JPS60263351A - Erasable optical recording and reproducing device - Google Patents
Erasable optical recording and reproducing deviceInfo
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- JPS60263351A JPS60263351A JP59118531A JP11853184A JPS60263351A JP S60263351 A JPS60263351 A JP S60263351A JP 59118531 A JP59118531 A JP 59118531A JP 11853184 A JP11853184 A JP 11853184A JP S60263351 A JPS60263351 A JP S60263351A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0055—Erasing
- G11B7/00557—Erasing involving phase-change media
Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光学的記録再生装置に係るものである。さら
に具体的には、レーザ光とレンズ等を用いて直径1μm
程度の微小光ビームに絞り、光記3・\−・
録媒体に照射し、高密度に信号を記録再生し、かつ一旦
記録した信号をレーザ照射により消去することによって
繰り返し信号を記録再生できる消去可能な光学的記録再
生装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to an optical recording/reproducing device. More specifically, a laser beam and a lens etc. are used to create a diameter of 1 μm.
Optical recording 3 \-・ Erasing that allows repeated recording and reproduction of signals by narrowing the light beam to a very small beam and irradiating it onto a recording medium to record and reproduce signals at high density, and once recorded signals are erased by laser irradiation. The present invention relates to a possible optical recording/reproducing device.
従来例の構成とその問題点
従来、光学的記録再生装置の1つの例として、回転する
光記録ディスクに前記微小ビーム径のレーザ光を照射す
る方式が提案されている。この装置において、信号の記
録は、光記録ディスクに照射するレーザ光強度を、記録
する信号で強度変調を行なうことによって、レーザのエ
ネルギーを利用して光記録ディスク−Lに所定の信号を
高密度に記録する。−力信号の再生は、光記録ディスク
の信号記録部位に、一定強度のレーザ光を照射し、光記
録ディスクでの、反射光または透過光の変化を検出する
ことによって記録されている信号を再、 % t 7′
。Conventional Structure and Problems Conventionally, as an example of an optical recording/reproducing apparatus, a method has been proposed in which a rotating optical recording disk is irradiated with a laser beam having the minute beam diameter. In this device, the signal is recorded by modulating the intensity of the laser beam irradiated onto the optical recording disk with the signal to be recorded, thereby recording a predetermined signal on the optical recording disk-L at high density using laser energy. to be recorded. - To reproduce the recorded signal, a laser beam of a certain intensity is irradiated to the signal recording area of the optical recording disk, and the recorded signal is reproduced by detecting the change in reflected light or transmitted light on the optical recording disk. , %t7'
.
この光学的記録再生装置は、記録密度が高く、1ビット
当りのメモリコストを安くできる点、高速でアクセスで
きる点、光学ヘッドと光記録ディスクが非接触で安定な
記録再生を行なえる点で、今後の情報化社会に新しい記
憶メディアを提供するものとして注目されている。This optical recording and reproducing device has high recording density, low memory cost per bit, high-speed access, and stable recording and reproducing without contact between the optical head and optical recording disk. It is attracting attention as a new memory medium for the future information society.
上記の光学的記録再生方式として、追記形のものと、消
去形のものが提案されており、追記形の記録再生方式と
して、照射するレーザの熱エネルギーを利用して、光記
録薄膜を局部的に蒸発させ、小孔を形成することによっ
て信号を記録再生する方式、照射光の熱エネルギーで記
録薄膜の光学的濃度を局部的に変化させることによって
信号を記録再生する方式等が提案されている。As the above-mentioned optical recording/reproducing method, a write-once type and an erasing type have been proposed.The write-once type recording/reproducing method uses the thermal energy of the irradiated laser to locally damage the optical recording thin film. A method of recording and reproducing signals by evaporating it to form small holes, and a method of recording and reproducing signals by locally changing the optical density of the recording thin film using the thermal energy of irradiated light have been proposed. .
一方、消去形の光学的記録再生装置としては、レーザの
熱効果と外部磁界と協働して、信号を記録再生する光磁
気記録材料を用いる方式。前記追記形記録における、光
学的濃度変化を行なう記録方式において、レーザ等の熱
エネルギーのみを用いて光学的濃度を可逆的に変化させ
る方式が提案されている。On the other hand, erasure-type optical recording and reproducing devices use magneto-optical recording materials that record and reproduce signals through the cooperation of the thermal effect of a laser and an external magnetic field. As a recording method for changing the optical density in the write-once recording, a method has been proposed in which the optical density is reversibly changed using only thermal energy such as a laser.
記録薄膜の可逆的濃度変化を得る1つの方法として、記
録薄膜の非晶質的状態と結晶的状態の間の転移、あるい
は1つの非晶質的状態と他の安定な非晶質的状態との間
の転移、あるいは、非晶質マトリクス中における結晶粒
子の大きさの変化等を繰り返し利用する方法がある。One way to obtain reversible concentration changes in the recording film is to transition between the amorphous and crystalline states of the recording film, or between one amorphous state and another stable amorphous state. There is a method that repeatedly utilizes transitions between crystal particles or changes in the size of crystal grains in an amorphous matrix.
