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JPS6034059A - Photoelectric conversion input device - Google Patents

Photoelectric conversion input device

Info

Publication number
JPS6034059A
JPS6034059A JP58143514A JP14351483A JPS6034059A JP S6034059 A JPS6034059 A JP S6034059A JP 58143514 A JP58143514 A JP 58143514A JP 14351483 A JP14351483 A JP 14351483A JP S6034059 A JPS6034059 A JP S6034059A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensor
heat treatment
light
photoelectric conversion
input device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58143514A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Nakagawa
克己 中川
Toshiyuki Komatsu
利行 小松
Masaki Fukaya
深谷 正樹
Tatsumi Shoji
辰美 庄司
Teruhiko Furushima
古島 輝彦
Nobuyuki Sekimura
関村 信行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP58143514A priority Critical patent/JPS6034059A/en
Publication of JPS6034059A publication Critical patent/JPS6034059A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
    • H10F71/10Manufacture or treatment of devices covered by this subclass the devices comprising amorphous semiconductor material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光電変換入力装置に関し、更に詳しくは、長期
に亘って画像情報等の光信号を電気侶 信号として安定して出力できる光導変換入力装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a photoelectric conversion input device, and more particularly to a photoconductive conversion input device that can stably output optical signals such as image information as electrical signals over a long period of time.

〔従来技術〕[Prior art]

近年、電子技術の発展に伴って各種の画像伝達システム
や画像処理システムが普及しつつある。この種のシステ
ムにおいて、画像情報を光信号として入力し、電気信号
として出力する光電変換入力装置はシステム全体の性能
をも左右する重要な装置である。この為、優れた性能を
持った光電変換入力装置の開発が強くめられている。
In recent years, with the development of electronic technology, various image transmission systems and image processing systems are becoming popular. In this type of system, a photoelectric conversion input device that inputs image information as an optical signal and outputs it as an electrical signal is an important device that influences the performance of the entire system. For this reason, there is a strong need to develop a photoelectric conversion input device with excellent performance.

従来、光電変換入力装置に用いられるフォトセンサとし
ては、フォトダイオード型のフォトセンサや光導電型の
フォトセンサが知られている。フォトダイオード型のフ
ォトセンサは入射されるフォトン1個当り発生するキャ
リアが最大、電子・正孔の一対である為、出力信号の値
が小さいという問題があった。他方、光導を型の7オト
センサは電極から注入されるキャリアも利用できる為、
出力信号値を大きく取れるという利点を有する。
Conventionally, photodiode type photosensors and photoconductive type photosensors are known as photosensors used in photoelectric conversion input devices. The photodiode type photosensor has a problem in that the value of the output signal is small because the maximum number of carriers generated per incident photon is a pair of electron and hole. On the other hand, the light guide type 7 otosensor can also use carriers injected from the electrode, so
It has the advantage that a large output signal value can be obtained.

光導電型のフォトセンサの受光部分を構成する材料とし
て非晶質シリコン(以下a−8iと称す)を用いること
は、フォトセンサの大面積化、長尺化にとって大変有効
である。併し、a−8tを用いた従来のフォトセンサは
、長時間光照射を行なうと、光導電率が低下してしまう
為、出力信号の値が小さくなってしまうという問題があ
った。
The use of amorphous silicon (hereinafter referred to as a-8i) as a material constituting the light receiving portion of a photoconductive photosensor is very effective for increasing the area and length of the photosensor. However, conventional photosensors using a-8t have a problem in that when exposed to light for a long time, the photoconductivity decreases, resulting in a small output signal value.

一般に知られているa−8tを用いた従来のフォトセン
サは、第1図の光照射時間に対する光導電率変化を示す
図に示される様に例えば作製直後の光導電率が10(Ω
・儂)以上であったものが1000時間に亘る照度10
00 lx の緑色光の照射によって10”(Ω・に)
−1程度にまで低下してしまう。この様な光導電率の低
下は入力された光信号を安定して電気信号として出力で
きないばかシか、大きく変化する出力信号の値に対処す
る為に高価な或いは複雑な回路を必要とした。
For example, a conventional photosensor using the generally known a-8t has a photoconductivity of 10 (Ω
・Illuminance 10 for 1000 hours
10" (Ω・) by irradiation with 00 lx green light
It drops to about -1. Such a reduction in photoconductivity not only makes it impossible to stably output an input optical signal as an electrical signal, but also requires an expensive or complicated circuit to deal with greatly changing output signal values.

そこで、長期に亘って光導電率の低下が生じないa−8
tを用いたフォトセンサとして周期律表第m族の元素(
例えばホウ素)をa−8iKドーピングする事が提案さ
れている。この様なフォトセンサは第2図の光照射時間
に対する光導電率変化を示す図に示される様に照度10
00 lxの緑色光を照射し続けても導電率の変化はほ
とんど見られない。併し、光導電率σp、 fl 10
((Ω・cIrL)〜1より小さくなってしまい、光導
電型のフォトセンサの持つ高出力信号値を取れるという
利点金魚くしてしまう。その為、S/N比は充分であっ
てもこの様なフォトセンサを用いた光電変換入力装置は
微小な信号変化を正確に読取る事が必要となるので装置
の高価格化、回路の複雑化を招くという問題があった。
Therefore, a-8 that does not cause a decrease in photoconductivity over a long period of time.
As a photosensor using t, elements of group m of the periodic table (
For example, a-8iK doping of boron) has been proposed. This kind of photosensor can be used at an illuminance of 10 as shown in Figure 2, which shows the change in photoconductivity with respect to the light irradiation time.
Even if irradiation with green light of 00 lx is continued, almost no change in conductivity is observed. However, the photoconductivity σp, fl 10
((Ω・cIrL) ~ 1), which negates the advantage of photoconductive photosensors in that they can obtain high output signal values. Therefore, even if the S/N ratio is sufficient, this A photoelectric conversion input device using a photosensor requires accurate reading of minute signal changes, resulting in higher costs and more complex circuits.

又、作製直後の導電率が大きいもの、即ち、よシ大きな
出力信号値を取シ出せるものは、作製直後の光導電率σ
eと暗導電率σ−の比、即ちS/N比が非常に悪い。そ
の為、この様な7オトセンサは高出力信号値が得られる
ものの実用として用いるの鉱困難とされていた。
In addition, those with high conductivity immediately after fabrication, that is, those that can obtain a large output signal value, have a photoconductivity σ immediately after fabrication.
The ratio between e and dark conductivity σ-, that is, the S/N ratio is very poor. Therefore, although such a sensor can provide a high output signal value, it has been considered difficult to use it for practical purposes.

従って、上記した様な従来のフォトセンサを用いた光電
変換入力装置は長期間に亘って該装置を使用すると光入
力信号を正確に電気信号に変換して出力する事が出来な
いという問題を有している。又、比較的長期に亘って正
確に動作する事のできる光電変換入力装置はフォトセン
サのS/N比変化や出力信号値変化に対処できる様な複
雑な回路や高価な部品を使用する事から高価格になると
いう問題を有している。
Therefore, the conventional photoelectric conversion input device using a photosensor as described above has the problem that if the device is used for a long period of time, the optical input signal cannot be accurately converted into an electrical signal and output. are doing. In addition, photoelectric conversion input devices that can operate accurately over a relatively long period of time use complex circuits and expensive components that can cope with changes in the S/N ratio of the photosensor and changes in the output signal value. It has the problem of high price.

