JPS6037099B2 - 新規ピラゾ−ル誘導体及びその製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式１： 〔式中ｎは１，２又は３を表わし、Ｒ，は水素又は塩素
原子、ァミノ基、メトキシ基又はニトロ基を表わし、Ｒ
２は水素を表わし、Ｒ３は水素、塩素又は弗素原子又は
メチル基を表わし、Ｒ４は水素又は塩素原子を表わす、
Ｘはシアノカルポニル基、アミノカルボニル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、カルボキシル基もしくはその生
理的に必配のない塩を表わす〕の新規ピラゾール誘導体
に関する。

低級アルコキシカルボニル基とは、とくに１〜６の炭素
原子を有する低級アルコキシ基（例えばメトキシ基、ェ
トキシ基、プロピルオキシ基、ィソプロピルオキシ基、
ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ベンチルオキシ
基もしくはヒドロキシルオキシ基）から議導される基を
表わす。

生理的に必配のない塩とは、例えばアルカリ−もしくは
アルカル士類金属塩、例えばナトリウム塩、リチウム塩
、カルシウム塩もしくはマグネシウム塩、鋼塩もしくは
アミン塩、例えばＮーメチルグルカミン塩、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルグルカミン塩、エタノールアミン塩、ジェタノー
ルアミン塩もしくはモルホリン塩を表わす。アルキル基
Ｒ．、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４とはとくに炭素原子数１〜４
の基、例えばエチル基、ブロピル基、イソプロピル基、
プチル基、ｔープチル基もしくはことにメチル基を表わ
す。

アルコキシ基衣，、Ｒ２、Ｒ３又はＲ４とは、とくにア
ルコキシ基中に１〜４個の炭素原子を有する基を表わす
。

適当なアルコキシ基は例えばェトキシ基、プロピルオキ
シ基、ブチルオキシ基又はことにメトキシ基である。さ
らに、本発明は新規ピラゾール譲導体の製造法に関し、
該方法は、自体公知の方法でａ 一般式ロ： 〔式中Ｒ．，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４及びｎは上記のものを表
わし、Ｙはハロゲン原子を表わす〕のピラゾール誘導体
をアルカリ金属シアン化物と反応させ、得られるシアン
化物を鹸化し、形成したカルボン酸をその塩に変え、必
要に応じ存在するニトロ基をアミノ基に還元するか又は
生成物が低級カルボン酸である場合にはェステル化して
その低級アルキルェステルに変えるか、もしくはｂ 一
般式ｍ： 〔式中Ｒ，，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，ｎ及びＹは上記のもの
を表わす〕のピラゾール誘導体を、脱プロトン剤の存在
でマロン酸ジアルキルヱステルと反応させ、得られる反
応生成物を鹸化し、脱炭酸し、形成したカルポン酸をそ
の塩に変え、必要に応じニトロ基をアミ／基に還元する
かまたは生成物がカルボン酸である場合にはェステル化
してその低級アルキルェステルにするか、又はｃ 一般
式Ｗ： 〔式中Ｒ，，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４及びｎは上記のものを表
わす〕のピラゾール誘導体を、ジアゾメタンと反応させ
、形成せるジアゾケトンを水、アンモニアもしくは低級
アルコールの存在で転位させ、必要に応じ存在するニト
ロ基を還元し、ェステル基を鹸化するかもしくはアミド
基を脱水することを特徴とする。

ａ 法による本発明方法は、通常ハロゲン原子をシァノ
基と交換するために使用される条件下で実施することが
できる。

この方法には、一般式０の出発化合物としてとくに、置
換分Ｙとして塩素、臭素又は沃素原子を有するような化
合物が使用される。

この反応はとくに双極性、非プロトン溶媒（例えばジメ
チルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド
もしくはへキサメチル燐酸トリアミド）中で実施される
。

アルカリ金属シアン化物としては、この反応にはとくに
シアン化ナトリウムもしくはシアン化カリウムが使用さ
れる。この反応においては、反応をクローネンェーテル
（Ｋｒｏｎｅｎ−ａ″ｔｈｅｒ）の存在で実施すれば、
反応速度を著しく促進することができる。

ｂ 法による本発明方法は、自体公知の方法で、マロン
酸ジアルキルェステル（例えばマロン酸ジメチルェステ
ル又はマロン酸ジェチルェステル）を不活性溶媒中で脱
プロトン化剤と反応させ、次いで一般式ｍのピラゾール
誘導体（とくにクロリド、ブロミド又はョージド）と反
応させることにより実施される。この反応に対する不活
性溶媒としては例えば炭化水素（例えばベンゾール、キ
シロール又はトルオール）もし〈はエーテル（例えばジ
オキサン、テトラヒドロフラン又はグリコールジメチル
ェーテル）が適当である。

この反応には脱ブロトン化剤としてアルカリ金属アルコ
レート（例えばナトリウムメチレート又はカリウム−ｔ
ープチレート）、アルカリ金属水素化物（例えばナトリ
ウムヒドリド又はカリウムヒドリド）、アルカリ金属ア
ミド（例えばナトリウムアミド又はカリウムアミド）も
しくはタリウムアルキル化合物（例えばタリウムェチレ
ート）が使用される。反応を行なつ、た後、形成したェ
ステルを自体公知の方法で鹸化し（例えば水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム
又は重炭酸カリウムのような塩基と、水の存在で反応さ
せることによって）、加熱することによって脱炭酸する
。

脱炭酸は溶媒の不在でもしくは高沸点溶媒（例えばキシ
ロール、クロルベンゾール又はデカリン）の存在で実施
することができる。ｃ 法による本発明方法は、普通ァ
ルントーアィシュテルト合成の際に使用される条件下で
実施される。それで、一般式Ｗの化合物（適当なカルボ
ン酸と塩化チオニル、オキシ塩化燐もしくは五塩化燐の
ような塩素化剤との反応によって製造）をジアゾメタン
のエーテル溶液と反応させ、形成したジアゾケトンを水
、低級アルコール又はアンモニア溶液中でコロイド状銅
、銀の存在で酸化銀もしくは硝酸銀と反応させて、一股
式１の酸、酸アミドもしくは酸ェステルを得ることがで
きる。一般式１のシアノ化合物を場合により引続き加水
分解するのは、同様に当業者に周知のような条件下で行
なわれる。

それで、ニトリルを例えば強鍵酸（例えば塩化水素もし
くは硫酸）を用いて部分的に加水分解して相応するアミ
ドを得るか又は厳しい条件下で完全に加水分解して相応
するカルポン酸を得ることができる。場合により引続き
カルボン酸を相応するアミド又はニトリルに変えるのは
、同機に周知作業法を用いて行なわれる。

所望の場合の手段として引続きニトリルに変えるのは、
例えば、相応するアミノカルポニル化合物に公知条件下
に脱水剤、例えばジンクロヘキシルカルボジイミド、カ
ルボニルジイミダゾール、ポリ燐酸、塩化チオニル又は
オキシ塩化燐を作用させる方法で行なわれる。

