ので列線Yzの電位は定
電流器で決まるクランプレベルまで上昇する筈であるが
、上記D21とQ22′で構成されるPNPトランジス
タとNPN)ランジスタの電流利得の積が1以上になる
チップの場合は寄生PNPNが導通して、BCダイオー
ドD12を通して矢印の電流が流れるので列線Ylの電
位はD21−Q22’ −D12の電流路のインピーダ
ンスで決まる電位にダウンする。すなわち異常な電流路
によって列線Ylから流し込んだ電流のまわル込みが生
じる事から、ユーザーが実際に書き込む為の正規の記憶
セルアレイについても同様の電流まわり込みにより、選
択された所望の記憶セルに書き込のがなされないと言う
書き込み不良が起こる事が予想される。
)され、行線X 2 Lが非選択状態にある時、列線Y
1から定電流を流し込むと正常ならば、すなわちBCダ
イオード1)21とトランジスタQ22′で構成される
寄生)’NPNのPNP トランジスタとNPNトラン
ジスタの電流利得の積が1以下にあって非導通ならば列
線Ylと行線X11間には電流路が無い(Xl’ −Y
tの交点は完全オープンの為)ので列線Yzの電位は定
電流器で決まるクランプレベルまで上昇する筈であるが
、上記D21とQ22′で構成されるPNPトランジス
タとNPN)ランジスタの電流利得の積が1以上になる
チップの場合は寄生PNPNが導通して、BCダイオー
ドD12を通して矢印の電流が流れるので列線Ylの電
位はD21−Q22’ −D12の電流路のインピーダ
ンスで決まる電位にダウンする。すなわち異常な電流路
によって列線Ylから流し込んだ電流のまわル込みが生
じる事から、ユーザーが実際に書き込む為の正規の記憶
セルアレイについても同様の電流まわり込みにより、選
択された所望の記憶セルに書き込のがなされないと言う
書き込み不良が起こる事が予想される。
第5図の本発明の詳細な説明した様にユーザーが使用す
る正規の記憶セルアレイの他に2行のテスト用記憶セル
を増設し、正規の記憶上ルアレイを実際に書き込む時の
記憶セルの寄生P N P Nによる異常な電流の壕わ
シ込みによって19込不良が起こりやすい様な1、込パ
ターンを製造段階でテスト用記憶セルとして用意する事
で、実際に起こり得る書き込み不良を未書き込み状態す
なわち、6白紙”状態で未然に取シ除く事が可能になシ
、書き込み歩留りの良い高品質のP −ROM f、提
供出来る、 又、第6図にはテスト用記憶セルの素子構造要部を示し
て居り、寄生PNPNを構成する素子BCダイオードD
21とトランジスタQ22′の素子断面図である。寄生
PNPNが導通した場合の異常な電流路は矢印で示しで
ある。第5図の素子構造要部に於いてBCダイオード1
)21のP領域とトランジスタQ22′のP領域と共通
コレクタ領域の行aX2’とでラテラルの寄生PNP)
ランジスタが構成されている。とのD21とQ22′の
P領域の距離りを正規の記憶セルアレイの記憶セル間の
P領域とP領域の距離よりも短かくする事によりラテラ
ルPNP トランジスタの電流利得が犬きくなシ、従っ
て正規の記憶セルアレイよりもテスト用の記憶セルの寄
生PNPN素子が導通しやすくなるので電流捷わり込み
による書き込み不良の検出率すなわち予測寛が艮くなる
。
る正規の記憶セルアレイの他に2行のテスト用記憶セル
を増設し、正規の記憶上ルアレイを実際に書き込む時の
記憶セルの寄生P N P Nによる異常な電流の壕わ
シ込みによって19込不良が起こりやすい様な1、込パ
ターンを製造段階でテスト用記憶セルとして用意する事
で、実際に起こり得る書き込み不良を未書き込み状態す
なわち、6白紙”状態で未然に取シ除く事が可能になシ
、書き込み歩留りの良い高品質のP −ROM f、提
供出来る、 又、第6図にはテスト用記憶セルの素子構造要部を示し
て居り、寄生PNPNを構成する素子BCダイオードD
21とトランジスタQ22′の素子断面図である。寄生
PNPNが導通した場合の異常な電流路は矢印で示しで
ある。第5図の素子構造要部に於いてBCダイオード1
)21のP領域とトランジスタQ22′のP領域と共通
コレクタ領域の行aX2’とでラテラルの寄生PNP)
ランジスタが構成されている。とのD21とQ22′の
P領域の距離りを正規の記憶セルアレイの記憶セル間の
P領域とP領域の距離よりも短かくする事によりラテラ
ルPNP トランジスタの電流利得が犬きくなシ、従っ
て正規の記憶セルアレイよりもテスト用の記憶セルの寄
生PNPN素子が導通しやすくなるので電流捷わり込み
による書き込み不良の検出率すなわち予測寛が艮くなる
。
以上説明した様に本発明は正規の記憶セルアレイを実際
に書き込む時に起こる寄生PNPNによる電流まわシ込
みの書き込み不良を未書き込み状態すなわち1白紙”状
態に於いて未然に取り除く事が出き、本発明の効果は甚
大である。
に書き込む時に起こる寄生PNPNによる電流まわシ込
みの書き込み不良を未書き込み状態すなわち1白紙”状
態に於いて未然に取り除く事が出き、本発明の効果は甚
大である。
第1図ta)、 (b)はそれぞれ固定記憶セルの構成
を示す回路図であり、第2図(aL(b)はそれぞれ第
1図(aL (b)の記憶セルに書き込みを行った時の
等何回路を示す図であシ、第3図は寄生P N P N
作用による電流のまわ9込みを説明する為の回路図、第
4図は第3図の寄生PNPN作用を説明する為の補助等
価回路図、第5図は本発明の実施例を示す回路図、第6
図は本発明の別の実施例を示す素子構造要部を示す図で
ある。 1・・・・・・ダイオード、2・・・・・・ヒユーズ半
3回 猶4−図 寥ぶ劇 卒/瓢
を示す回路図であり、第2図(aL(b)はそれぞれ第
1図(aL (b)の記憶セルに書き込みを行った時の
等何回路を示す図であシ、第3図は寄生P N P N
作用による電流のまわ9込みを説明する為の回路図、第
4図は第3図の寄生PNPN作用を説明する為の補助等
価回路図、第5図は本発明の実施例を示す回路図、第6
図は本発明の別の実施例を示す素子構造要部を示す図で
ある。 1・・・・・・ダイオード、2・・・・・・ヒユーズ半
3回 猶4−図 寥ぶ劇 卒/瓢
Claims (2)
- (1)固定記憶セルのn行・m列(n、mは正の整数)
のマトリクス状に配置されたセルアレイと、前記n行及
びm列の各々を選択する手段と、前記n行に対して設け
られた2行・m列の固定記憶セルアレイを含み、前記n
行・m列の固定記憶セルアレイを選択する手段とは異な
る第2の選択する手段によって選択される前記2行・m
列の固定記憶セルアレイに於いて、少なくとも同一の行
及び列のそれぞれ隣接する列及び行に於ける固定記憶セ
