JPS60255990A - 写真安定液の銀回収方法 - Google Patents
写真安定液の銀回収方法Info
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Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は水洗代替写真安定液の銀回収方法に関し、特に
脱銀工程に続く水洗工程を行わない安定化処理方法にお
いて、安定液から銀回収する方法に関する。
脱銀工程に続く水洗工程を行わない安定化処理方法にお
いて、安定液から銀回収する方法に関する。
従来の水洗工程を含む処理方法において、定着液、漂白
定着液、水洗水等からの銀回収方法としては例えば電解
銀回収法、還元沈殿法、金属置換法、イオン交換樹脂法
、電気透析法、硫化銀沈殿法、細菌沈殿法、放射線分解
法等が知られてお勺、各種処理液中の可溶性銀塩が回収
されている。
定着液、水洗水等からの銀回収方法としては例えば電解
銀回収法、還元沈殿法、金属置換法、イオン交換樹脂法
、電気透析法、硫化銀沈殿法、細菌沈殿法、放射線分解
法等が知られてお勺、各種処理液中の可溶性銀塩が回収
されている。
一方、最近環境保全、水資源、低コスト、公害等の目的
のため定着又は漂白定着後の水洗を行わないで直接安定
化処理を行う技術が開発され、例えば特開昭57−85
43号、同57−132146号、同58−14834
号、同58−14834号各公報等に開示されている。
のため定着又は漂白定着後の水洗を行わないで直接安定
化処理を行う技術が開発され、例えば特開昭57−85
43号、同57−132146号、同58−14834
号、同58−14834号各公報等に開示されている。
かかる安定化処理においては、安定液に定着能を有する
処理液が持ち込まれるため、安定液からの銀回収手段の
開発が要請されることとなった。
処理液が持ち込まれるため、安定液からの銀回収手段の
開発が要請されることとなった。
本発明者は、安定液の銀回収手段について、鋭意研究を
重ねた結果、安定液組成に特異性があることが判った。
重ねた結果、安定液組成に特異性があることが判った。
即ち、安定液中の可溶性銀イオンが前液からの持ち込み
分しか存在しないため、その一度が極めて低いこと、及
び安定化処理の前に水洗を行った場合には、その水洗に
よって洗い流されてしまう成分までが安定液中に蓄積さ
れることなどの液組成の特異性を有することが判った。
分しか存在しないため、その一度が極めて低いこと、及
び安定化処理の前に水洗を行った場合には、その水洗に
よって洗い流されてしまう成分までが安定液中に蓄積さ
れることなどの液組成の特異性を有することが判った。
更に定着液と比べ以下のような差異を有することが判っ
た。即ち、定着液中における・・イボとアンモニア水の
比と、安定液中におけるハイポとアンモニア水の比で見
ると安定液中におけるアンモニア濃度が相対的に高いこ
と、また安定液中におけるキレート濃度が高いこと、更
に特有の成分として防パイ剤等を含んでいること等にお
いて差異があることが判った。
た。即ち、定着液中における・・イボとアンモニア水の
比と、安定液中におけるハイポとアンモニア水の比で見
ると安定液中におけるアンモニア濃度が相対的に高いこ
と、また安定液中におけるキレート濃度が高いこと、更
に特有の成分として防パイ剤等を含んでいること等にお
いて差異があることが判った。
本発明者は以上のような特異な組成含有する安定液から
銀回収を行う手段について更に鋭意研究を重ね、最も効
果的な回収手段が特定の陰極を用いる電解法であること
を見い出し本発明を完成する°に至ったものである。
銀回収を行う手段について更に鋭意研究を重ね、最も効
果的な回収手段が特定の陰極を用いる電解法であること
を見い出し本発明を完成する°に至ったものである。
従って本発明の第1の目的は、電流効率の高い電解銀回
収法による水洗代替写真安定液の銀回収方法を提供する
ことにあシ、また本発明の第′2の目的は、純度の高い
金属銀を回収できる水洗代替写真安定液の銀回収方法を
提供することにあり、第3の目的は安定液に対して長期
に安定な陰極材質を持つ電解銀回収装置による水洗代替
写真安定液からの銀回収方法を提供することにある。更
に本発明の第4の目的は安定液が再利用できる水洗代替
安定液の銀面収方法を提供することにある。
収法による水洗代替写真安定液の銀回収方法を提供する
ことにあシ、また本発明の第′2の目的は、純度の高い
金属銀を回収できる水洗代替写真安定液の銀回収方法を
提供することにあり、第3の目的は安定液に対して長期
に安定な陰極材質を持つ電解銀回収装置による水洗代替
写真安定液からの銀回収方法を提供することにある。更
に本発明の第4の目的は安定液が再利用できる水洗代替
安定液の銀面収方法を提供することにある。
本発明に係る写真安定液の銀回収方法は、ハロゲン化銀
写真感光材料を定着処理後実質的に水洗しないで写真安
定液で処理する無水洗処理における該写真安定液を電解
することによシ銀回収する写真安定液の銀回収方法にお
いて、前記電解用電極の陰極材質がステンレス鋼又はチ
タン鋼であることを特徴とする。
写真感光材料を定着処理後実質的に水洗しないで写真安
定液で処理する無水洗処理における該写真安定液を電解
することによシ銀回収する写真安定液の銀回収方法にお
いて、前記電解用電極の陰極材質がステンレス鋼又はチ
タン鋼であることを特徴とする。
本発明における電解手段は、電解銀回収装置を用いて電
解して銀回収を行うものである。電解銀回収装置は基本
的には電解槽と該電解槽内に特定材質の陰極と陽極の両
電極を有し、該両電極に直流を通ずることによシ、陰極
に金属銀を析出させ、該銀を回収するものである。
解して銀回収を行うものである。電解銀回収装置は基本
的には電解槽と該電解槽内に特定材質の陰極と陽極の両
電極を有し、該両電極に直流を通ずることによシ、陰極
