JPS60254175A - ポログラム転写シ−トおよびその製造方法 - Google Patents
ポログラム転写シ−トおよびその製造方法Info
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- JPS60254175A JPS60254175A JP11166484A JP11166484A JPS60254175A JP S60254175 A JPS60254175 A JP S60254175A JP 11166484 A JP11166484 A JP 11166484A JP 11166484 A JP11166484 A JP 11166484A JP S60254175 A JPS60254175 A JP S60254175A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、ホログラム転写シートおよびその製造方法に
関し、さらに詳しくは、クレジッi−力−ド、バンクカ
ードなどのカード類、本の表紙、し]−ドジヤケットな
どの表面にボログラムを転写法により設けるのに適した
ホログラム転写シートおよびその製造方法に関する。
関し、さらに詳しくは、クレジッi−力−ド、バンクカ
ードなどのカード類、本の表紙、し]−ドジヤケットな
どの表面にボログラムを転写法により設けるのに適した
ホログラム転写シートおよびその製造方法に関する。
〔発明の技術的背景ならびにその問題点〕5ホログラフ
ィ−とは、物体からの光の波面を記録する新しい技術で
あって、この技術によって作られたホログラムによれば
、立体像を再生することができしかも多重記録も可能と
なる。またホログラムの記録の一方法として物体からの
光の波面に相当する干渉縞を材料表面の凹凸模様で記録
することができ、このホログラムは人聞複製が容易であ
る。
ィ−とは、物体からの光の波面を記録する新しい技術で
あって、この技術によって作られたホログラムによれば
、立体像を再生することができしかも多重記録も可能と
なる。またホログラムの記録の一方法として物体からの
光の波面に相当する干渉縞を材料表面の凹凸模様で記録
することができ、このホログラムは人聞複製が容易であ
る。
このJ、うなホログラムを、たとえばクレジットカード
、バンクカードなどのカード類に設ければ、美しざおよ
び目新らしさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに
変造が困」なカート類が得られる。J:た、木の表紙、
シー1−ドジ!・フット、あるいは衣類などに設ければ
、美しさおよび1」新らしさを備えた製品が得られる。
、バンクカードなどのカード類に設ければ、美しざおよ
び目新らしさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに
変造が困」なカート類が得られる。J:た、木の表紙、
シー1−ドジ!・フット、あるいは衣類などに設ければ
、美しさおよび1」新らしさを備えた製品が得られる。
ホログラムをカード類あるいは本の表紙、し]−ドジt
7ケツトなどの表面に設Gするためには、物体からの光
の波面に相当する干渉縞を凹凸模様の形でホログラムに
記録し、これを大量に複製することが必要どなり、この
場合この凹凸模様を効率よくカード類などに設ける必要
がある。
7ケツトなどの表面に設Gするためには、物体からの光
の波面に相当する干渉縞を凹凸模様の形でホログラムに
記録し、これを大量に複製することが必要どなり、この
場合この凹凸模様を効率よくカード類などに設ける必要
がある。
従来、ホ[1グラムをカード類あるいは本の表紙、レ−
ドジャケット〜などの表面に設(Jるには、複製された
ホログラムをカード類などの表面にいちいち貼着させて
いた。ところがこの方法によれば、貼着に際して手間が
かかり、人聞生産には適していないという問題点があっ
た。したがってホログラムをカード類などの表面に効率
よく設りることがめられていた。
ドジャケット〜などの表面に設(Jるには、複製された
ホログラムをカード類などの表面にいちいち貼着させて
いた。ところがこの方法によれば、貼着に際して手間が
かかり、人聞生産には適していないという問題点があっ
た。したがってホログラムをカード類などの表面に効率
よく設りることがめられていた。
ところでカード類における記録層としては、磁気記録層
が極めて広く用いられているが、この磁気記録層は一般
に熱転写法によってカード基材十に設りられている。こ
のため、もしホログラムをカード類の表面に熱転写法に
よって設けることができるならば、既存の設備によりホ
ログラムをカード類の表面に効率よく設【〕ることかで
きるという利点が得られる。
が極めて広く用いられているが、この磁気記録層は一般
に熱転写法によってカード基材十に設りられている。こ
のため、もしホログラムをカード類の表面に熱転写法に
よって設けることができるならば、既存の設備によりホ
ログラムをカード類の表面に効率よく設【〕ることかで
きるという利点が得られる。
ところで、ホログラムを熱転写法によりカード紙などの
基材−りに転写する場合には、ホログラム層は一般に熱
可塑性樹脂によって形成されている!こめ、転写に際し
てホログラム層に熱が加えられ、この際に物体からの光
の波面に相当する干渉縞である凹凸模様が一部消滅して
しまうという重大な問題点があった。
基材−りに転写する場合には、ホログラム層は一般に熱
可塑性樹脂によって形成されている!こめ、転写に際し
てホログラム層に熱が加えられ、この際に物体からの光
の波面に相当する干渉縞である凹凸模様が一部消滅して
しまうという重大な問題点があった。
〔発明の[1的]
本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しにう
どするものであり、以Fのような目的を右する。
どするものであり、以Fのような目的を右する。
(a) 小ログラムをカード類、木の表紙、レードジャ
ケットなどの表面に、熱転写法にJ、り効率的に設りる
ことを可能とするホログラム転写シートならびにその製
造方法を提供すること。
ケットなどの表面に、熱転写法にJ、り効率的に設りる
ことを可能とするホログラム転写シートならびにその製
造方法を提供すること。
(b) ボログラムをカード類表面に熱転写法により設
けることができ、したがって既存の設備をほぼそのまま
で利用でき、しかもボ1]グラム層の熱転写に際して物
体からの光の波面に相当する干渉縞である凹凸模様が消
滅することなく熱転写されつるという利点を有するホロ
グラム転写シートならびにその製造方法を提供すること
。
けることができ、したがって既存の設備をほぼそのまま
で利用でき、しかもボ1]グラム層の熱転写に際して物
体からの光の波面に相当する干渉縞である凹凸模様が消
滅することなく熱転写されつるという利点を有するホロ
グラム転写シートならびにその製造方法を提供すること
。
〔発明のlll1l要〕
本発明に係るボ[lグラム転写シートは、基材フィルム
上に、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹
脂または熱硬化樹脂より形成されたホログラム層、反射
