JPS6087424A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPS6087424A JPS6087424A JP19636583A JP19636583A JPS6087424A JP S6087424 A JPS6087424 A JP S6087424A JP 19636583 A JP19636583 A JP 19636583A JP 19636583 A JP19636583 A JP 19636583A JP S6087424 A JPS6087424 A JP S6087424A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、録音、録画、情報処理等に於て高密度記録を
可能にする、磁気記録層のほぼ厚さ方向に沿う方向の磁
化によってその記録を行う、いわゆる垂直磁化による磁
気記録媒体に関1′る。
可能にする、磁気記録層のほぼ厚さ方向に沿う方向の磁
化によってその記録を行う、いわゆる垂直磁化による磁
気記録媒体に関1′る。
従来例の構成とその問題点
記録密度を向上させるには、磁気ヘッドの改良。
信号処理技術の改良と同時に磁気記録媒体の改良が重要
である。
である。
接触式のリング型磁気ヘッドでの高密度化の要点は、磁
気記録層の残留磁化量をいかに大きくするかと、その磁
化量をいかに高感度領域で検出するかとにある。
気記録層の残留磁化量をいかに大きくするかと、その磁
化量をいかに高感度領域で検出するかとにある。
近年、その点に鑑与、磁気記録層のほぼ厚さ方向に沿う
方向の磁化によってその記録を行う、いわゆる垂直磁化
による磁気記録媒体が1例えば特公昭57−17282
号公報に於て提案され、特開昭54−61804号公報
に於て更に改良提案がなされる等開発が盛んである。
方向の磁化によってその記録を行う、いわゆる垂直磁化
による磁気記録媒体が1例えば特公昭57−17282
号公報に於て提案され、特開昭54−61804号公報
に於て更に改良提案がなされる等開発が盛んである。
垂直磁化による磁気記録媒体の短波長記録での有用性の
確認は実験室規模で行われたが、かかる磁気記録媒体の
実用耐久性については充分検討が進んでいない。
確認は実験室規模で行われたが、かかる磁気記録媒体の
実用耐久性については充分検討が進んでいない。
以下図面を参照しながら、上述したような従来の磁気記
録媒体について説明する。
録媒体について説明する。
第1図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図を示すもので
ある。
ある。
第1図において、1は基板であり、基板1上に低抗磁力
層2が配され、その上に垂直磁化可能な強姐性金属薄膜
から成る磁気記録層3を配し、その上に潤滑層4を配し
て成るもので、テープ状又はディスク状の形態を成すも
のである。
層2が配され、その上に垂直磁化可能な強姐性金属薄膜
から成る磁気記録層3を配し、その上に潤滑層4を配し
て成るもので、テープ状又はディスク状の形態を成すも
のである。
基板1はカプトン等の高分子が鏡面仕上げされたアルミ
合金等の非磁性材料から成り、表面は平均粗さでも20
0Å以下と平滑である。
合金等の非磁性材料から成り、表面は平均粗さでも20
0Å以下と平滑である。
低抗磁力層2は、1μmから5μmぐらいまでのパーマ
ロイ薄膜等でメッキ法又はスパッタリング法、真空蒸着
法等により形成さ扛るから、基板1の表面形状と殆んど
同一である。
ロイ薄膜等でメッキ法又はスパッタリング法、真空蒸着
法等により形成さ扛るから、基板1の表面形状と殆んど
同一である。
垂直磁化用の磁気記録層3はCo−Cr、Co−V。
Co −M o等のCO系合金から成る0、1μIll
から高々1μmまでのスパッタ膜、めっき膜、1′〔空
蒸直膜なとであり、表面形状は基板1と殆んど同一にな
る。
から高々1μmまでのスパッタ膜、めっき膜、1′〔空
蒸直膜なとであり、表面形状は基板1と殆んど同一にな
る。
従って、潤滑層4を塗布法、蒸着法等で100人から2
00八程度設けても、表面が極めて平滑であるから鏡面
仕上げさnた磁気ヘッドの面と接触面積が大きく、摩擦
抵抗は七扛程下げることができない。
00八程度設けても、表面が極めて平滑であるから鏡面
仕上げさnた磁気ヘッドの面と接触面積が大きく、摩擦