〔目的〕〔the purpose〕

不発明は、上記した様な諸問題に鑑み成されたもので、
長期の使用に際しても安定して光入力信号を電気信号と
して出力する事のできる光電変換入力装置を提供する事
を目的とする。
The invention was made in view of the problems mentioned above,
An object of the present invention is to provide a photoelectric conversion input device that can stably output an optical input signal as an electrical signal even during long-term use.

又、本発明は、装置に使用される回路の単純化が可能で
かつ低価格化にも通した光電変換入力装置を提供する事
も目的とする。
Another object of the present invention is to provide a photoelectric conversion input device in which the circuit used in the device can be simplified and the cost can be reduced.

不発明の充電変換入力装置は、基板上に形成されたシリ
コンを母体とする非晶質材料を先導えた光電変換入力装
置において、前記フォトセンサはその作製直後の、又は
その作製工程中における温度雰囲気よりは実質的に低い
温度雰囲気に該フォトセンサを少なくとも2時間室いて
から室温に戻した後に測定される前記光導電層の暗導電
率の値が10’ (Ω・on )−”以上であって、か
つ、前記フオトセ/すを冷却する冷却手段を備えている
事を特徴とする。
The uninvented charge conversion input device is a photoelectric conversion input device including an amorphous material based on silicon formed on a substrate, in which the photosensor is exposed to a temperature atmosphere immediately after its fabrication or during its fabrication process. The value of the dark conductivity of the photoconductive layer measured after leaving the photosensor in an atmosphere at a temperature substantially lower than that for at least 2 hours and returning it to room temperature is 10' (Ω·on) or more. and a cooling means for cooling the photocell.

尚、不発明に於いて述べる光導電層の導電率は、光導電
層と電気的接続をしている電極間の導電率をいう。従っ
て、光導電層にオーミックコンタクト層を介して電極が
形成されている場合は、その電極を導電率の測定用電極
として使用することができる。又、フォトセンサの場合
、少なくとも一対の電極が形成されているので、この電
極をそのまま導電率の測定用電極として使用することが
できる。
Incidentally, the electrical conductivity of the photoconductive layer described in the present invention refers to the electrical conductivity between the electrodes electrically connected to the photoconductive layer. Therefore, when an electrode is formed on the photoconductive layer via an ohmic contact layer, the electrode can be used as an electrode for measuring conductivity. Further, in the case of a photosensor, since at least one pair of electrodes is formed, this electrode can be used as it is as an electrode for measuring conductivity.

不発明は、本発明者等がフォトセンサに光を照射する事
で導電率の値が低下するa −S iを光=wa*al
zLJ:l−−iMjLm−/4−MMIrAll−B
iJk)tシ・行なってもある程度まで導電率の値が低
下した後はその低下した値で導電率が安定するばかりで
なく、良好なS/N比と高出力信号値をも得られるフォ
トセンサを見い出した事に基づく。
The non-invention is that when the inventors irradiate light onto the photosensor, the value of conductivity decreases a-S i as light=wa*al
zLJ:l--iMjLm-/4-MMIrAll-B
iJk) Photosensor that not only stabilizes the conductivity after the conductivity value decreases to a certain level even after repeated use, but also provides a good S/N ratio and high output signal value. Based on the discovery of

以下図面を用いて本発明を更に詳しく説明する。The present invention will be explained in more detail below using the drawings.

本発明者等は光導電率σp及び暗導電率σdが種々の初
期値を持りたa −S iを光電変換部に用いた光導電
盤のフォトセンサに光を照射してその光照射に伴うσp
及びσ4の変化を調べだ。その結果を第3図乃至M5図
を用いて説明する。
The present inventors irradiated light onto a photosensor of a photoconductive panel using a-Si with various initial values of photoconductivity σp and dark conductivity σd as a photoelectric conversion section, and accompanying σp
Check the changes in and σ4. The results will be explained using FIGS. 3 to M5.

第3図は試料A乃至試料Eの各フォトセンサの初期導電
率を示す図で、各7オトセンサ作製直後のσ−及びσ−
が示されている。尚、σpは照度1000(A’x)の
緑色光を照射した時の光導電率である。第3図に示され
る様にフォトセンサ作製直後のσP(以下σp0と記す
)の値が大きな試料は作製直後のσd(以下σdoと記
す)の値も大きな値となった。特に試料A及び試料Bに
於いてσp、とσd11の間には実用的に信号として明
確な区別ができる程の差がなく、この状態でフォトセン
サとして用いることはできない。又、σd・が10’(
Ω・cm )−’よシ大きな値であった試料Cもσd・
が1O−7(Ω・cIrL)−1より小さな値を持つ試
料りに較べてσp・とσd・の比、詰りS/N比が低下
していた。試料EについてはS/N比は充分なものであ
るが導電率の値が小さく実用的なものでなかった。尚、
以上の各試料に於いて試料A乃至試′料Cは本発明の光
電変換入力装置に好適に用いられるフォトセンサでアシ
、試料り及び試料Eは従来のフォトセンサである。
Figure 3 is a diagram showing the initial conductivity of each photosensor of samples A to sample E, σ- and σ- immediately after fabrication of each of the 7 photosensors.
It is shown. Note that σp is the photoconductivity when green light with an illuminance of 1000 (A'x) is irradiated. As shown in FIG. 3, samples with a large value of σP (hereinafter referred to as σp0) immediately after the photosensor fabrication also had a large value of σd (hereinafter referred to as σdo) immediately after fabrication. In particular, in Sample A and Sample B, there is no difference between σp and σd11 to the extent that they can be clearly distinguished as signals in practical terms, and in this state they cannot be used as photosensors. Also, σd・is 10'(
Sample C, which had a larger value than Ω・cm )−', also had σd・
The ratio of σp and σd and the S/N ratio due to clogging were lower than those of samples with a value smaller than 1O-7(Ω·cIrL)-1. Regarding sample E, although the S/N ratio was sufficient, the conductivity value was too small to be practical. still,
Among the above samples, samples A to C are photosensors suitable for use in the photoelectric conversion input device of the present invention, and samples A, S, and E are conventional photosensors.

次に、第4図の光照射時間に対する導電率変化を示す図
を用いて本発明を説明する。
Next, the present invention will be explained using FIG. 4, which shows changes in conductivity with respect to light irradiation time.