に金属銀を析出させ、該銀を回収するものである。
本発明に用いられる電解槽は長時間の使用または再度の
使用にも副える絶縁材料で作るのが好ましく、特に合成
樹脂であるポリビニルクロライド、ポリビニルメタアク
リレート、ポリエチレン、ポリフロピレン、フェノール
ホルムアルデヒド樹脂が好ましく用いられる。
使用にも副える絶縁材料で作るのが好ましく、特に合成
樹脂であるポリビニルクロライド、ポリビニルメタアク
リレート、ポリエチレン、ポリフロピレン、フェノール
ホルムアルデヒド樹脂が好ましく用いられる。
電解用電極の陰極材質には、ステンレス鋼又はチタン鋼
が用いられる。
が用いられる。
ここにステンレス鋼とは、鉄を主成分とし、少なl:も
クロム11〜30に、ニッケルO〜37に、モリブデン
O〜4に、チタン0〜1に、銅O〜3に含有し九合金で
ある。具体的には、日本工業規格(JIS)で定められ
次ステンレス鋼では5US200番台〜400番台及び
600番台(JIS G 4303〜G4309及びJ
IS G 4313〜G4315.1972年)、5U
S−8TKS(JIS G3459−1968 、JI
S G 3463−1968 、JISG3441−1
966)、5C8(JIS G 5121−1969)
、DおよびYの300〜400番台(JIS Z 3z
2x−t96s 、JIS Z 3321−1969)
、5UH(JIS G 4311−1972 、JrS
G4312−1972)、5CH(JIS G 51
22−1969 )が用いられる。これらのステンレス
鋼等のうち少なくともクロム11%〜30に、ニッケル
3π〜゛20写含有する例えば5u5200番台、30
0番台、600番台が好ましく用いられ、更に好ましく
は少なくともクロム16〜20%、ニッケル10〜16
に、モリブデン1.2〜4.0に含有する例えば5US
316,316L、316Ji、316JIL、317
が用いられる。
クロム11〜30に、ニッケルO〜37に、モリブデン
O〜4に、チタン0〜1に、銅O〜3に含有し九合金で
ある。具体的には、日本工業規格(JIS)で定められ
次ステンレス鋼では5US200番台〜400番台及び
600番台(JIS G 4303〜G4309及びJ
IS G 4313〜G4315.1972年)、5U
S−8TKS(JIS G3459−1968 、JI
S G 3463−1968 、JISG3441−1
966)、5C8(JIS G 5121−1969)
、DおよびYの300〜400番台(JIS Z 3z
2x−t96s 、JIS Z 3321−1969)
、5UH(JIS G 4311−1972 、JrS
G4312−1972)、5CH(JIS G 51
22−1969 )が用いられる。これらのステンレス
鋼等のうち少なくともクロム11%〜30に、ニッケル
3π〜゛20写含有する例えば5u5200番台、30
0番台、600番台が好ましく用いられ、更に好ましく
は少なくともクロム16〜20%、ニッケル10〜16
に、モリブデン1.2〜4.0に含有する例えば5US
316,316L、316Ji、316JIL、317
が用いられる。
またチタン鋼とはチタンを主成分とする金Jli(他の
金属との合金および混合物を含む)をいい、チタン宮有
量は少なくとも50に以上が好ましく、よシ好ましくは
90に以上上あり、特に好ましくは99に以上である。
金属との合金および混合物を含む)をいい、チタン宮有
量は少なくとも50に以上が好ましく、よシ好ましくは
90に以上上あり、特に好ましくは99に以上である。
陽極材質としては、電解によシ、あるいは安定液によシ
溶解せず、長時間の使用または再度の使用にも耐えられ
る電気伝導体又は半導体であればよく、特にカーボン(
グラファイトも含む)及び/又はカーボン繊維が好まし
く用いられる。
溶解せず、長時間の使用または再度の使用にも耐えられ
る電気伝導体又は半導体であればよく、特にカーボン(
グラファイトも含む)及び/又はカーボン繊維が好まし
く用いられる。
陰極及び陽極の形状は、円板、円筒、板、粒、繊維状の
いずれでもよいが、特に陰極が円筒であシ、陽極が円筒
と繊維を併用するのが好ましい。
いずれでもよいが、特に陰極が円筒であシ、陽極が円筒
と繊維を併用するのが好ましい。
槽中の液の攪拌は重要で、送液及び/又は陰極の回転に
よる攪拌が好ましい。また陰極と陽極は隔嗅で仕切られ
ていてもよく、膜の材質としては牛透膜、石M@、素焼
板、薄いガラス、焼結ガラス、ガラス繊維、微孔性合成
高分子@(例えば、ポリ塩化ビニル膜、ポリスチレン暎
、ポリスルホン膜、ポリエステル膜、ポリプロピレン膜
など)及びイオン交換膜などが挙げられる。
よる攪拌が好ましい。また陰極と陽極は隔嗅で仕切られ
ていてもよく、膜の材質としては牛透膜、石M@、素焼
板、薄いガラス、焼結ガラス、ガラス繊維、微孔性合成
高分子@(例えば、ポリ塩化ビニル膜、ポリスチレン暎
、ポリスルホン膜、ポリエステル膜、ポリプロピレン膜
など)及びイオン交換膜などが挙げられる。
電解条件は別に限定されないが、陰極電位が−0,40
〜−0,55V、陽極電位がO〜0.20V(対飽和カ
ルメル電位)、即ち両極間電位が0.40〜o、 s
o v (溶液抵抗による電位も含む)の範囲が好まし
い。
〜−0,55V、陽極電位がO〜0.20V(対飽和カ
ルメル電位)、即ち両極間電位が0.40〜o、 s
o v (溶液抵抗による電位も含む)の範囲が好まし
い。
次に上記の電解装置を組み込んだ本発明の回収方法を説
明する。
明する。
本発明の銀回収は水洗代番安定液を対象とするものであ
るが、かかる安定液中に銀が含まれるのは、安定化処理
工程の前工程において脱銀された銀成分が回収されず又
は回収が不十分な丸めに写真感光材料に付着して持ち込
まれてくるものである。この場合にも安定化処理の前に
水洗を行って銀成分を系外に排出、回収する手段があれ
ば、安定液に持ち込まれる銀成分は考慮の対象とならな
いのであるが、本発明はかかる水洗を排除した点に特徴