場合により引続き遊離酸をェステル化するのは同様に自
体公知の作業方法に従って行なわれる。

それで、酸を例えばジアゾメタンもしくはジアゾェタン
と反応させることができ、相応すすメチル−又はエチル
エーテルが得られる。一般に使用しうる方法は、カルボ
ニルジィミダゾールもしくはジシクロヘキシルカルボジ
ィミドの存在で酸とアルコールとの反応である。さらに
例えば、酸を酸化第一銅もしくは酸化銀の存在でハロゲ
ン化アルキルと反応させることもできる。

もう１つの方法は、遊離酸を適当なジメチルホルムアミ
ドアルキルアセタールを用いて相応する酸アルキルェス
テルに変えることよりなる。

さらに、酸を塩化水素、硫酸、過塩素酸、トリフルオロ
メチルスルホン酸もしくはｐートルオールスルホン酸の
ような強酸性触媒の存在でアルコールもしくはアルコー
ルの低級アルカンカルボン酸ェステルと反応させること
ができる。また、カルボン酸を酸塩化物もしくは混合酸
無水物に変え、これをピリジン、コリジン、ルチジン、
もしくは４ージメチルアミノピリジンのような塩基性触
媒の存在でアルコールと反応させることもできる。

カルボン酸の塩は、例えば塩基性触媒を用いェステルを
鹸化する場合もしくは酸を生理的に必配のない塩基で中
和する場合に生じる。

本発明方法を用いると、例えば一般式１の次のピラゾー
ル誘導体をつくることができる。

（１，４−ジフェニル−３ーピラゾリル）−酢酸３−（
１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル）−ブロピオン酸
４一（１，４−ジフエニルー３ーピラゾリル）−酪酸５
−（１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル）−吉草酸及
びそれらのアミド、ニトリル、ナトリウム塩、メチルエ
ステル、エチ／レエステル、フ。

ロピルエステル及びブチルェステルｏ一般式１の新規ピ
ラゾール誘導体は、ことに顕著な抗炎症作用を有し、良
好な胃忍容性を示しかつ比較的僅かな毒性しか有しない
ことによりすぐれている薬理作用のある物質である。

さらに、これらの化合物はいまいま急速な作用開始、高
い作用の強さ及び長い作用期間によってすぐれており、
有利な吸収性乃びガレヌス調剤においては比較的良好な
安定性を有する。一般式１のピラゾ−ル誘導体は、身体
中で公知の抗炎症作用ある化合物とは異なる方法で代謝
作用を行なう。

新規化合物は、ガレヌス医学において常用の基剤と組合
せて例えばａ 局所：接触性皮膚炎、種々の種類の湿疹
、神経皮膚炎、紅皮症、第一級の火傷、外陰掻漣症、酒
査皮鼻、紅斑性狼魔、乾癖、扇平及び沫状紅色苔癖：ｂ
経口：急性及び慢性の多発性関節炎、神経性皮膚炎、
気管枝端息、枯草熱等。

医薬の製造は常法で、作用物質を適当な添加物、基材物
質及び味覚矯正剤とともに錠剤、糠衣錠、カプセル、溶
液、軟膏、吸入剤その他に変えることによって行なわれ
る。

経口適用には、ことに例えば作用物質１〜２５０の９及
び薬理作用のない基剤、例えば乳糖、アミロース、夕ル
ク、ゼラチン、ステアリン酸マグネシウム等、ならびに
常用の添加物を含有する錠剤、糠衣錠及びカプセルが適
当である。

局所適用には、とくに作用物質０．０１〜２％を含有す
る粉末剤、軟膏、ヱーロゾル及び類依の剤型が適当であ
る。従来未知の一般式０及びｍの出発化合物は、相応す
るカルボン酸ヱステルから、これを例えばリチウムアル
ミニウムヒドリドを用いて相応するカルビノールに還元
し、そのヒドロキシ基をハロゲンと交換することによっ
てつくることができ、これを次に３−フロムメチルー１
，４ージフェニルーピラゾールの合成例につき説明する
：ａ エタノールを含まない無水クロロホルム３５の【
中のＱ−モルホリノスチロール５．６７夕に、室温で順
次にトリェチルアミン３夕、エタノールを含まない無水
クロロホルム２０必中の（２ークロル−２−フェニルヒ
ドラゾ／）−酢酸エチルェステル６．７８夕を加える。

反応混合物を４０ｑｏで１時間室温で１曲時間燈拝し、
稀塩酸、稀炭酸ナトリウム溶液及び水で洗浄し、乾燥し
、真空中で濃縮する。残澄をへキサンで浸出し、エタノ
ール・ヘキサンから再結晶し、融点１３０〜１３１℃の
４ーモルホリノー３−フエニルー２ーフエニルヒドラゾ
ノ−３−ブテン酸エチルェステル７．３夕を得る。

ｂ ４ーモルホリノー３ーフエニルー２ーフエニルヒド
ラゾノ−３−ブテン酸エチルェステル３３夕をジオキサ
ン３３０の‘及びか一塩酸１００の【を加え、４８分間
還流下に加熱する。

次いで、反応混合物を真空中で濃縮し、残糟をクロロホ
ルムに溶かし、クロロホルム溶液を洗浄し、乾燥し、真
空中で濃縮する。残澄をエタノール・ヘキサンから再結
晶し、融点１０３〜１０４ｏｏの１，４ジフェニルーピ
ラゾールー３−カルボン酸エチルェステル２１．１５夕
を得る。ｃ 無水テトラヒドロフラン１００必中のリチ
ウムアルミニウムヒドリド４．６３夕に窒素下に０℃で
、無水テトラヒドラフラン８０必中の１，４−ジフェニ
ルーピラゾールー３−カルボン酸エチルェステル１７．
２夕の溶液を滴奴する。

反応混合物をなお３０分間鷹拝し、塩化ナトＩＪゥムの
飽和水溶液４０Ｍを加え、稀塩酸で酸性にし、エーテル
で抽出する。

有機相を濃縮し、ヘキサンで浸出し、融点１０４〜ｌ０
５ｑｏの３ーヒドロキシメチルー１，４ジフェニルーピ
ラゾール粗生成物１４．６５夕を得る。ｄ ３−ヒドロ
キシメチル−１，４−ジフエニルーピラゾール粗生成牧
１３．２のこ６３％の臭化水素酸１３０の上を加え、４
時間９０００に加熱する。

次いで反応混合物を真空中で濃縮し、残笹をトルオール
に数回とり、真空中で濃縮することにより過剰の臭化水
素を除去する。残澄をィソプロパノールから再結晶し、
融点９９ｏ○の３ーブロムメチルー１，４ージフエニル
ーピラゾール１０．８夕を得る。

下記の例は本発明方法を説明するのに役立つものである
。

例１ ａ ３−フロムメチルー１，４ジフエニルピラゾール２
．８１夕を無水アセトニトリル３０叫中でシアン化カリ
ウム１．１７夕及びジベンゾー１８ークローネー６３０
０雌とともに４０００で１加持間燈梓する。