性金属薄膜層および接着剤層がこの順序で設けられてい
ることを特徴としている。必要に応じて、基材フィルム
とホログラム層との間に、剥−を層またはオーバープリ
ント層あるいはこの両者が設けられていてもよく、ざら
に全屈蒸着層および接着剤層との間に、アンカ一層が設
C:Jられていてもよい。
上に、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹
脂または熱硬化樹脂より形成されたホログラム層、反射
性金属薄膜層および接着剤層がこの順序で設けられてい
ることを特徴としている。必要に応じて、基材フィルム
とホログラム層との間に、剥−を層またはオーバープリ
ント層あるいはこの両者が設けられていてもよく、ざら
に全屈蒸着層および接着剤層との間に、アンカ一層が設
C:Jられていてもよい。
また、本発明に係るホログラム転写シー1〜の製造方法
は、基材フィルム上に設りられた前記樹脂層と、表面に
物体からの光の波面に相当する干渉縞を凹凸模様としで
形成してホログラム原版どを加熱圧接させつつ紫外線ま
たは電子線を照射するか熱をさらに加えて前記樹脂を硬
化させて前記樹脂表面に凹凸を形成し、次に凹凸が形成
された樹脂表面に及射性金属N膜層を被着させ、次いで
この反射性金属簿膜層上に接着剤層を設けることを特徴
とし【いる。基材フィルムと樹脂との間に、必要に応じ
て剥1111t層またはオーバープリント層のいずれか
あるいはこの両者を設けてもよい。本発明に係るホログ
ラム転写シートの好ましい態様の製造方法では、基材フ
ィルム上に紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂が設け
られてなるホログラム形成用フィルムと、表面に物体か
らの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の模様どして形成
されているホログラム原版とを、前記フィルムの紫外線
硬化樹脂または電子線硬化樹脂がホ[lグラム原版に接
覆るようにして必要な場合に(よ加熱条件−トで圧接さ
Uて前記樹脂に凹凸を形成した後紫外線または電子線を
ホログラム形成用フィルムに照射して前記樹脂を硬化さ
せ、次に凹凸が形成された樹脂表面に反射性金属薄膜層
を被着させ、次にこの反射性金属薄膜層上に接着剤層を
設けることを特徴としている。基材フィルムと樹脂との
間に、剥mtsまたはオーバープリント層のいずれかあ
るいはこの両者を設りでもよく、ざらに反射性金属薄膜
層および接着剤層との間に、アンカ一層を設けてもよい
。
は、基材フィルム上に設りられた前記樹脂層と、表面に
物体からの光の波面に相当する干渉縞を凹凸模様としで
形成してホログラム原版どを加熱圧接させつつ紫外線ま
たは電子線を照射するか熱をさらに加えて前記樹脂を硬
化させて前記樹脂表面に凹凸を形成し、次に凹凸が形成
された樹脂表面に及射性金属N膜層を被着させ、次いで
この反射性金属簿膜層上に接着剤層を設けることを特徴
とし【いる。基材フィルムと樹脂との間に、必要に応じ
て剥1111t層またはオーバープリント層のいずれか
あるいはこの両者を設けてもよい。本発明に係るホログ
ラム転写シートの好ましい態様の製造方法では、基材フ
ィルム上に紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂が設け
られてなるホログラム形成用フィルムと、表面に物体か
らの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の模様どして形成
されているホログラム原版とを、前記フィルムの紫外線
硬化樹脂または電子線硬化樹脂がホ[lグラム原版に接
覆るようにして必要な場合に(よ加熱条件−トで圧接さ
Uて前記樹脂に凹凸を形成した後紫外線または電子線を
ホログラム形成用フィルムに照射して前記樹脂を硬化さ
せ、次に凹凸が形成された樹脂表面に反射性金属薄膜層
を被着させ、次にこの反射性金属薄膜層上に接着剤層を
設けることを特徴としている。基材フィルムと樹脂との
間に、剥mtsまたはオーバープリント層のいずれかあ
るいはこの両者を設りでもよく、ざらに反射性金属薄膜
層および接着剤層との間に、アンカ一層を設けてもよい
。
以下、本発明を図面に示す具体例について説明する。
本発明に係るホログラム転写シーt−iは、その断面図
が第1図に示されるように、基材フィルム2上に、小ロ
グラム層3、反射性金属薄膜層4および接着剤層5)が
この順序で設置プられ一℃構成されている。また別の具
体例であるホログラム転写シート1 t、L、その断面
図が第2図に示されるように、774材フイルム2とホ
ログラム層3との間には、剥頗層6およびオーバープリ
ント層7がこの順序で設けられ、しかも反射性金属薄膜
層4と接着剤層5との間には、アンカ一層8が設ジノら
れている。
が第1図に示されるように、基材フィルム2上に、小ロ
グラム層3、反射性金属薄膜層4および接着剤層5)が
この順序で設置プられ一℃構成されている。また別の具
体例であるホログラム転写シート1 t、L、その断面
図が第2図に示されるように、774材フイルム2とホ
ログラム層3との間には、剥頗層6およびオーバープリ
ント層7がこの順序で設けられ、しかも反射性金属薄膜
層4と接着剤層5との間には、アンカ一層8が設ジノら
れている。
>3Hフイルム2としては、フィルム状のあらゆる材料
が用いられうる。具体的には、ポリエチレンプレフタレ
ート、ポリイミド、ポリメタクリル酸メブル、ポリスチ
レン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの
重合体フィルム、合成紙、鉄などの金属フィルムなどが
用いられつる。また、これらの積層体も用いられつる。
が用いられうる。具体的には、ポリエチレンプレフタレ
ート、ポリイミド、ポリメタクリル酸メブル、ポリスチ
レン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの
重合体フィルム、合成紙、鉄などの金属フィルムなどが
用いられつる。また、これらの積層体も用いられつる。
この基材フィルムの膜厚は1〜200μm1望ましくは
10〜50 It 1nであることが好ましい。
10〜50 It 1nであることが好ましい。
ホログラム層3は、熟成形性を有する紫外線または電子
線で硬化する樹脂あるいは熱成形性を有り゛る熱硬化樹
脂で構成されており、これら樹脂の表面にホログラムが
凹凸模様で形成されている。
線で硬化する樹脂あるいは熱成形性を有り゛る熱硬化樹
脂で構成されており、これら樹脂の表面にホログラムが
凹凸模様で形成されている。
このホログラム層3は、後述するが、物体からの光の波
面に相当する干渉縞が凹凸模様で表面に形成されたホロ
グラム原版を用いた複製法にJ、り形成する。
面に相当する干渉縞が凹凸模様で表面に形成されたホロ
グラム原版を用いた複製法にJ、り形成する。
ボログラム層の厚みは、0.1へ・50μmn、望まし
くは0.5−5μmであることが好ましい。
くは0.5−5μmであることが好ましい。
本発明に使用可能なホログラム層用の樹脂は、ホログラ