を持つものであるから、銀成分の持ち込みはごく低濃度
であるが無視し得ないのである。
るが、かかる安定液中に銀が含まれるのは、安定化処理
工程の前工程において脱銀された銀成分が回収されず又
は回収が不十分な丸めに写真感光材料に付着して持ち込
まれてくるものである。この場合にも安定化処理の前に
水洗を行って銀成分を系外に排出、回収する手段があれ
ば、安定液に持ち込まれる銀成分は考慮の対象とならな
いのであるが、本発明はかかる水洗を排除した点に特徴
を持つものであるから、銀成分の持ち込みはごく低濃度
であるが無視し得ないのである。
また安定液に持ち込まれるのは銀成分に限らず、他の定
着成分も含むことになるが、そのために当然定着液にお
けるアンモニア濃度(対・・イボ)と安定液中における
アンモニア濃度(対・−イボ)が極端に変夛、安定液中
のアンモニア濃度が相対的に高くなる。これ以外にも後
述のキレート剤や防パイ剤等の組成の相違があることは
明らかである。
着成分も含むことになるが、そのために当然定着液にお
けるアンモニア濃度(対・・イボ)と安定液中における
アンモニア濃度(対・−イボ)が極端に変夛、安定液中
のアンモニア濃度が相対的に高くなる。これ以外にも後
述のキレート剤や防パイ剤等の組成の相違があることは
明らかである。
このような組成の変化、特にアンモニア濃度の変化や低
濃度に起因オフものであろうと思われるが、その銀回収
手段として、定着液中からの銀回収手段をそのまま適用
し得なかったことを見いだし、種々検討した結果本発明
を見い出すに至ったものである。
濃度に起因オフものであろうと思われるが、その銀回収
手段として、定着液中からの銀回収手段をそのまま適用
し得なかったことを見いだし、種々検討した結果本発明
を見い出すに至ったものである。
本発明において・・ロゲン化銀写真感光材料を定着処理
するとは、脱銀を目的とした処理であり、具体的にけ漂
白定着浴または定着浴等を用いた処理であ)、該処理に
用いられる漂白剤は、別に限定されるものではないが、
有機酸第2鉄錯塩を用いるときに特に有効であシ、又定
着剤についても限定されるものではないが、チオ硫酸塩
を用いるときに特に有効であり、(に有機酸第2鉄錯塩
とチオ硫酸塩を含有する定着浴もしくは漂白定着浴を用
いる時により有効である。
するとは、脱銀を目的とした処理であり、具体的にけ漂
白定着浴または定着浴等を用いた処理であ)、該処理に
用いられる漂白剤は、別に限定されるものではないが、
有機酸第2鉄錯塩を用いるときに特に有効であシ、又定
着剤についても限定されるものではないが、チオ硫酸塩
を用いるときに特に有効であり、(に有機酸第2鉄錯塩
とチオ硫酸塩を含有する定着浴もしくは漂白定着浴を用
いる時により有効である。
本発明においては、定着後安定化処理の前に水洗処理は
行わないが、リンス等の処理を含むことまで排除するも
のではない。さらに安定化処理の後に界面活性剤及びホ
ルマリンを含有する水切り浴等を設けることもできる。
行わないが、リンス等の処理を含むことまで排除するも
のではない。さらに安定化処理の後に界面活性剤及びホ
ルマリンを含有する水切り浴等を設けることもできる。
本発明の安定液を感光材料と接触させる方法は1一般の
処理液と同様に液中に感光材料を浸漬するのがよいが、
スポンジ、合成繊維布等によ、シ感光材料の乳剤面及び
搬送リーダーの両面、搬送ベルトに塗り付けてもよく、
又スプレー等によ)吹き付けてもよい。
処理液と同様に液中に感光材料を浸漬するのがよいが、
スポンジ、合成繊維布等によ、シ感光材料の乳剤面及び
搬送リーダーの両面、搬送ベルトに塗り付けてもよく、
又スプレー等によ)吹き付けてもよい。
本発明の安定液はキレート剤を含有することが好ましく
、好ましいキレート剤には、有機カルボン酸キレート剤
、有機リン酸キレート剤、ポリヒドロキシ化合物、縮合
リン酸塩等があシ、なかでも好ましいキレート剤として
は、エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸
、ニトリロ三酢酸、ヒ)’Oキシエチレンジアミン三酢
酸、シエ□ テレントリアミン五酢酸、ヒドロキシエチルイミノニ酢
酸、ジアミノグロバノール西酢酸、トランスシクロヘキ
サンジアミン四酢酸、エチレンジアミンテトラキスメチ
レンホスホン識、ニトリロトリメチレンホスホン酸、1
−ヒドロキシエテリテンー1,1′−二ホスホン酸、1
.1−二ホスホノエタンー2−カルボン酸、2−ホスホ
ノブタン−1,2,4−)リカルボン酸、1−ヒドロキ
シ−1−ホスホノプロパン−1,2,3−1リカルボン
酸、カテコール−3,5−ジスルホン酸、ピロリン酸テ
トリウム、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリ
ン酸ナトリウムがあり、本発明の効果のために特に好ま
しくは1−ヒドロキシエチリデン−1゜1′−二ホスホ
ン酸やこれらの塩である。添加量は安定液1を当、jD
O,01g〜100gの範囲が好ましく、更に好ましく
は0.1g〜50gの範囲である。
、好ましいキレート剤には、有機カルボン酸キレート剤
、有機リン酸キレート剤、ポリヒドロキシ化合物、縮合
リン酸塩等があシ、なかでも好ましいキレート剤として
は、エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸
、ニトリロ三酢酸、ヒ)’Oキシエチレンジアミン三酢
酸、シエ□ テレントリアミン五酢酸、ヒドロキシエチルイミノニ酢
酸、ジアミノグロバノール西酢酸、トランスシクロヘキ
サンジアミン四酢酸、エチレンジアミンテトラキスメチ
レンホスホン識、ニトリロトリメチレンホスホン酸、1
−ヒドロキシエテリテンー1,1′−二ホスホン酸、1
.1−二ホスホノエタンー2−カルボン酸、2−ホスホ
ノブタン−1,2,4−)リカルボン酸、1−ヒドロキ
シ−1−ホスホノプロパン−1,2,3−1リカルボン