ルの論理情報が異なる椋に配置され、第1の論理情報に
は列にアノードが接続され、行にカソードが接続されて
いるベース・コレクタ接合ダイオードが配置され、第2
の@理情報には、たすきがけの一方が開放状態で。 たすきかけのもう一方の第2の論理情報には列にエミッ
タが接続され、行にコレクタが接続されているベース開
放のトランジスタが配置されていることを特徴とするプ
ログラマブル・リード・オンリー・メモリ。 - (2)2行の固定記憶セルアレイの一万の同一行線に於
いて隣接配置されている前記ベース・コレクタ接合ダイ
オードとベース開放トランジスタの相互のP型領域の物
理的距離が前記n行×m列の固定記憶セルの相互の2M
領域の物理的距離よシも短かくしたことを特徴とする特
許請求の範凹第(1)項のプログラマブル・リード・オ
ンリー・メモリ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58203975A JPS6095799A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ |
DE8484113053T DE3485385D1 (de) | 1983-10-31 | 1984-10-30 | Mit pruefzellen ausgestattetes programmierbares rom-geraet. |
EP84113053A EP0140368B1 (en) | 1983-10-31 | 1984-10-30 | Programmable read-only memory device provided with test cells |
US06/666,515 US4719599A (en) | 1983-10-31 | 1984-10-30 | Programmable read-only memory device provided with test cells |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58203975A JPS6095799A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6095799A true JPS6095799A (ja) | 1985-05-29 |
JPH0156479B2 JPH0156479B2 (ja) | 1989-11-30 |
Family
ID=16482720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58203975A Granted JPS6095799A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4719599A (ja) |
EP (1) | EP0140368B1 (ja) |
JP (1) | JPS6095799A (ja) |
DE (1) | DE3485385D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009531781A (ja) * | 2006-03-23 | 2009-09-03 | 株式会社東芝 | メモリ利用計算システム及び同システムを用いる方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8600099A (nl) * | 1986-01-20 | 1987-08-17 | Philips Nv | Niet-vluchtig, programmeerbaar halfgeleidergeheugen. |
FR2605112B1 (fr) * | 1986-10-10 | 1989-04-07 | Thomson Csf | Dispositif et procede de generation de vecteurs de test et procede de test pour circuit integre |
JPS63175300A (ja) * | 1987-01-16 | 1988-07-19 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPH0632213B2 (ja) * | 1987-02-26 | 1994-04-27 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ |
US4967394A (en) * | 1987-09-09 | 1990-10-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device having a test cell array |
CA1326303C (en) * | 1988-08-31 | 1994-01-18 | Hideki Shutou | Extended logical scale structure of a programmable logic array |
US5072137A (en) * | 1990-08-17 | 1991-12-10 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Semiconductor memory with a clocked access code for test mode entry |
US5072138A (en) * | 1990-08-17 | 1991-12-10 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Semiconductor memory with sequential clocked access codes for test mode entry |
KR920006993A (ko) * | 1990-09-28 | 1992-04-28 | 정몽헌 | Epld의 입출력 마크로셀 시험회로 |
US5465341A (en) * | 1992-10-23 | 1995-11-07 | Vlsi Technology, Inc. | Verifiable security circuitry for preventing unauthorized access to programmed read only memory |
US5661047A (en) * | 1994-10-05 | 1997-08-26 | United Microelectronics Corporation | Method for forming bipolar ROM device |