ムの成形(複製)時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐える1:G
ノの耐熱性を有することが必要である。このような樹脂
としては、いわゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、
熱硬化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられつる
。
ムの成形(複製)時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐える1:G
ノの耐熱性を有することが必要である。このような樹脂
としては、いわゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、
熱硬化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられつる
。
本発明においては、硬化時間の遅い、紫外線もしくは電
子線で硬化する樹脂が適している。
子線で硬化する樹脂が適している。
具体的には、たとえばメチルメタクリレート、ブチルア
クリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
エチルアクリレート、メチルメタクリレート、イソエチ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、t−ブチ
ルアクリレート、t−メチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シフOへ
−1−シルアクリレート、シフ1]ヘキシルメタクリレ
−1−12−エチルへキシルアクリ1/−ト、2・エチ
ルヘキシルメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレー1〜、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、へ4”リンジオールジアク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、1−リ
フチロールプロパン1〜リアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、゛トリメヂロールプロ
パンジアクリレート、トリメヂ[]−]ルプロパンジメ
タクリレーへ、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペン
タエリスリト−ルトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ジペンタ1リスリトールへキ
サアクリレート、ジペンタエリスリトールへキリメタク
リレート、■チレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシ
ジル、J−−jルジアクリレ−1・、ポリ1ブレングリ
ニ1−ルジグリシジルエーテルジメタクリレート、10
ピレングリ」−ルジグリシジル上−フルジノノクリレー
ト、11Iピ1ノングリコールジグリシジル−r−jル
ジメククリレーし・、ポリプロピレングリ二1−ルジグ
リジルエーテルジアクリレート、ボリブ[]]ピレング
リー1−ルジグリジルエーデルジメタクリレ1・、ソル
ヒ1−−ルテトラグリジルニー9ルjトラ7クリレート
、ソルビトールデ1〜ラグリシジルニーデル゛jトラメ
タクリレ−1〜、などのラジカル重合性不飽和基を右J
る単量体が用いられ・うる。
クリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
エチルアクリレート、メチルメタクリレート、イソエチ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、t−ブチ
ルアクリレート、t−メチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シフOへ
−1−シルアクリレート、シフ1]ヘキシルメタクリレ
−1−12−エチルへキシルアクリ1/−ト、2・エチ
ルヘキシルメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレー1〜、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、へ4”リンジオールジアク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、1−リ
フチロールプロパン1〜リアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、゛トリメヂロールプロ
パンジアクリレート、トリメヂ[]−]ルプロパンジメ
タクリレーへ、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペン
タエリスリト−ルトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ジペンタ1リスリトールへキ
サアクリレート、ジペンタエリスリトールへキリメタク
リレート、■チレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシ
ジル、J−−jルジアクリレ−1・、ポリ1ブレングリ
ニ1−ルジグリシジルエーテルジメタクリレート、10
ピレングリ」−ルジグリシジル上−フルジノノクリレー
ト、11Iピ1ノングリコールジグリシジル−r−jル
ジメククリレーし・、ポリプロピレングリ二1−ルジグ
リジルエーテルジアクリレート、ボリブ[]]ピレング
リー1−ルジグリジルエーデルジメタクリレ1・、ソル
ヒ1−−ルテトラグリジルニー9ルjトラ7クリレート
、ソルビトールデ1〜ラグリシジルニーデル゛jトラメ
タクリレ−1〜、などのラジカル重合性不飽和基を右J
る単量体が用いられ・うる。
さらに熟成形性を有する紫外線まI〔は電子¥iA硬化
樹脂としτは、以下の化合物■〜■を重合もしくは共重
合させた重合体に対し、後述する方法(イ)−(ニ)に
よりラジカル性不飽和基を導入し7.−ものが用いられ
る。
樹脂としτは、以下の化合物■〜■を重合もしくは共重
合させた重合体に対し、後述する方法(イ)−(ニ)に
よりラジカル性不飽和基を導入し7.−ものが用いられ
る。
■ 水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルア
ミド、2 ヒドロ1シTチルアクリレート、2−ヒドロ
キシニブルメタクリレート、2−ヒト[]−1シブ[−
1ビル7クリレーi・、2〜ヒドロキシプ[1ピルメタ
クリレート、2−ヒドロキシブチルノ!クリレ−1・、
2−ヒドロ−1シブプルメタクリレート、2−ヒドロキ
シ−3−)■ノ4ジプロピルメタクリレート、2〜ヒド
ロ4ンー3 ノエノキシブロピルアクリレ−1・、など
。
ミド、2 ヒドロ1シTチルアクリレート、2−ヒドロ
キシニブルメタクリレート、2−ヒト[]−1シブ[−
1ビル7クリレーi・、2〜ヒドロキシプ[1ピルメタ
クリレート、2−ヒドロキシブチルノ!クリレ−1・、
2−ヒドロ−1シブプルメタクリレート、2−ヒドロキ
