JPS6045127B2 - 硫酸銅の製造方法 - Google Patents
硫酸銅の製造方法Info
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- JPS6045127B2 JPS6045127B2 JP1549880A JP1549880A JPS6045127B2 JP S6045127 B2 JPS6045127 B2 JP S6045127B2 JP 1549880 A JP1549880 A JP 1549880A JP 1549880 A JP1549880 A JP 1549880A JP S6045127 B2 JPS6045127 B2 JP S6045127B2
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- copper sulfate
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Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は銅の電解精錬に於て、電解液から硫酸銅を製造
する方法の改良に係り、特に蒸気原単位を低くした硫酸
銅の製造方法に関するものである。
する方法の改良に係り、特に蒸気原単位を低くした硫酸
銅の製造方法に関するものである。
銅の電解精錬における電解液はCu濃度40〜45y/
l遊離硫酸濃度180〜200ダ/l程度が適当である
とされているが、酸化銅の化学的な溶出により、Clf
l農度は電解操業中徐々に上昇していく。
l遊離硫酸濃度180〜200ダ/l程度が適当である
とされているが、酸化銅の化学的な溶出により、Clf
l農度は電解操業中徐々に上昇していく。
このCu濃度を適正な水準に保つため、通常は鉛をアノ
ードとした析出槽でCuの電解採取を行なうか、又は電
解液の一部を抜出して硫酸銅の結晶として採取し脱銅を
行なつている。この際硫酸銅の製造は通常電解液の一部
を抜出し加熱して蒸発濃縮後、冷却晶出させる方法で行
なわれており、給液される電解液中のCu濃度が高く、
硫酸濃度が低いほど、蒸気原単位が低くなることは衆知
の通りである。
ードとした析出槽でCuの電解採取を行なうか、又は電
解液の一部を抜出して硫酸銅の結晶として採取し脱銅を
行なつている。この際硫酸銅の製造は通常電解液の一部
を抜出し加熱して蒸発濃縮後、冷却晶出させる方法で行
なわれており、給液される電解液中のCu濃度が高く、
硫酸濃度が低いほど、蒸気原単位が低くなることは衆知
の通りである。
然るに電解精錬洛中のCu濃度及び硫酸濃度は、液の深
さにより夫々逆の勾配をなしており、その傾斜勾配は操
業条件によつて異なるが、銅濃度は下部程高く遊離硫酸
は反対に液上面に於て高くなることが判明した。本発明
者はこの点に着目し、電解液から硫酸銅を製造する場合
、この電解槽底のCu濃度が高く、かつ遊離硫酸濃度の
低い部分の液を原料として使用することにより、濃縮の
ためのエネルギーの節約に大きく寄与することを確認し
た。
さにより夫々逆の勾配をなしており、その傾斜勾配は操
業条件によつて異なるが、銅濃度は下部程高く遊離硫酸
は反対に液上面に於て高くなることが判明した。本発明
者はこの点に着目し、電解液から硫酸銅を製造する場合
、この電解槽底のCu濃度が高く、かつ遊離硫酸濃度の
低い部分の液を原料として使用することにより、濃縮の
ためのエネルギーの節約に大きく寄与することを確認し
た。
しかし電解槽の液循環の出口として、全量槽下底から抜
き出す方法は、継続操業中に次第にCu濃度が下り、液
入口濃度にほぼ等しい新たな平衡値に達して安定し、上
記の効果が得られない。そこで本発明では、硫酸銅の結
晶製造に必要な液量のみを出口側下底から抜き出し、そ
れ以外の環流に必要な液は、従来通り上部のCu濃度の
低い部分から溢流して抜き出すことにより、頭書の一目
的を達することが出来る。
き出す方法は、継続操業中に次第にCu濃度が下り、液
入口濃度にほぼ等しい新たな平衡値に達して安定し、上
記の効果が得られない。そこで本発明では、硫酸銅の結
晶製造に必要な液量のみを出口側下底から抜き出し、そ
れ以外の環流に必要な液は、従来通り上部のCu濃度の
低い部分から溢流して抜き出すことにより、頭書の一目
的を達することが出来る。