次に反応混合物を真空中で濃縮し、水を加え塩化メチレ
ンで抽出し、有機相を洗浄し、乾燥し、真空中で濃縮す
る。粗生成物として（１，４−ジフェニル−３ーピラゾ
リル）−アセトニトリル２．６夕を得る。

ｂ（１，４ージフエニルー３ーピラゾリル）ーアセトニ
トリル相生成物２．６夕を、５０℃の反応温度で濃塩酸
２０の‘とともに１時間損拝する。次に、反応混合物を
水で稀釈し、メチルィソブチルケトンで抽出し、有機相
を洗浄し、真空中で濃縮し、粗生成物として（（１，４
ージフェニルー３−ピラゾリル）ーアセトアミド２．３
夕を得る。ｃ（１，４ージフエニルー３ーピラゾリル）
−アセトアミド組生成物２．３夕を１０％の苛性ソーダ
水溶液４０のとともにアルゴン下に３び分間還流下に加
熱する。

次に、反応混合物を氷裕中に冷却し、幼−塩酸で酸性に
し、塩化メチレンで抽出し塩化メチレン相を洗浄し、乾
燥し、真空中で濃縮する。

得られる粗生成物をトルオールから再結晶し、融点１３
１〜１３３℃の（１，４ージフェニル−３−ピラゾリル
）酢酸１．２５夕を得る。

例２ ａ（１，４ージフエニル−３−ピラゾリル）ーアセトニ
トリル組生成物（例ｌａにより製造）２．６夕と８０％
の硫酸１５私の混合物を１２０００に加熱し、この温度
で２時間渡洋する。

次に反応混合物を氷水中へ注ぎ、塩化メチレンで抽出し
、塩化メチレン相を洗浄し、乾燥し、真空中で濃縮する
。残澄と炭酸ナトリウムの５％水溶液に溶かし、１０％
の塩酸で沈澱させ、炉取し、洗浄し、真空中で６０００
で乾燥する。

次いでトルオールから再結晶し、融点１３１〜１３３０
０の（１，４−ジフェニル−３−ピラゾリル）−酢酸１
．６夕を得る。ｂ（１，４−ジフエニルー３ーピラゾリ
ル）−酢酸２００双９を無水エタノール１０凧‘に溶か
し、溶液に０．１ｎ−苛性ソーダ７．６の‘を加え、真
空中で濃縮する。

残澄をもう１度無水エタノールｌｏｗ‘にとり、再び真
空中で濃縮する。

こうして得た粗生成物を少量の無水エタノールに溶かし
、溶液に無水のジェチルェーテルを加え、無定形粉末と
して（１，４ージフェニルー３ーピラゾリル）−酢酸ナ
トリウムを得る。例３ ａ 無水ベンゾール１２０地中のタリウムェチレート５
．６夕の溶液に順次にマロン酸ジェチルェステル３．８
４夕及び３−フロムメチルー１，４一ジフェニルピラゾ
ール４．７夕を加え、混合物を室温で１印時間燈梓する
。

次に反応混合物をジヱチルェーテルで稀釈し、氷水１０
０の‘を加える。有機相を分離し、洗浄し、乾燥し、真
空中で濃縮する。こうして粗生成物として２−（１，４
−ジフエニルー３−ピラゾリルーメチル）マロン酸ジェ
チルェステル５．３夕を得る。ｂ こうして得た２一（
１，４−ジフヱニル−３−ピラゾリルーメチル）ーマロ
ン酸ジェチルェステル粗生成物６．９夕に、水酸化ナト
リウム（水３０奴に溶解）２．７夕及びジオキサン３０
の‘を加え、３時間還流下に加熱する。

次いで反応混合物を真空中で十分に濃縮し、残澄を水１
００の，‘で稀釈し、ジェチルェーテルで抽出し、水相
を濃塩酸でＰＨＩになるまで酸性にし、分離した油状粗
生成物を単離する。

こうして得た粗生成物をジヱチルェーテルに溶かし、水
で洗浄し、乾燥し、真空中で濃縮する。

こうして、融点１７が○の２一（１，４−ジフェニルー
３ーピラゾリルーメチル）−マロン酸４．２５夕を得た
。

ｃ ２−（１，４−ジフエニルー３−ピラゾリルメチル
）マロン酸４．１夕を徐々に２００ｑｏに加熱する。

反応温度をなお２０分間２００ｑｏに保ち、冷却し、得
られる生成物をトルオールから再結晶し、融点１２８〜
１２９℃の３−（１，４ージフヱニルー３−ピラゾリル
）−プロピオン酸２．９夕を得る。ｄ ３一（１，４ー
ジフヱニル−３−ピラゾリル）−プロピオン酸２００の
９を、例批の条件下で無定形の３−（１，４ージフェニ
ル−３ーピラゾリル）−プロピオン酸ナトリウムに変え
る。

例４ａ ３一（１，４ージフエニル−３−ピラゾリル）
−プロピオン酸２．７のこ亜麻仁油を介して蒸溜した塩
化チオニル１０の‘を加え、混合物を２時間還流下に加
熱する。

次いで反応混合物を真空中で濃縮し、残澄に無水ベンゾ
ール２５叫を加え、再び真空中で濃縮し、粗生成物とし
て３一（１，４ージフエニル−３−ピラゾリル）−プロ
ピオニルクロリド２．６夕を得る。ｂ ３−（１，４ー
ジフエニルー３ーピラゾリル）−プロピオニルクロリド
粗生成物５０雌に無水ベンゾール５の‘及びエタノール
５泌を加える。

混合物中ヘビリジン０．２泌を滴加し、混合物を室温で
１母時間放置し、ベンゾール２０の【で稀釈し、反応混
合物を水、稀塩酸及び水で洗浄し、乾燥し、真空中で濃
縮する。残澄をァセトン・ヘキサンから再結晶し、融点
９５．５〜９８．５℃の３−（１，４−ジフエニルー３
−ピラゾリル）−プロピオン酸エチルェステル３８の９
を得る。例５ ａ 無水エーテル２０の‘中の３−（１，４−ジフェニ
ルー３−ピラゾリル）ープロピオニルクロリド相生成物
１．９のこ、ジアゾメタン溶液のエーテル溶液（ニトロ
ソメチル尿素３．５夕、無水エーテル５０の【及び５０
％の苛性カリ溶液１１の‘から製造）を加え、室温で４
時間放置する。

次いで反応混合物を真空中で濃縮し、エタノール４０の
‘を加え、６０ｑｏに加熱し、新しく調製した酸化銀０
．２夕を加え、窒素の発生が止むまで加熱する。

次いで反応混合物を活性炭で澄明にし、炉過し、真空中
で濃縮し、粗生成物として４−（１，４ージフェニル−
３ーピラゾリル）−酪酸エチルェステル１．７夕を得る
。

ｂ ４一（１，４ージフエニル−３−ピラゾリル）−酪
酸エチルェステル１．７夕をエタノール２０の上に溶か
し、１０％の苛性ソーダ溶液５の‘を加え、２時間還流
下に加熱する。

