JPS6081043A - ガラスのエツチング処理方法 - Google Patents
ガラスのエツチング処理方法Info
- Publication number
- JPS6081043A JPS6081043A JP58189681A JP18968183A JPS6081043A JP S6081043 A JPS6081043 A JP S6081043A JP 58189681 A JP58189681 A JP 58189681A JP 18968183 A JP18968183 A JP 18968183A JP S6081043 A JPS6081043 A JP S6081043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- etching
- etched
- light
- hydrofluoric acid
- Prior art date
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- Pending
Links
Landscapes
- Weting (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、パッシベーション材料、ＩＣのフォトマス
ク、あるいは照明用放電管などに用いられるガラスの妨
適なエツチング処理方法に関する。
ク、あるいは照明用放電管などに用いられるガラスの妨
適なエツチング処理方法に関する。
〔発明の技術的背景およびその問題点〕近年、半導体回
路のパッシベーション材料、集積回路製造時のフォトマ
スク、あるいは照明用の放電管等々にガラスが多用され
ている。
路のパッシベーション材料、集積回路製造時のフォトマ
スク、あるいは照明用の放電管等々にガラスが多用され
ている。
ところで、ガラスに対するパターン形成方法としては化
学的なエツチング方法が一般的であり、これに用いられ
るエツチング液としては弗酸が優れていることが知られ
ている。
学的なエツチング方法が一般的であり、これに用いられ
るエツチング液としては弗酸が優れていることが知られ
ている。
しかし、このような弗酸のみによる方法でガラスをエツ
チングした場合、エツチング処理後ガラスが白濁したり
、また被エツチング表面が微結晶化したり、失透が発生
したりすることが多かった。また、これらの現象に伴な
い、エラチン速度の低下、エツチングむら、光反射率の
低下など種々の好ましくない現象が発生していた。すな
わち従来、ガラスに対するエツチング処理は一般に困難
とされており、これを克服できる新たな技術が望まれて
いた。
チングした場合、エツチング処理後ガラスが白濁したり
、また被エツチング表面が微結晶化したり、失透が発生
したりすることが多かった。また、これらの現象に伴な
い、エラチン速度の低下、エツチングむら、光反射率の
低下など種々の好ましくない現象が発生していた。すな
わち従来、ガラスに対するエツチング処理は一般に困難
とされており、これを克服できる新たな技術が望まれて
いた。
この発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、エツ
チング速度が速（、かつエツチング処理後においてもエ
ツチング前の通常のガラス状態を維持することができ、
さらに光反射率が良好で機械的強度の大きなガラスを得
ることができるガラスのエツチング処理方法を提供する
ことを目的とする。
チング速度が速（、かつエツチング処理後においてもエ
ツチング前の通常のガラス状態を維持することができ、
さらに光反射率が良好で機械的強度の大きなガラスを得
ることができるガラスのエツチング処理方法を提供する
ことを目的とする。
本発明者はガラスに対するエツチング液として例えば弗
酸とアンモニウム塩との混合液など弗酸を含む２種以上
の混合液を用いた場合エツチング速度が太幅に向上し、
また被エツチング表面での白濁、微結晶化、失透などが
好適に防止できることを見出した。さらに、上記エツチ
ング液を用いたエツチング処理後のガラスに対して、ガ
ラス軟化点以下の温度で適宜時間加熱処理する工程と光
照射する工程とを施すことで、上記エツチングだけでは
除くことができなかった微細な潜傷や欠陥などが除去さ
れることも見出した。これにより、光散乱が少くなり、
また傷に対する応力集中もなくなるために、光反射率が
向上し、機械的強度の大きなガラスを得ることができる
。
酸とアンモニウム塩との混合液など弗酸を含む２種以上
の混合液を用いた場合エツチング速度が太幅に向上し、
また被エツチング表面での白濁、微結晶化、失透などが
好適に防止できることを見出した。さらに、上記エツチ
ング液を用いたエツチング処理後のガラスに対して、ガ
ラス軟化点以下の温度で適宜時間加熱処理する工程と光
照射する工程とを施すことで、上記エツチングだけでは
除くことができなかった微細な潜傷や欠陥などが除去さ
れることも見出した。これにより、光散乱が少くなり、
また傷に対する応力集中もなくなるために、光反射率が
向上し、機械的強度の大きなガラスを得ることができる
。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を実施例により説明する。
してＨＦｌ０％＋ＮＨ４０ＨＩ Ｏ％の混合液をエッチ
ャントとしたエツチングを行った。この際エツチング速
度は０．３７μｍ／ｍｉｎ であり、測定結果を図中Ｉ
線に示す。なお、図において縦軸はエツチング深さくμ
ｍ）、横軸は時間（ｈｏｕｒｓ ）を示しており、比較
上従来技術によるエツチング速度をＰ線に示した。この
図からも明らかなように、本エツチング液によるエツチ
ング速度は従来技術の数倍にも向上した。このエツチン
グ後、ガラスの被エツチング表面を観測してみたが、白
濁、結晶化、失透なとはｌよく、エツチング前の通常の