酸、カテコール−3,5−ジスルホン酸、ピロリン酸テ
トリウム、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリ
ン酸ナトリウムがあり、本発明の効果のために特に好ま
しくは1−ヒドロキシエチリデン−1゜1′−二ホスホ
ン酸やこれらの塩である。添加量は安定液1を当、jD
O,01g〜100gの範囲が好ましく、更に好ましく
は0.1g〜50gの範囲である。
(に、本発明の安定液に添加するのに望ましい化合物と
しては、酢酸、硫酸、塩酸、硝酸、スルファニル酸、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム
等のpH調整剤、安息香酸ソーダ、ヒドロキシ安息香酸
ブチル、抗生物質。
しては、酢酸、硫酸、塩酸、硝酸、スルファニル酸、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム
等のpH調整剤、安息香酸ソーダ、ヒドロキシ安息香酸
ブチル、抗生物質。
テヒドロ酢酸、ソルビン酸カリウム、サイアベンダゾー
ル、オルト−フェニルフェノール等の防パイ剤、5−ク
ロロー2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2
−オクチル−4−イソチアゾ1Jy−3−、オン、1−
2−ペンツイソテア/IJンー3−オン、水溶性金属塩
等の保恒剤、エチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリビニルピロリドン等の分散剤、−・イドロサ
ルファイト、匪硫醗塩、ホルマリン等の硬膜剤、螢光増
白剤等が挙げられる。
ル、オルト−フェニルフェノール等の防パイ剤、5−ク
ロロー2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2
−オクチル−4−イソチアゾ1Jy−3−、オン、1−
2−ペンツイソテア/IJンー3−オン、水溶性金属塩
等の保恒剤、エチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリビニルピロリドン等の分散剤、−・イドロサ
ルファイト、匪硫醗塩、ホルマリン等の硬膜剤、螢光増
白剤等が挙げられる。
これらの化合物の中で最も有効なものは、・・イドロサ
ルファイ)、!I!硫酸塩等であシ、電解を行う前に添
加することにより有効に作用する。
ルファイ)、!I!硫酸塩等であシ、電解を行う前に添
加することにより有効に作用する。
本発明の安定液のpH値はp H0,1〜10に調整す
るのがよく、好ましくはp)(2〜9、よ)好ましくU
pH6〜8.5が好適な範囲である。
るのがよく、好ましくはp)(2〜9、よ)好ましくU
pH6〜8.5が好適な範囲である。
本発明の安定液からの電解銀回収は安定液廃液及び/又
は安定タンク液から行うことができ、好ましくけ安定液
廃液から回収することである。また、本発明の安定液を
再利用しない場合には定着液及び漂白定着液を混合して
電解銀回収を行うと、定着液及び漂白定着液から単独に
電解銀回収するより、銀回収効率が上昇して好筐しい。
は安定タンク液から行うことができ、好ましくけ安定液
廃液から回収することである。また、本発明の安定液を
再利用しない場合には定着液及び漂白定着液を混合して
電解銀回収を行うと、定着液及び漂白定着液から単独に
電解銀回収するより、銀回収効率が上昇して好筐しい。
本発明において回収対象となる銀は、主に銀イオン(銀
錯体含む)、銀化合物、金属銀などを含む。銀濃度は特
に限定されないが、低濃度域で本発明の効果が顕著であ
る。
錯体含む)、銀化合物、金属銀などを含む。銀濃度は特
に限定されないが、低濃度域で本発明の効果が顕著であ
る。
また本発明の回収方法はバッチ式、連続式で実施するこ
とができ、バッチ式は一定量の安定液を一定時間電解す
る電解液の入れ替え方式であシ、連続式は電解槽に常に
安定液を供給し、同時にオーバーフローを排出する方式
である。本発明においてはバッチ式が好ましい。
とができ、バッチ式は一定量の安定液を一定時間電解す
る電解液の入れ替え方式であシ、連続式は電解槽に常に
安定液を供給し、同時にオーバーフローを排出する方式
である。本発明においてはバッチ式が好ましい。
本発明において安定化処理槽は多段槽とし、補充液は最
後段槽から補充し、順次前段槽にオーバーフローする逆
流方式にすることが好ましい。安定化処理槽の数は、6
槽以下が好ましく、特に4槽以下が好ましい。もちろん
単独僧であってもよい0 また、電解銀回収装置を安定化処理槽に直結する場合、
定着能を有する処理浴に近い1槽目に直結させることが
望ましい。この場合、本発明に好ましく用いられる亜硫
酸イオンを放出する化合物は定着能を有する処理浴に近
い141目及び/又は2槽目に添加することが%に有効
である。
後段槽から補充し、順次前段槽にオーバーフローする逆
流方式にすることが好ましい。安定化処理槽の数は、6
槽以下が好ましく、特に4槽以下が好ましい。もちろん
単独僧であってもよい0 また、電解銀回収装置を安定化処理槽に直結する場合、
定着能を有する処理浴に近い1槽目に直結させることが
望ましい。この場合、本発明に好ましく用いられる亜硫
酸イオンを放出する化合物は定着能を有する処理浴に近
い141目及び/又は2槽目に添加することが%に有効
である。
本発明の安定液を電解銀回収後再生する場合、活性炭、
イオン交換樹脂、電気透析、逆浸透等によって処理して
もよく、また再生剤として安定液成分を加えることが好
ましい。
イオン交換樹脂、電気透析、逆浸透等によって処理して
もよく、また再生剤として安定液成分を加えることが好
ましい。
以下本発明の実施例r(ついて説明するが、これによシ
本発明が制限されるものではない。
本発明が制限されるものではない。
実施例−1
小西六写真工業社製カラーペーパーを絵焼プリント後、
自動現像機で連続補充処理した。この時の処理工程と処