次いでエタノールを真空中で除去し、水１０のとで稀釈
し、塩酸でＰＨＩの酸性にし、沈澱した生成物を炉取す
る。得られる粗生成物を水で洗浄し、真空中で６０℃で
乾燥し、トルオールから再結晶し、融点ｌｏ７〜１０９
ｑ○の４−（１．４ージフエニルー３ーピラゾリル）−
酪酸１．０５夕を得る。例６ ａ 水４０地中の亜硝酸ナトリウム１５．２夕の溶液を
、０℃に冷却したＰ−トルィジン２１．４夕及び７．５
％の塩酸４００肌【の溶液中へ滴加する。

こうして得たＰ−トルオールジアゾニウムクロリド懸濁
液を、２−クロルアセト酢酸エチルェステル３６．２夕
、５０％のエタノール４００の【及び酢酸ナトリウム１
６４夕よりなる５℃の混合物に滴加する。次いで混合物
を２０ｑｏで３時間燭拝し、酢酸エチルェステルで抽出
し、有機相を濃縮し、浅漬を石油エーテルで処理し、融
点１００〜１０ｒｏの２−クロル−２一（４ーメチルフ
エニルヒドラゾ／）−酢酸エチルェステル４１夕を得る
。ｂ クロロホルム１００泌中の２ークロル−２一（４
−メチルフェニルヒドラゾノ）−酢酸エチルェステル２
４．７夕の溶液を、クロロホルム１００叫及びトリェチ
ルアミン１３．８タ中のＱ−モルホリノスチロール１８
．９夕の溶液に滴加する。反応混合物を５０℃で１時間
、２０℃で１６時間放置し、幼一塩酸で洗浄し、次いで
炭酸水素ナトリウムの飽和溶液で洗浄する。次いで、ク
ロロホルム溶液を真空中で濃縮し、残湾を石油エーテル
で処理し、融点１３１〜１３か０の２一（４ーメチルフ
エニルヒドラゾノ）一３ーモルホリノメチレン−３ーフ
ェニルプロピオン酸エチルェステル２７．６夕を得る。
ｃ ２一（４−メチルフエニルヒドラゾ／）一３−モル
ホリノメチレンー３ーフエニルプロピオン酸エチルヱス
テル２７．６のこジオキサン２６０汎‘及びか一塩酸８
０汎‘を加え、４５分間還流下に加熱する。

反応混合物を冷却し、これを真空中で濃縮し、残澄をク
ロロホルムにとる。クロロホルム相を水で洗浄し、真空
中で濃縮し、残燈を石油エーテルで処理し、融点１１５
〜１１７ｑ０の４−フエニルー１一（４ートリル）一３
−ピラゾールカルボン酸エチルェステル１７．１夕を得
る。ｄ テトラヒドロフラン１００ｍ‘中の４−フエニ
ル−１一（４ートリル）一３一ピラゾリルーカルボン酸
エチルェステル１６．８夕の溶液を、テトラヒドロフラ
ン１００私中のりチウムアルミニウムヒドリド４．３夕
の０℃に冷却した懸濁液中へ満加する。混合物をなお１
時間櫨拝し、これに塩化ナトリウムの飽和溶液２５の【
を加え、次いで２０％の塩酸６３泌を加える。次いで反
応混合物をエーテルで抽出し、エーテル相を真空中で濃
縮し、残総を石油エーテルで処理し、融点１２５℃の４
ーフエニルー１一（４−トリル）−３一ピラゾリルメタ
ノール１２夕を得る。ｅ ４−フエニル−１一（４ート
リル）一３−ビラゾリルーメタノール２．６５夕を６３
％の臭化水素酸６０叫中で５時間９ぴ０に加熱する。

次いで反応混合物を水で稀釈し、分離した生成物を吸引
炉過し、ィソプロパノールから再結晶し、融点９８℃の
３ーフロムメチルー４ーフエニルー１一（４−トリル）
−ピラゾール２．９２を得る。ｆ ３ーフロムメチルー
４−フエニルー１−（４−トリル）−ピラゾール５．９
のこシアン化カリウム４．７夕、アセトニトリル１０泌
及びジベンゾー１８ークローネー６ ５００の９を加え
、４０ｑ○で１０時間燈幹する。次いで反応混合物を真
空中で濃縮し、残澄に水を加え、塩化メチレンで抽出す
る。塩化メチレン相を洗浄し、濃縮し、孫糟をメタノー
ルから再結晶し、融点９１〜９を０の４ーフエニルー１
一（４−トリル）一３−ピラゾリル酢酸ニトリル４．７
夕を得る。ｇ ４ーフエニルー１一（４ートリル）一３
−ピラゾリル酢酸ニトリル４．７夕を、８０％の硫酸２
７泌中で２時間１２０午０に加熱する。

反応混合物を冷却し、これを水で稀釈し、塩化メチレン
で抽出する。有機相を洗浄し、濃縮し、残澄をトルオー
ルから再結晶し、融点１２４〜１２５午０の４ーフエニ
ル−１一（４−トリル）−３−ピラゾリル酢酸３．２夕
を得る。例７ ａ ４ーフエニルー１一（４−トリル）一３−ピラゾリ
ル酢酸ニトリル２．５夕を５０℃の反応温度で濃塩酸２
０の‘とともに１時間燈梓する。

次いで反応混合物を水で稀釈し、メチルィソブチルケト
ンで抽出し、有機相を洗浄し、真空中で濃縮し、粗生成
物として４−フェニル−１一（４ートリル）−３−ピラ
ゾリル酢酸アミド１．９夕を得る。ｂ ４ーフエニルー
１−（４−トリル）一３ーピラゾリル酢酸ァミド組生成
物１．９夕を、１０％の苛性ソーダ水溶液４０地中でア
ルゴン下で３０分間還流下に加熱する。

次いで反応混合物を氷浴中で冷却し、狐−塩酸で酸性に
し、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン相を洗浄し、
乾燥し、真空中で濃縮する。

得られる粗生成物をトルオールから再結晶し融点１２４
．５〜１２６ｑｏの４−フェニルー１−（４ートリル）
−３−ピラゾリル酢酸０．９５の９を得る。例８ ａ ４−フエニル−１一（４ートリル）−３ーピラゾリ
ル酢酸２．５タ亜麻仁油を介して蒸溜した塩化チオニル
１０羽を加え、混合物を２時間還流下に加熱する。

次いで反応混合物を真空中で濃縮し、残燈に無水ベンゾ
ール２５の‘を加え、再び真空中で濃縮し、粗生成物と
して４−フェニルー１一（４−トリル）一３−ピラゾリ
ルーアセチルクロリド２．２夕を得る。ｂ ４−フエニ
ル−１一（４−トリル）−３−ピラゾリルアセチルクロ
リド粗生成物２．２のこ無水ベンゾール５叫及び無水エ
タノール５私を加える。