本発明は、上記の光記録薄膜の可逆的濃度変化を利用す
る、光学的記録再生装置に関するものであり、本発明の
説明に先立って、その原理と以下に簡単に説明する。The present invention relates to an optical recording/reproducing device that utilizes the above-mentioned reversible density change of the optical recording thin film.Prior to explaining the present invention, the principle thereof will be briefly explained below.
説明の簡単のために、非晶質状態と、結晶質状態の間の
転移を利用して、光学的濃度変化を得るものとして説明
する。For the sake of simplicity, the explanation will be based on the assumption that an optical density change is obtained using a transition between an amorphous state and a crystalline state.
第1図に、上記の非晶質状態と結晶状態の間の転移をモ
デル化して簡単に示す。FIG. 1 briefly shows a model of the transition between the amorphous state and the crystalline state.
第1図で光記録薄膜の非晶質状態をAとして示す。非晶
質状態における記録薄膜の光の反射率は小さく、光の透
過率は大きい。また結晶状態をCで示し、結晶状態にお
ける記録薄膜は、反射率が大きく、透過率は小さい。In FIG. 1, the amorphous state of the optical recording thin film is shown as A. The recording thin film in an amorphous state has a low light reflectance and a high light transmittance. Further, the crystal state is indicated by C, and the recording thin film in the crystal state has a high reflectance and a low transmittance.
この可逆的に光学濃度を変化しうる記録薄膜で、第1図
における非晶質状態AvCある記録薄膜の温6ヘー、゛
度を局部的に融点近くまで、あるいは融点以上に上げ、
その部分を徐冷すると結晶状態Cとなる。一方、結晶状
態にある記録薄膜の温度を局部的に融点近くまであるい
は融点以上に上げてその部分を急冷すると非晶質状態A
になる。With this recording thin film whose optical density can be changed reversibly, the temperature of the recording thin film in the amorphous state AvC shown in FIG. 1 is raised locally to near or above the melting point.
When that part is slowly cooled, it becomes crystalline state C. On the other hand, if the temperature of the recording thin film in the crystalline state is locally raised to near or above the melting point and then rapidly cooled, the recording thin film becomes amorphous.
become.
第2図に記録薄膜上において、昇温急冷条件。Figure 2 shows the heating and cooling conditions on the recording thin film.
昇温徐冷条件を実現する1つの具体的方法を示す。One specific method for realizing the temperature raising and slow cooling conditions will be shown.
第2図aは、矢印の方向に相対的に進む記録媒体上にレ
ーザ等によって形成される略円形の微小スポラ)Lを示
す。この光スポットLの光強度を短時間だけ強めて薄膜
の局部を昇温すると、この局部での温度上昇はすみやか
に記録薄膜および薄膜の支持部材へ拡散し昇温急冷条件
を作る。FIG. 2a shows a substantially circular microspora L formed by a laser or the like on a recording medium that moves relatively in the direction of the arrow. When the light intensity of this light spot L is increased for a short period of time to raise the temperature of a local part of the thin film, the temperature rise in this local area is quickly diffused into the recording thin film and the support member for the thin film, creating conditions for rapid heating and cooling.
一方、第2図すに示すように、記録媒体の進む方向(矢
印)K細長い光スポラ)Mを記録媒体上に、レーザ等で
形成し、光スポットMの強度を連続的にあるいは間欠的
に強くすると、記録薄膜の昇温部はaの場合よりはるか
にゆっくり冷却することになり、昇温徐冷条件を得るこ
とができる。On the other hand, as shown in Fig. 2, an elongated optical spora (K) M is formed on the recording medium in the direction in which the recording medium advances (arrow), and the intensity of the optical spot M is adjusted continuously or intermittently. If the temperature is increased, the heated portion of the recording thin film will be cooled much more slowly than in the case of a, and a gradual heating and cooling condition can be obtained.
相対的に進行する記録薄膜上に微小円形ビームを当て、
その強度を時間的強弱変調し、パルス的な光として照射
することにより昇温急冷条件が得られ、また相対的に進
行する記録薄膜にその進行方向に細長い光ビームを連続
的または断続的に照射することにより昇温徐冷条件を得
ることができる。A minute circular beam is applied to the relatively advancing recording thin film,
By temporally modulating the intensity and irradiating it with pulsed light, conditions for heating and rapidly cooling can be obtained, and the relatively advancing recording thin film is continuously or intermittently irradiated with an elongated light beam in the direction of its progress. By doing so, it is possible to obtain heating and slow cooling conditions.
上記の原理にもとすく、消去可能な光学的記録再生装置
の1つの例として、第3図に示すように、例えば、光記
録ディスク上の案内溝(ここでは案内トラック、情報ト
ラックを含めて案内溝という)に、2ケの元ビームを配
置する方法が提案されている(特願昭59−52607
号)。第3図で、51は、光記録ディスク上に設けられ
る公知の、光記録材料を塗布した案内溝を示し、矢印へ
は、光記録媒体が照射光スポラ)M、Lに対して相対的
に動く方向を示し、Xは光記録媒体上の1つの点を示す
。点X上に記録されていた信号は長円形スポツ)Mの下
を通過する時に消去され、引き続いて円形スポットして
信号が記録再生できる。第4図には第3図に示す照射さ
れる光スポットM。Based on the above principle, as an example of an erasable optical recording/reproducing device, for example, as shown in FIG. A method has been proposed in which two main beams are arranged in a guide groove (Japanese Patent Application No. 59-52607).
issue). In FIG. 3, reference numeral 51 indicates a known guide groove coated with an optical recording material provided on the optical recording disk, and the arrow indicates the position of the optical recording medium relative to the irradiated light spora) M and L. It indicates the direction of movement, and X indicates one point on the optical recording medium. The signal recorded on point X is erased when it passes under the oblong spot (M), and the signal can be recorded and reproduced subsequently on the circular spot. FIG. 4 shows the irradiated light spot M shown in FIG. 3.