シ−3−)■ノ4ジプロピルメタクリレート、2〜ヒド
ロ4ンー3 ノエノキシブロピルアクリレ−1・、など
。
■ カルボ−1シル基を有する単量体ニアクリル酸、メ
タクリル酸、アクリロイルオキシ丁ヂルモノリクシネ−
1〜など。
タクリル酸、アクリロイルオキシ丁ヂルモノリクシネ−
1〜など。
■ Tポキシ基を@する単量体ニゲリシジルメタクリレ
−1・など。
−1・など。
■ アジリジニル基を有J8単単体:2−アジリシール
エチルメタクリレ−1〜、2−アジリジニル基(’lピ
オン酸アリルなど。
エチルメタクリレ−1〜、2−アジリジニル基(’lピ
オン酸アリルなど。
■ アミン基を右する単量体ニアクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメブルア
ミノエブルメタクリレ−1・、ジエチルアミノニブルメ
タクリレートなど。
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメブルア
ミノエブルメタクリレ−1・、ジエチルアミノニブルメ
タクリレートなど。
■ スルフォン基を有づる単量体:2−アクリルアミド
−2メチルブロバンスルノAン酸など。
−2メチルブロバンスルノAン酸など。
■ イソジノ?ネーI−基を有りる甲ω体:2./1−
トルエンジイソシアネーl−と2−ヒト1]V−シJ−
チルアクリレ−1・の1モル対1干ル付加物41どのジ
イソシアネ−1−と活性水素を有する一ノジアル重合性
単吊体の付加物など。
トルエンジイソシアネーl−と2−ヒト1]V−シJ−
チルアクリレ−1・の1モル対1干ル付加物41どのジ
イソシアネ−1−と活性水素を有する一ノジアル重合性
単吊体の付加物など。
■ ざらに、V記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調節したリリ゛るために、−F記の
化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような11
量体とを共重合さゼることができる。このにうな共重合
可能な単量体としては、たとえばメヂルメタクリレート
、メブルアクリレート、゛■ニブルクリレー1〜、■プ
ルメタクリレー!・、プロピルアクリレート、プロピル
メタクリレ−1〜、ブヂルアクリレート、11=ルメタ
クリレー]・、イソアミルアクリレート、イソアミルア
クリレート、t〜ブヂルアクリレ!−1−11−ニブル
メタクリレート、イソアミルアクリレート、イソアミル
メタクリレート、シクロヘキシフレアクリレ−1−、シ
フUへキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート、2−■デルヘキシルメタクリレー1〜、など
が挙げられる。
り、硬化膜の物性を調節したリリ゛るために、−F記の
化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような11
量体とを共重合さゼることができる。このにうな共重合
可能な単量体としては、たとえばメヂルメタクリレート
、メブルアクリレート、゛■ニブルクリレー1〜、■プ
ルメタクリレー!・、プロピルアクリレート、プロピル
メタクリレ−1〜、ブヂルアクリレート、11=ルメタ
クリレー]・、イソアミルアクリレート、イソアミルア
クリレート、t〜ブヂルアクリレ!−1−11−ニブル
メタクリレート、イソアミルアクリレート、イソアミル
メタクリレート、シクロヘキシフレアクリレ−1−、シ
フUへキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート、2−■デルヘキシルメタクリレー1〜、など
が挙げられる。
次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方
法(イ)〜(ニ)ににり反応させ、ラジカル重合性不飽
和基を導入することにJ:って、紫外線もしくは電子線
硬化樹脂が寄られる。
法(イ)〜(ニ)ににり反応させ、ラジカル重合性不飽
和基を導入することにJ:って、紫外線もしくは電子線
硬化樹脂が寄られる。
(イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共φ合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応ざUる。
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応ざUる。
(ロ) カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体よlこは共重合体の場合には、前述の水酸基を
有する単量体を縮合反応さゼる。
の重合体よlこは共重合体の場合には、前述の水酸基を
有する単量体を縮合反応さゼる。
(ハ) 〕−ボキシ基、イソシアネー]−基あるいはア
ジリジニル基を有する単m体の重合体または共重合体の
場合には、前述の水酸基を有する単量体すしくはカルボ
キシル基を有する単量体を付加反応させる。
ジリジニル基を有する単m体の重合体または共重合体の
場合には、前述の水酸基を有する単量体すしくはカルボ
キシル基を有する単量体を付加反応させる。
(ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、工ボキシ基を右づ
る甲吊体あるいはアジリジニル基を有する■1吊休ある
いはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エ
ステル単量体の1対1tルの付加物をイ1加反応さゼて
−b良い。
の重合体または共重合体の場合には、工ボキシ基を右づ
る甲吊体あるいはアジリジニル基を有する■1吊休ある
いはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エ
ステル単量体の1対1tルの付加物をイ1加反応さゼて
−b良い。
ま/jさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外
線または電子1硬化樹脂とを混合して用いることもでき
る。
線または電子1硬化樹脂とを混合して用いることもでき
る。
また上記のものは電子線により十分に硬化可能であるが
、紫外線照射で硬化させる場合に(よ、増感剤どしてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチル1−デル、
などのベンゾインニーチル類、ハロゲン化アレ1〜フエ
ノン類、ビアチル類などの紫外線照射によりラジカルを
発生するt)のも用いることができる。
、紫外線照射で硬化させる場合に(よ、増感剤どしてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチル1−デル、
などのベンゾインニーチル類、ハロゲン化アレ1〜フエ
ノン類、ビアチル類などの紫外線照射によりラジカルを
発生するt)のも用いることができる。
反射性金属薄膜層4は、ホログラム層3に反射性を与え
るためのしのであって、Or、i−i。
るためのしのであって、Or、i−i。
トe、co、N! 、CLI、A(1,A11.G(!