混合物中にピリジン０．２の‘を滴加し、混合物を室温
で１粥寺間放置し、ベンゾール２０の‘で稀釈し、反応
混合物を水、稀塩酸及び水で洗浄し、乾燥し、真空中で
濃縮する。残澄をアセトン・ヘキサンから再結晶し、融
点７６〜７９ｏｏの４−フエニル−１−（４−トリル）
一３−ピラゾリル酢酸エチルェステル１．７タ得る。例
９ ａ 例鉄の条件下で、ｏートルイジンを融点７か○の２
−クロルー２一（２−メチルフエニルヒドラゾノ）−酢
酸エチルェステルに変える。

ｂ 得られる生成物を例弧に記載したようにして融点１
０９００の２−（２−メチルフェニルヒドラゾノ）−３
ーモルホリノメチレン一３−フエニループロピオン酸エ
チルェステルに変える。

ｃ 例はの条件下で、得られた化合物を融点８０００の
４−フエニルー１一（２−トリル）−３−ピラゾールカ
ルボン酸エチルェステルに変える。ｄ 得られた生成物
を例めに記載したようにして、融点１２１℃の４−フェ
ニル−１−（２ートリル）−３−ピラゾリルメタノール
に還元する。ｅ この化合物を例皮における臭素化して
、融点６７００の３ーフロムメチルー４−フヱニルー１
一（２−トリル）−ピラゾールを得る。

ｆ ブロミドを例＆の条件下で融点２３ｑｏの４−フエ
ニル−１一（２ートリル）−３−ピラゾリル酢酸ニトリ
ルに変える。

ｇ こうして得られたニトリルを、例６ｇに記載したよ
うにして鹸化し、融点１７７ｑ０の４−フェニルー１一
（２トリル）−３−ピラゾリルー酢酸を得る。

例１０ ａ ｏークロルアニリンを、例解に記載したようにして
融点９〆○の２−クロルー２−（２ークロルフェニルヒ
ドラゾノ酢酸エチルェステルに変える。

ｂ 得られた化合物を、例＆に記載したようにして融点
１２２３０の２−（２ークロルフェニルヒドラゾノ）−
３−モルホリノメチレンー３ーフェニル−プロピオン酸
エチルェステルに変える。

ｃ 例＆の条件下で、得られた生成物を融点１０９℃の
４ーフエニルー１一（２ークロルフヱニル）−３ーピラ
ゾールカルボン酸エチルェステルに変える。

ｄ この化合物を例＆に記載したようにして還元して、
融点１３〆０の４ーフェニル−１一（２ークロルフエニ
ル）−３−ピラゾリルメタノ−ルを得る。

ｅ アルコールを例＆に記載したようにして臭素化して
、融点９ｒ０の３−フロムメチル−４−フエニル−１一
（２−クロルフヱニル）−ピラゾールを得る。

ｆ ブロミドを、例がの条件下で融点６が○の４−フエ
ニル−１−（２−クロルフエニル）−３−ピラゾリル酢
酸ニトリルに変える。

ｇ こうして得たニトリルを、例６ｆに記載したように
して融点１４６ｏＣの４−フェニルー１−（２−クロル
フェニル）−３−ピラゾリル酢酸に変える。

例１１ ４−クロルアニリンから、例解〜６ｆの条件下で融点１
２ｒｏの４−フェニル−１−（４−クロルフェニル）−
ピラゾリル酢酸ニトリルをつくり、これを例６ｇに記載
したようにして鹸化して融点１３７℃の４−フエニル−
１一（４ークロルフエニル）−ピラゾリル酢酸を得る。

ニトリル製造の際に得られる中間生成物は次の物理的デ
ータを有する：２−クロルー２−（４クロルフエニルヒ
ドラゾノ−酢酸エチルェステル、 融点１５００
０２−（４−クロルフエニルヒドラゾノ）一３−モルホ
リノーメチレン−３ーフエニルプロピオン酸、
融点１６４こ０４−フエニル−１
−（４ークロルフエニル）一３−ピラゾールカルボン酸
エチルェステル、融点９１℃４−フエニル−１一（４ー
クロルフエニル）−３一ピラゾリルメタノール、
融点１１７０３−フロムメチルー４ーフエニル−１−
（４−クロルフヱニル）ピラゾール、 融点１２５ｑ
ｏ例 １２３．４−ジクロルアニリンから、例飴〜益に
記載したようにして、融点１３１℃の４−フェニルー１
一（３．４ジクロルフェニル）ーピラゾリル酢酸ニトリ
ルをつくり、これを例鍵の条件下で鹸化して融点１５８
℃の４−フェニルー１−（３，４ージクロルフェニル）
ーピラゾリル酢酸を得る。

ニトリル製造の際に得られる中間生成物は次の物理的デ
ータを有する：２ークロル−３一（３，４ージクロルフ
エニルヒドラゾノ）−酢酸エチルェステル・融点１５４
００ ２−（３，４ジクロルフエニルヒドラゾノ）一３−モル
ホリメチレン−３一フエニループロピオン酸
１４ｒ０４ーフエニルー１−（
３，４−ジクロルフエニル）−３−ピラゾールカルボン
酸エチルェステル・ 融
点１１７００４ーフエニルー１−（３，４ジクロルフエ
ニル）−３−ピラゾリルメタノール、融点１２１ｑＣ３
−フロムメチル−４−フエニルー１一（３，４ジクロル
フェニル）−ピラゾール融点１０８℃例 １３Ｐ−フル
オロァニリンから、例飴〜母に記載したと同じ条件下で
融点７９ＣＯの４−フェニル−１一（４−フルオロフェ
ニル）−ピラゾリル酢酸ニトリルをつくり、これを例腿
に記載したように鹸化して融点１７ｒ０の４ーフェニル
−１一（４−フルオロフヱニル）ーピラゾリル酢酸を得
る。

ニトリル製造の際に得られる中間生成物は次の物理的デ
ータを有する：２ークロルー２一（４−フルオロフエニ
ルヒドラゾノ）−酢酸エチルェステル、 融点１０９ｏ
０２一（４ーフルオロフエニルヒドラゾノ）一３ーモル
ホリノメチレン一３−フエニルプロピオン酸
融点１６ｒ０４−フヱニル−１一
（４ーフルオロフエニル）−３ーピラゾールカルポン酸
エチルェステル、融点１２５ｑＯ４ーフエニルー１一（
４ーフルオロフエニル）−３一ピラゾリルメタノール、
融点１４が０３ーフロムメチルー４ーフエニルー１
−（４ーフルオロフェニル）ーピラゾール、 融点８９
つ０例１４ｏ−フルオロアニリンから、例斑〜母に記載
した条件下で融点７０ｑｏの４ーフェニルー１−（２ー
フルオロフェニル）ーピラゾリル酢酸ニトリルをつくり
、これを例６のこ記載したようにして鹸化して融点１５
４００の４ーフェニルー１一（２ーフルオロフェニル）
ーピラゾリル酢酸を得る。