Lの強度分布のプロフィルの例を示す。rmは光スポラ
)Mの光軸を示し、光軸rmを中心に強度が略ガウス分
布し案内溝61に沿って長い元スポットを形成する。同
様に元スポットLも光軸rlを中心に略ガウス分布し、
案内溝61上に円形光ビームを形成する。したがって、
点Xに記録され与
でいる信号は、光スポラ)Mで昇温徐冷条件を臭えられ
、信号は消去され、引き続いて元スポットLで昇温急冷
条件を与えられ、信号の記録が行なわれる0このように
して、記録、消去が行なわれる。この方法の特徴は非常
にシンプルな構成で実時間に記録消去ができることにあ
るが、消去時に結晶化に必要な温度に保持するためにレ
ーザ光を長く拡大する必要があり、このため昇温にとっ
て充分な光パワー密度を確保するためには非常に大きい
出力のレーザが要るという大きな問題がある。An example of the profile of the intensity distribution of L is shown. rm indicates the optical axis of the optical spora) M, and the intensity has a substantially Gaussian distribution centered on the optical axis rm, forming a long original spot along the guide groove 61. Similarly, the original spot L also has a substantially Gaussian distribution centered on the optical axis rl,
A circular light beam is formed on the guide groove 61. therefore,
The signal recorded and given at point Recording and erasing are performed in this manner. The feature of this method is that it is possible to erase records in real time with a very simple configuration, but during erasing it is necessary to expand the laser beam for a long time to maintain the temperature required for crystallization. A major problem is that a laser with a very high output is required to ensure sufficient optical power density.
また第4図でも明らか々ように、点Xが消去光Mの光軸
1m付近に近すいたときはじめて融点に近ずく、したが
って昇温部の徐冷のためには、元スポットMの左半分の
みが使われることになり、消9′″′−・
告時の結晶化に必要な時間を長くとるには、光スポラ)
Mの溝方向の長さを一層長くする必要がある。このため
に一層大き々出力のレーザが必要となる。したがってこ
の方式においては、消去スポットMのパワー強度と消去
スポラ)Mの長さの選択を必ずしも独立的に自由に行な
えない欠点を有する。Also, as is clear from Fig. 4, the point X approaches the melting point only when it approaches 1 m from the optical axis of the erasing light M. Therefore, in order to slowly cool the heated part, it is necessary to (Photospora)
It is necessary to further increase the length of M in the groove direction. This requires a laser with even greater power. Therefore, this method has the disadvantage that the power intensity of the erase spot M and the length of the erase spoiler M cannot necessarily be freely and independently selected.
第3図、第4図の光装置で、消去後すぐ信号を記録する
には、光スポラ)MとLとの間に適当な距離Nが必要で
ある。すなわち、記録薄膜上の点Xが消去光Mの下を通
って、記録光りの下にきた時点では、消去光Mによる熱
的影響がかなり減衰し、かつ定状的状態に近い温度に下
降しているのが好ましい。何故なら、熱的に急激な過渡
的状態のまま点Xが元スポットLの下に来たとすると、
光スポラ)Lによる薄膜に対する熱的影響は、両光スポ
ットNの距離により著しく変化することになり、実際に
装置に用いるときに、距離Nの設定バラツキによって、
消去性能や、記録感度、記録性能がかわることになり、
全体として第3図に示1og−ノ
す、光スポラ)Mから光スポットLまでの距離りを大き
くする必要がある。光スポットM、Lを同一の絞りレン
ズで作る場合、光スポットの配置調整や、レンズの収差
を考慮すると、第3図における光スポット長は短かい程
良い。In order to record a signal immediately after erasing with the optical device shown in FIGS. 3 and 4, an appropriate distance N is required between the optical spoilers M and L. That is, at the point when the point X on the recording thin film passes under the erasing light M and comes under the recording light, the thermal influence of the erasing light M is considerably attenuated, and the temperature drops to a state close to a steady state. It is preferable to have This is because, if point X comes below the original spot L while in a thermally rapid transient state,
The thermal influence of the optical spora) L on the thin film changes significantly depending on the distance between the two optical spots N, and when actually used in the device, depending on the setting variation of the distance N,
Erasing performance, recording sensitivity, and recording performance will change.
Overall, it is necessary to increase the distance from the optical spora M to the optical spot L as shown in FIG. When creating the light spots M and L using the same aperture lens, the shorter the light spot length in FIG. 3, the better, considering the arrangement adjustment of the light spots and lens aberrations.