理液の組成は以下の通りである。
自動現像機で連続補充処理した。この時の処理工程と処
理液の組成は以下の通りである。
基準処理工程
〔1〕 発色現像 38℃ 3分30秒〔2〕 漂白定
着 33℃ 1分30秒〔3〕 安定化処理 25℃〜
30℃ 3分〔4〕 乾 燥 75℃〜80℃ 約2分
処理液組成 〈発色現像タンク液〉 〈発色現像補充液〉 く漂白定着タンク液〉 く漂白定着補充液A〕 く漂白定着補充液B〉 く安定液〉 自動現像機に上記の発色現像タンク液、漂白定着タンク
液および安定液を満し、カラーペーハーを処理しながら
3分間隔毎に上記した発色現像補充液と漂白定着補充液
A、8と安定補光液を定量カップを通じて補充しながら
ランニングテストを行った。補充量はカラーペーパ−1
/F/当勺それぞれ発色現像タンクへの補充量として3
24m、漂白定着タンクへの補充量として漂白定着補充
液A、B各々251Rt、安定化処理浴槽への補充量と
して安定液を250st補充した。
着 33℃ 1分30秒〔3〕 安定化処理 25℃〜
30℃ 3分〔4〕 乾 燥 75℃〜80℃ 約2分
処理液組成 〈発色現像タンク液〉 〈発色現像補充液〉 く漂白定着タンク液〉 く漂白定着補充液A〕 く漂白定着補充液B〉 く安定液〉 自動現像機に上記の発色現像タンク液、漂白定着タンク
液および安定液を満し、カラーペーハーを処理しながら
3分間隔毎に上記した発色現像補充液と漂白定着補充液
A、8と安定補光液を定量カップを通じて補充しながら
ランニングテストを行った。補充量はカラーペーパ−1
/F/当勺それぞれ発色現像タンクへの補充量として3
24m、漂白定着タンクへの補充量として漂白定着補充
液A、B各々251Rt、安定化処理浴槽への補充量と
して安定液を250st補充した。
なお、自wJ現像機の安定化処理浴槽は感光材料の流れ
の方向に第11〜第3槽となる安定槽とし、最終槽から
補充を行い、最終槽からオーバーフローをその前段の僧
へ流入させ、さらにこのオーバーフロー液をまたその前
段の槽に流入させる多槽向流方式とした。
の方向に第11〜第3槽となる安定槽とし、最終槽から
補充を行い、最終槽からオーバーフローをその前段の僧
へ流入させ、さらにこのオーバーフロー液をまたその前
段の槽に流入させる多槽向流方式とした。
安定液の総補充量が安定タンク容量の3倍となるまで連
続処理を行った。
続処理を行った。
実験−1
連続処理を更に行い安定液オーバーフローを採取し、第
1図に示すような円筒型の電解銀回収装置を使用し、カ
ソードシリンダー1(陰極)の材質をアルミニウム、亜
鉛、黄銅、鋼、ニッケルクロムモリブデン鋼にッケル3
に、クロム3に、モリブデン0.6に)、炭素鋼、ステ
ンレス鋼(JIs)セ阿弓弔井5US430、同5US
304、同5US316及びチタン鋼(99,0に)[
ついてそれぞれ、両極間の電圧を変化し、陰極電流密度
を0.3 A/drr?に設定した後、80分間電解を
行った。なお電解は直流電源部よシミ流を流し、駆動モ
ーターによって中央の[侵回転させることによシ行われ
る。陰極の材質の各々について電着銀量と電流量を測定
し、理論電着量に対する実際の電着量を示す電流効率を
め、表−1に記し九。なお図中2は陽極、3はタンク円
筒、4は駆動内筒、5は大プーリ−,6はベルト、7は
駆動モーター、8#/′i、小プーリ−,9i直直流電
源部、10はコントロールL11#−1フロートユニッ
ト、12はプラツシエカーボン、13はスリップリング
、14は給液ポンプ、15は排液ポンプ、1Bはゴムエ
ルボを各々指示する。
1図に示すような円筒型の電解銀回収装置を使用し、カ
ソードシリンダー1(陰極)の材質をアルミニウム、亜
鉛、黄銅、鋼、ニッケルクロムモリブデン鋼にッケル3
に、クロム3に、モリブデン0.6に)、炭素鋼、ステ
ンレス鋼(JIs)セ阿弓弔井5US430、同5US
304、同5US316及びチタン鋼(99,0に)[
ついてそれぞれ、両極間の電圧を変化し、陰極電流密度
を0.3 A/drr?に設定した後、80分間電解を
行った。なお電解は直流電源部よシミ流を流し、駆動モ
ーターによって中央の[侵回転させることによシ行われ
る。陰極の材質の各々について電着銀量と電流量を測定
し、理論電着量に対する実際の電着量を示す電流効率を
め、表−1に記し九。なお図中2は陽極、3はタンク円
筒、4は駆動内筒、5は大プーリ−,6はベルト、7は
駆動モーター、8#/′i、小プーリ−,9i直直流電
源部、10はコントロールL11#−1フロートユニッ
ト、12はプラツシエカーボン、13はスリップリング
、14は給液ポンプ、15は排液ポンプ、1Bはゴムエ
ルボを各々指示する。
実験−2
実験−1で使用した各電極を安定液オーバーフローに1
ケ月浸漬し、腐食について観察し、表−1に記した。
ケ月浸漬し、腐食について観察し、表−1に記した。
表−に
弓
]
注−1○・・・腐食なし。
Δ・・・腐食が認められる。
X・・・腐食が大きい。
表−1から明らかなように陰傷の材質にアルミニウム、
亜鉛、黄銅、鋼、ニッケルクロムモリブデン鋼、炭素鋼
を使用し九場合には、電流効率が低く、また安定液に対
して不安定で腐食されやすく実用に供し得ない。
亜鉛、黄銅、鋼、ニッケルクロムモリブデン鋼、炭素鋼
を使用し九場合には、電流効率が低く、また安定液に対
して不安定で腐食されやすく実用に供し得ない。
これに対して、本発明で用いられるステンレス鋼とチタ
ン鋼を使用したものは、電流効率が高く、安定液に対し
て安定で腐食され難く、非常に有効であることが判り、
特に5US316とチタン鋼が腐食に対して耐久性があ
り好ましく、最も好ましくはチタン鋼が電流効率、耐腐
食性が高く極めて有効であることが判る。また、電着銀
の純度を分析した所、ステンレス鋼及びチタン鋼以外で
は硫化銀が発生して純度95に程度であるのに対してス
テンレス鋼及びチタン鋼では銀が99に以上であり、極
めて好ましかった。
