JPS606040B2 - 集積回路 - Google Patents
集積回路Info
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- JPS606040B2 JPS606040B2 JP54071409A JP7140979A JPS606040B2 JP S606040 B2 JPS606040 B2 JP S606040B2 JP 54071409 A JP54071409 A JP 54071409A JP 7140979 A JP7140979 A JP 7140979A JP S606040 B2 JPS606040 B2 JP S606040B2
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- clamp
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
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- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/14—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
- G11C17/18—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は集積回路に係り、特に書込可能な謙出専用集積
回路に関するものである。
回路に関するものである。
各種のプログラマブル記憶素子は今日まで種々のものが
開発されてきたがその中でもトランジスタをベース、ェ
ミッタ間接合の暁付(短絡)の有無により記憶素子とし
て使う所諸接合破壊型P−ROMはニクロム等のヒュー
ズを要せず通常のバィポーラプロセスを適用出釆る点で
注目されている。
開発されてきたがその中でもトランジスタをベース、ェ
ミッタ間接合の暁付(短絡)の有無により記憶素子とし
て使う所諸接合破壊型P−ROMはニクロム等のヒュー
ズを要せず通常のバィポーラプロセスを適用出釆る点で
注目されている。
特にベース開放のトランジスタを記憶素子として用いる
方式はベース、コレクタ接合がそのまま記憶素子マトリ
クスアレイを構成した場合のデカツプル用ダイオードと
して使用する事が出来、且つコレクタは行方向に共通に
出来る為桁方向には絶縁を要しないので広く実用されて
いる。本発明は電流を流して書込む記憶素子について一
般的に適用出来るものであるが特に接合破壊型記憶素子
の様な大電流書込を要するものについて特に有効である
ので本発明の実施例を接合破壊素子との組合せでもつて
説明する事にする。接合破壊型の記憶素子を使ったもの
としては、プログラマブルROM及びプログラマフルロ
ジックアレィPLA等の市場に一般的に出ているものに
みられる様に書込電流は通常20仇hAとかなりの大電
流である。
方式はベース、コレクタ接合がそのまま記憶素子マトリ
クスアレイを構成した場合のデカツプル用ダイオードと
して使用する事が出来、且つコレクタは行方向に共通に
出来る為桁方向には絶縁を要しないので広く実用されて
いる。本発明は電流を流して書込む記憶素子について一
般的に適用出来るものであるが特に接合破壊型記憶素子
の様な大電流書込を要するものについて特に有効である
ので本発明の実施例を接合破壊素子との組合せでもつて
説明する事にする。接合破壊型の記憶素子を使ったもの
としては、プログラマブルROM及びプログラマフルロ
ジックアレィPLA等の市場に一般的に出ているものに
みられる様に書込電流は通常20仇hAとかなりの大電
流である。
これは通常の集積回路で扱う蟹流としては、はなはだ大
きなものであり、その為にこの様な大電流制御を可能と
するには書込電流路に低ィンピ−ダンス及び高耐圧素子
が要求されるので周辺回路の素子全般が大きくなり、従
ってべレットの小型化及び読出動作時の伝播遅延時間の
短縮化にとって大きな障害となっている。
きなものであり、その為にこの様な大電流制御を可能と
するには書込電流路に低ィンピ−ダンス及び高耐圧素子
が要求されるので周辺回路の素子全般が大きくなり、従
ってべレットの小型化及び読出動作時の伝播遅延時間の
短縮化にとって大きな障害となっている。
この問題に対する一方策としては、記憶素子を縮少する
事により、低ェネルギで書込める素子を開発して小電流
、低電圧書込を可能にし、その結果として周辺回路の素
子縮小化を計る方法が有る。
事により、低ェネルギで書込める素子を開発して小電流
、低電圧書込を可能にし、その結果として周辺回路の素
子縮小化を計る方法が有る。
しかしこの様にして製造した記憶素子は確かに書込電流
を小さく出釆るが、逆に20倣込程度の大きな電流を流
した場合には、マトリクスアレイを構成した時にデカッ
ブル用として残るべきコレクタ、ベース間のPN接合が
劣化もしくは破壊されて書込不能に至る恐れがある。