フォトセンサに光照射をし続けると導電率の値が次第に
低下して行くものがあるのは前に述べた。第4図では、
その事が示されている。試料A乃至試料りはいずれも光
照射が続く事によって導電率が低下している。試料Eは
光照射が続いてもほとんど導電率が変化していないが、
試料Eは先述した周期律表第■族の元素をドーピングし
たものでおる為、導電率の値は実用的にフォトセンサと
して使用できる範囲よシも小さな値となっている。従来
の7オトセンサである試゛料りは光照射が続く事によっ
て導電率の値が低下し続ける。その為に7オトセンサの
出力信号の値をある所望の値の範囲に決定すれば光照射
が続くに従ってその範囲をはずれてしまう。
As mentioned earlier, if a photosensor is continuously irradiated with light, the conductivity value of some photosensors gradually decreases. In Figure 4,
That is shown. The electrical conductivity of Samples A through Sample 3 all decreased due to continued light irradiation. Sample E shows almost no change in conductivity even after continued light irradiation, but
Since sample E is doped with the above-mentioned element of group Ⅰ of the periodic table, its conductivity value is smaller than the range that can be practically used as a photosensor. The conductivity value of the sample, which is a conventional 7-point sensor, continues to decrease as light irradiation continues. For this reason, if the value of the output signal of the 7-point sensor is determined to be within a certain desired value range, it will deviate from that range as the light irradiation continues.

かといってその範囲を充分な幅を持った領域として設定
すれば回路の複雑化や高コスト化は免れない。試料A乃
至試料Cで示される本発明の光電変換入力装置に好適に
用いられるフォトセンサも、光照射によって導電率が変
化する。併乍ら、ある程度以上の時間光照射が続くと導
電率の変化はほとんどなくな9フオトセンサの特性は安
定化する。しかも、光照射が続くに従ってS/N比も向
上する。
However, if the range is set as a region with sufficient width, the circuit will become complicated and the cost will increase. The conductivity of the photosensors suitably used in the photoelectric conversion input device of the present invention represented by Samples A to Sample C also changes due to light irradiation. At the same time, if the light irradiation continues for a certain period of time, the conductivity will hardly change and the characteristics of the photo sensor will become stable. Furthermore, as the light irradiation continues, the S/N ratio also improves.

即ち、従来フォトセンサとして使用するに紘不適である
とされていた作製直後の暗導電率が10((Ω・工)−
1以上の値を持った7オトセンサであっても所望の時間
光照射を行なう事によって特性が安定化し、S/Naも
良好でかつ高い出力信号値が得られる。
That is, the dark conductivity immediately after fabrication, which was conventionally considered unsuitable for use as a photosensor, was 10((Ω・cm)−
Even if the sensor has a value of 1 or more, the characteristics can be stabilized by irradiating it with light for a desired period of time, and a high output signal value with good S/Na can be obtained.

本発明において、作製されたフォトセンサに7オトセン
サの特性を安定化する事を目的として出入力信号以外の
光を照射する事を以後エージングと称する。エージング
は導電率の値がある程度安定するまで行なわれる。具体
的には、エージングを中止した以後に光信号の入力等の
エージング以外の別な光照射が行なわれることによつτ
光導電率の値が変化してもフォトセンサを駆動する回路
に変更を要したり、光信号を正確に電気信号として変換
できなくなったりしない程度の光導電率の値の変化であ
ればその時点でエージングを中止しても良い。
In the present invention, irradiating the fabricated photosensor with light other than input/output signals for the purpose of stabilizing the characteristics of the photosensor is hereinafter referred to as aging. Aging is performed until the conductivity value stabilizes to some extent. Specifically, after aging is stopped, other light irradiation other than aging, such as inputting an optical signal, is performed, resulting in τ
If the change in photoconductivity value does not require changes to the circuit that drives the photosensor or prevents accurate conversion of optical signals into electrical signals, then You can stop aging with .

エージングの際に7オトセンサに照射される光の光強度
は、画像入力時にフォトセンサに入射する光強度よシ大
きなものであっても又、小さなものであっても良い。そ
して、いずれの場合に於いても、画像入力時にフォトセ
ンサが出力する信号の値が、長期間の画像入力を行なつ
た後も、大きく変化しない程度まで光照射を行なう事に
よってエージングは終了する。詰り、フォトセンサの出
力特性が完全に一定な状態にあらずとも、出力特性の変
化がなだらかになった時点でエージングは終了されて良
い。
The light intensity of the light irradiated to the photosensor 7 during aging may be greater or smaller than the light intensity incident on the photosensor when inputting an image. In either case, aging is completed by irradiating light to the extent that the value of the signal output by the photosensor during image input does not change significantly even after long-term image input. . Even if the output characteristics of the photosensor are not completely constant due to clogging, aging may be terminated when the change in the output characteristics becomes gentle.

画像入力の際にフォトセンサに入射する光強度と、エー
ジングの際にフォトセンサに照射される光強度が異なる
場合の一例を第5図に示される光照射時間に対する光導
電率変化を示す図によって説明する。第5図では、エー
ジングを照度10.0.00 (/x)の緑色光で行な
っている。第5図かられかる様にエージングを行なう光
源の照度が以後の照度よりはるかに大きな値であっても
適当な時間エージングする事によってエージング効果は
充分に認められる。尚、第5図において光導電率はエー
ジング時間のものは照度10000 (/X)の下にお
ける値、光照射時間のものは照度1000 (/x)の
下における値である。
An example of a case where the light intensity incident on the photosensor during image input and the light intensity irradiated onto the photosensor during aging are different is shown in Figure 5, which shows the change in photoconductivity with respect to light irradiation time. explain. In FIG. 5, aging is performed using green light with an illuminance of 10.0.00 (/x). As shown in FIG. 5, even if the illuminance of the light source undergoing aging is much higher than the subsequent illuminance, the aging effect can be sufficiently recognized by aging for an appropriate period of time. In FIG. 5, the photoconductivity for the aging time is the value under an illuminance of 10,000 (/X), and the photoconductivity for the light irradiation time is the value under the illuminance of 1,000 (/x).

エージングの際に用いる光源はその分光分布に於いて赤
外成分(熱線成分)があまり含まれていないのが望まし
い。又、含まれていても、他の波長成分のエネルギー量
に較べて出来る限シ少ないエネルギー量である事が望ま
しい。これは、赤外成分が多くフォトセンサに照射され
ると、フォトセンサが加熱し、後述する様な熱処理効果
が生じてしまってエージングが効果的に行なわれなくな
る場合があるからである。
It is desirable that the light source used during aging does not contain much infrared component (heat ray component) in its spectral distribution. Furthermore, even if it is included, it is desirable that the amount of energy be as small as possible compared to the amount of energy of other wavelength components. This is because if the photosensor is irradiated with a large amount of infrared components, the photosensor will be heated and a heat treatment effect as described below will occur, and aging may not be carried out effectively.

従って、エージングに用いられる光としては好ましくは
750nnn以下の波長を含む光であること、より好ま
しくは赤外成分のエネルギー量が他の成分のエネルギー
量に較べて少ない光であること、最適には750nm以
下の波長の光である事が望ましい。
Therefore, the light used for aging should preferably be light containing a wavelength of 750nnn or less, more preferably the amount of energy in the infrared component is smaller than the energy amount of other components, and most preferably It is desirable that the light has a wavelength of 750 nm or less.

上記の様な波長成分を持った光源としては、発光ダイオ
ード、固体レーザー等の固体発光素子やガスレーザー、
放電管、螢光灯、白熱球等の一般に知られる様々な光源
を用いることができる。照射される光から赤外成分を取
除く為に、分光フィルター、分光ミラー等を併用してエ
ージングを行なう事はよシ好ましい。
Light sources with the above wavelength components include solid-state light-emitting devices such as light-emitting diodes and solid-state lasers, gas lasers,
Various commonly known light sources can be used, such as discharge tubes, fluorescent lamps, and incandescent bulbs. In order to remove infrared components from the irradiated light, it is highly preferable to perform aging using a spectral filter, a spectral mirror, etc.