抵抗は七扛程下げることができない。
このだめに、磁気記録媒体に傷が入ったり、磁気ヘッド
に傷が入ったり、激しく摩耗し、出力低下現象を誘発し
たシするので実用上大きな問題である0 発明の目的 本発明は磁気ヘッドと摺接した状態で長時間使用可能な
耐久性の改良された垂直磁化による磁気記録媒体を提供
すること全目的とする。
に傷が入ったり、激しく摩耗し、出力低下現象を誘発し
たシするので実用上大きな問題である0 発明の目的 本発明は磁気ヘッドと摺接した状態で長時間使用可能な
耐久性の改良された垂直磁化による磁気記録媒体を提供
すること全目的とする。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体は軟磁性微粒子を核とする突起を
有する低抗磁力層上に垂直磁化可能な強磁性金属薄膜か
ら成りこの軟磁性微粒子を核とする突起を有することに
より、磁気ヘッドとの接触面積が適度に小゛さく々り長
時間使用可能な耐久性の改良さ扛た垂直磁化による磁気
記録媒体が得られるものである。
有する低抗磁力層上に垂直磁化可能な強磁性金属薄膜か
ら成りこの軟磁性微粒子を核とする突起を有することに
より、磁気ヘッドとの接触面積が適度に小゛さく々り長
時間使用可能な耐久性の改良さ扛た垂直磁化による磁気
記録媒体が得られるものである。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第2図は本発明の一実施例における磁気記録媒体′ア拡
大断面図を示すものである。第2図において、6は基板
であり、基板5の向上に軟磁性微粒子8を核とする突起
に!する低抗磁力層6が形成されている。さらに、低抗
磁力層θ上に垂直磁化可能な強磁性金属薄膜からなる磁
気記録層9が形成され磁気記録媒体が構成されている。
大断面図を示すものである。第2図において、6は基板
であり、基板5の向上に軟磁性微粒子8を核とする突起
に!する低抗磁力層6が形成されている。さらに、低抗
磁力層θ上に垂直磁化可能な強磁性金属薄膜からなる磁
気記録層9が形成され磁気記録媒体が構成されている。
ここで、本発明の低抗磁力層6のひとつの目的は、磁気
ヘッドと摺接状態で長時間使用1■能な磁気記録層を提
供するために、磁気記録層9の表面を粒子的性質ケ帯び
させることにあり、もうひとつの・目的は、垂直磁化さ
れた交互磁石の一端を閉じることによる減磁作用を弱め
て結果的に大きな残留磁化をかく得せしめることにある
。
ヘッドと摺接状態で長時間使用1■能な磁気記録層を提
供するために、磁気記録層9の表面を粒子的性質ケ帯び
させることにあり、もうひとつの・目的は、垂直磁化さ
れた交互磁石の一端を閉じることによる減磁作用を弱め
て結果的に大きな残留磁化をかく得せしめることにある
。
低抗磁力層6の抗磁力の値は1°00エルステツド以下
、好ましくは30エルステツド以Fで、低抗磁力層6が
塗布層のみで構成される場合と、薄膜層と塗布層の積層
構成の両方の構成かり能である。
、好ましくは30エルステツド以Fで、低抗磁力層6が
塗布層のみで構成される場合と、薄膜層と塗布層の積層
構成の両方の構成かり能である。
前記薄膜層と塗布層を構成する磁性制料は必ずしも同一
のものである必要はない。
のものである必要はない。
低抗磁力層6の第1の目的ケ達成するには、パーマロイ
等の軟磁性微粒子8を樹脂に均一分散せしめて、高さ2
00八程度、密度1ケ/μIn” から100ケ/μm
″の突起を生せしめることが重要である。
等の軟磁性微粒子8を樹脂に均一分散せしめて、高さ2
00八程度、密度1ケ/μIn” から100ケ/μm
″の突起を生せしめることが重要である。
低抗磁力層6に前述した突起を付与する手法を用いて、
基板6に突起を付与した後に抵抗磁力層を従来技術によ
り得たものは、本発明品を凌駕する性能が得られない。
基板6に突起を付与した後に抵抗磁力層を従来技術によ
り得たものは、本発明品を凌駕する性能が得られない。
これは突起の核が磁気ヘッドからみてどこにあるかが重
要であり、突起の核が磁気ヘッドからみて遠くなるほど
、恐らく突起の形状が上につくる膜によりならされてし
まうだめと思われる。
要であり、突起の核が磁気ヘッドからみて遠くなるほど
、恐らく突起の形状が上につくる膜によりならされてし
まうだめと思われる。