ン鋼を使用したものは、電流効率が高く、安定液に対し
て安定で腐食され難く、非常に有効であることが判り、
特に5US316とチタン鋼が腐食に対して耐久性があ
り好ましく、最も好ましくはチタン鋼が電流効率、耐腐
食性が高く極めて有効であることが判る。また、電着銀
の純度を分析した所、ステンレス鋼及びチタン鋼以外で
は硫化銀が発生して純度95に程度であるのに対してス
テンレス鋼及びチタン鋼では銀が99に以上であり、極
めて好ましかった。
実施例−2
実施例−1の連続処理によって排出された漂白定着液オ
ーバーフローを第1図の電解銀回収装置の陰極材質に5
US316を使用し几もので電解を行った所、電流効率
は14にであった。同様に漂白定着液オーバーフローと
安定液オーバーフローを混合したものを電解を行った所
電流効率は29にであった。このことから本発明に使用
する電解銀回収装置Vi漂白定着液からの銀回収では効
果が小さく、安定液と漂白定着液を混合したものを使用
すると、実施例−1の安定液からの銀回収と同様に電流
効率が高く、好ましいことが判る。
ーバーフローを第1図の電解銀回収装置の陰極材質に5
US316を使用し几もので電解を行った所、電流効率
は14にであった。同様に漂白定着液オーバーフローと
安定液オーバーフローを混合したものを電解を行った所
電流効率は29にであった。このことから本発明に使用
する電解銀回収装置Vi漂白定着液からの銀回収では効
果が小さく、安定液と漂白定着液を混合したものを使用
すると、実施例−1の安定液からの銀回収と同様に電流
効率が高く、好ましいことが判る。
実施例−3
実施例−1の安定液処方に代えて下記の安定液処方で連
続処理を行い、漂白定着液オーバーフロート安定液オー
バーフローを1つのタンクに採叡し、試料とした。
続処理を行い、漂白定着液オーバーフロート安定液オー
バーフローを1つのタンクに採叡し、試料とした。
〈安定液〉
上記試料溶液に表−2に示した鳩1〜N115のキレー
ト剤を1を当シ20g添加し、第1図に示す陰極IC8
US316を使用した電解銀回収装置によって陰極電流
密度が0.5 k/dn?になるように設定し、電解を
陰極表面に硫化銀が発生するまで行った。−1〜l@5
について電流効率、電着銀の純度を測定し表−2に記し
た。
ト剤を1を当シ20g添加し、第1図に示す陰極IC8
US316を使用した電解銀回収装置によって陰極電流
密度が0.5 k/dn?になるように設定し、電解を
陰極表面に硫化銀が発生するまで行った。−1〜l@5
について電流効率、電着銀の純度を測定し表−2に記し
た。
表−2よシ明らかなように本発明においては未添加の階
11C比べ、キレート剤を添加した醜2〜階5は好まし
く、なかでも鳩3〜5がよシ好ましいことが判る。ま九
特にNa5の1−ヒドロキシエチリデン1,1′−ニホ
スホン酸が好ましいことが判る。
11C比べ、キレート剤を添加した醜2〜階5は好まし
く、なかでも鳩3〜5がよシ好ましいことが判る。ま九
特にNa5の1−ヒドロキシエチリデン1,1′−ニホ
スホン酸が好ましいことが判る。
比較例−1
本発明法の比較として電解以外の銀回収方法として鉄ウ
ールと安定液と接触させ銀回収(環元沈殿法)を試みた
が銀回収効率は低かった。
ールと安定液と接触させ銀回収(環元沈殿法)を試みた
が銀回収効率は低かった。
また安定液に多硫化ナトリウムを添加し、硫化銀として
銀回収する方法(硫化銀沈殿法)についても試み九が、
沈降が悪く、銀回収効率は低く好ましくなかった。
銀回収する方法(硫化銀沈殿法)についても試み九が、
沈降が悪く、銀回収効率は低く好ましくなかった。
実施例−4
実施例−1と同様の実験において、安定化処理槽の第1
槽目に第1図の電解銀回収装置を直結し、給液ポンプで
第1僧目よシ安定液を電解惰に入れ、オーバーフローを
第1槽目に逆す方式とした。陰極はチタン鋼(99に)
製を使用した。
槽目に第1図の電解銀回収装置を直結し、給液ポンプで
第1僧目よシ安定液を電解惰に入れ、オーバーフローを
第1槽目に逆す方式とした。陰極はチタン鋼(99に)
製を使用した。
安定液補充量が安定第1惰目タンク容量の1/3となる
カラーペーパーの処理量を1日に処理する少ない処理を
行い、補充量が第1槽目タンクの1/10vrJ!1今
妬で W霞−向収藷着を接動すふという連続処理f:1
ケ月間行った所、銀回収、写真性能共に良好であった。
カラーペーパーの処理量を1日に処理する少ない処理を
行い、補充量が第1槽目タンクの1/10vrJ!1今
妬で W霞−向収藷着を接動すふという連続処理f:1
ケ月間行った所、銀回収、写真性能共に良好であった。
次に1日の補光量が第14!目の1/30となるように
して行った所、沈殿が全槽に発生し、処理後のカラーベ
ーパーに沈殿物が付着するという結果となった。同じ方
法で第1惰と第2情に・・イドロサルファイトを1日に
1を当り0.2g添加し、同様に行った所、沈殿は発生
せず極めて良好であった0 以上の実験結果より、1日の処理量が少ない場合本発明
において−・イドロサルファイトは、沈殿発生という問
題を抑えて極めて有効であることが判る。
して行った所、沈殿が全槽に発生し、処理後のカラーベ
ーパーに沈殿物が付着するという結果となった。同じ方
法で第1惰と第2情に・・イドロサルファイトを1日に
1を当り0.2g添加し、同様に行った所、沈殿は発生
せず極めて良好であった0 以上の実験結果より、1日の処理量が少ない場合本発明
において−・イドロサルファイトは、沈殿発生という問
題を抑えて極めて有効であることが判る。
又、上記少量処理による沈殿は漕数が5111以上で起
りやすく、特に第5i1−第7111で発生しやすいた
め、4111以下の安定漕が好ましいことが判った。
りやすく、特に第5i1−第7111で発生しやすいた
め、4111以下の安定漕が好ましいことが判った。
実施例−5
実施例−1の実験−1の陰極材質にチタン鋼を使用した
実験について電解銀回収後の女定液ン(ついて陰イオン