又、フォトセンサが照射光に含まれる赤外成分によって
加熱されても熱処理効果を生じ難くする為にフォトセン
サを適度に冷却しながらエージングを行なっても良い。
Furthermore, in order to make the heat treatment effect less likely to occur even if the photosensor is heated by the infrared component contained in the irradiation light, aging may be performed while cooling the photosensor appropriately.

本発明の光電変換大刀装置において使用されるフォトセ
ンサは上述した様なエージングが行なわれたものが用い
られる。
The photosensor used in the photoelectric conversion device of the present invention is one that has been aged as described above.

次に、上記で述べているフォトセンサのfl直後の定義
と熱処理について説明する。
Next, the definition and heat treatment immediately after fl of the photosensor mentioned above will be explained.

本発明でいうフォトセンサの作製直後とは、基板上にa
 −S iと、少なくとも一対以上の対向電極とを形成
した直後のことである。言いかえれば、光照射を行なう
前の7オトセンサの状態である。この状態は、フォトセ
ンサに光照射を行なわずに保存するか、光が照射されて
もフォトセンサに照射される総光量がわずがである様に
保存すれば保持する事ができる。
Immediately after fabrication of the photosensor in the present invention means that a
-S i and at least one pair or more of opposing electrodes are formed. In other words, this is the state of the 7 otosensors before light irradiation. This state can be maintained by storing the photosensor without irradiating it with light, or by storing it so that even if it is irradiated with light, the total amount of light irradiated onto the photosensor is small.

上記の7オトセンサの作製直後の状態は、光照射が行な
われ、導電率の値が低下したフォトセンサであっても熱
処理を施すことによってほとんど同じ状態にまで戻す事
ができる。そこで、この熱処理について第6図を用いて
説明する。
Even if the photosensor has a reduced conductivity value due to light irradiation, it can be returned to almost the same state immediately after the fabrication of the above-mentioned 7 photosensors by applying heat treatment. Therefore, this heat treatment will be explained using FIG. 6.

この様な熱処理によってフォトセンサが光照射前の状態
に戻ることを本発明では熱処理効果と称する。
In the present invention, the return of the photosensor to the state before light irradiation by such heat treatment is referred to as a heat treatment effect.

第6図に示される例では、照度1000 (l!x)の
緑色光を1000時間フォトセンサに照射する事によっ
て導電率の値が低下したフォトセンサに熱処理を施した
例が示されてbる。ここで用いた試料は前述した試料A
乃至試料Eを用いた。
The example shown in Figure 6 shows an example in which a photosensor whose conductivity value has decreased by irradiating the photosensor with green light with an illuminance of 1000 (l!x) for 1000 hours is subjected to heat treatment. . The sample used here is the sample A mentioned above.
Samples E to E were used.

第6図では導電率の値が低下した試料乃至試料Eの各7
オトセ/すを窒素気流中に200℃の温度雰囲気中で1
時間の熱処理を行なった例が示されている。その結果第
6図かられかる様に、試料A乃至試料Eのいずれにおい
ても熱処理効果が認められ、その効果についてもいずれ
の試料ともほぼ作製直後の導電率の値にまで戻った。
In Figure 6, each of the samples 7 to 7 with reduced conductivity values is shown.
1 in a nitrogen stream at a temperature of 200°C.
An example in which heat treatment was performed for several hours is shown. As a result, as shown in FIG. 6, the heat treatment effect was observed in all of Samples A to E, and the conductivity of each sample returned to almost the value immediately after preparation.

熱処理は適当な温度雰囲気下で適当な時間性なう事が必
要である。これは第7図に示される熱処理温度と処理時
間の関係を示す図からもわかる。即ち、熱処理はできる
だけ高い温度雰囲気下で長時間性なう事によってより効
果的に熱処理効果が現われる。第7図において直線70
1は熱処理前にフォトセンサ内を流れる光電流値、直線
702はフォトセンサ作製直後の光電流値、曲線703
は熱処理時間が30分の場合、曲線704は熱処理時間
が2時間の場合である〇熱処理を行なう温度雰囲気は、
フォトセンサ作製時に該フォトセンサが通過してきた温
度雰囲気の最高温度(フォトセンサ作製時の最高温度雰
囲気)より低ければ良いが、その温度を越えない温度雰
囲気内でできるだけ畠い温度雰囲気の方がより短時間に
所望の熱処理を行なうのに有利である。
The heat treatment must be carried out at an appropriate temperature and atmosphere for an appropriate time. This can also be seen from the diagram shown in FIG. 7, which shows the relationship between heat treatment temperature and treatment time. That is, the heat treatment effect can be more effectively produced by performing the heat treatment for a long time in an atmosphere at as high a temperature as possible. In Figure 7, the straight line 70
1 is the photocurrent value flowing in the photosensor before heat treatment, the straight line 702 is the photocurrent value immediately after the photosensor is manufactured, and the curve 703
Curve 704 is when the heat treatment time is 30 minutes, and curve 704 is when the heat treatment time is 2 hours. The temperature atmosphere in which the heat treatment is performed is:
It is better if the temperature is lower than the maximum temperature of the temperature atmosphere that the photosensor passes through when manufacturing the photosensor (maximum temperature atmosphere when manufacturing the photosensor), but it is better to have a temperature atmosphere that does not exceed that temperature as much as possible. This is advantageous in performing desired heat treatment in a short time.

従って、本発明の熱処理時の温度雰囲気は好ましくはフ
ォトセンサ作製時における実質的な最高温度雰囲気より
低い温度、よυ好ましくは、実際に7オトセンサを作製
する時の温度を考慮して300°0以下、最適には20
0℃以下とされるのが望ましいが、あま9温度が低いと
熱処理効果が緩慢になり処理時間が長くなるので熱処理
時の最低温度雰囲気は80℃以上とするのがより望まし
い。
Therefore, the temperature atmosphere during the heat treatment of the present invention is preferably lower than the actual maximum temperature atmosphere during the fabrication of the photosensor, and preferably 300°C in consideration of the temperature at which the photosensor is fabricated. Below, optimally 20
Although it is desirable that the temperature be 0° C. or lower, if the temperature is too low, the heat treatment effect will be slow and the treatment time will be longer, so it is more desirable that the lowest temperature atmosphere during the heat treatment be 80° C. or higher.

又、熱処理時間は、熱処理温度にも関係してくるが、好
ましくは2時間以上、よル好ましくは30分以上行なう
のが望ましい0熱処理の最大処理時間は、熱処理温度、
作業性、熱処理効果等を鑑みて適宜決定すれば良い。
The heat treatment time is also related to the heat treatment temperature, but it is preferable that the heat treatment be carried out for 2 hours or more, more preferably 30 minutes or more.The maximum treatment time for the heat treatment is determined by the heat treatment temperature,
It may be determined as appropriate in consideration of workability, heat treatment effect, etc.