を小さく出釆るが、逆に20倣込程度の大きな電流を流
した場合には、マトリクスアレイを構成した時にデカッ
ブル用として残るべきコレクタ、ベース間のPN接合が
劣化もしくは破壊されて書込不能に至る恐れがある。
又、記憶素子及び周辺回路の縮小によって一般的には誓
込竃流路のインピーダンスが増加する為に、書込回路の
素子に過分な大電圧が加わり素子破壊さえも起こりうる
。
込竃流路のインピーダンスが増加する為に、書込回路の
素子に過分な大電圧が加わり素子破壊さえも起こりうる
。
従ってこの様な小電流で書込可能な記憶素子を安定に書
込む方法としてはPROMチップ外から書込器の調節に
より最適の電流を流し込み、最適の電圧クランプをかけ
てやれば問題ない事であるが、一方書込器とPROMと
の関連性を考えれば、PROMのプロセス変更の度に書
込器の書込電流及びクランプ電圧仕様を変更していたの
では、これまでの書込器間の互換性が全く矢なわれてし
まう事になる。本発明の目的は、従来からの書込仕様を
変更せずに、書込電流の小さな記憶素子に最適な電流を
供給してやり安定に書込める書込回路を有する集積回路
を提供する事にある。
込む方法としてはPROMチップ外から書込器の調節に
より最適の電流を流し込み、最適の電圧クランプをかけ
てやれば問題ない事であるが、一方書込器とPROMと
の関連性を考えれば、PROMのプロセス変更の度に書
込器の書込電流及びクランプ電圧仕様を変更していたの
では、これまでの書込器間の互換性が全く矢なわれてし
まう事になる。本発明の目的は、従来からの書込仕様を
変更せずに、書込電流の小さな記憶素子に最適な電流を
供給してやり安定に書込める書込回路を有する集積回路
を提供する事にある。
本発明の他の目的は、素子に必要な最少書込電流及び最
少クランプ電圧以上の任意の書込電流及び任意クランプ
電圧を有する書込器を使って、、何らの変更をせず書込
が可能なチップを提供する事にある。
少クランプ電圧以上の任意の書込電流及び任意クランプ
電圧を有する書込器を使って、、何らの変更をせず書込
が可能なチップを提供する事にある。
上記目的を達成する為に、本発明は従来の書込仕様によ
り大電流が書込器によりPROMチップに供給された時
、チップ内部の書込電流路に電流制限回路を設け、選択
された記憶素子には所望の電流だけ流れる様に設計し、
余分な電流は、更にチップ内に設けた定電圧クランプ回
路にバイパスさせる事によって、チップには過大な電圧
がかからない様にして記憶素子を最適な電流で安定に書
込出釆る様にしたことを特徴とする。
り大電流が書込器によりPROMチップに供給された時
、チップ内部の書込電流路に電流制限回路を設け、選択
された記憶素子には所望の電流だけ流れる様に設計し、
余分な電流は、更にチップ内に設けた定電圧クランプ回
路にバイパスさせる事によって、チップには過大な電圧
がかからない様にして記憶素子を最適な電流で安定に書
込出釆る様にしたことを特徴とする。
以下本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。
第1図は接合破壊型セルアレィを使用したプログラマプ
ルRONの周知の例である。n行xm行のセルアレィに
各々行選択回路と列選択回路を付けた簡単な回路例であ
り、本図を参照して書込動作を説明する。今、行選択回
路2により行線X,と列選択回路10により列線Y,が
選ばれているとすると、これら両緑間に配置しているセ
ルQ,.が選択状態となり、書込端子1から書込電流を
供給すると、その全部が列選択回路−Y,一Q,.−×
,一行選択回路2を順に通って流れ込みセルQ,.のェ
ミッタ、ベース接合が焼き付けられて、第2図aに示す
状態から第2図bの書込まれた状態に変わり、ベース、
コレクタ接合だけが残りセルアレイのデカップル用ダイ
オードとして使われる。ここでセルアレイQ,.〜Qn
mに低ェネルギで書込める記憶素子を適用し、書込器の
仕様に従って書込器のクランプ電圧2柵、書込電流20
仇 mAの大電流を供V給した場合、上記書込動作と同
様に書込まれるが、この様な低ェネルギで書込可能な様
に作られた記憶素子にとっては過分な電流であり、従っ
て前述の如くベース、コレクタ接合に劣化が生じたり、
あるいは書込インピーダンスの増加によってチップに過
大な電圧がかかるという様な弊害が生じてくる。以下図
面を参照して本発明の実施例を説明する。
ルRONの周知の例である。n行xm行のセルアレィに
各々行選択回路と列選択回路を付けた簡単な回路例であ
り、本図を参照して書込動作を説明する。今、行選択回
路2により行線X,と列選択回路10により列線Y,が
選ばれているとすると、これら両緑間に配置しているセ
ルQ,.が選択状態となり、書込端子1から書込電流を
供給すると、その全部が列選択回路−Y,一Q,.−×
,一行選択回路2を順に通って流れ込みセルQ,.のェ
ミッタ、ベース接合が焼き付けられて、第2図aに示す
状態から第2図bの書込まれた状態に変わり、ベース、
コレクタ接合だけが残りセルアレイのデカップル用ダイ