交換樹脂「ダイヤイオンWA−20」(三菱化成社81
りと接触後、実施例−1の安定液組成物を添加し、補充
液として再使用した。その結果、カラーペーパーの写真
性能には何ら問題はなく極めて良好であった。
実験について電解銀回収後の女定液ン(ついて陰イオン
交換樹脂「ダイヤイオンWA−20」(三菱化成社81
りと接触後、実施例−1の安定液組成物を添加し、補充
液として再使用した。その結果、カラーペーパーの写真
性能には何ら問題はなく極めて良好であった。
第1図は本発明に好ましく用いられる電解銀回収装置の
断面図である。 図中1はカソードシリンダ(陰極)、2けアンードカー
ボン(lit極)を各々示す。 特許出願人 小西六写真工業株式会社 代理人 弁理士 坂 ロ イぎ 昭 (ほか1名) 手続補正書(自発) 昭和60年8月30日 特許庁長官 宇賀道部 殿 国 1 事件の表示 昭和59年特許願第110944号 2 発明の名称 写真安定液の銀回収方法 3 補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (127)小西六写真工業株式会社4代理人
〒160 住 所 東京都新宿区西新宿七丁目10番11号第2イ
ト−ビル5階 獣 史 考 5 拒絶理由通知の日付 自発 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 補正の内容(特願昭59−110844号)明細書につ
いて次の通り補正する。 1 第2頁第9行と第10行の間に下記を加える。 記 また特開昭58−134636号公報に記載されている
ように、水洗を必要としない安定液の補充量は写真感光
材料1rn’当り25mjL〜2.5文程度で補充する
が、好ましくは50m1〜iM、更に好ましくは 5h
fL〜200■文で補充するものである。 2 第7頁第13行ニr−0,40〜−0,55V、J
トあるをr −0,40〜−〇、65V、」と補正す
る。 3 第7頁第13に「縮合リン酸塩等があり、」とある
を「縮合リンa廖があり、Jと補正する。 4 第11頁第13行に「デヒドロ酢酸」とあるを「デ
ヒドロ酢酸」と補正する。 5 第10頁第15〜16行、第11頁第3〜4行、第
15頁第8行、第16頁第6行、第24頁表−2中、N
015のキレート剤の欄及び第24頁最下行〜第25頁
第1行に「l−ヒドロキシエチリデン−1,1′−二ホ
スホン酸」とあるを「1−ヒドロキシエチリデン−1,
1−二ホスホン酸」と各々補正する。 以 上
断面図である。 図中1はカソードシリンダ(陰極)、2けアンードカー
ボン(lit極)を各々示す。 特許出願人 小西六写真工業株式会社 代理人 弁理士 坂 ロ イぎ 昭 (ほか1名) 手続補正書(自発) 昭和60年8月30日 特許庁長官 宇賀道部 殿 国 1 事件の表示 昭和59年特許願第110944号 2 発明の名称 写真安定液の銀回収方法 3 補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (127)小西六写真工業株式会社4代理人
〒160 住 所 東京都新宿区西新宿七丁目10番11号第2イ
ト−ビル5階 獣 史 考 5 拒絶理由通知の日付 自発 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 補正の内容(特願昭59−110844号)明細書につ
いて次の通り補正する。 1 第2頁第9行と第10行の間に下記を加える。 記 また特開昭58−134636号公報に記載されている
ように、水洗を必要としない安定液の補充量は写真感光
材料1rn’当り25mjL〜2.5文程度で補充する
が、好ましくは50m1〜iM、更に好ましくは 5h
fL〜200■文で補充するものである。 2 第7頁第13行ニr−0,40〜−0,55V、J
トあるをr −0,40〜−〇、65V、」と補正す
る。 3 第7頁第13に「縮合リン酸塩等があり、」とある
を「縮合リンa廖があり、Jと補正する。 4 第11頁第13行に「デヒドロ酢酸」とあるを「デ
ヒドロ酢酸」と補正する。 5 第10頁第15〜16行、第11頁第3〜4行、第
15頁第8行、第16頁第6行、第24頁表−2中、N
015のキレート剤の欄及び第24頁最下行〜第25頁
第1行に「l−ヒドロキシエチリデン−1,1′−二ホ
スホン酸」とあるを「1−ヒドロキシエチリデン−1,
1−二ホスホン酸」と各々補正する。 以 上
Claims (1)
- ハロゲン化銀写真感光材料を定着処理後実質的に水洗し
ないで写真安定液で処理する無水洗処理における該写真
安定液を電解することにより銀回収する写真安定液の銀
回収方法において、前記電解用電極の陰極材質がステン
レス鋼又はチタン鋼であることを特徴とする写真安定液
の銀回収方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11094484A JPS60255990A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 写真安定液の銀回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11094484A JPS60255990A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 写真安定液の銀回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60255990A true JPS60255990A (ja) | 1985-12-17 |
JPH057468B2 JPH057468B2 (ja) | 1993-01-28 |
Family