。
。
AJ)、Mワ 、Sb 、Pb 、Pd 、Cd 、B
i 。
i 。
sn、Se、In、Ga、Rhなどの金属およびその酸
化物、窒化物などを単独もしくは2種以上組合せて用い
て形成される。Cれらの金属のうち八(!、Cr、Ni
、△(1、Auなどが特に好ましい。
化物、窒化物などを単独もしくは2種以上組合せて用い
て形成される。Cれらの金属のうち八(!、Cr、Ni
、△(1、Auなどが特に好ましい。
このような反射性金属薄膜層をホログラム層上に形成す
るには、上記のような金属あるいは合金を準備し、これ
をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーブイフ
グ法、電気メツキ法などの従来既知の方法によってホロ
グラム層上に成膜づ−ればよい。この反射性金属薄膜層
の膜厚は10−・10.000人望ましくは200〜2
000八であることが好ましい。
るには、上記のような金属あるいは合金を準備し、これ
をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーブイフ
グ法、電気メツキ法などの従来既知の方法によってホロ
グラム層上に成膜づ−ればよい。この反射性金属薄膜層
の膜厚は10−・10.000人望ましくは200〜2
000八であることが好ましい。
接着剤層5は、ホログラム転写シートをカード類あるい
は木の表紙、レコードジVケッ1−などに接着さμる役
割を果している。接着剤層としては、アクリル系樹脂、
ビニル系樹脂、ポリニスデル系樹脂、ウレタン系樹脂、
アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来接着剤層どし
て既知のものが広く使用できる。この接着剤層の膜Vは
、0.1〜50μ711L、望ましくは0.5〜10μ
汎であることが好ましい。
は木の表紙、レコードジVケッ1−などに接着さμる役
割を果している。接着剤層としては、アクリル系樹脂、
ビニル系樹脂、ポリニスデル系樹脂、ウレタン系樹脂、
アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来接着剤層どし
て既知のものが広く使用できる。この接着剤層の膜Vは
、0.1〜50μ711L、望ましくは0.5〜10μ
汎であることが好ましい。
剥H(層6は、基材フィルム2と小「]グラム層3との
間に剥離性を与えしかも転写後の表面の印刷適正および
ホログラム層の保護などを!jえるための役割を果して
いる。剥l1It層6としては、アクリル系樹脂、ヒル
ロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウ
レタン系樹脂、Aレフイン系樹脂、アミド系樹脂、エポ
キシ系樹脂などの従来剥離層としての既知のものが広く
使用できる。
間に剥離性を与えしかも転写後の表面の印刷適正および
ホログラム層の保護などを!jえるための役割を果して
いる。剥l1It層6としては、アクリル系樹脂、ヒル
ロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウ
レタン系樹脂、Aレフイン系樹脂、アミド系樹脂、エポ
キシ系樹脂などの従来剥離層としての既知のものが広く
使用できる。
この剥離層の膜厚は、0.05−101tm、望ましく
は0.2〜2μmであることが好ましい。
は0.2〜2μmであることが好ましい。
なおホログラム層が上記の剥11層としての役割を果す
場合には、基本的には剥Ilt層は不要である。
場合には、基本的には剥Ilt層は不要である。
オーバープリン]へ層7は、ホログラム層3と刹@層6
との間に接着性を高め、しかもホ1−1グラムの耐久性
を与える役割を果している。、71−バープリント層と
しては、硬化型アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オ
レフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの
従来オーバープリント層として既知のものが広く使用で
きる。このA−−バーブリン[・層の膜厚は、0.05
〜10tt、 m、望ましくは0.2へ・2μ肌である
ことが好ましい。
との間に接着性を高め、しかもホ1−1グラムの耐久性
を与える役割を果している。、71−バープリント層と
しては、硬化型アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オ
レフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの
従来オーバープリント層として既知のものが広く使用で
きる。このA−−バーブリン[・層の膜厚は、0.05
〜10tt、 m、望ましくは0.2へ・2μ肌である
ことが好ましい。
アンカ一層8は、反射性金属薄膜層4と接着剤層5)ど
の間に接着性を高める役割を果している。
の間に接着性を高める役割を果している。
アンカー1’ti8どしては、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ
系樹脂、ポリエステル系樹脂、などの従来アンカ一層ど
して既知のものが広く使用できる。