発明の目的
本発明は、従来の欠点に鑑み、実質的な徐冷区間を他に
影響を与えないで長くできる消去可能な光学的記録再生
装置を提供することを目的とする。OBJECTS OF THE INVENTION In view of the drawbacks of the prior art, it is an object of the present invention to provide an erasable optical recording/reproducing device that can lengthen the substantial annealing period without affecting others.
また本発明は、消去エネルギーの記録再生エネルギーへ
の影響を軽減し、熱的に相互により安定した状態で信号
の消去と記録を同時に行なうことができる消去可能な光
学的記録再生装置を提供することを目的とする。Another object of the present invention is to provide an erasable optical recording and reproducing device that can reduce the influence of erasing energy on recording and reproducing energy and simultaneously erase and record signals in a mutually more thermally stable state. With the goal.
発明の構成
本発明は、記録薄膜に昇温徐冷条件を与える元スポット
の相対的移動方向の光の強度分布の形を変えた消去可能
な光学的記録再生装置であり、光スポットの先頭部分で
昇温し、記録薄膜を融点近くまたは融点以上にすみやか
に上げ、その他の後11′−′
続部分で徐冷するようにしたものである。Structure of the Invention The present invention is an erasable optical recording/reproducing device that changes the shape of the light intensity distribution in the direction of relative movement of a source spot that applies heating and slow cooling conditions to a recording thin film. The temperature of the recording thin film is immediately raised to near or above the melting point, and then the recording thin film is slowly cooled in the subsequent part.
1だ本発明は、強度分布の形を変えた光スポットで走査
された記録媒体の部分を引き続いて略円形の書き込み捷
たは再生光スポットで走査するようにした消去可能な光
学的記録再生装置であり、消去と記録を同時に行なえる
ものである。1. The present invention provides an erasable optical recording/reproducing device in which a portion of a recording medium scanned by a light spot with a changed shape of intensity distribution is subsequently scanned by a substantially circular writing or reproducing light spot. This allows erasing and recording at the same time.
実施例の説明
本発明の具体的実施例を図面にしたがって以下に説明す
る。DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Specific embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第6図は、本発明が実施される光学的記録再生装置の一
実施例を示す。図で101は波長λ1の光を発生する記
録再生用半導体レーザを示し、その出力光ビームをlで
示す。102は集光レンズを示し、拡がりを有する半導
体レーザの出力光を集光して略平行など元ビームとする
。FIG. 6 shows an embodiment of an optical recording/reproducing apparatus in which the present invention is implemented. In the figure, reference numeral 101 indicates a recording/reproducing semiconductor laser that generates light of wavelength λ1, and its output light beam is indicated by l. Reference numeral 102 denotes a condensing lens which condenses the output light of the semiconductor laser having a spread into a substantially parallel original beam.
105r/′i波長λ の光を透過し、後述の波長λ2
f 4を′射す6九′−″合成器・′。6は1−”1
スプリッタ、107は反射ミラーを示す。半導体レーザ
ー01の光ビームlはこれらの光学素子を通って絞りレ
ンズ108に入射する。絞りレンズ108は入射する光
ビームlを絞って光記録ディスク上の案内トラック51
上に略円形の光スポットLを作る。109は絞りレンズ
108を駆動するアクチュエータを示し、ディスクの面
ぶれに対応して、絞りレンズを光軸方向に駆動して公知
のフォーカス制御を行なう。またこのアクチーエータは
、ディスクの径方向に絞りレンズ108を駆動して公知
のトラッキング制御を行なう。105r/'i of wavelength λ is transmitted, and the wavelength λ2 described below is transmitted.
f 69′-″ combiner that shoots 4′. 6 is 1-”1
The splitter 107 indicates a reflecting mirror. The light beam l of the semiconductor laser 01 passes through these optical elements and enters the aperture lens 108. The aperture lens 108 narrows down the incident light beam l to guide the guide track 51 on the optical recording disk.
A substantially circular light spot L is created above. Reference numeral 109 denotes an actuator for driving the aperture lens 108, which drives the aperture lens in the optical axis direction in response to surface wobbling of the disk to perform known focus control. The actuator also drives the aperture lens 108 in the radial direction of the disk to perform known tracking control.
第6図で、103は波長λ2の元ビームmを発生する半
導体レーザであり、104はその集光レンズを示す。集
光レンズ104は、半導体レーザ103の出力光ビーム
mを断面が楕円形の略平行光に変換する。この元ビーム
mは、ビーム合成器105で反射されて、元ビームlと
ほぼ同じ光路を通り絞りレンズ108に入射し、光スポ
ラ)Lと同じ溝51上に第3図、第4図で示すように、
楕円形でかつその長径方向が溝51の長手方向と一致す
る元スポットMが形成される。In FIG. 6, 103 is a semiconductor laser that generates an original beam m of wavelength λ2, and 104 is a condenser lens thereof. The condenser lens 104 converts the output light beam m of the semiconductor laser 103 into substantially parallel light having an elliptical cross section. This original beam m is reflected by the beam combiner 105, passes through almost the same optical path as the original beam l, and enters the aperture lens 108, and is placed on the same groove 51 as the optical spora L as shown in FIGS. 3 and 4. like,
An original spot M is formed which is elliptical and whose major axis direction coincides with the longitudinal direction of the groove 51 .