熱処理は本発明では窒素気流中で行なわずとも、大気中
、水素気流中、アルゴン気流中等様々な気体中で行なっ
ても、又、真空中で行なっても全くかまわないし、その
様な場合でも同様な熱処理効果が認められる。ただし、
いずれの場合においても熱処理は充分な熱処理効果(そ
れ以上熱処理を施してもフォトセンサの導電率の値が変
化しないか変化しても極く微小である様な熱処理効果)
を施す事が必要である。
In the present invention, the heat treatment does not have to be carried out in a nitrogen stream, but may be carried out in various gases such as the air, hydrogen stream, argon stream, etc., or in vacuum, and the same applies in such cases. A significant heat treatment effect was observed. however,
In either case, the heat treatment has a sufficient heat treatment effect (heat treatment effect such that the conductivity value of the photosensor does not change even if further heat treatment is applied, or the change is extremely small)
It is necessary to do so.

上記した様な熱処理効果は、室温程度の温度雰囲気に於
いても緩慢ながら誌められる0実際の光電変換入力装置
においては、トランスやモーター等の熱源が組み込まれ
る事が一般に行なわれるのでフォトセンサは室温よシ高
い温度雰囲気中に置かれる事が充分に予想される。この
様な温度雰囲気下においても装置を使用する頻度があが
れば7オトセンサには頻繁に光信号が入力され、本発明
でいうエージングと同様な処置が施される為にさ程熱処
理効果は認められない場合もある0併乍ら、装置を使用
しない期間が長期に及んだシ、装置を使用する頻度が低
い場合は上記した様な熱源等によるフォトセンサの温度
上昇や装置の放置される温度環境等によって熱処理効果
が無視できなくなる。特に本発明で用いるフォトセンサ
においては、熱処理効果が生ずる事はフォトセンサの性
能を悪化させることにつながるので重要な問題である。
The heat treatment effect described above can be observed slowly even in an atmosphere with a temperature around room temperature.In actual photoelectric conversion input devices, heat sources such as transformers and motors are generally incorporated, so photosensors are It is fully expected that the device will be placed in an atmosphere with a temperature higher than room temperature. Even in such a temperature atmosphere, as the frequency of use of the device increases, optical signals are frequently input to the 7 otosensors, and a treatment similar to the aging referred to in the present invention is performed, so the heat treatment effect is not so significant. In addition, if the device is not used for a long period of time, or if the device is used infrequently, the temperature of the photosensor may increase due to the heat sources mentioned above, or the temperature of the device may be left unused. The heat treatment effect cannot be ignored depending on the environment. Particularly in the photosensor used in the present invention, the occurrence of heat treatment effects is an important problem because it leads to deterioration of the performance of the photosensor.

このことを第8図を用いて説明する。第8図はフォトセ
ンサの放置環境特性図である。ここでは本発明の光電変
換入力装置に好適に用いられるフォトセンサに照度10
000 (lx)の緑色光を20時間照射する事によっ
てエージングを行なった。後援、フォトセンサを暗中に
放置して導電率の変化を測定した。フォトセンサを放置
した温度環境は、25℃、45’0,70℃の3通シと
した。
This will be explained using FIG. 8. FIG. 8 is a characteristic diagram of the environment in which the photosensor is left unused. Here, the photo sensor suitably used in the photoelectric conversion input device of the present invention has an illuminance of 10
Aging was performed by irradiating with green light of 000 (lx) for 20 hours. The photosensor was left in the dark and changes in conductivity were measured. The temperature environment in which the photosensor was left was set to three times: 25°C, 45'0°C, and 70°C.

その結果、放置時の温度がより高温のもの程、大きな熱
処理効果が認められた。又、熱処理効果が現われるにつ
れてσdの値が大きくなる為、S/N比(即ちσp/σ
4)は低下した。
As a result, it was found that the higher the temperature at which the sample was left, the greater the heat treatment effect. Also, as the heat treatment effect appears, the value of σd increases, so the S/N ratio (i.e. σp/σ
4) decreased.

そこで、本発明は、フォトセンサ、又はその周囲、ある
いはその両方の温度が高くならない様に冷却することで
通常の使用状態においてフォトセンサに熱処理効果を生
じない様に或いは生じ難くする様にしておく。
Therefore, the present invention cools the photosensor, its surroundings, or both so that the temperature does not become high, so that the heat treatment effect does not occur or is difficult to occur in the photosensor under normal usage conditions. .

フォトセンサ又はその周囲、或いはそれ等両方を冷却す
る為の冷却手段にはヒートバイブ、電子冷却素子、放熱
フィン、強制送風等によって又はそれ等を適宜組合わせ
ることによって行なう事ができる。
Cooling means for cooling the photosensor, its surroundings, or both may include a heat vibrator, an electronic cooling element, a heat radiation fin, forced air, etc., or a suitable combination thereof.

熱処理効果は、装置の使用頻度が高く、フォトセンサに
光信号が入力される時間が長ければそれ程問題にはなら
ないが、よシ熱処理効果を抑える為にも冷却手段を設け
るのが良い。冷却手段を設けることによシ、装置の信頼
性は尚一層内上するとともに使用頻度にかかわらず高性
能を維持できる。
The heat treatment effect is not so much of a problem if the device is used frequently and the time during which optical signals are input to the photosensor is long, but it is better to provide a cooling means to suppress the heat treatment effect. By providing a cooling means, the reliability of the device is further increased and high performance can be maintained regardless of the frequency of use.

7オトセンサ作製直後(或は熱処理直後)の導電率σd
・、σp・を制御する為の最も簡便な方法は、a−8i
層中に周期律表第V族の元素をドーピングする事である
。このドーピングは、シランガス(SiH,、Si& 
)のグロー放電分解法でa−8i層を作製する場合には
シランガス中に周期律表第V族の元素を含むガス(例え
ばPHs、 As)(8等の水素化物)を混合する事に
よって容易に行なう事ができる。しかも、周期律表第V
族の元素を含むガスの所用濃度は、例えばSiH,ガス
に対して10−以下で充分で1、この程度の濃度では、
環境汚染等の恐れは殆んど無い。
7 Electrical conductivity σd immediately after Otosensor fabrication (or immediately after heat treatment)
・, σp・ The simplest method to control is a-8i
This method involves doping the layer with an element belonging to Group V of the periodic table. This doping is performed using silane gas (SiH, Si&
) When producing the a-8i layer using the glow discharge decomposition method described in can be done. Moreover, periodic table V
The required concentration of the gas containing the group element is, for example, less than 10-1 for SiH gas, and at this concentration,
There is almost no fear of environmental pollution.

尚、フォトセンサ作製直後(或は熱処理直後)の導電率
σdo Hσ、。を制御する方法は、上記の方法に限ら
ない。
Note that the electrical conductivity σdo Hσ immediately after the photosensor is manufactured (or immediately after heat treatment). The method of controlling is not limited to the above method.

〔芙施例〕[Fu example]

以下、本発明の光電変換入力装置に好適に用いられるフ
ォトセンサの一つの実施例を用いて説明する。
Hereinafter, one embodiment of a photosensor suitably used in the photoelectric conversion input device of the present invention will be described.