共重合体、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ
系樹脂、ポリエステル系樹脂、などの従来アンカ一層ど
して既知のものが広く使用できる。
このアンカ一層の膜厚は、0.02〜10μ711 。
望ましく(10、2−2tt m、であることが好まし
い。
い。
次に、本発明に係るホログラム転写シートの製造方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
まず、基材フィルム2上に、必要に応じて剥離層6およ
びオーバープリントFi7を介して熱成形性を有する紫
外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂または熱硬化樹脂、好ま
しくは熱成形性を右する紫外線硬化樹脂または熱成形性
を有する電子線硬化樹脂を設りでホログラム形成用フィ
ルムを形成する。
びオーバープリントFi7を介して熱成形性を有する紫
外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂または熱硬化樹脂、好ま
しくは熱成形性を右する紫外線硬化樹脂または熱成形性
を有する電子線硬化樹脂を設りでホログラム形成用フィ
ルムを形成する。
ホログラム層3を熱成形性の紫外線硬化樹脂まIこは電
子線硬化樹脂で形成するには、基拐フィルム上に紫外線
硬化樹脂またG、L電子線硬化樹脂が設参ノられてイf
る小[1グラム形成用フイルムとホ[1グラム原版とを
1]−)にさせ、次いで紫外線よI、:(よ電子線をこ
のフィルム上に照射して前記樹脂を硬化させて、樹脂の
表面に物体からの光の波面に相当づ゛る凹凸を形成すれ
ばよい。
子線硬化樹脂で形成するには、基拐フィルム上に紫外線
硬化樹脂またG、L電子線硬化樹脂が設参ノられてイf
る小[1グラム形成用フイルムとホ[1グラム原版とを
1]−)にさせ、次いで紫外線よI、:(よ電子線をこ
のフィルム上に照射して前記樹脂を硬化させて、樹脂の
表面に物体からの光の波面に相当づ゛る凹凸を形成すれ
ばよい。
また、ボログラム層3を紫外M硬化樹脂または電子線硬
化樹脂で形成する場合には、従来用いられてきIこ種類
の紫外線硬化樹脂および電子線硬化樹脂は、一般に液体
状態にあるため、基材フィルム上に塗布した場合に著し
くべたつき、したがって基材フィルム上に従来の紫外線
または電子線硬化樹脂を塗布してなるホログラム形成用
フィルムは巻取って保管することができず、ホ[1グラ
ム原版と接触する直前に基材フィルムLにいちいち紫外
線硬化樹脂を塗布してil’s r:Iグラム形成用フ
ィルムを作成しな(プればならない。
化樹脂で形成する場合には、従来用いられてきIこ種類
の紫外線硬化樹脂および電子線硬化樹脂は、一般に液体
状態にあるため、基材フィルム上に塗布した場合に著し
くべたつき、したがって基材フィルム上に従来の紫外線
または電子線硬化樹脂を塗布してなるホログラム形成用
フィルムは巻取って保管することができず、ホ[1グラ
ム原版と接触する直前に基材フィルムLにいちいち紫外
線硬化樹脂を塗布してil’s r:Iグラム形成用フ
ィルムを作成しな(プればならない。
したがって本発明においては、ホログラム層3を上記の
方法に−一つ1も作成しうるが、以下の方法によって作
成づることが最し好ましい。
方法に−一つ1も作成しうるが、以下の方法によって作
成づることが最し好ましい。
すなわI5基材フィルム上に熱成形性を右する紫外線硬
化樹脂または電子線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が設り
られてなるホログラム形成用フィルムと、表面に物体か
らの光の波面に相当づ′る干渉縞を凹凸模様に、形成し
たホログラム原版とを、前記フィルムの紫外線硬化樹脂
または電子線硬化樹脂がホログラム原版に接するように
して加熱条件十で圧接さVて前記樹脂に凹凸を形成し、
原版とフィルムとが密着した状態で紫外線または電子線
をホログラム形成用フィルムに照射するかあるいは熱を
加えることにより、前記樹脂を硬化させてホログラムF
fJ3を作成づ゛る。
化樹脂または電子線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が設り
られてなるホログラム形成用フィルムと、表面に物体か
らの光の波面に相当づ′る干渉縞を凹凸模様に、形成し
たホログラム原版とを、前記フィルムの紫外線硬化樹脂
または電子線硬化樹脂がホログラム原版に接するように
して加熱条件十で圧接さVて前記樹脂に凹凸を形成し、
原版とフィルムとが密着した状態で紫外線または電子線
をホログラム形成用フィルムに照射するかあるいは熱を
加えることにより、前記樹脂を硬化させてホログラムF
fJ3を作成づ゛る。
この方法によれば、ホログラム層を形成している樹脂は
硬化されているので、ホログラム原版とホログラム形成
用フィルムとを複数回にわたって加熱、冷却をくり返す
必要がなく、したがってホログラム原版の凹凸の劣化を
減少できる。またホログラム原版とホログラム形成用フ
ィルムとを加熱状態に保って圧接して該フィルム上に凹
凸を形成した後直らに圧接状態を解除りることができ、
したがって冷W丁程が必ずしも必要で1.1<> <