US7376008B2 (en) * | 2003-08-07 | 2008-05-20 | Contour Seminconductor, Inc. | SCR matrix storage device |
US20080074898A1 (en) | 2006-06-02 | 2008-03-27 | Bookham Technology Plc | Light source assemblies |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH612953A5 (en) * | 1975-06-13 | 1979-08-31 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of steroid carbolactones |
JPS5914838B2 (ja) * | 1978-11-25 | 1984-04-06 | 富士通株式会社 | フィ−ルドプログラマブル素子 |
JPS55142475A (en) * | 1979-04-23 | 1980-11-07 | Fujitsu Ltd | Decoder circuit |
JPS57105898A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Fujitsu Ltd | Field programmable element |
JPS57143798A (en) * | 1981-03-02 | 1982-09-06 | Fujitsu Ltd | Programmable element |
-
1983
- 1983-10-31 JP JP58203975A patent/JPS6095799A/ja active Granted
-
1984
- 1984-10-30 US US06/666,515 patent/US4719599A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-10-30 EP EP84113053A patent/EP0140368B1/en not_active Expired
- 1984-10-30 DE DE8484113053T patent/DE3485385D1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009531781A (ja) * | 2006-03-23 | 2009-09-03 | 株式会社東芝 | メモリ利用計算システム及び同システムを用いる方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0140368B1 (en) | 1991-12-27 |
JPH0156479B2 (ja) | 1989-11-30 |
EP0140368A2 (en) | 1985-05-08 |
EP0140368A3 (en) | 1988-06-22 |
DE3485385D1 (de) | 1992-02-06 |
US4719599A (en) | 1988-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6095799A (ja) | プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ | |
JPS6330720B2 (ja) | ||
JPH05151779A (ja) | バイポーラトランジスタメモリセル及び方法 | |
EP0100160B1 (en) | Semiconductor memory devices with word line discharging circuits | |
EP0018192B1 (en) | Bipolar programmable read only memory device including address circuits | |
EP0202892B1 (en) | Semiconductor memory device with diode matrix decoder and redundancy configuration | |
US4488263A (en) | Bypass circuit for word line cell discharge current | |
US4722822A (en) | Column-current multiplexing driver circuit for high density proms | |
JP2549999B2 (ja) | 集積回路メモリ | |
US3573756A (en) | Associative memory circuitry | |
US4729116A (en) | Bipolar programmable read only memory attaining high speed data read operation | |
EP0228283B1 (en) | Semiconductor memory circuit having inspection circuit | |
US4914320A (en) | Speed-up circuit for NPN bipolar transistors | |
SU613405A1 (ru) | Запоминающее устройство | |
JPS6113320B2 (ja) | ||
JPS5950229B2 (ja) | 半導体メモリセル | |
JPS58139397A (ja) | 読出専用記憶装置の不良検出回路 | |
JPS5834941B2 (ja) | プログラマブルモノリシツク集積回路 | |
KR850000440B1 (ko) | 피일드 프로그래머블 소자 | |
JPS6079597A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JPS5914833B2 (ja) | リ−ド・オンリ・メモリ | |
JPH0527199B2 (ja) | ||
JPS6035397A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH0524600B2 (ja) | ||
JPS6095800A (ja) | プログラマブル読み出し専用メモリ |