オードとして使われる。ここでセルアレイQ,.〜Qn
mに低ェネルギで書込める記憶素子を適用し、書込器の
仕様に従って書込器のクランプ電圧2柵、書込電流20
仇 mAの大電流を供V給した場合、上記書込動作と同
様に書込まれるが、この様な低ェネルギで書込可能な様
に作られた記憶素子にとっては過分な電流であり、従っ
て前述の如くベース、コレクタ接合に劣化が生じたり、
あるいは書込インピーダンスの増加によってチップに過
大な電圧がかかるという様な弊害が生じてくる。以下図
面を参照して本発明の実施例を説明する。
第3図は第1図の従釆回路の行選択回路2にフィードバ
ック用トランジスタQgと書込電流値検出用抵抗Rgに
より構成される電流制限回路を内蔵させ、且つ書込端子
子1に定電圧クランプ回路3を接続したものである。
ック用トランジスタQgと書込電流値検出用抵抗Rgに
より構成される電流制限回路を内蔵させ、且つ書込端子
子1に定電圧クランプ回路3を接続したものである。
今、前述書込動作の要領で書込素子1から書込器の仕様
に従って書込電流を供給すると、これが行選択回路10
中の唯一の○Nしているゲートから検出用抵抗Rgを通
して接地へ流れ込む際、Rgによる電位上昇分がフィー
ドバック用トランジスタのしきし、値に達するとQgが
活性状態になり、ONしているゲートをオフさせようと
するかが働き、それによってゲートに流れている電流を
減少させる方向に働くが、Rgに流れる電流が減少しよ
うとするので、Qgがカットオフする方向に力が働く。
このようにフィードバックループが構成される事により
、ゲートに流れ込む電流は一定値に落ちつき、これ以上
は吸収出来なくなる。
に従って書込電流を供給すると、これが行選択回路10
中の唯一の○Nしているゲートから検出用抵抗Rgを通
して接地へ流れ込む際、Rgによる電位上昇分がフィー
ドバック用トランジスタのしきし、値に達するとQgが
活性状態になり、ONしているゲートをオフさせようと
するかが働き、それによってゲートに流れている電流を
減少させる方向に働くが、Rgに流れる電流が減少しよ
うとするので、Qgがカットオフする方向に力が働く。
このようにフィードバックループが構成される事により
、ゲートに流れ込む電流は一定値に落ちつき、これ以上
は吸収出来なくなる。
従ってこのゲ−トの吸収能力が、たとえば5仇hAにな
る様にRgを設計し書込器から20仇hAを流したとす
れば、ゲート5倣いしか吸収してくれないからゲートの
出力電圧は急激に上昇を始め、それに追随して書込素子
1の電位は書込器で設定してあるクランプ電圧(たとえ
ば2欧)まで上昇しようとする。たゞし、このままクラ
ンプ電圧まで達するという事は、チップ内の素子が高耐
圧を要する事になるから書込電流を減らしかつ素子電圧
を減らして素子の縦少化を計るという目的が達成出釆な
くなる。この為に第4図の具体例に表わされる様な定電
圧クランプ回路3を追加する。本回路3は書込器によっ
て設定されたクランプ電圧、例えば2秤に対し、書込端
子1をこれ以下の電圧例えば2仇にクランプする役目を
する。本回路は書込端子1が任意の電圧VCに達した時
にQ,,Q2がONする様に適当にR,,R2の比を選
んでやれば急激にインピーダンスが下がり、定電圧Vc
にクランブする目的を果し、チップにかかる電圧をVc
以下に緩和する事が出来る。尚本回路図中ッェナーダイ
オードDEは書込端子1が謙出動作時の出力端子を兼用
する場合のデカッブル用としての役目を持っている。
る様にRgを設計し書込器から20仇hAを流したとす
れば、ゲート5倣いしか吸収してくれないからゲートの
出力電圧は急激に上昇を始め、それに追随して書込素子
1の電位は書込器で設定してあるクランプ電圧(たとえ
ば2欧)まで上昇しようとする。たゞし、このままクラ
ンプ電圧まで達するという事は、チップ内の素子が高耐
圧を要する事になるから書込電流を減らしかつ素子電圧
を減らして素子の縦少化を計るという目的が達成出釆な
くなる。この為に第4図の具体例に表わされる様な定電
圧クランプ回路3を追加する。本回路3は書込器によっ
て設定されたクランプ電圧、例えば2秤に対し、書込端
子1をこれ以下の電圧例えば2仇にクランプする役目を
する。本回路は書込端子1が任意の電圧VCに達した時
にQ,,Q2がONする様に適当にR,,R2の比を選
んでやれば急激にインピーダンスが下がり、定電圧Vc
にクランブする目的を果し、チップにかかる電圧をVc
以下に緩和する事が出来る。尚本回路図中ッェナーダイ
オードDEは書込端子1が謙出動作時の出力端子を兼用
する場合のデカッブル用としての役目を持っている。
第5図および第6図により本発明の第2の実施例を説明
する。
する。
本実施例の場合は、書込端子1と列選択回路10の間に
電流制限回路4を設けたものであり、定電圧クランプ回
路3は前記第1の実施例と同様に書込端子1に接続して
ある。
電流制限回路4を設けたものであり、定電圧クランプ回
路3は前記第1の実施例と同様に書込端子1に接続して