ID=14548507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11094484A Granted JPS60255990A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 写真安定液の銀回収方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60255990A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02306242A (ja) * | 1989-05-20 | 1990-12-19 | Konica Corp | 写真処理液の銀回収方法 |
JPH03141348A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-17 | Konica Corp | 写真処理液の処理方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4959727A (ja) * | 1972-09-25 | 1974-06-10 | ||
JPS5311118A (en) * | 1976-07-16 | 1978-02-01 | Litton Industrial Products | Electrolytic apparatus and electrodes of it |
JPS549574A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-24 | Nec Corp | Plams display panel |
JPS553437A (en) * | 1978-06-22 | 1980-01-11 | Ajinomoto Co Inc | Preparation of additives for synthetic resin |
JPS5669626A (en) * | 1979-11-10 | 1981-06-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Used photographic fixer regenerating method accompanied by recovery of silver |
JPS5714434A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Production of metallic sleeve |
JPS5758143A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-07 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Processing method for photographic sensitive silver halide material |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11094484A patent/JPS60255990A/ja active Granted
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS4959727A (ja) * | 1972-09-25 | 1974-06-10 | ||
JPS5311118A (en) * | 1976-07-16 | 1978-02-01 | Litton Industrial Products | Electrolytic apparatus and electrodes of it |
JPS549574A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-24 | Nec Corp | Plams display panel |
JPS553437A (en) * | 1978-06-22 | 1980-01-11 | Ajinomoto Co Inc | Preparation of additives for synthetic resin |
JPS5669626A (en) * | 1979-11-10 | 1981-06-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Used photographic fixer regenerating method accompanied by recovery of silver |
JPS5714434A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Production of metallic sleeve |
JPS5758143A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-07 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Processing method for photographic sensitive silver halide material |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02306242A (ja) * | 1989-05-20 | 1990-12-19 | Konica Corp | 写真処理液の銀回収方法 |
JPH03141348A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-17 | Konica Corp | 写真処理液の処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH057468B2 (ja) | 1993-01-28 |
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