第5図で光記録ディスクで反射された光は絞りレンズ1
08、ミラー107を通ってビームスプ13 ′=:
リソタ106に入射し、光路を変更されてフィルタ板1
11に入射する。ここでは波長λ1の光lのみが透過し
、波長λ2の光mは透過しないフィルター板を示す。1
12は単レンズで反射光ビームlを絞りビームに変換す
る。113は反射ミラーを示し、単レンズ112による
絞り光の約半分を遮りかつ反射して光検出器116の方
へ導びく役割りをする。In Figure 5, the light reflected by the optical recording disk is the aperture lens 1.
08, Beam splitter 13' through the mirror 107: Enters the resota 106, changes the optical path, and passes through the filter plate 1
11. Here, a filter plate is shown that allows only light l with a wavelength λ1 to pass through, but not light m with a wavelength λ2. 1
12 is a single lens which converts the reflected light beam l into an aperture beam. Reference numeral 113 denotes a reflecting mirror, which functions to block and reflect about half of the light focused by the single lens 112 and guide it toward the photodetector 116.
114はフォーカス誤差信号を検出するだめの二分割の
フォトダイオードを示し、単レンズ112のフォーカス
点に配置され、分割された光11 の移動に対応して従
来公知のフォーカス誤差信号を検出する。116はトラ
ッキング誤差信号を検出するだめの二分割フォトダイオ
ードでありミラー113による反射光12により従来公
知のトラッキング誤差信号を検出する。Reference numeral 114 denotes a two-split photodiode for detecting a focus error signal, which is placed at the focus point of the single lens 112 and detects a conventionally known focus error signal in response to movement of the split light 11. Reference numeral 116 designates a two-split photodiode for detecting a tracking error signal, and detects a conventionally known tracking error signal using reflected light 12 from the mirror 113.
光記録ディスク上の案内溝51に記録された信号は光検
出器114または116より再生される。The signal recorded in the guide groove 51 on the optical recording disk is reproduced by a photodetector 114 or 116.
116は、半導体レーザ103を駆動するレーザ駆動回
路で溝61上に形成される長円形の光ス14ベーン
ボッ)Mの強度を端子Oに印加する信号で制御する0
117は半導体レーザ101を駆動するレーザ駆動回路
で、溝61上に形成される略円形の光スポツ)Lの強度
を端子Pに印加する信号で制御する0
第5図で、118は本発明で用いる、光強度の分布を変
更する回折素子の挿入例を示す。回折素子118は、入
射する光ビームmに対して、主にディスク上の案内溝6
1の方向(主として一次元方向のみ)に回折効果を与え
る回折素子であり前記案内溝51上における、消去光ス
ポットの強度分布を変更させる目的に使用される。この
回折素子の機能、構成について具体例を以下に説明する
。116 is a laser drive circuit that drives the semiconductor laser 103, and the intensity of the oval optical beam (14) M formed on the groove 61 is controlled by a signal applied to the terminal O. 117 is a laser drive circuit that drives the semiconductor laser 101. In the laser drive circuit, the intensity of the approximately circular light spot (L) formed on the groove 61 is controlled by a signal applied to the terminal P. In FIG. 5, 118 changes the distribution of light intensity used in the present invention. An example of inserting a diffraction element is shown below. The diffraction element 118 mainly acts on the guide groove 6 on the disk with respect to the incident light beam m.
It is a diffraction element that gives a diffraction effect in one direction (mainly only in one-dimensional direction), and is used for the purpose of changing the intensity distribution of the erasing light spot on the guide groove 51. A specific example of the function and configuration of this diffraction element will be described below.
第6図aに、第5図における、回折素子118と絞りレ
ンズ108、および光記録ディスク上の案内溝51との
関係を示す。矢印Aは、溝51の進行方向を示す。FIG. 6a shows the relationship between the diffraction element 118, the aperture lens 108, and the guide groove 51 on the optical recording disk in FIG. 5. Arrow A indicates the direction in which the groove 51 moves.
この図で回折素子118に入射する平行光mは、第6図
すの(1)に示すように略ガウス分布に近い強15 ”
。In this figure, the parallel light m incident on the diffraction element 118 has an intensity of 15'' which is close to a Gaussian distribution, as shown in Figure 6 (1).
.
度分布を有する。回折素子118上のx1点に入射する
光は回折を受けずに直進し、例えば絞りレンズ上の点x
1 に進む。また入射光mの光軸中心の光は回折素子1
18のx2点に入り、x2点で回折をうけて0次光は直
進して絞りレンズ上のx2点に到達する。一方の一次元
X2は例えば、絞シレンズ上の点x1 の方向に角度θ
1 の回折をうける。回折素子118のx3点に入射す
る光の一方の一次回新党x3も絞りレンズ上のx1点の
方向に角度θ2の回折をうける。今仮りにθ2〉θ1に
なるように回折素子を構成すると、絞りレンズの焦点位
置で、第6図b 、 (2)に拡大して示す光強度分布
を得る。この光強度分布は、回折素子に入射した光の強
度分布(ガウス分布)と異なった形となる。上記のよう
にして、ディスク上の新しい記録領域が、この光スポッ
トに進入してくる部分(ここでは光スポットの先頭部分
ということにする)に強度が強い部分を有する消去光を
得ることができる。It has a degree distribution. The light incident on point x1 on the diffraction element 118 is not diffracted and travels straight, for example, at point x on the aperture lens.