ニトリル製造の際に得られる中間生成物は次の物理的デ
ータを有する：２ークロル−２一（２−フルオロフエニ
ルヒドラゾノ）−酢酸エチルヱステル、 融点７０ｑ
０２一（２ーフルオロフエニルヒドラゾノ）−３ーモル
ホリノメチレン一３ーフエニルプロピオン酸、
融点９９ｑｏ４ーフエニルー１一
（２ーフルオロフエニル）−３ーピラゾールカルボン酸
エチルェステル、融点６２００４ーフエニル−・一（２
ーフルオロフエニル）−３−ピラゾリルメタノール
融点１０９００３−ブロムメチル−４−フエニル−１
一（２−フルオロフェニル）−ピラゾール、融点１０２
００例１５ｍ−フルオロアニリンから、例鰍〜６ｆに記
載した条件下で融点７４ｏｏの４ーフェニルー１−（３
−フルオロフェニル）−ピラゾリル酢酸ニトリルをつく
り、これを例６ｇに記載したようにして鹸化して融点１
５９００の４−フェニル−１−（３−フルオロフェニル
）−ピラゾリル酢酸を得る。

ニトリル製造の際に得られる中間生物は次の物理的デー
タを有する：２−クロル−２−（３−フルオロフエニル
ヒドラゾノ）−酢酸エチルェステル、 融点１１ｒ０２
−（３ーフルオロフエニルヒドラゾ／）一３−モルホリ
ノメチレン−３−フエニルプロピオン酸、
融点１１０ｏ０４−フエニルー１一（
３ーフルオロフエニル）−３−ピラゾールカルボン酸エ
チルェステル、融点８１００４−フエニルー１−（３ー
フルオロフエニル）−３−ピラゾリルメタ／−ル、
融点７４℃３−プロムメチルー４ーフエニルー１一（
３ーフルオロフェニル）−ピラゾール 融点７５ｑｏ
例 １６ｍートリフルオロメチルアニリンから、例斑〜
鮒こ記載した条件下で融点７６００の４ーフェニル−１
−（３−トリフルオロメチルフエニル）ーピラゾリルア
セトニトリルをつくり、これを例股に記載した条件下で
鹸化して融点１６９℃の４ーフェニル−１−（３トリ−
フルオロメチルフエニル）−ピラゾリル酢酸を得る。

ニトリル製造の際に得られる中間生物は次の物理的デー
タを有する：２ークロル−２−（３−トリフルオロメチ
ルーフェニルヒドラゾ／）−酢酸エチルヱステル、融点
１３１００２−（３ートリフルオロメチルーフエニルヒ
ドラゾノ）一３−モルホリノメチレソ−３ーフエニルプ
ロピオン酸、 融点１２５００４−フエニ
ルー１−（３−トリフルオロメチルーフェニル）−３−
ピラゾールカルボン酸エチルェステル、
融点６６ｑ０４ーフエニル−１一（３−トリ
フルオロメチルーフエニル）−３一ピラゾリルメタノー
ル、融点９４℃３−フロムメチルー４−フエニルー１−
（３−トリフルオロメチルーフエニル）−ピラゾール・
融点１２０００例
１７ａ 例弧の条件下で、Ｑ−ジメチルアミノー４ーニ
トロスチロール２２．７夕を２−クロルー２−フェニル
ヒドラゾノー酢酸エチルェステル１９．２９と反応させ
、後処理する。

融点１３９℃の３−ジメチルアミノメチレン−３一（４
−ニトロフエニル）−２−フエニルヒドラゾノープロピ
オン酸エチルェステルを得る。ｂ こうして得た化合物
を、例＆に記載した条件下で鹸化して融点１４３こ○の
４−（４ーニトロフェニル）−３−ビラゾールカルポン
酸エチルェステルを得る。

ｃ ｄにより得た化合物２４夕をエタノール５００の【
に溶かし、ラネー・ニッケル５夕を加え、室温で常圧下
に水素化する。

次いで触媒を炉別し、炉液を真空中で濃縮し、残簿をメ
タノールから再結晶し、融点１４２０の４−（４ーアミ
ノフェニル）一１ーフエニルー３ーピラゾリルカルボン
酸エチルェステル２０夕を得る。ｄ ４一（４ーアミノ
フエニル）一１ーフエニル−３ーピラゾリルカルボン酸
エチルヱステル３．１多‘こ１５％の塩酸１３必中で−
５℃で、水１．５の【中の亜硝酸ナトリウム７６０雌の
溶液を加える。

次いで混合物になお３％の塩酸２５私を加え、一５℃の
冷混合物を１２％の塩酸３０必中の塩化第二銅１．５夕
の６０００の温溶液中へ滴加する。６０ｏｏでなお１０
分間放置し、冷却し、酢酸ェステルで抽出し、抽出物を
濃縮し、残澄をトルオールにとり、珪酸ゲルカラムに通
して炉過し、溶液を濃縮し、融点９６℃の４−（４−ク
ロルフェニル）−１ーフェニル−３−ピラゾールカルポ
ン酸エチルェステル２．４７夕を得る。

ｅ 例母〜腿の条件下で、４一（４ークｏルフエニル）
一１−フエニル−３ーピラゾリルカルボン酸エチルェス
テルを融点１４２００の４−（４ークロルフエニル）−
１ーフヱニルー３−ピラゾリル酢酸に変える。

この場合の合成の際に得られる中間生成物は次の物理的
特性を有する：４一（４−クロルフエニル）一１−フエ
ニル−３−ピラゾリルメタノール、 融点１４５０
０３−プロムメチルー４一（４ークロルフエニル）−１
ーフェニルピラゾール、 融点１１０ｏ０４一（４−ク
ロルフエニル）一１ーフエニル−ピラゾリルアセトニト
リル、 融点９７ｑ０例 １８ａ ４−（４−ア
ミノフエニル）−１ーフエニル−３ーピラゾールカルボ
ン酸エチルヱステル２．４のこｌｎ−塩酸２８机を加え
、０℃に冷却し、水５の‘中の亜硝酸ナトリウム８３０
の９の溶液で徐々にジアゾ化する。

