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JPS6056053A - シャドウマスク用素材 - Google Patents

シャドウマスク用素材

Info

Publication number
JPS6056053A
JPS6056053A JP16333183A JP16333183A JPS6056053A JP S6056053 A JPS6056053 A JP S6056053A JP 16333183 A JP16333183 A JP 16333183A JP 16333183 A JP16333183 A JP 16333183A JP S6056053 A JPS6056053 A JP S6056053A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
alloy
iron
etching
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP16333183A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6364514B2 (ja
Inventor
Susumu Kawauchi
川内　進
Masahiro Tsuji
正博 辻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Kogyo KK
Eneos Corp
Original Assignee
Nihon Kogyo KK
Nippon Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Kogyo KK, Nippon Mining Co Ltd filed Critical Nihon Kogyo KK
Priority to JP16333183A priority Critical patent/JPS6056053A/ja
Publication of JPS6056053A publication Critical patent/JPS6056053A/ja
Publication of JPS6364514B2 publication Critical patent/JPS6364514B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカラーテレビジラウン管のシャドウマスク素材
用鉄−ニッケル合金、特に、エツチング時のスジむらの
発生を抑制したシャドウマスク用鉄−ニッケル系合金に
関するものである。
カラーテレビブラウン管用シャドウマスク材としては一
般に軟鋼が知られている。カラーテレビブラウン管内で
は３個の電子銃から出る電子ビームがシャドウマスクに
あけた微小孔を通過して螢光スクリーン上の所定の一点
に精密に照射されて、特定の色調を与えるものである。
ところがこの様なブラウン管を連続使用すると、電子ビ
ームが照射されるガラス体に支持された螢光面やシャド
ウマスクの温度が次第に高くなっている。特にシャドウ
マスクは前記ガラス体に支持された螢光面に比べ相当高
温になシ。
しかもシャドウマスク材の方がガラス体に比べ熱膨張係
数がはるかに大きいため相互に位置ずれが起って電子ビ
ームの照射が正確に行なわれず２画鍛が不鮮明となる。
このためシャドウマスクの懸架装置となる支持体の構造
を工夫して、それを補償することも行なわれているが充
分でない。
したがってシャドウマスク材としてアンバーのような鉄
−ニッケル系合金の低熱膨張材料を用いることが提案さ
れた。
しかしながらこのような鉄−ニッケル系合金は画像の鮮
明度の点で好結果が得られるはずであったが、このシャ
ドウマスク素材からシャドウマスクを製造する工程でフ
ォトエツチング穿孔時に良好な孔形状が得られず、エツ
チングされたシャドウマスクを表面から目視観察すると
スジむらと称する欠陥が残ることが分った。とのスジむ
らについては、軟鋼の場合には鋼中の非金属介在物、あ
るいは炭火物（Ｆθ、０）がその原因であることが知ら
れている。（特開昭５５−６．２１２３　）　Ｌかし、
アンバーのような鉄−ニッケル系合金でおこるスジむら
はこれらの非金属介在物を減少させても消失せず、鉄−
ニッケル系合金固有の原因があると考えられ、この改善
が望まれていた。
本発明者らは、鉄−ニッケル系合金のスジむらについて
種々研究を行々つた結果、スジむらの原因はニッケルの
成分偏析でラシ、ニッケル偏析部と母材部とでエツチン
グ性に差があるため孔形状が悪くなっていることが判明
した。そしてこのスジむらの発生はニッケルが２０重量
−以上になると特に顕著になる。
本発明はかかる点Ｋｆｉみ、従来の鉄−ニッケル゛系合
金のもつエツチング時のスジむら発生という欠点を改良
し、エツチング時のスジむらの発生を抑制したシャドウ
マスク用鉄−ニッケル・系合金を提供しようとするもの
である。
本発明は１次式で表わされるニッケルの成分偏析率 が１０チ以下、単位体積中の偏析物を５容積１％−以下
、かつエツチング直前のシャドウマスク材中の偏析物の
１つの長さが５０ｗｍ以下であるエツチング時のスジむ
らの発生を抑制したシャドウマスク用鉄−ニッケル系合
金である。
次に本発明合金を構成するニッケル偏析物等の限定理由
を説明する。
を１０−以下とする理由はニッケルの成分偏析率が１０
−を超えると母材とのエツチング性の差が顕著釦なシス
ジムラの発生が顕著になる為である。偏析物が単位体積
中で５−以下とする理由は、偏析物が単位体積中で５チ
を超えるとスジむらの発生が顕著になる為である。偏析
物の１つの長さをエツチング前の材料で３０ｍ以下とす
る理由は偏析物の１つの長さが３０１１Ｉ＋を超えると
スジむらの発生が顕著になる為である。
このようにニッケルの偏析率、偏析物の分布状態、大き
さを厳密に管理することによシ、始めてエツチングのス
ジむらの発生を抑制でき。
しかも低熱膨張率であるこれらの材料の特性によ）画像
は一段と鮮明になる極めて優れた特長を有する。
これらの条件を満たすだめの製造方法としては、インゴ
ット製造時の偏析防止あるいは条製造工程中での熱処理
によるニッケルの拡散処理を行なうことによシ達成でき
る。
以下に本発明合金を実施例で説明する。
（実施例） 第１表に示される本発明合金のインゴットをエレクトロ
スラグ溶解炉あるいは真空脱ガス炉等で溶製後、１１５
０℃で熱間圧延し、厚さ５１１！１の板とした。ニッケ
ルの偏析物が多いものは適宜１１０（ＦＸ１時間以上の
熱処理を行ないニッケルの拡散処理を行々う。
次にこの板を通常の酸洗処理した後、冷間圧延で厚さ１
．０調とした。さらに６５′ｏ℃にて１時間の焼鈍を施
した後、冷間圧延で厚さ１１４５ｍの仮とした。この冷
間圧延材をさらに６５０℃にて１時間の焼鈍を施した後
、冷間圧延で厚さα１３烟の板とした。このように調整
された試料の評価として、実際のフォトエツチング穿孔
を行ないスジムラ発生の有無を調査した。この結果を比
較合金とともに第１表に示した。
第１表に示すごとく本発明に係る合金は従来の鉄−ニッ
ケル系合金にくらベエッチング時のスジムラの発生がな
く、シャドウマスク用素材とじて優れた合金であること
が明らかである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 次式で表わされるニッケルの成分偏析率が１０チ以下、
    単位体積中の偏析物が′５容積−以下、かつエツチング
    直前のシャドウマスク材中の偏析物の１つの長さが３（
    １ｍ以下であるエツチング時のスジむらの発生を抑制し
    たシャドウマスク用鉄−ニッケル系合金
JP16333183A 1983-09-07 1983-09-07 シャドウマスク用素材 Granted JPS6056053A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16333183A JPS6056053A (ja) 1983-09-07 1983-09-07 シャドウマスク用素材

Applications Claiming Priority (1)

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JP16333183A JPS6056053A (ja) 1983-09-07 1983-09-07 シャドウマスク用素材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6056053A true JPS6056053A (ja) 1985-04-01
JPS6364514B2 JPS6364514B2 (ja) 1988-12-12

Family

ID=15771821

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JP16333183A Granted JPS6056053A (ja) 1983-09-07 1983-09-07 シャドウマスク用素材

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