なめらかな表面状態を維持していた。次いで、上記エツ
チングが施されたガラスを４５０℃で１０分間加熱後、
超高圧水銀灯で１０分間光照射した。そして、このガラ
スの機械的強度を測定してみると２５ ｋｇ／ｍ ｍ
であり、これは通常の光学ガラスの２倍程度の強度であ
ることがわかった。また、このガラスの光反射率を測定
してみると、光反射率がエツチング前の状態より３０％
はど向上したことがわかった。これは、上記エツチング
工程によっである程度とり去られたガラスの欠陥や潜像
などが上記加熱および光照射工程によってさらに大部分
が除去され、これにより光散乱および傷への応力集中が
なくなり、光反射率および機械的強度がさらに向上した
ためと考えられる。
ャントとしたエツチングを行った。この際エツチング速
度は０．３７μｍ／ｍｉｎ であり、測定結果を図中Ｉ
線に示す。なお、図において縦軸はエツチング深さくμ
ｍ）、横軸は時間（ｈｏｕｒｓ ）を示しており、比較
上従来技術によるエツチング速度をＰ線に示した。この
図からも明らかなように、本エツチング液によるエツチ
ング速度は従来技術の数倍にも向上した。このエツチン
グ後、ガラスの被エツチング表面を観測してみたが、白
濁、結晶化、失透なとはｌよく、エツチング前の通常の
なめらかな表面状態を維持していた。次いで、上記エツ
チングが施されたガラスを４５０℃で１０分間加熱後、
超高圧水銀灯で１０分間光照射した。そして、このガラ
スの機械的強度を測定してみると２５ ｋｇ／ｍ ｍ
であり、これは通常の光学ガラスの２倍程度の強度であ
ることがわかった。また、このガラスの光反射率を測定
してみると、光反射率がエツチング前の状態より３０％
はど向上したことがわかった。これは、上記エツチング
工程によっである程度とり去られたガラスの欠陥や潜像
などが上記加熱および光照射工程によってさらに大部分
が除去され、これにより光散乱および傷への応力集中が
なくなり、光反射率および機械的強度がさらに向上した
ためと考えられる。
実施例■
ＺｎＯ１６％、Ｊ、０８５ ％、Ｂ、ｌ０８４５ ％
、ＰｂＯ２０チ、５ｉ０２１４ ％から成るガラスを用
意し、これに対してＨＦ ５％十ＮＨ４ＨＦ、 ５％の
混合液をエッチャントとしたエツチングを行った。この
際のエツチング速度は図中■線に示すように０．２μｍ
／ ｍ ｉ ｎであった。このエツチング後、前記同様
ガラスの被エツチング表面を観測したが、結晶化、失透
光散乱などはなく通常のなめらかな表面状態を維持して
いた。次いで、このガラスを５００℃で１０分間熱処理
を行った後、超高圧水銀灯で２０分間光照射した。この
状態でのガラスの機械的強度は２０ ｋｇ ／ ｍｍ’
であり、光反射率も３０％はど向上した。
、ＰｂＯ２０チ、５ｉ０２１４ ％から成るガラスを用
意し、これに対してＨＦ ５％十ＮＨ４ＨＦ、 ５％の
混合液をエッチャントとしたエツチングを行った。この
際のエツチング速度は図中■線に示すように０．２μｍ
／ ｍ ｉ ｎであった。このエツチング後、前記同様
ガラスの被エツチング表面を観測したが、結晶化、失透
光散乱などはなく通常のなめらかな表面状態を維持して
いた。次いで、このガラスを５００℃で１０分間熱処理
を行った後、超高圧水銀灯で２０分間光照射した。この
状態でのガラスの機械的強度は２０ ｋｇ ／ ｍｍ’
であり、光反射率も３０％はど向上した。
実施例■
ＺｎＯ２１％、Ｂ！ｌ０８４５ ％、ＰｂＯ２０％、５
ｉ０２１４％から成るガラスを用意し、これに対して速
度は図中■線に示すように００８３μｍ／ｍｉｎ であ
った。このエツチング後、前記同様ガラスの結晶化、失
透光散乱などはなく通常のなめらかな表面状態を維持し
ていた。次いで、このガラスを５００℃で１５分間熱処
理を行った後、超高圧水銀灯下で１０分間光照射した。
ｉ０２１４％から成るガラスを用意し、これに対して速
度は図中■線に示すように００８３μｍ／ｍｉｎ であ
った。このエツチング後、前記同様ガラスの結晶化、失
透光散乱などはなく通常のなめらかな表面状態を維持し
ていた。次いで、このガラスを５００℃で１５分間熱処
理を行った後、超高圧水銀灯下で１０分間光照射した。
この後、本ガラスの機械的強度を測定してみると２０
ｋｇ ／ ｍｍ’であり、また光反射率も３０％はど向
上した。
ｋｇ ／ ｍｍ’であり、また光反射率も３０％はど向
上した。
なお、この発明のエツチング方法は上記半導体デバイス
のパッシベーション材料やフォトマスクとして用いられ
るガラスのみならず例えばホウケイ酸ガラスなど一般の
照明用管球に用いられるガラスについても有効に作用す
る。なぜならば、本発明のエツチング処理方法によれば
、エツチングによっである程度除去されたガラスの微細
な欠陥や潜像などをその後の熱処理および光照射工程に
よってさらに大部分を除去してしまうために、傷に対す
る応力集中がなくなり、静的疲労強度が向上するためで
ある。
のパッシベーション材料やフォトマスクとして用いられ
るガラスのみならず例えばホウケイ酸ガラスなど一般の
照明用管球に用いられるガラスについても有効に作用す
る。なぜならば、本発明のエツチング処理方法によれば
、エツチングによっである程度除去されたガラスの微細
な欠陥や潜像などをその後の熱処理および光照射工程に
よってさらに大部分を除去してしまうために、傷に対す
る応力集中がなくなり、静的疲労強度が向上するためで
ある。
本実施例では、通常高圧放電灯に用いられるホウケイ酸
ガラスを用意し、これに対し上記実施例■と同じＨＦｌ
０％十ＮＨ４０ＨＩＯチの混合液をエッチャントとした
エツチングを３０分間行い、次いで４５０℃で熱処理を
行い、この後紫外線を照射した。そして、このガラスの
疲労試験を行ってみると、上記処理が未処理のものに比
べて約２倍程度の疲労強度を得ることができた。
ガラスを用意し、これに対し上記実施例■と同じＨＦｌ