1.>る。
硬化されているので、ホログラム原版とホログラム形成
用フィルムとを複数回にわたって加熱、冷却をくり返す
必要がなく、したがってホログラム原版の凹凸の劣化を
減少できる。またホログラム原版とホログラム形成用フ
ィルムとを加熱状態に保って圧接して該フィルム上に凹
凸を形成した後直らに圧接状態を解除りることができ、
したがって冷W丁程が必ずしも必要で1.1<> <
1.>る。
さらにホログラム形成用フィルムを巻取って保存するこ
とかでき、したがってホログラムの複製二1−程を簡素
化できるとともに大量生産が1能となる。
とかでき、したがってホログラムの複製二1−程を簡素
化できるとともに大量生産が1能となる。
ホログラム原版とホログラム形成用フィルムとを加熱圧
接するに際しては、加熱「)−ルなどの加熱圧接手段4
用いることができ、この際加熱[°]−ルの温疫は、用
いられるべき樹脂の種類ベースフィルムの材料、厚み等
によって大きく変化Jるが、一般的には、100〜20
0℃であることが適当である。また、ホログラム原版と
ホログラム形成用フィルムとは0.1に’J/cM以上
、望ましくは1に9/cm以上の圧力下に圧接すること
がりfよしい。
接するに際しては、加熱「)−ルなどの加熱圧接手段4
用いることができ、この際加熱[°]−ルの温疫は、用
いられるべき樹脂の種類ベースフィルムの材料、厚み等
によって大きく変化Jるが、一般的には、100〜20
0℃であることが適当である。また、ホログラム原版と
ホログラム形成用フィルムとは0.1に’J/cM以上
、望ましくは1に9/cm以上の圧力下に圧接すること
がりfよしい。
この際に、紫外線または電子線を照射する場合には、そ
の照射強度はホログラム原版のホログラム層− に再度照射してb良く、樹脂を十分に硬化させることが
好ましい。紫外線、電子線の照9A吊は、使用りる樹脂
に応じて適宜状めることが必要ぐある。
の照射強度はホログラム原版のホログラム層− に再度照射してb良く、樹脂を十分に硬化させることが
好ましい。紫外線、電子線の照9A吊は、使用りる樹脂
に応じて適宜状めることが必要ぐある。
なお、熱成形性の紫外線または電子線硬化樹脂を用いて
ホ[Iグラムを成形づる場合には、従来の一般の熱可W
lft樹脂を用いた場合と同様に加熱用1ビトぐlji
rlグラムの凹凸を成形しその状態で冷却した後フィ
ルムを剥離し、ホログラム層レートてt)良く、ぞ“の
後に紫外線または電子線を照射し、樹脂を硬化させても
よい。
ホ[Iグラムを成形づる場合には、従来の一般の熱可W
lft樹脂を用いた場合と同様に加熱用1ビトぐlji
rlグラムの凹凸を成形しその状態で冷却した後フィ
ルムを剥離し、ホログラム層レートてt)良く、ぞ“の
後に紫外線または電子線を照射し、樹脂を硬化させても
よい。
次に、及9A竹金属薄膜層を被着させる。この反射性金
属薄膜層は、前述のごとく、イオンブレーティング法、
真空蒸着法などによってホログラム+?i1.I−に設
りることができる。
属薄膜層は、前述のごとく、イオンブレーティング法、
真空蒸着法などによってホログラム+?i1.I−に設
りることができる。
次いで、この反tlJ i!金属薄g!層上に、必要に
応じてアンカ一層を設けた後に、接着剤層を塗布法など
により設けるど、本発明に係るホログラム転写シートが
14られる。
応じてアンカ一層を設けた後に、接着剤層を塗布法など
により設けるど、本発明に係るホログラム転写シートが
14られる。
本発明においては、特定の構成を有するホログラム転写
シート・およびその製造方法が提供されるのC1以下の
ような効果が48られる。
シート・およびその製造方法が提供されるのC1以下の
ような効果が48られる。
(a) ホログラムをカード類、本の表紙、しコードン
11ケツ[・などの表面に、熱転写法ににって効率よく
設りることが可能となる。1(b) ホログラムを特に
カード類表面に設りる場合には、既存の設備がほぼその
ままで利用しつる。
11ケツ[・などの表面に、熱転写法ににって効率よく
設りることが可能となる。1(b) ホログラムを特に
カード類表面に設りる場合には、既存の設備がほぼその
ままで利用しつる。
(C) ボログラム層の熱転写に際して、ホログラム層
は硬化された樹脂にJs 7)て形成されているため、
ホログラムの微細な凹凸模様が泊滅づることがない。
は硬化された樹脂にJs 7)て形成されているため、
ホログラムの微細な凹凸模様が泊滅づることがない。
以下、本発明を実施例により説明覆るが、本発明【よこ
れら実施例に限定されるものではない。
れら実施例に限定されるものではない。
実施例1
基材としての厚み25μmrLのポリ1チレンテレフタ
レートフイルムに、剥1!IP?としてアクリル系樹脂
(7クリプーール#100、東栄化成製アクリル樹脂)
を0.5μmの厚みに塗イbし、さらにこの上にホログ
ラム形成用樹脂として、1−リメチロ〜ルプロパントリ
アクリレートを2μWL塗布してホログラム形成用フィ
ルムを作製した。
レートフイルムに、剥1!IP?としてアクリル系樹脂
(7クリプーール#100、東栄化成製アクリル樹脂)
を0.5μmの厚みに塗イbし、さらにこの上にホログ
ラム形成用樹脂として、1−リメチロ〜ルプロパントリ