Proceed to 1. Also, the light at the center of the optical axis of the incident light m is transmitted through the diffraction element 1
The zero-order light enters the x2 point of No. 18, undergoes diffraction at the x2 point, and travels straight to reach the x2 point on the aperture lens. For example, one dimension X2 is an angle θ in the direction of point x1 on the aperture lens.
1 is subject to diffraction. One of the primary beams x3 of the light incident on the x3 point of the diffraction element 118 is also diffracted at an angle θ2 in the direction of the x1 point on the aperture lens. If the diffraction element is constructed so that θ2>θ1, a light intensity distribution shown in enlarged form in FIG. 6b (2) will be obtained at the focal position of the diaphragm lens. This light intensity distribution has a shape different from the intensity distribution (Gaussian distribution) of light incident on the diffraction element. In the above manner, a new recording area on the disk can obtain erasing light that has a strong intensity part in the part where it enters this light spot (here, we will call it the leading part of the light spot). .
このような強度分布を有する光スポットを得るためには
、回折素子118の例として回折角度が点x1からx3
に向かってリニアーに変化する一次元の回折素子、ある
いは回折量の制御された一次元の回折素子が用いられる
。In order to obtain a light spot having such an intensity distribution, as an example of the diffraction element 118, the diffraction angle is changed from point x1 to x3.
A one-dimensional diffraction element that changes linearly toward the radial angle or a one-dimensional diffraction element whose amount of diffraction is controlled is used.
つぎに、第7図によって、上記光強度分布を変更して、
案内溝51に沿って作った、消去光M〔第7図b〕と、
従来の消去光〔第7図C〕との効果の相異について説明
する。Next, according to FIG. 7, the above light intensity distribution is changed,
Erasing light M [FIG. 7b] created along the guide groove 51,
The difference in effect from the conventional erasing light (FIG. 7C) will be explained.
第7図aは、第6図の装置で案内溝61上に形成される
二ヶの光スポット (L、M)の形状および配置を示す
。矢印Aは記録媒体の照射光スポットに対する進行方向
を示す、点Xは記録媒体上の1つの点を示す。FIG. 7a shows the shape and arrangement of two light spots (L, M) formed on the guide groove 61 with the device of FIG. 6. Arrow A indicates the traveling direction of the recording medium with respect to the irradiation light spot, and point X indicates one point on the recording medium.
第7図すは本発明による光スポットの溝方向に沿った強
度分布の例を示す図、第7図Cは従来の光スポットの強
度分布の例を示す図、この図を用いて、本発明によるb
図の場合の効果を0図の場合と比較しながら説明する。FIG. 7 is a diagram showing an example of the intensity distribution of the light spot along the groove direction according to the present invention, and FIG. 7C is a diagram showing an example of the intensity distribution of the conventional light spot. b by
The effect in the case of a figure will be explained while comparing with the case of a zero figure.
b、c図でmlは、記録薄膜が昇温しで融点近くの温度
になる点、および、m2は記録薄膜の温度が降下して融
点から17’マー;・
下がる点とする。In figures b and c, ml is the point at which the temperature of the recording thin film rises to near the melting point, and m2 is the point at which the temperature of the recording thin film decreases by 17' below the melting point.
b図で光記録媒体上の一点Xが消去光Mの中に入ってく
ると、まず光スポラ)Mの先頭部の高強度の部分で急激
に昇温し、点m1 で融点近くに達し、光パワーが下降
しはじめるm2点で融点以下になり、dl で示す区間
で徐冷され結晶化に必要な時間記録薄膜を徐々に冷却し
、あらかじめ記録してあった信号を消去する。引き続い
て点XはW1区間で記録光が照射されて新しい信号が記
録される0 ハ′
C図の場合も同様の機能を行なうものであるミb図に比
して、次の欠点を有する第1には、0図で点pとml
の間にかなりの光パワーがありかつ、この光パワーは記
録薄膜のゆっくりした昇温に寄与するが溶融には余り寄
与せず、b図に比して効果の々い光パワーが消耗されて
いることになる。In figure b, when a point X on the optical recording medium enters the erasing light M, the temperature rises rapidly at the high-intensity part at the beginning of the optical spora) M, reaching near the melting point at point m1. At m2 point, where the optical power begins to decrease, it becomes below the melting point, and in the interval indicated by dl, it is slowly cooled to gradually cool the time recording thin film required for crystallization, erasing the prerecorded signal. Subsequently, point X is irradiated with recording light in interval W1 and a new signal is recorded. 1, point p and ml in figure 0
There is a considerable amount of optical power in between, and this optical power contributes to the slow temperature rise of the recording thin film, but it does not contribute much to melting, and compared to Figure b, the more effective optical power is wasted. There will be.