先ず、グロー放電装置内に洗浄されたガラス基板(コー
ニング社製、7059ガラス)をアノードに設置した後
、装置内を真空度10Torrにした。次に、高純度モ
ノシランガス(5iH4)を108CCMの流量で、又
、高純度水素ガス(鴇)で10MMに稀釈されたフォス
フインガス(PH3)を58CCMの流量で同時に装置
内に流入させた。
First, a cleaned glass substrate (manufactured by Corning, 7059 glass) was placed on the anode in a glow discharge device, and then the vacuum inside the device was set to 10 Torr. Next, high-purity monosilane gas (5iH4) was simultaneously flowed into the apparatus at a flow rate of 108 CCM, and phosphine gas (PH3) diluted to 10 MM with high-purity hydrogen gas (Toku) at a flow rate of 58 CCM.

この時、装置内の圧力は0.ITorrに保たれた。At this time, the pressure inside the device is 0. It was kept at ITorr.

次に、平行板型電極間に周波数13.56ifilzの
高周波を印加し、グロー放電を起こした。そして、ガラ
ス基板上にa−8i層を約7000人堆積させた。この
時、ガラス基板は200 ’0に保っておいた。引き続
いて、SiH,を2 SCCMの流量で、又、高純度水
素ガス(H2)で100OIIIIIに稀釈されたPH
,ガスを108CCMの流量で装置内に流入させ、同様
にグロー放電させる事で前記a−8i層上に低抵抗のn
+層を約1000人堆積させた。
Next, a high frequency wave with a frequency of 13.56 ifilz was applied between the parallel plate electrodes to generate a glow discharge. Approximately 7000 A-8i layers were then deposited on the glass substrate. At this time, the glass substrate was kept at 200'0. Subsequently, SiH, at a flow rate of 2 SCCM, and PH diluted to 100 OIII with high purity hydrogen gas (H2) were added.
, gas is flowed into the device at a flow rate of 108 CCM, and a glow discharge is caused in the same way to form a low resistance n-type on the a-8i layer.
Approximately 1000 + layers were deposited.

更に、上記n+層上にA/を約1000人堆積蒸着法に
より蒸着した後、通常のフォトリソグラフィー技術を用
いて電極となる部分以外のAI!蒸着層が除去された。
Furthermore, after depositing A/ on the n+ layer by about 1,000 person deposition method, the parts other than the portions that will become electrodes are removed using normal photolithography technology. The deposited layer was removed.

次いで、露出したn+層がA/電極をマスクとしてドラ
イエツチング法によって取シ除かれフォトセンサーは完
成した。
Next, the exposed n+ layer was removed by dry etching using the A/electrode as a mask to complete the photosensor.

第9図は、本実施例で用いたギャップタイプの光導電型
の7オトセンサを示す模式的平面部枠 分図である。第9図に施いて、901はa−8i層、9
02は共通電極、903は個別電極である。受光部分は
、くし形状にされた。共1通電−極902と個別電極9
03との間である。
FIG. 9 is a schematic plan view showing the gap-type photoconductive type 7 sensor used in this example. In FIG. 9, 901 is the a-8i layer, 9
02 is a common electrode, and 903 is an individual electrode. The light receiving part was shaped like a comb. Common 1 energizing electrode 902 and individual electrode 9
It is between 03 and 03.

本実施例のフォトセンサは第9図に示される様なライン
センサであり、該ラインセンサは一例として第10図に
示される様な駆動回路を接続して使用された。
The photosensor of this example is a line sensor as shown in FIG. 9, and the line sensor is used by connecting a drive circuit as shown in FIG. 10 as an example.

第10図に於ける抵抗1001が本実施例のラインセン
ナである。共通電極902には、電源1004に接続さ
れた配線1002が接続される。一方個別電極903に
は配線1003が接続され、該配線1003には光電流
蓄積用のコンデンサー1005が一方の端子が接地され
た状態で接続されている。また、配線1003は、蓄積
電荷放電用のFET 1006と電荷取出し用のFET
 1007に夫々接続されている。
The resistor 1001 in FIG. 10 is the line sensor of this embodiment. A wiring 1002 connected to a power source 1004 is connected to the common electrode 902 . On the other hand, a wiring 1003 is connected to the individual electrode 903, and a photocurrent storage capacitor 1005 is connected to the wiring 1003 with one terminal grounded. Further, the wiring 1003 connects an FET 1006 for discharging accumulated charges and an FET for extracting charges.
1007, respectively.

FET1006及びFET 1007は夫々ゲート信号
線1008及びゲート信号線1009によってON、 
OFFされる。ゲート信号線1009によってFIT 
1007をONする事によってコンデンサー1005に
電荷として蓄積された光信号はシストレジスター101
0に人外る0その後、アンプ1011によって増巾され
、時系列信号として出力される。尚、ゲート、信−号線
1008によってFET 1006がONされる事によ
って、コンデンサー1005に蓄積された不要な電荷を
取除く事ができる0 以上の様に構成されたラインセンサに照度1000(/
x)の緑色光を20時間照射した。尚、本実施例におけ
るフォトセンサは第4図に示される試料Bに相当する。
FET 1006 and FET 1007 are turned on and off by gate signal line 1008 and gate signal line 1009, respectively.
It will be turned off. FIT by gate signal line 1009
By turning on 1007, the optical signal accumulated as a charge in the capacitor 1005 is transferred to the system register 101.
After that, it is amplified by an amplifier 1011 and output as a time series signal. Incidentally, by turning on the FET 1006 through the gate and signal line 1008, unnecessary charges accumulated in the capacitor 1005 can be removed.
x) was irradiated with green light for 20 hours. Note that the photosensor in this example corresponds to sample B shown in FIG.

エージング終了後のラインセンサを光電変換入力装置の
一つであるファクシミリ装置に組み込んだ。第11図1
al及び第11図1alに示されるのは本実施例で用い
たファクシミリ装置の画像入力部分の模式的切断面図で
ある。第11図1al及び第11図(blにおいてはヒ
ートパイプ構造を基板に組み込んだ例が示しである。
The line sensor after aging was incorporated into a facsimile machine, which is one of the photoelectric conversion input devices. Figure 11 1
11 and 11 are schematic cross-sectional views of the image input portion of the facsimile machine used in this embodiment. Figures 11 al and 11 (bl) show an example in which the heat pipe structure is incorporated into the substrate.

第11図−)及び第11図1alにおいで、1101は
基板、1102及び1103はラインセンサに接続され
る電極、1104は駆動用ICチップ、1105は放熱
フィン、1106はセルフォック1/ンズアレイ、11
07はLEDアレイ1108は原稿、1109は原稿ガ
イド、1110は動作液である。
11-) and FIG. 11 1al, 1101 is a substrate, 1102 and 1103 are electrodes connected to the line sensor, 1104 is a driving IC chip, 1105 is a heat dissipation fin, 1106 is a SELFOC 1/ns array,
07 is an LED array 1108 for a document, 1109 is a document guide, and 1110 is a working liquid.