即ち、図に於て電解槽1の電解液入口2の対向壁に設け
た溢流出口3の壁面に近接した槽底部に、抜き出口4を
設け、硫酸銅製造のための原液を抜き出口4を設け、硫
酸銅製造のための原液を抜き出すこととした。
た溢流出口3の壁面に近接した槽底部に、抜き出口4を
設け、硫酸銅製造のための原液を抜き出口4を設け、硫
酸銅製造のための原液を抜き出すこととした。
液の抜き出し量は、下部抜き出口4からは硫酸銅結晶を
製造するに要する量とし、電解条件として必要な環流量
との不足分を、上部溢流出口3から抜き出すこととなる
。この様に出口側の少くとも2ケ所から液を取り出すこ
とが必要である。しかし設備や工場内のスペースの関係
で、2ケ所以上の取出しが不利な場合は、従来通り電解
槽からの取り出しは1ケ所から行なつた上、第2図の如
く別に上下部に夫々抜き口をもつた保持タンク5設け適
当時間滞品させた上Cu濃度の高くなつた下部抜出口6
からCUSO4結晶製造用原液を抜き出し、上部口7か
らの比較的稀薄液を循環させることでも目的を達するこ
とができる。
製造するに要する量とし、電解条件として必要な環流量
との不足分を、上部溢流出口3から抜き出すこととなる
。この様に出口側の少くとも2ケ所から液を取り出すこ
とが必要である。しかし設備や工場内のスペースの関係
で、2ケ所以上の取出しが不利な場合は、従来通り電解
槽からの取り出しは1ケ所から行なつた上、第2図の如
く別に上下部に夫々抜き口をもつた保持タンク5設け適
当時間滞品させた上Cu濃度の高くなつた下部抜出口6
からCUSO4結晶製造用原液を抜き出し、上部口7か
らの比較的稀薄液を循環させることでも目的を達するこ
とができる。
通常連続的に環流しつつ電解を行なつている場合は、給
液と排液はCu濃度、遊離硫酸濃度共ほぼ等しいが、電
解槽内の濃度分布は異なり、その程度は操業条件により
変動する。
液と排液はCu濃度、遊離硫酸濃度共ほぼ等しいが、電
解槽内の濃度分布は異なり、その程度は操業条件により
変動する。
例えば、Cu濃度が45y/e遊離硫酸濃度が210y
/eの電解液を25e/Minで給液し、対向壁上部か
ら溢流させ2て電解を行なうと、溢流液は給液濃度とほ
ぼ同一であるが、出口部分の槽底では、CU52〜54
f/′、遊離11,S04194〜196y/′とかな
りの濃度差を生じ、この槽底部の液を取り出してCUS
O4を製造すると、濃縮のためのエネルギーコストを大
2巾に節減しうるので、工業上、多大な効果が得られる
。また、必要があれば、電解槽から抜き出した硫酸銅製
造原液を、さらに別の濃縮タンクに供給して濃縮するこ
とにより、本発明の効果を最大に発3揮することができ
る。
/eの電解液を25e/Minで給液し、対向壁上部か
ら溢流させ2て電解を行なうと、溢流液は給液濃度とほ
ぼ同一であるが、出口部分の槽底では、CU52〜54
f/′、遊離11,S04194〜196y/′とかな
りの濃度差を生じ、この槽底部の液を取り出してCUS
O4を製造すると、濃縮のためのエネルギーコストを大
2巾に節減しうるので、工業上、多大な効果が得られる
。また、必要があれば、電解槽から抜き出した硫酸銅製
造原液を、さらに別の濃縮タンクに供給して濃縮するこ
とにより、本発明の効果を最大に発3揮することができ
る。
実施例
(1)1200×4800×1300Tfnの銅電解槽
のたて方向一端下部からCU45f/′、遊離H2sO
4l76g/eの電解液を25′/Minで供給し、対
向する他端3下部からCUSO4製造原液として5f/
Min上部から一般循環用として241/Minを流出
させたが、この場合の抜出口の組成は次の通り。
のたて方向一端下部からCU45f/′、遊離H2sO
4l76g/eの電解液を25′/Minで供給し、対
向する他端3下部からCUSO4製造原液として5f/
Min上部から一般循環用として241/Minを流出
させたが、この場合の抜出口の組成は次の通り。
同一条件での全量上部抜液したものは、
CU45.5f/e1遊離硫酸174yとなり、この液
濃度の差により、CUSO4の給晶製造に要するエネル
ギー節約量は20%であつた。
濃度の差により、CUSO4の給晶製造に要するエネル
ギー節約量は20%であつた。
2)直径0.6m高さ10mの柱型タンクの中間より、
電解液30e/Minを供給し、タンク上部から25.