第2図に0図の場合、徐冷区間は点m2から点qまでの
d2区間であり、b図の光スポラ)Mの光量と0図の光
スポラ)Mの光量が等しいとすると0図のd2区間の光
量はb図のd1区間に比して18/ζ−ン
光量も少々いし、通過時間(−徐冷期間)も短かい欠点
を有す。したがって、0図でさらに結晶化のための徐冷
区間d2 を長くしようと思えば光スポットMの溝に沿
った長さを一層長くシ、シかもさらに多くの光パワーを
照射する必要があり、光源の半導体レーザとしても高出
力のパワーのものが必要となる。In the case of figure 0 in figure 2, the slow cooling section is the d2 interval from point m2 to point q, and if the light intensity of the optical spora) M in figure b is equal to the light intensity of the optical spora) M in figure 0, then figure 0 The amount of light in the d2 section of FIG. Therefore, if you want to further lengthen the slow cooling section d2 for crystallization in Figure 0, you will need to lengthen the length of the light spot M along the groove, and it will be necessary to irradiate even more optical power. The semiconductor laser used as the light source also needs to have a high output power.
したがって、本発明による第7図すに示す光強度分布の
2ケの光スポットを作ると、次の特長を有する装置を作
ることができる。Therefore, by creating two light spots with the light intensity distribution shown in FIG. 7 according to the present invention, it is possible to create a device having the following features.
(1)消去光の先頭部(記録媒体の任意の点が消去光に
照射されはじめる点)で融点近くまで薄膜を昇温できる
昇温に対するパワーロスが少なく、その分の光パワーを
徐冷にまわすことができる。(1) The thin film can be heated to near the melting point at the beginning of the erasing light (the point where any point on the recording medium begins to be irradiated with the erasing light). There is little power loss due to heating, and the corresponding optical power is used for slow cooling. be able to.
(2)第7図aで、光スポットの区間りを一定とすると
bの方式はCの方式に比し、はるかに長い徐冷区間をと
れるので、確実な結晶化ができる。(2) In FIG. 7a, if the length of the light spot is constant, method b allows for a much longer slow cooling period than method C, so that reliable crystallization can be achieved.
(3)b図で、消去光による融点に上昇する点、19・
・ 〕
m19m2区間と、記録再生光りとの距離が0図より大
きくとれるので、消去光Mの熱的状態が安定化したあと
、次の信号を安定に記録を行なえる。(3) In figure b, the point that rises to the melting point due to the erasing light, 19.
・] Since the distance between the m19m2 section and the recording/reproducing light can be made larger than in Figure 0, the next signal can be stably recorded after the thermal state of the erasing light M is stabilized.
第6図、第6図に示した回折素子118の具体的な例と
して、例えば透明ガラス上に濃度を有するストライブを
有し、そのストライブの幅および間隔をリニアに変化さ
せたものを用い、ストライブに直角方向に回折させるこ
とが考えられる。丑だ、透明ガラス上に、溝を設け、そ
の溝の幅およびピンチをリニアに変化させた回折素子を
設け、この溝に直角方向に回折させることによっても同
様の機能を得ることができる。As a specific example of the diffraction element 118 shown in FIG. , it is conceivable to cause the diffraction to occur in a direction perpendicular to the stripe. Alternatively, a similar function can be obtained by providing a groove on transparent glass, providing a diffraction element whose width and pinch are linearly changed, and causing diffraction to occur in a direction perpendicular to the groove.
またこれらの回折素子は、第5図に示す如く、光ビーム
が平行になっている場所に挿入する場合に設計しやすく
、また実際の組み立て、調整も実施しやすいものである
。したがって、上記回折素f 子は、平行ビーム径路に
挿入されるのが好適である。Furthermore, these diffraction elements are easy to design when inserted in a place where the light beams are parallel, as shown in FIG. 5, and are easy to assemble and adjust in practice. Therefore, the diffraction element f 2 is preferably inserted into the parallel beam path.
また、第5図で消去用光源は1ケの半導体レーザである
として説明したが、1つのチップの上にアレイ状にかつ
、案内溝の方向に、複数ケの発光面を有する半導体レー
ザを消去用の光源として用いる場合にも、上記回折素子
は同等の効果を発揮し、案内溝方向に長円形でかつ、先
頭部分に光強度の大部分を有する消去光スポットを得る
ことができる。In addition, in Fig. 5, the erasing light source was explained as one semiconductor laser, but it is also possible to erase semiconductor lasers that have multiple light emitting surfaces arranged in an array on one chip and in the direction of the guide groove. When used as a light source, the above-mentioned diffraction element exhibits the same effect, and can obtain an erasing light spot that is oval in the direction of the guide groove and has most of the light intensity at the leading portion.
発明の詳細
な説明したように本発明は構成したので、他に影響を与
えることなく実質的な徐冷区間を長くすることができる
。Since the present invention is configured as described in the detailed description of the invention, the substantial slow cooling period can be lengthened without affecting others.
また消去エネルギーの記録再生エネルギーへの影響を軽
減し、熱的に相互により安定した状態で信号の消去と記
録を同時に行なうことができる。Furthermore, the influence of erasing energy on recording/reproducing energy can be reduced, and signals can be simultaneously erased and recorded in a thermally more stable state.