この考えにたてば、突起の核を磁気記録層の上に形成す
ることも考えられ、事実その構成は、磁気記録層のスリ
キズ発生防止、磁気ヘッドのスリ協発生防止等には確か
に有効ではあるが、記録密度を高める目的から与ると、
極めて不都合な構成であり1本発明の構成が実用面から
与ても性能面から与ても最上の構成といえるものである
。
ることも考えられ、事実その構成は、磁気記録層のスリ
キズ発生防止、磁気ヘッドのスリ協発生防止等には確か
に有効ではあるが、記録密度を高める目的から与ると、
極めて不都合な構成であり1本発明の構成が実用面から
与ても性能面から与ても最上の構成といえるものである
。
本発明の構成の磁気記録層9は、ひとつは磁気ヘッドと
の接触が1面積的に小さく、限られた突起部で接触する
ので、磁気記録層9に傷が人らない。
の接触が1面積的に小さく、限られた突起部で接触する
ので、磁気記録層9に傷が人らない。
又、磁気記録層9の表面に従来と同様に潤滑層を配した
構成をとることで、より長時間の使用に耐えることが出
来る。
構成をとることで、より長時間の使用に耐えることが出
来る。
さらに、低抗磁力層6の樹脂に滑剤を含有せしめること
で、垂直磁化用の磁気記録層9を構成する六方稠密構造
の微結晶の柱状構造のすき間から、微量の滑剤が供給さ
扛、この作用も磁気記録媒体の長時間使用を可能にする
。
で、垂直磁化用の磁気記録層9を構成する六方稠密構造
の微結晶の柱状構造のすき間から、微量の滑剤が供給さ
扛、この作用も磁気記録媒体の長時間使用を可能にする
。
この作用は、突起部の結晶構造の特異性から、突起のな
い部分の柱状結晶間のすき間」゛す、大きいすき間がで
きることから本発明に於てより明確にでるものである。
い部分の柱状結晶間のすき間」゛す、大きいすき間がで
きることから本発明に於てより明確にでるものである。
本発明に用いら扛る基板6はポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフレート、ポリカーボネート、ポリ
アミド、ポリイミド等の高分子フィルム、アルミ台金な
どの非磁性板等でるる。
ト、ポリエチレンナフレート、ポリカーボネート、ポリ
アミド、ポリイミド等の高分子フィルム、アルミ台金な
どの非磁性板等でるる。
本発明に用いられる低抗磁力層6は、ポリエステル樹脂
、塩化ビニル系共重合体、ブチラール系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂等から選ば1だ結合剤。
、塩化ビニル系共重合体、ブチラール系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂等から選ば1だ結合剤。
7溶剤、希釈剤に分散剤、潤滑剤と同時にN i −F
e合金微粒子、N i −F e−Mo合金微粒子等の
軟磁性微粒子8f:磁性粉末として加えた塗料ヲリバー
スロールコータ、グラビアコータ等により塗布して乾燥
し得られる。
e合金微粒子、N i −F e−Mo合金微粒子等の
軟磁性微粒子8f:磁性粉末として加えた塗料ヲリバー
スロールコータ、グラビアコータ等により塗布して乾燥
し得られる。
垂直磁化可能な強磁性金属薄膜から成る磁気記録層9は
、Co−Cr 、Co−V 、Co −Mo 、Co−
W。
、Co−Cr 、Co−V 、Co −Mo 、Co−
W。
Co−Ru 、Co−Ni−0r 、等(7)Co系合
金で厚みは0.05 ltmから0.5μmまでで、さ
らに好ましくは0.1μmから0.2μmlでで、垂直
方向の抗磁力が500 (eve’)から1500 (
Oe)までが好ましい高密度記録を与える。
金で厚みは0.05 ltmから0.5μmまでで、さ
らに好ましくは0.1μmから0.2μmlでで、垂直
方向の抗磁力が500 (eve’)から1500 (
Oe)までが好ましい高密度記録を与える。
かかるCo系合金の磁気記録層9の形成法は。
電子ビーム蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタ
リング法、無電解メッキ法等の中から選択される。
リング法、無電解メッキ法等の中から選択される。
本発明について更に詳細に具体的な実施例を説萌するが
1本発明が実施例の範囲にのみ限定されるものでなく5
本発明の要旨を逸脱することなく種々の他の構成が取り