０％十ＮＨ４０ＨＩＯチの混合液をエッチャントとした
エツチングを３０分間行い、次いで４５０℃で熱処理を
行い、この後紫外線を照射した。そして、このガラスの
疲労試験を行ってみると、上記処理が未処理のものに比
べて約２倍程度の疲労強度を得ることができた。
上述したように本発明は工業的に価値あるエツチング処
理方法であり、単に半導体、集積回路などの各種材料に
用いられるばかりでな（、広く管球用ガラス、さらに光
学ガラスの処理などに適用されれば有意義九作用１−る
ものと考えられる。
理方法であり、単に半導体、集積回路などの各種材料に
用いられるばかりでな（、広く管球用ガラス、さらに光
学ガラスの処理などに適用されれば有意義九作用１−る
ものと考えられる。
以上の結果により明らかなように、この発明ニカカるエ
ツチング処理方法によれば、ガラスの被エツチング面が
結晶化、白濁することなく通常の滑らかなガラス表面を
保ちつつ、任意の深さ方向に高エツチング速度でガラス
をエツチングし、好適な段差をつけることができる。ま
た、表面の微細な欠陥や潜像などもほとんど完全に除去
されてしまうので、光散乱が少（なり、また傷への応力
集中もなくなり、この結果、光反射率の優れた、また機
械的強度の大きなガラスを得ることができる。
ツチング処理方法によれば、ガラスの被エツチング面が
結晶化、白濁することなく通常の滑らかなガラス表面を
保ちつつ、任意の深さ方向に高エツチング速度でガラス
をエツチングし、好適な段差をつけることができる。ま
た、表面の微細な欠陥や潜像などもほとんど完全に除去
されてしまうので、光散乱が少（なり、また傷への応力
集中もなくなり、この結果、光反射率の優れた、また機
械的強度の大きなガラスを得ることができる。
図はこの発明にかかるエツチング処理方法の各実施例に
ついてのエツチング速度を示すためのグラフである。
ついてのエツチング速度を示すためのグラフである。
Claims (1)
- 弗酸を含む２種以上の混合液をエツチング液としてガラ
スをエツチングし、この後膣エツチングしたガラスに対
してガラス軟化点以下の温度で加熱処理する工程と、光
照射する工程とを施すようにしたガラスのエツチング処
理方法ズ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58189681A JPS6081043A (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | ガラスのエツチング処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58189681A JPS6081043A (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | ガラスのエツチング処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6081043A true JPS6081043A (ja) | 1985-05-09 |
Family
ID=16245394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58189681A Pending JPS6081043A (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | ガラスのエツチング処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6081043A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5395293A (en) * | 1992-06-02 | 1995-03-07 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Speed change controller for vehicle |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53138420A (en) * | 1977-05-10 | 1978-12-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of strengthening glass |
| JPS567978A (en) * | 1979-06-30 | 1981-01-27 | Akio Nakano | Melting furnace |
-
1983
- 1983-10-11 JP JP58189681A patent/JPS6081043A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53138420A (en) * | 1977-05-10 | 1978-12-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of strengthening glass |
| JPS567978A (en) * | 1979-06-30 | 1981-01-27 | Akio Nakano | Melting furnace |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5395293A (en) * | 1992-06-02 | 1995-03-07 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Speed change controller for vehicle |
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