混合物を水１０の‘で稀釈し、０℃で１５分間健辞する
。次いで混合物に塩化亜鉛９５３岬を加え、３０分間放
置する。析出した沈澱を吸引炉過し、乾燥し、メタノー
ル５０私にとり、室温で１鞘時間放置し、１時間還流下
に加熱する。反応混合物を真空中で濃縮し、残澄をベン
ゾールにとり、ベンゾール相を洗浄し、真空中で濃縮す
る。残湾にか−苛性ソーダ溶液及びジメチル硫酸２．０
２夕を加え、３０分間８０℃に加熱する。冷後に混合物
を塩化メチレンで抽出し、有機相を濃縮し、残笹をィソ
プロパノールから再結晶し、融点９４０○の４−（４ー
メトキシフエニル）−１−フエニルー３ーピラゾールカ
ルボン酸エチルェステル１．９２夕を得る。ｂ 例母〜
６ｇの条件下に、４一（４−メトキシフエニル）−１ー
フエニル−３−ピラゾールカルボン酸エチルェスチルを
融点１７０『０の４−（４−メトキシフエニル）一１ー
フエニル−３ーピラゾリル酢酸に変える。この化合物の
合成の際に得られる中間生成物は次の物理的定数を有す
る：４−（４−メトキシフエニル）−１−フエニル−３
一ピラゾリルメタノール、 融点１０ｒＣ３−クロル
メチルー４一（４ーメトキシフエニル）−１−フェニル
ーピラゾール、融点１２５℃（この化合物は上記化合物
からピリジン中のメタンスルホニルクロリド１．１当量
と−１５ｑｏで反応させて得られる）、４一（４ーメト
キシフエニル）−１ーフエニル−３−ピラゾリル酢酸ニ
トリル、 融点８３ｑｏ例 １９ａ ４一（４ーニト
ロフエニル）一１−フエニル−３−ピラゾールカルボン
酸エチルェステル２のこ、ィソプロパノール７０机【及
び４０％の苛性カリ１５の‘を加え、２時間還流下に加
熱する。

反応混合物を真空中で十分に濃縮し、分離した結晶を吸
引炉過し、融点２７３つｏの４−（４ーニトロフエニル
）一１−フエニル−３−ピラゾールカルボン酸１．６７
夕を得る。ｂ 該カルボン酸にジメチルホルムアミド０
．５奴及び塩化チオニル１０の‘を加え、１岬時間還流
下に加熱する。

反応混合物を真空中で濃縮し、融点２２６００の４一（
４ーニトロフエニル）一１ーフェニル−３−ピラゾール
カルボン酸クロリド１．５５９を得る。ｃ 酸クロリド
‘こジオキサン２５の‘及びエーテル５地を加え、１ｏ
ｏ０に冷却する。

次に混合物に３ｎ一ジアゾメタンのエーテル溶液を加え
、１０つ○で２時間放置する。反応混合物を真空中で濃
縮し、残澄にイソアミルアルコール８０叫を加え、炉過
する。得られる溶液中へトリェチルアミン４５の‘中の
安息香酸銀４．４夕の溶液を滴加し、７２時間放置する
。次いで炉過し、炉液を炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し
、真空中で濃縮する。残澄を、珪酸ゲルカラムに通しシ
クロヘキサン／酢酸ェステルを用いるクロマトグラフィ
ーによって精製し、融点８１℃の４−（４ーニトロフヱ
ニル）−１−フェニル−３−ピラゾリル−酢酸−ィソア
ミルェステル３９５の９を得る。ｄ こうして得たヱス
テルを例１９に記載したようにして鹸化し、融点３０６
℃の４−（４−ニトロフエニル）一１−フエニル−３ー
ピラゾリル酢酸１４５の９を得る。

例 ２０ − ４一（４ーニトロフヱニル）−１ーフエニルー３ーピラ
ゾリル酢酸２１０の９にグリコ一ルモノメチルェーテル
２０机【及びラネ−・ニッケル１夕を加え、室温で常圧
下で水素化する。

反応混合物を列１７ｃに記載したようにして処理し、４
−（４−アミノフエニル）一１ーフエニル−３−ピラゾ
リル酢酸を得る。例 ２１ 例稗〜鍵の条件下で、３ークロル−４−フルオロアニリ
ンから４ーフエニル−１一（３−クロルー４ーフルオロ
フェニル）−３ーピラゾリル酢酸をつくる。

例 ２２ 例解〜股の条件下で、４−トリフルオロ−メチルアニリ
ンから４−フエニル−１−（４ートリフルオロメチルー
フェニル）−３−ピラゾリル酢酸をつくる。

例 ２３ ３ーメトキシーＱ−モルホリノスチロールと２ークロル
ー２−フェニルーヒドラゾノ酢酸エチルェステルを例肋
〜６ｇに記載したようにして反応させて４一（３ーメト
キシフエニル）−４−フェニル−３−ピラゾリル酢酸を
得る。

例 ２４ ａ例１７ａ〜１７ｃの条件下で、Ｑ−ジメチルアミノ−
４−ニトロスチロールを２−クロル−２一（４−フルオ
ロフェニルヒドラゾノ）酢酸と反応させ、４一（４−ア
ミノフエニル）一１一（４−フルオロフェニル）−３−
ピラゾールカルポン酸エチルェステルを得る。