ある。
この電流制限回路4の動作を図を参照して説明する。書
込端子1から書込電流を供給すると電流はトランジスタ
Qのコレクタ、ェミッタ間をメインルートとして、抵抗
R4を通して列選択回路、選択された記憶素子Q,.行
選択へと流れ込むが、書込電流検出用抵抗R4の電位降
下がフィードバック用トランジスタQのしきし、値に達
するとQ4が活性状態となり、Qをカットオフさせよう
とする力が働き、、それによってQ3に流れている電流
を減少させる方向に働くが、そうすると検出用抵抗R4
に流れる電流が減少しようとするのでQ4が再びカット
オフ方向に力に働く。この様なフィードバックループに
よりQ3を流れる電流はほぼ一定値に落ち着き、この一
定値以上流そうとすると、抵抗R3によって書込端子1
の電圧は書込器によって設定されたクランプ電圧まで上
昇しようとするが、第1の実施例で説明したと同様の動
作で書込端子1の電圧は定電圧クランプ回路によってV
cにクランプされる。
込端子1から書込電流を供給すると電流はトランジスタ
Qのコレクタ、ェミッタ間をメインルートとして、抵抗
R4を通して列選択回路、選択された記憶素子Q,.行
選択へと流れ込むが、書込電流検出用抵抗R4の電位降
下がフィードバック用トランジスタQのしきし、値に達
するとQ4が活性状態となり、Qをカットオフさせよう
とする力が働き、、それによってQ3に流れている電流
を減少させる方向に働くが、そうすると検出用抵抗R4
に流れる電流が減少しようとするのでQ4が再びカット
オフ方向に力に働く。この様なフィードバックループに
よりQ3を流れる電流はほぼ一定値に落ち着き、この一
定値以上流そうとすると、抵抗R3によって書込端子1
の電圧は書込器によって設定されたクランプ電圧まで上
昇しようとするが、第1の実施例で説明したと同様の動
作で書込端子1の電圧は定電圧クランプ回路によってV
cにクランプされる。
本発明の第1,第2実施例共に書込端子1からの書込電
流路の直流的なインピーダンスは、仮に所望の足電流値
が5仇公となる様に電流値検出用抵抗欠gを設計すれば
、第7図に示すが如く書込電流路の内部インピーダンス
とRgの和である傾きで立ち上がり5肌Aの点で定電流
特性を示し、更にVcでクランプされる特性を示す。以
上説明したように本発明はPROMチップ内部に定電流
制限回路と定電圧制限回路を設ける事により、チップ外
部から書込電流として高電圧クランプの大電流を供給し
た場合でも上記制限回路でもつて適当に減衰し、低ェネ
ルギで書込可能な記憶素子に対して最適な電流で書込む
事が出来、かつ書込時の電圧を低く抑える事が出来るの
で、劣化、破壊等を起こさずに安定な書込を得る事が出
来る。
流路の直流的なインピーダンスは、仮に所望の足電流値
が5仇公となる様に電流値検出用抵抗欠gを設計すれば
、第7図に示すが如く書込電流路の内部インピーダンス
とRgの和である傾きで立ち上がり5肌Aの点で定電流
特性を示し、更にVcでクランプされる特性を示す。以
上説明したように本発明はPROMチップ内部に定電流
制限回路と定電圧制限回路を設ける事により、チップ外
部から書込電流として高電圧クランプの大電流を供給し
た場合でも上記制限回路でもつて適当に減衰し、低ェネ
ルギで書込可能な記憶素子に対して最適な電流で書込む
事が出来、かつ書込時の電圧を低く抑える事が出来るの
で、劣化、破壊等を起こさずに安定な書込を得る事が出
来る。
この様にプロセス等の改善により記憶素子及び周辺回路
の製造条件に変更があっても、書込仕様の変更ないこそ
の時々に応じた最適電流書込が出来、これによってPR
OMの高性能化を容易に実現出来るので本発明の効果は
甚大である。
の製造条件に変更があっても、書込仕様の変更ないこそ
の時々に応じた最適電流書込が出来、これによってPR
OMの高性能化を容易に実現出来るので本発明の効果は
甚大である。
第1図は従釆の集積回路を示す構成図、第2図は記憶素
子を示し、第2図aは書込前の第2図bは書込後の状態
を示す回路図、第3図および第4図は本発明の第一の実
施例を示す構成および回路図、第5図および第6図は本
発明の第2の実施例を示す構成図および回路図、第7図
は書込電流と書込電圧との関係を示す図である。 1・・・・・・書込端子、2・・・・・・行選択回路、
3・・・・・・定電圧クランプ回路、4・・・…電流制
限回路。 第/図第2図 第3図 第4図 弟づ図 舞ら図 第7図
子を示し、第2図aは書込前の第2図bは書込後の状態
を示す回路図、第3図および第4図は本発明の第一の実
施例を示す構成および回路図、第5図および第6図は本
発明の第2の実施例を示す構成図および回路図、第7図
は書込電流と書込電圧との関係を示す図である。 1・・・・・・書込端子、2・・・・・・行選択回路、
3・・・・・・定電圧クランプ回路、4・・・…電流制
限回路。 第/図第2図 第3図 第4図 弟づ図 舞ら図 第7図
Claims (1)
- 1 書込電流を流すことによって半永久的に書込可能な
固定記憶素子と、該記憶素子に書込電流を流し込む為の