得るものであるのは勿論である。
1本発明が実施例の範囲にのみ限定されるものでなく5
本発明の要旨を逸脱することなく種々の他の構成が取り
得るものであるのは勿論である。
実施例−1
Ni−Fe (80%Ni)微粒子60部、塩化ビニル
−ff[ヒニルービニルアルコール共ML合体14部、
アクリロニトリルブタジェン共重合体9部。
−ff[ヒニルービニルアルコール共ML合体14部、
アクリロニトリルブタジェン共重合体9部。
シクロヘキサノン一メチルイソプチルケトン混合溶剤(
混合比1:1)1000部、ステアリン酸亜鉛5部から
成る塗料成分をボールミル中で60時間混曾分散させて
塗料を調整した。
混合比1:1)1000部、ステアリン酸亜鉛5部から
成る塗料成分をボールミル中で60時間混曾分散させて
塗料を調整した。
この塗料を厚さ9.6μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に乾燥塗膜厚が1μmとなるようにリバー
スロールコータにて塗着し、低抗磁力層を形成した。こ
の低抗磁力層の抗磁力は5〔Oe〕で、飽和磁束密度は
10001ニガウス〕で、約180への高さのNi−F
e微粒子を核にした突起が約25個/μm”存在してい
た。
トフィルム上に乾燥塗膜厚が1μmとなるようにリバー
スロールコータにて塗着し、低抗磁力層を形成した。こ
の低抗磁力層の抗磁力は5〔Oe〕で、飽和磁束密度は
10001ニガウス〕で、約180への高さのNi−F
e微粒子を核にした突起が約25個/μm”存在してい
た。
この低抗磁力層を配したポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを、真空蒸着装置に装てんして、磁気記録層であ
るCo−Cr垂直磁化薄膜を形成した。具体的には、直
径60cvLの冷却キャン(キャンの表面温度は76℃
に保持した。)に沿わせて前記フィルムを移動させなが
ら、キャン表面からecm離れた。20%Crを含むC
o−Cr合金ターゲツトから高周波スパッタ法によt)
Co−Cr垂直磁化薄膜を0.13μm 形成した。高
周波は13.561111.1KWでガス圧はArでI
X 10 、Torrとした。
ィルムを、真空蒸着装置に装てんして、磁気記録層であ
るCo−Cr垂直磁化薄膜を形成した。具体的には、直
径60cvLの冷却キャン(キャンの表面温度は76℃
に保持した。)に沿わせて前記フィルムを移動させなが
ら、キャン表面からecm離れた。20%Crを含むC
o−Cr合金ターゲツトから高周波スパッタ法によt)
Co−Cr垂直磁化薄膜を0.13μm 形成した。高
周波は13.561111.1KWでガス圧はArでI
X 10 、Torrとした。
垂直方向の抗磁力は740〔Oe〕であった。
この状態で8閣幅に裁断した磁気テープを1−A、テー
プトAの表面に潤滑層としてトルエン中に160ppm
溶解させたミリスチン酸をリバースロールコータで塗
布した磁気テープを1−Bとした。乾燥厚みは約30八
である。
プトAの表面に潤滑層としてトルエン中に160ppm
溶解させたミリスチン酸をリバースロールコータで塗
布した磁気テープを1−Bとした。乾燥厚みは約30八
である。
実施例−2
実施例−1で用いた真空蒸着装置でCo −Or合金タ
ーゲットをN i −F e−Mo合金ターゲツト(N
i76% 、Fe 18% 、Mo 6%)に置きかえ
て。
ーゲットをN i −F e−Mo合金ターゲツト(N
i76% 、Fe 18% 、Mo 6%)に置きかえ
て。
厚み11.6μm のポリアミドフィルム上に N i
−Fs−Mo層を0.3μm形成した。高周波は13
・66M、1.2KWガス圧はAr s、5x1o T
orrであった。
−Fs−Mo層を0.3μm形成した。高周波は13
・66M、1.2KWガス圧はAr s、5x1o T
orrであった。
この層の飽和磁化は700.0CG)で、抗磁力は4〔
Oe〕であった。
Oe〕であった。
次に、前述の方法により形成さ扛たNi−Fe−Mo層
上に、実施例−1と同じ要領で、Ni−Fe微粒子を乾
燥厚が0.1μmとなるようにリバースロールコータで
塗布し、低抗磁力層を形成した。
上に、実施例−1と同じ要領で、Ni−Fe微粒子を乾
燥厚が0.1μmとなるようにリバースロールコータで
塗布し、低抗磁力層を形成した。