ｂ得られる化合物を例１が〜ＩＺに記載したようにして
４一（４−クロルフエニル）一１一（４−フルオロフェ
ニル）−３−ピラゾリル酢酸に変える。

例 ２５ 例１校及び１鋤の条件下で、４一（４ーアミノフエニル
）ーーー（４ーフルオロフエニル）一３−ピラゾールカ
ルボン酸エチルェステルを４−（４ーメトキシフエニル
）−１−（４−フルオロフェニル）−３ーピラゾール酢
酸に変える。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式I： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｎは数字１，２又は３を表わし、Ｒ＿１は水素又
   は塩素原子、アミノ基、メトキシ基又はニトロ基を表わ
   し、Ｒ＿２は水素を表わし、Ｒ＿３は水素、塩素又は弗
   素原子又はメチル基を表わし、Ｒ＿４は水素又は塩素原
   子を表わし、Ｘはシアノカルボニル基、アミノカルボニ
   ル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基も
   しくはその生理的に心配のない塩を表わす〕のピラゾー
   ル誘導体。 ２ （１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル）−酢酸で
   ある。 特許請求の範囲第１項記載のピラゾール誘導体。３ ３
   −（１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル）−プロピオ
   ン酸である、特許請求の範囲第１項記載のピラゾール誘
   導体。４ ３−（１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル
   ）−プロピオン酸ナトリウムである、特許請求の範囲第
   １項記載のピラゾール誘導体。 ５ ３−（１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル）−プ
   ロピオン酸エチルエステルである、特許請求の範囲第１
   項記載のピラゾール誘導体。 ６ ４−（１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル）−酪
   酸エチルエステルである、特許請求の範囲第１項記載の
   ピラゾール誘導体。 ７ ４−（１，４−ジフエニル−３−ピラゾリル）−酪
   酸である、特許請求の範囲第１項記載のピラゾール誘導
   体。 ８ ４−フエニル−１−（４−トリル）−３−ピラゾリ
   ル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第１項記載のピ
   ラゾール誘導体。 ９ ４−フエニル−１−（４−トリル）−３−ピラゾリ
   ル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載のピラゾール
   誘導体。 １０ ４−フエニル−１−（４−トリル）−３−ピラゾ
   リル酢酸アミドである、特許請求の範囲第１項記載のピ
   ラゾール誘導体。 １１ ４−フエニル−１−（４−トリル）−３−ピラゾ
   リル酢酸エチルエステルである、特許請求の範囲第１項
   記載のピラゾール誘導体。 １２ ４−フエニル−１−（２−トリル）−３−ピラゾ
   リル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第１項記載の
   ピラゾール誘導体。 １３ ４−フエニル−１−（２−トリル）−３−ピラゾ
   リル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載のピラゾー
   ル誘導体。 １４ ４−フエニル−１−（２−クロルフエニル）−３
   −ピラゾリル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第１
   項記載のピラゾール誘導体。 １５ ４−フエニル−１−（２−クロルフエニル）−３
   −ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載の
   ピラゾール誘導体。 １６ ４−フエニル−１−（４−クロルフエニル）−ピ
   ラゾリル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第１項記
   載のピラゾール誘導体。 １７ ４−フエニル−１−（４−クロルフエニル）−ピ
   ラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載のピラ
   ゾール誘導体。 １８ ４−フエニル−１−（３，４−ジクロルフエニル
   ）−ピラゾリル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第
   １項記載のピラゾール誘導体。 １９ ４−フエニル−１−（３，４−ジクロルフエニル
   ）−ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載
   のピラゾール誘導体。 ２０ ４−フエニル−１−（４−フルオロフエニル）−
   ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載のピ
   ラゾール誘導体。 ２１ ４−フエニル−１−（２−フルオロフエニル）−
   ピラゾリル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第１項
   記載のピラゾリル誘導体。 ２２ ４−フエニル−１−（２−フルオロフエニル）−
   ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載のピ
   ラゾール誘導体。 ２３ ４−フエニル−１−（３−フルオロフエニル）−
   ピラゾリル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第１項
   記載のピラゾール誘導体。 ２４ ４−フエニル−１−（３−フルオロフエニル）−
   ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載のピ
   ラゾール誘導体。 ２５ ４−フエニル−１−（３−トリフルオロメチルフ
   エニル）−ピラゾリルアセトニトリルである、特許請求
   の範囲第１項記載のピラゾール誘導体。 ２６ ４−フエニル−１−（３−トリフルオロメチルフ
   エニル）−ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１
   項記載のピラゾール誘導体。 ２７ ４−（４−クロルフエニル）−１−フエニル−３
   −ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載の
   ピラゾール誘導体。 ２８ ４−（４−クロルフエニル）−１−フエニルピラ
   ゾリルアセニトリルである、特許請求の範囲第１項記載
   のピラゾール誘導体。 ２９ ４−（４−メトキシフエニル）−１−フエニル−
   ３−ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載
   のピラゾール誘導体。 ３０ ４−（４−メトキシフエニル）−１−フエニル−
   ３−ピラゾリル酢酸ニトリルである、特許請求の範囲第
   １項記載のピラゾール誘導体。 ３１ ４−（４−ニトロフエニル）−１−フエニル−３
   −ピラゾリル酢酸イソアミルエステルである、特許請求
   の範囲第１項記載のピラゾール誘導体。 ３２ ４−（４−ニトロフエニル）−１−フエニル−３
   −ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載の
   ピラゾール誘導体。 ３３ ４−（４−アミノフエニル）−１−フエニル−３
   −ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載の
   ピラゾール誘導体。 ３４ ４−フエニル−１−（３−クロル−４−フルオロ
   フエニル）−３−ピラゾリル酢酸である、特許請求の範
   囲第１項記載のピラゾール誘導体。 ３５ ４−フエニル−１−（４−トリフルオロメチル−
   フエニル）−３−ピラゾリル酢酸である、特許請求の範
   囲第１項記載のピラゾール誘導体。 ３６ ４−（３−メトキシフエニル）−４−フエニル−
   ３−ピラゾリル酢酸である、特許請求の範囲第１項記載
   のピラゾール誘導体。 ３７ ４−（４−クロルフエニル）−１−（４−フルオ
   ロフエニル）−３−ピラゾリル酢酸である、特許請求の
   範囲第１項記載のピラゾール誘導体。 ３８ ４−（４−メトキシフエニル）−１−（４−フル
   オロフエニル）−３−ピラゾリル酢酸である、特許請求
   の範囲第１項記載のピラゾール誘導体。 ３９ 一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｎは数字１，２又は３を表わし、Ｒ＿１は水素又
   は塩素原子、アミノ基、メトキシ基又はニトロ基を表わ
   し、Ｒ＿２は水素を表わし、Ｒ＿３は水素、塩素又は弗
   素原子又はメチル基を表わし、Ｒ＿４は水素又は塩素原
   子を表わし、Ｘはシアノカルボニル基、アミノカルボニ
   ル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基も
   しくはその生理的に必配のない塩を表わす〕のビラゾー
   ル誘導体を製造するにあたり、一般式II：▲数式、化学
   式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿１，Ｒ＿２，Ｒ＿３，Ｒ＿４及びｎは上記の
   ものを表わし、Ｙはハロゲン原子を表わす〕のピラゾー
   ル誘導体をアルカリ金属シアニドと反応させ、必要に応
   じ得られたシアニドを鹸化し、形成したカルボン酸を塩
   に変えることを特徴とするピラゾール誘導体の製造法。 ４０ 一般式：I▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｎは数字１，２又は３を表わし、Ｒ＿１は水素又
   は塩素原子、アミノ基、メトキシ基又はニトロ基を表わ
   し、Ｒ＿２は水素を表わし、Ｒ＿３は水素、塩素又は弗
   素原子又はメチル基を表わし、Ｒ＿４は水素又は塩素原
   子を表わし、Ｘはシアノカルボニル基、アミノカルボニ
   ル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基も
   しくはその生理的に必配のない塩を表わす〕のピラゾー
   ル誘導体を製造するにあたり、一般式III：▲数式、化
   学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿１，Ｒ＿２，Ｒ＿３，Ｒ＿４，ｎは上記のも
   のを表わし、Ｙはハロゲン原子を表わす〕のピラゾール
   誘導体を、脱プロトン化剤の存在でマロン酸ジアルキル
   エステルと反応させ、得られる反応生成物を鹸化し、脱
   炭酸し、形成したカルボン酸をその塩に変えることを特
   徴とするピラゾール誘導体の製造法。 ４１ 一般式I： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｎは数字１，２又は３を表わし、Ｒ＿１は水素又
   は塩素原子、アミノ基、メトキシ基又はニトロ基を表わ
   し、Ｒ＿２は水素を表わし、Ｒ＿３は水素、塩素又は弗
   素原子又はメチル基を表わし、Ｒ＿４は水素又は塩素原
   子を表わし、Ｘはシアノカルボニル基、アミノカルボニ
   ル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基も
   しくはその生理的に必配のない塩を表わす〕のピラゾー
   ル誘導体を製造するにあたり、一般式IV：▲数式、化学
   式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿１，Ｒ＿２，Ｒ＿３，Ｒ＿４及びｎは上記の
   ものを表わす〕のピラゾール誘導体をジアゾメタンと反
   応させ、形成したジアゾケトンを水、アンモニアもしく
   は低級アルコールの存在で転位させることを特徴とする
   ピラゾール誘導体の製造法。