第1図、第2図は本発明で用いる消去可能々光記録材料
の原理を示す図、第3図は光記録薄膜上での光スポット
の配置と光記録薄膜の動く方向を示す図、第4図は光記
録薄膜上における、光スポットの強度分布の例を示す図
、第6図は本発明の21 /F−、−、ニ
一実施例を含む光学的記録再生装置のブロック図、第6
図は同実施例における回折素子の説明図、第7図は従来
と本発明による光記録薄膜上での光スポットの強度分布
を示す特性図である。
101・・・・記録再生用半導体レーザ、103・・・
・・・・・半導体レーザ、118 ・・・・回折素子。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図
(坊
第3図
第4図
第5図Figures 1 and 2 are diagrams showing the principle of the erasable optical recording material used in the present invention, Figure 3 is a diagram showing the arrangement of the light spot on the optical recording thin film and the direction in which the optical recording thin film moves, FIG. 4 is a diagram showing an example of the intensity distribution of a light spot on an optical recording thin film, and FIG. 6
The figure is an explanatory diagram of the diffraction element in the same embodiment, and FIG. 7 is a characteristic diagram showing the intensity distribution of the light spot on the optical recording thin film according to the conventional method and the present invention. 101...Semiconductor laser for recording and reproduction, 103...
... Semiconductor laser, 118 ... Diffraction element. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Figures (Figure 3, Figure 4, Figure 5)
Claims (3)
去、または前記記録媒体の記録薄膜における非晶質的状
態を結晶的状態に変化させる元スポットを形成する光ス
ポツト形成手段を備え、前記光スポットは、記録媒体上
で記録媒体と元ビームの相対的移動方向に対して長径を
有する略長円形状を有し、かつこの光スポットの光強度
最高となる部分が前記長円形の相対的移動方向の先頭部
分にあることを特徴とする消去可能な光学的記録再生装
置。(1) A light spot forming means for forming a source spot for erasing at least one recorded signal on a recording medium or for changing an amorphous state in a recording thin film of the recording medium to a crystalline state; The light spot has a substantially elliptical shape having a major axis with respect to the direction of relative movement between the recording medium and the original beam on the recording medium, and the portion of the light spot where the light intensity is maximum is relative to the ellipse. An erasable optical recording/reproducing device characterized in that it is located at the leading portion in the direction of movement.
のレーザ光源の出力光を記録媒体と元スポットの相対的
移動方向に回折する回折手段と、この回折光を微小光ビ
ームに絞る手段とを有している特許請求の範囲第1項記
載の消去可能な光学的記録再生装置。 2”−7′(2) The light spot forming means includes one laser light source, a diffraction means for diffracting the output light of the laser light source in the direction of relative movement between the recording medium and the original spot, and means for focusing the diffracted light into a minute light beam. An erasable optical recording and reproducing device according to claim 1, having the following. 2”-7′
レーザアレイと、このレーザアレイを記録媒体上で光ス
ポットの走査方向に沿って結像させるように配置する手
段と、前記レーザアレイの出力光を記録媒体上で光スポ
ットが走査する方向に回折する回折手段と、この回折手
段を通った光を微小光ビームに絞る手段とを有している
特許請求の範囲第1項記載の消去可能な光学的記録再生
装置0(4)記録媒体を相対的に走査する方向に長円形
を有し、かつその先頭部分に光強度が高い部分を有する
光スポットを形成する手段と、前記光スポットで走査さ
れた記録媒体の部分を引き続いて略円形の書き込みまた
は再生光スポットで走査する手段を備えたことを特徴と
する消去可能な光学的記録再生装置。(3) The light spot forming means includes a laser array having a plurality of light emitting sources, means for arranging the laser array so as to form an image on the recording medium along the scanning direction of the light spot, and Erasure according to claim 1, comprising a diffraction means for diffracting output light in a direction in which a light spot scans on a recording medium, and means for focusing the light passing through the diffraction means into a minute light beam. Possible optical recording/reproducing device 0(4) means for forming a light spot having an oval shape in the direction of relative scanning of a recording medium and having a portion with high light intensity at the leading portion thereof, and the light spot 1. An erasable optical recording and reproducing apparatus, characterized in that the erasable optical recording and reproducing apparatus comprises means for subsequently scanning a portion of a recording medium scanned by a substantially circular writing or reproducing light spot.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59118531A JPS60263351A (en) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | Erasable optical recording and reproducing device |
US06/739,872 US4679184A (en) | 1984-06-08 | 1985-05-31 | Optical recording and reproducing apparatus having erasing beam spot with asymmetrical intensity distribution |
CA000483074A CA1243401A (en) | 1984-06-08 | 1985-06-03 | Optical recording and reproducing apparatus having erasing function |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59118531A JPS60263351A (en) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | Erasable optical recording and reproducing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60263351A true JPS60263351A (en) | 1985-12-26 |
Family
ID=14738899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59118531A Pending JPS60263351A (en) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | Erasable optical recording and reproducing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60263351A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4799208A (en) * | 1985-10-08 | 1989-01-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording and reproducing apparatus having erasing function with controllable erasing beam |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5971143A (en) * | 1982-10-15 | 1984-04-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical recorder and reproducer |
-
1984
- 1984-06-08 JP JP59118531A patent/JPS60263351A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5971143A (en) * | 1982-10-15 | 1984-04-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical recorder and reproducer |
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