尚、塗料成分のうちステアリン酸亜鉛は、ステアリン酸
に置き換えた。
に置き換えた。
この塗布によりNi−Fe微粒子を核とした突起は約3
3個/μm”で、突起高さは約200人で。
3個/μm”で、突起高さは約200人で。
塗布により得られた低抗磁力層は、飽和IIa束密度8
60ガウス抗磁力は6[Oe)であった。
60ガウス抗磁力は6[Oe)であった。
この低抗磁力層上にターグツ)fCo−Moに置きかえ
た、高周波スパッタ装置により、Co −M。
た、高周波スパッタ装置により、Co −M。
からなる垂直磁化可能な強磁性金属薄膜の磁気記録層を
0.2μm形成した。
0.2μm形成した。
主な条件は実施例−1でGo−Cr垂直磁化薄膜を形成
した時と同じである。
した時と同じである。
Go−Mo垂垂直磁化膜膜Mo:21重1丘チ)の飽和
磁束密度は3300(ガウス〕で、抗磁力は垂直方向が
950[Oe]であった。
磁束密度は3300(ガウス〕で、抗磁力は垂直方向が
950[Oe]であった。
これを8mm幅に裁断した磁気テープを2−A。
ミリスチン酸を実施例−1と同じ要領で塗布した磁気テ
ープを2−Bとした。
ープを2−Bとした。
比較例−1
厚さ9.6μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に高周波スパッタリング法により、Ni−Fe薄膜、
Co−Cr薄膜の2層膜を作成した。
上に高周波スパッタリング法により、Ni−Fe薄膜、
Co−Cr薄膜の2層膜を作成した。
Ni−Fe薄膜(Ni、80%)は厚み1μ!n、飽和
磁束密度は80oO〔ガウス〕、抗磁力はs、s (O
e)で、Co−Cr薄膜は厚み0.13μmで作成条件
、得られた磁気特性は実施例−1と同一である。
磁束密度は80oO〔ガウス〕、抗磁力はs、s (O
e)で、Co−Cr薄膜は厚み0.13μmで作成条件
、得られた磁気特性は実施例−1と同一である。
実施例−1と同様にミリスチン酸を塗布した8喘幅の磁
気テープを3−B、塗布しない磁気テープを3−Aとし
た。
気テープを3−B、塗布しない磁気テープを3−Aとし
た。
比較例−2
実施例−2でNi−Fe微粒子を含んだ塗液を塗布せず
に磁気テープを作成した。
に磁気テープを作成した。
その磁気テープにミリスチン酸を塗布しなかつた磁気テ
ープを4−A、塗布した磁気テープを4−Bとした。
ープを4−A、塗布した磁気テープを4−Bとした。
以上の実施例及び比較例にて得られた磁気テープを試作
した8mmビデオテープレコーダで測定した。シリンダ
直径は4 Cm rビデオヘッドは、ギャップ長0.2
7μmのフェライトヘッドとアモルファス合金ヘッドを
用い、記録波長0.6μmで、メチル特性は、再生出力
が60チ減衰するまでの時間で、スチル時のテンション
は3種類変化させた。
した8mmビデオテープレコーダで測定した。シリンダ
直径は4 Cm rビデオヘッドは、ギャップ長0.2
7μmのフェライトヘッドとアモルファス合金ヘッドを
用い、記録波長0.6μmで、メチル特性は、再生出力
が60チ減衰するまでの時間で、スチル時のテンション
は3種類変化させた。
かっこ内はアモルファス合金ヘッドの場合のスチル寿命
の値である。(単位は分で示した。ン上表より明らかな
ように、本発明品の磁気テープはスチル時のテンション
に殆んど依存しないで長時間再生出力が減衰しない。
の値である。(単位は分で示した。ン上表より明らかな
ように、本発明品の磁気テープはスチル時のテンション
に殆んど依存しないで長時間再生出力が減衰しない。
アモルファス合金ヘッドの使用時の方が少し。
スチル寿命が短かいが、実用上は60分あ扛ば充分であ
り1本発明品は倍以上の寿命を保っている。
り1本発明品は倍以上の寿命を保っている。
スチル寿命が長いことは、ヘッドとテープの相互作用の
耐久性が優れていることを示すもので。
耐久性が優れていることを示すもので。
結果的に、走行安定性をもたらし、高密度記録上重要な
トラックずれなどの不都合がないし、くり返し使用して
もドロップアウトが増加しないし。
トラックずれなどの不都合がないし、くり返し使用して
もドロップアウトが増加しないし。
ヘッド摩耗も少なく、ヘッドの面あれも起りにくいので
、優れた出力対雑音比を維持できる等の効果がある。