書込回路とを含む集積回路に於いて、該書込回路に書込
電流制限回路を設けて記憶素子に流し込む電流を一定値
以下に制限するとともに該書込回路に電圧制限回路を設
けることによって電圧を一定値以下にクランプするよう
にしたことを特徴とする集積回路。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54071409A JPS606040B2 (ja) | 1979-06-07 | 1979-06-07 | 集積回路 |
US06/157,736 US4347586A (en) | 1979-06-07 | 1980-06-09 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54071409A JPS606040B2 (ja) | 1979-06-07 | 1979-06-07 | 集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55163689A JPS55163689A (en) | 1980-12-19 |
JPS606040B2 true JPS606040B2 (ja) | 1985-02-15 |
Family
ID=13459678
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54071409A Expired JPS606040B2 (ja) | 1979-06-07 | 1979-06-07 | 集積回路 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4347586A (ja) |
JP (1) | JPS606040B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5922295A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-02-04 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JPS6070597A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-22 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US4694429A (en) * | 1984-11-29 | 1987-09-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
FR2580444B1 (fr) * | 1985-04-16 | 1987-06-05 | Radiotechnique Compelec | Etage de commutation du type darlington notamment pour un decodeur de lignes d'une memoire |
JPS6214396A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-22 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JPH0736279B2 (ja) * | 1986-01-27 | 1995-04-19 | 日本電気株式会社 | バイポ−ラプログラマブル集積回路 |
US5070508A (en) * | 1986-05-07 | 1991-12-03 | General Electric Company | Semiconductor laser with adjustable light beam |
US5367208A (en) * | 1986-09-19 | 1994-11-22 | Actel Corporation | Reconfigurable programmable interconnect architecture |
US4859874A (en) * | 1987-09-25 | 1989-08-22 | Fairchild Semiconductor Corp. | PLA driver with reconfigurable drive |
US5299150A (en) * | 1989-01-10 | 1994-03-29 | Actel Corporation | Circuit for preventing false programming of anti-fuse elements |
JPH03250494A (ja) * | 1990-02-27 | 1991-11-08 | Ricoh Co Ltd | 半導体記憶装置 |
US5719065A (en) * | 1993-10-01 | 1998-02-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device with removable spacers |