e/Minを溢流させて電解槽に返還し、一方タンク底
部よりは5e/Minを抜き出して硫酸銅製造工程に供
給し、硫酸銅の製造を行なつた。
電解液30e/Minを供給し、タンク上部から25.
e/Minを溢流させて電解槽に返還し、一方タンク底
部よりは5e/Minを抜き出して硫酸銅製造工程に供
給し、硫酸銅の製造を行なつた。
この工程での各液濃度は次のとおりであつた。
この結果硫酸銅容液の蒸発に要する蒸気原単位は4.8
T/CUSO4T(タンク保温した場合)であり、従来
法の蒸気原単位6T/Tに対して20%も低い蒸気原単
位で硫酸銅を製造することができた。
T/CUSO4T(タンク保温した場合)であり、従来
法の蒸気原単位6T/Tに対して20%も低い蒸気原単
位で硫酸銅を製造することができた。
第1図は、本発明によつてなる硫酸銅の製造に1]いる
電解槽の断面図であり、第2図は硫酸銅のl造工程図で
ある。 1は電解槽、2は電解液入口、3は溢流出口、:は抜き
出口、5は保持タンク、6は下部抜口、″は上部口。
電解槽の断面図であり、第2図は硫酸銅のl造工程図で
ある。 1は電解槽、2は電解液入口、3は溢流出口、:は抜き
出口、5は保持タンク、6は下部抜口、″は上部口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 銅電解精製に於ける電解液から硫酸銅を製造するに
際し、硫酸銅製造に必要な熱エネルギーを節約するため
に電解液の循環工程中で、所定の滞留時間を経て自動的
に銅濃度勾配を生ぜしめ、低濃度液のみを循環し、該銅
濃度の高い液を硫酸銅の製造原液として使用することを
特徴とする硫酸銅の製造方法。 2 濃度勾配を与える滞留容器として、電解槽を利用し
、上部からの通常の環流排液を抜き出すと同時に、下部
から硫酸銅製造原液を抜き出すことを特徴とした特許請
求の範囲1記載の硫酸銅の製造方法。 3 電解液の循環工程中に貯槽を設け、上部から環流液
を抜き出し、下底部から硫酸銅原液をとりだすことを特
徴とした特許請求の範囲1記載の硫酸銅の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1549880A JPS6045127B2 (ja) | 1980-02-13 | 1980-02-13 | 硫酸銅の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1549880A JPS6045127B2 (ja) | 1980-02-13 | 1980-02-13 | 硫酸銅の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56114826A JPS56114826A (en) | 1981-09-09 |
JPS6045127B2 true JPS6045127B2 (ja) | 1985-10-08 |
Family
ID=11890465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1549880A Expired JPS6045127B2 (ja) | 1980-02-13 | 1980-02-13 | 硫酸銅の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6045127B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020128579A (ja) * | 2019-02-08 | 2020-08-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 電解精製における電解液の排液方法 |
-
1980
- 1980-02-13 JP JP1549880A patent/JPS6045127B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020128579A (ja) * | 2019-02-08 | 2020-08-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 電解精製における電解液の排液方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56114826A (en) | 1981-09-09 |
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