、優れた出力対雑音比を維持できる等の効果がある。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体は、垂直磁化可能な強磁性金属薄
膜からなる磁気記録層の記録再生効果を向上させる低抗
磁力層を、軟磁性微粒子を樹脂中に分散せしめ塗布、乾
燥して侮ることで生じる前記微粒子を核にした突起を泊
する構成とすることで、C〇−系合金と磁気ヘッドの高
速摺接時に起る摩耗の問題を解消し、垂直磁化可能な強
磁性金属薄膜による高密度磁気記録再生を、耐久性と最
小のスペース損失で実現させることができる。
膜からなる磁気記録層の記録再生効果を向上させる低抗
磁力層を、軟磁性微粒子を樹脂中に分散せしめ塗布、乾
燥して侮ることで生じる前記微粒子を核にした突起を泊
する構成とすることで、C〇−系合金と磁気ヘッドの高
速摺接時に起る摩耗の問題を解消し、垂直磁化可能な強
磁性金属薄膜による高密度磁気記録再生を、耐久性と最
小のスペース損失で実現させることができる。
第1図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図、第2図は本
発明の一実施例における磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。 6・・・・・・低抗磁力層、8・・・・軟磁性微粒’/
−,9・・・・・磁気記録層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 シ:゛1か1
名第1図 第2図
発明の一実施例における磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。 6・・・・・・低抗磁力層、8・・・・軟磁性微粒’/
−,9・・・・・磁気記録層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 シ:゛1か1
名第1図 第2図
Claims (1)
- 軟磁性微粒子を核とする突起を有する低抗磁力層上に垂
直磁化可能外強磁性金属薄膜からなる磁気記録層を配し
たことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19636583A JPS6087424A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19636583A JPS6087424A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6087424A true JPS6087424A (ja) | 1985-05-17 |
JPH0475572B2 JPH0475572B2 (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=16356635
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19636583A Granted JPS6087424A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6087424A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004227639A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 垂直磁気記録媒体、垂直二層パターンド媒体、および、これら媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-10-20 JP JP19636583A patent/JPS6087424A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004227639A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 垂直磁気記録媒体、垂直二層パターンド媒体、および、これら媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0475572B2 (ja) | 1992-12-01 |
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