基板1101にはヒートパイプ構造が組み込まれており
、放熱フィン1105によって放熱し、ラインセンサ設
置部周辺で吸熱が行なわれる様に構成される。電極11
02及び1103の間隙部分がライン七/すの受光部で
ある。受光部へは、原稿1108の反射率の違いに応じ
て反射されたLEDアレイ1107からの光がセルフォ
ックレンズアレイ1106によって集光されて受光部へ
導かれる。原稿1108は原稿ガイド1109によって
位置決めされる0第11図tblは第11図(8)に示
される破線の部分を拡大した模式的拡大図である。図に
示される様に基板1101の内部には細かな溝が切って
あり毛細管現象を利用して熱媒体である作動液が移動で
きる様になっている。又、基板1101の中空部は減圧
されており、ラインセンサやその周辺からの熱が外壁を
通して伝わると作動液1110は蒸発する。この蒸気は
中空部内に生じた微小な圧力差によって、放熱フィン1
105側に移動する。放熱フィン1105側では放熱が
行なわれ、蒸気は凝結して液体に戻る。液体に戻った作
動液1110は、毛細管現象によって再びラインセンサ
側へ運ばれる。このくシ返しによってライン七/すやそ
の周辺では常に冷却されており、ラインセンサは熱処理
効果が顕著に現われる程の温度雰囲気とはならない。
A heat pipe structure is incorporated in the substrate 1101, and is configured so that heat is radiated by the heat radiation fins 1105 and heat is absorbed around the line sensor installation portion. Electrode 11
The gap between 02 and 1103 is the light receiving section of line 7/su. The light from the LED array 1107 that is reflected according to the difference in reflectance of the original 1108 is focused by the SELFOC lens array 1106 and guided to the light receiving section. The document 1108 is positioned by the document guide 1109. FIG. 11 tbl is a schematic enlarged view of the broken line portion shown in FIG. 11(8). As shown in the figure, fine grooves are cut inside the substrate 1101 so that the working fluid, which is a heat medium, can move using capillary action. Further, the pressure in the hollow part of the substrate 1101 is reduced, and when heat from the line sensor and its surroundings is transmitted through the outer wall, the working fluid 1110 evaporates. This steam is caused by the minute pressure difference that occurs inside the hollow part, causing the heat radiation fins to
Move to the 105 side. Heat is radiated on the radiation fin 1105 side, and the steam condenses and returns to liquid. The working fluid 1110 that has returned to liquid form is transported to the line sensor side again by capillary action. Due to this recombination, the line 7/bay and its surroundings are constantly cooled, and the line sensor does not have an atmosphere at a temperature that is such that the heat treatment effect becomes noticeable.

基板1101に施された溝は縦横方向に、即ち基盤目上
に形成される。この事によって、基板の温度分布はより
均一にすることができる。
The grooves formed on the substrate 1101 are formed in the vertical and horizontal directions, that is, on the substrate surface. This makes it possible to make the temperature distribution of the substrate more uniform.

放熱フィン1105は装置の外部におかれる事が放熱効
果という点からは好ましい。又、更にファン等の強制風
をフィンにあてる事によって尚一層の冷却効果を望むこ
ともできる。
It is preferable to place the heat radiation fins 1105 outside the device from the viewpoint of heat radiation effect. Further, an even further cooling effect can be obtained by applying forced air from a fan or the like to the fins.

作動液は、本実施例では水を用いたが、基板と化学変化
を生じたシしない液体であれば通常のヒートパイプに用
いられる作動液が使用できる0 基板は熱伝導性、中空部、溝の加工性からアルミナを用
いたが、この材料も様々な拐料が用いられる。
Although water was used as the working fluid in this example, any working fluid used in normal heat pipes can be used as long as it does not cause chemical changes with the substrate. Although alumina was used because of its workability, various abrasive materials can be used for this material.

上記の様な構成から成る本実施例のファクシミリ装置は
、冷却手段を設けなかった該装置に較べてはるかに長期
間に亘って安定した画像入力を行う事ができた。
The facsimile machine of this embodiment having the above-mentioned configuration was able to stably input images for a much longer period of time than the facsimile machine not provided with a cooling means.

本発明の実施例では、フォトセンサの冷却手段にヒート
パイプを用いた例を示したが、本発明ではa、ファンに
よる強制空冷、b、基板に放熱フィンを設ける、C0電
子冷却素子(例えばペルテイエ素子)等、一般に知られ
る多くの冷却手段を用いる事ができる。又、ヒートパイ
プや上記a、乃至cl等の手段を適宜組み合わせても全
くかまわない。
In the embodiment of the present invention, an example was shown in which a heat pipe was used as a cooling means for the photosensor. Many commonly known cooling means can be used. Furthermore, it is perfectly acceptable to appropriately combine heat pipes and means such as the above-mentioned a to cl.

ヒートパイプは、本実施例の様に基板と一体構成せずと
も良いが、冷却効率、フォトセンサ(ラインセンサ)以
外に同一基板上に配されるIC等その他の素子も同様に
冷却される為に電気的な雑音の発生もよシ効果的に抑え
る事ができるという点で優れた方法といえる。
Although the heat pipe does not have to be integrated with the board as in this embodiment, it is important to improve the cooling efficiency because other elements such as ICs arranged on the same board in addition to the photosensor (line sensor) are similarly cooled. This is an excellent method in that it can effectively suppress the generation of electrical noise.

本発明による光電変換入力装置が、より長期に亘って安
定して動作させる為には冷却手段を常に働かせておく事
が望ましい。その際にも本実施例で示したヒートパイプ
は冷却の為の動力源を必要としない為に装置に電源が投
入されていなくとも作動するので大変好ましいものであ
る0 又、本発明においては、冷却手段のみでなく、フォトセ
ンサの特性を安定化する目的で光入力信号以外の光を照
射するためのエージング手段を設けても良い。この際の
エージングは、前述したエージングと同じ条件の光源で
あれば好適に用いる事ができる。又、このエージング手
段に用いられる光源は、エージング専用の光源でも良い
し、原稿等の照射用光源と共用しても良い0 この際のエージングは、装置が画像入力を行なっていな
い時に行なわれ、エージングにおける光照射と、原稿等
の光照射とは切換え手段によって区別される。従って、
光源が共用されていた場合には、エージング中には画像
入力が行なわれない様にされる。
In order for the photoelectric conversion input device according to the present invention to operate stably over a longer period of time, it is desirable to keep the cooling means in operation at all times. In this case, the heat pipe shown in this embodiment is very preferable because it does not require a power source for cooling and can operate even when the device is not powered on. In addition to the cooling means, an aging means for irradiating light other than the optical input signal may be provided for the purpose of stabilizing the characteristics of the photosensor. For aging at this time, any light source under the same conditions as the aging described above can be suitably used. In addition, the light source used in this aging means may be a light source exclusively for aging, or may be used in common with a light source for irradiating documents, etc. In this case, aging is performed when the device is not inputting images, Light irradiation for aging and light irradiation for documents, etc. are distinguished by a switching means. Therefore,
If the light source is shared, image input is prevented during aging.

〔効果〕〔effect〕

以上説明した様に、本発明によれば長期に亘って安定し
た画像等の入力が行なえる光電変換入力装置が提供され
る。
As described above, according to the present invention, a photoelectric conversion input device is provided that allows stable input of images and the like over a long period of time.