US5596286A (en) * | 1993-11-12 | 1997-01-21 | Texas Instruments Incorporated | Current limiting devices to reduce leakage, photo, or stand-by current in an integrated circuit |
US5814529A (en) | 1995-01-17 | 1998-09-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for producing a semiconductor integrated circuit including a thin film transistor and a capacitor |
US5835419A (en) * | 1996-03-01 | 1998-11-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device with clamping circuit for preventing malfunction |
TW334581B (en) * | 1996-06-04 | 1998-06-21 | Handotai Energy Kenkyusho Kk | Semiconductor integrated circuit and fabrication method thereof |
US5909049A (en) * | 1997-02-11 | 1999-06-01 | Actel Corporation | Antifuse programmed PROM cell |
JP3989761B2 (ja) | 2002-04-09 | 2007-10-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体表示装置 |
US7038239B2 (en) | 2002-04-09 | 2006-05-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor element and display device using the same |
JP3989763B2 (ja) | 2002-04-15 | 2007-10-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体表示装置 |
US7411215B2 (en) | 2002-04-15 | 2008-08-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method of fabricating the same |
US7256421B2 (en) | 2002-05-17 | 2007-08-14 | Semiconductor Energy Laboratory, Co., Ltd. | Display device having a structure for preventing the deterioration of a light emitting device |
US6859408B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-02-22 | Micron Technology, Inc. | Current limiting antifuse programming path |
KR100924696B1 (ko) * | 2007-07-05 | 2009-11-03 | 삼성전자주식회사 | 하드디스크 드라이브의 기록밀도 향상방법 및 그 제어장치 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4272834A (en) * | 1978-10-06 | 1981-06-09 | Hitachi, Ltd. | Data line potential setting circuit and MIS memory circuit using the same |
-
1979
- 1979-06-07 JP JP54071409A patent/JPS606040B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-06-09 US US06/157,736 patent/US4347586A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55163689A (en) | 1980-12-19 |
US4347586A (en) | 1982-08-31 |
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