又、本発明によれば、従来フォトセンサとして不適とさ
れていたフォトセンサ作製直後或は熱処理直後の暗導電
率が1O−7(Ω・crtt )−1以上のものを使用
しても大変優れた画像入力が行なえる光電変換入力装置
が提供される。
Furthermore, according to the present invention, even when using a photosensor that has a dark conductivity of 1O-7 (Ω・crtt)-1 or more immediately after fabrication or immediately after heat treatment, which was conventionally considered unsuitable as a photosensor, it is still very good. A photoelectric conversion input device capable of inputting images is provided.

更に本発明によれば、非常に簡単な構成で安定した画像
等の入力が長期に亘って行なえるのみならず、非常に簡
便な回路であっても7オトセンサの出力が安定している
ので非常に安定した画像等の入力を長期に亘って行なう
ことができる。従って、コスト的にも大変に優れだ光電
変換入力装置が提供される。
Furthermore, according to the present invention, not only can stable input of images etc. be performed over a long period of time with a very simple configuration, but also the output of the 7 otosensors is stable even with a very simple circuit. It is possible to input stable images and the like over a long period of time. Therefore, a photoelectric conversion input device that is very cost-effective is provided.

尚、本発明は、実施例で説明した光電変換入力装置の構
成に限られるものでないのはいうまでもない。
It goes without saying that the present invention is not limited to the configuration of the photoelectric conversion input device described in the embodiments.

又、本発明の光電変換入力装置は、実施例として用いた
ファクシミリ以外にデジタル複写機やイメージリーダ等
数々の画像入力を行なう装置に於いて画像を読み取って
電気信号として出力する画像信号入力部分にも用いる事
ができる。
Furthermore, the photoelectric conversion input device of the present invention can be used in the image signal input portion of various image input devices such as digital copying machines and image readers other than the facsimile machine used in the embodiment, which reads images and outputs them as electrical signals. can also be used.

従って、読取る画像も一般原稿はもちろんのこと、バー
コードやマークシート、等までにも及ぶ事はいうまでも
ない。
Therefore, it goes without saying that the images to be read include not only general originals but also barcodes, mark sheets, and the like.

更に本発明においては、画像の明るさを感知するもの、
例えば露出計なども大きな意味で光電変換入力装置とい
ってもかまわない。
Furthermore, in the present invention, a device that senses the brightness of an image,
For example, a light meter can also be called a photoelectric conversion input device in a broad sense.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図、第2図及び第4図、第5図は夫々、光照射時間
に対する光導電率変化を示す図、第3図は初期導電率を
示す図、第6図は熱処理効果を示す図、第7図は熱処理
温度と処理時間の関係を示す図である。第8図は放置環
境特性囚、第9図は本発明のフォトセンサを用いたライ
ンセンナの好適な一つの実施態様例の模式的平面部分図
、第10図は第9図に示されるラインセンサを駆動する
回路の一例を示す駆動回路図である。第11図1b+は
画像入力部分の模式的切断面図、第11図1b+は第1
1図1b+に示される部分を拡大した模式的拡大図であ
る。 901 ・・−a−8t層、902−、、共通電極、9
o3・・・個別電極、 1001・・・抵抗、 100
2 、10031、配線、1004・・・電源、 10
05・・・コンデンサー。 1006 、1007・・・FET 、 1008 、
1009・・・ゲート信号線、 1010・・シフトレ
ジスター、 1011・・・アンプ、 1ioi・・・
基板、 1102 、1103・・・電極、 1104
・・・駆動用ICチップ、 1105・・・放熱フィン
、 1106・・・セルフォックレンズアレイ。 1107・・・LEDアレイ、 1108・・・原稿、
 1109・・・原稿ガイド、 1110・・動作液。 第11又 尤顯射曙薗 (#に弯f光) 第2図 光梱M@閣(ymvk課色老) 一ワ −!; −5−4−34 1070To 70 fo 10 先番電辛式(訳伽、)−’l1oooム曳船(、f2−
C尻)−1 16s、klvtWiA OtmO(bJH,@、16
)第5図 (,9apt)−’ 8ρ 郡 の l〃 ?4り゛(: (”C〕処舛理風
友 、■ lり / π 南中にα吸暗間 ム
Figures 1, 2, 4, and 5 are diagrams showing changes in photoconductivity with respect to light irradiation time, Figure 3 is a diagram showing initial conductivity, and Figure 6 is a diagram showing heat treatment effects. , FIG. 7 is a diagram showing the relationship between heat treatment temperature and treatment time. FIG. 8 is a partial plan view of a preferred embodiment of a line sensor using the photosensor of the present invention, and FIG. 10 is a line sensor shown in FIG. 9. FIG. 2 is a drive circuit diagram showing an example of a circuit that drives the. FIG. 11 1b+ is a schematic cross-sectional view of the image input part, and FIG. 11 1b+ is the first
FIG. 1 is a schematic enlarged view of the portion shown in FIG. 1b+. 901...-a-8t layer, 902-, common electrode, 9
o3...Individual electrode, 1001...Resistance, 100
2, 10031, wiring, 1004...power supply, 10
05... Capacitor. 1006, 1007...FET, 1008,
1009...Gate signal line, 1010...Shift register, 1011...Amplifier, 1ioi...
Substrate, 1102, 1103... Electrode, 1104
...Driver IC chip, 1105...Radiation fin, 1106...Selfoc lens array. 1107...LED array, 1108...Manuscript,
1109... Original guide, 1110... Operating fluid. 11th Makayakusha Akebono (#に弯f光) Figure 2 Light packaging M@Kaku (ymvk section color senior) Ichiwa -! ; -5-4-34 1070To 70 fo 10 Send number electric type (translation) -'l1oooom tugboat (, f2-
C butt)-1 16s, klvtWiA OtmO(bJH, @, 16
) Figure 5 (,9apt)-'8ρ county l〃? 4 Ri゛(: (“C”) processing Masuri Fuyuu, ■ liri/ π Nanchu α dark space

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基板上に形成されたシリコンを母体とする非晶質材料を
光導電層に用いて成る光導電型のフォトセンサを備え九
九電変換入力装置において、前記フォトセンサはその作
製直後の、又はその作製工程中における温度雰囲気よシ
は実質的に低い温度雰囲気に該フォトセンサを少なくと
も2時装置いてから室温に戻した後に測定される前記光
導電層の暗導電率の値が10(Ω・cIrL) 以上で
あって、かつ、前記フォトセンサを冷却する冷却手段を
備えている事を特徴とする光電変換入力装置。
In a ninety-nine electric conversion input device comprising a photoconductive type photosensor formed on a substrate and using an amorphous material having silicon as a matrix for a photoconductive layer, the photosensor is used immediately after its fabrication or immediately after its fabrication. The temperature atmosphere during the manufacturing process is such that the dark conductivity of the photoconductive layer measured after the photosensor is placed in a substantially low temperature atmosphere for at least two hours and then returned to room temperature is 10 (Ω·cIrL). ) A photoelectric conversion input device having the above structure and further comprising a cooling means for cooling the photosensor.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016171547A (en) * 2015-03-16 2016-09-23 日本電気株式会社 Solid-state imaging apparatus and heat radiation method of solid-state imaging apparatus

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