アクリレートを2μWL塗布してホログラム形成用フィ
ルムを作製した。
次に、このホログラム形成用フィルムの樹脂面にホログ
ラム原版ス版どしく、ホし1グラムが凹凸形状で記録さ
れ又いる金型を加圧密着させ、この状態でこれをフィル
11而より175 kV、 10Mradの強度の電f
線1薯に5Tルアminの速さで通しつつ電子線を照射
してホログラム形成用樹脂を硬化さけた。
ラム原版ス版どしく、ホし1グラムが凹凸形状で記録さ
れ又いる金型を加圧密着させ、この状態でこれをフィル
11而より175 kV、 10Mradの強度の電f
線1薯に5Tルアminの速さで通しつつ電子線を照射
してホログラム形成用樹脂を硬化さけた。
次にこのホし1グラムが形成された上記、フィルムを小
ログラム原版より剥離し凹凸が形成された面にアルミニ
ウムを800への厚みに真空蒸着し、さらにで−の土に
接着剤層として、アクリナール#3000(東栄化成製
アクリル樹脂)を3μmの厚みに塗布し転写シー]−を
作製した。
ログラム原版より剥離し凹凸が形成された面にアルミニ
ウムを800への厚みに真空蒸着し、さらにで−の土に
接着剤層として、アクリナール#3000(東栄化成製
アクリル樹脂)を3μmの厚みに塗布し転写シー]−を
作製した。
この様にし“Cfl−製したホログラム転写シートを後
着剤層を十にして紙の上にのせ上方より170℃50
Kfl / aJの条41で加熱加圧し、転写シートど
紙とを剥離したどころ、紙にホログラムが転写された。
着剤層を十にして紙の上にのせ上方より170℃50
Kfl / aJの条41で加熱加圧し、転写シートど
紙とを剥離したどころ、紙にホログラムが転写された。
実施例2
ホログラム形成用樹脂として、トリメチロールプロパン
1−リアクリレート100部に対し、増感材としてイル
ガキニア−184(ブーバガイギー社製)を4%加えた
ものを使用した以外は、実施例1に記載した方法と同様
にしてホログラム形成用フィルムを作製し、ホログラム
原版に加圧密着した。
1−リアクリレート100部に対し、増感材としてイル
ガキニア−184(ブーバガイギー社製)を4%加えた
ものを使用した以外は、実施例1に記載した方法と同様
にしてホログラム形成用フィルムを作製し、ホログラム
原版に加圧密着した。
次にフィルム面より、80W/(IJ11水銀月下10
cmの位置を21rL/minの速さで通して紫外線を
照射し、ホログラム形成用樹脂を硬化さゼた。
cmの位置を21rL/minの速さで通して紫外線を
照射し、ホログラム形成用樹脂を硬化さゼた。
さらに実施例1で示した方法と同様にアルミニウムの真
空蒸着、接着剤層を塗布しホ[1グラム転写シートを作
製したところ、実施例1と同様に紙上にホログラムが転
写された。
空蒸着、接着剤層を塗布しホ[1グラム転写シートを作
製したところ、実施例1と同様に紙上にホログラムが転
写された。
実施例3
下記組成物を6時間還流させ、共重合を行った。
メチルメタクリレート 284重n)部2−ヒドロキシ
■チル 130 〃 メタクリレート 酢酸−Lブール 1100 〃 α、α′−/ゾヒス 2 〃 イソブチロニトリル 次いで、冑られた反応物に0.1重量部のバラメトキシ
フ1ノールを加え反応を停止させた後、1001耶部の
2ヒトOキシエヂルアクリレートと2.4 トルエンジ
イソシアネ−1〜の1モル対1[ル(=l加物を加えさ
らにジブデルチンシラウリレートを5重量部加えて、乾
燥空気を送りながら80℃で5時間反応させた。
■チル 130 〃 メタクリレート 酢酸−Lブール 1100 〃 α、α′−/ゾヒス 2 〃 イソブチロニトリル 次いで、冑られた反応物に0.1重量部のバラメトキシ
フ1ノールを加え反応を停止させた後、1001耶部の
2ヒトOキシエヂルアクリレートと2.4 トルエンジ
イソシアネ−1〜の1モル対1[ル(=l加物を加えさ
らにジブデルチンシラウリレートを5重量部加えて、乾
燥空気を送りながら80℃で5時間反応させた。
反応液を室温まで冷M1シた後15重用品の紫外線増感
材(イルガキュア184チバガイギー社製)を加え均一
に溶解させて、紫外線砂止可能な塗工材料を得た。
材(イルガキュア184チバガイギー社製)を加え均一
に溶解させて、紫外線砂止可能な塗工材料を得た。
実施例1と同様に、ポリ1チレンテレフタレートフイル
ム25μmに剥離層を設け、次いで上記で得られた材料
を乾燥した状態で厚み2.5μmの厚みになるように均
一に塗布してホログラム成形用フィルムとした。この塗
工フィルムは常温で(よベタつかず巻取状態で保管でき
る。
ム25μmに剥離層を設け、次いで上記で得られた材料
を乾燥した状態で厚み2.5μmの厚みになるように均
一に塗布してホログラム成形用フィルムとした。この塗
工フィルムは常温で(よベタつかず巻取状態で保管でき
る。
次にこの塗工フィルムの樹脂面と、ホログラムが凹凸の
形状で記録されている金型の凹凸面とを重ね合せ150
℃20Ky/cdの圧力でニツプロ−ルを用いて加熱加
圧し、金型と塗−rフィルムとを密着′<5せた。
形状で記録されている金型の凹凸面とを重ね合せ150
℃20Ky/cdの圧力でニツプロ−ルを用いて加熱加
圧し、金型と塗−rフィルムとを密着′<5せた。
次にこれらを密着した状態でフィルl\側より80W/
c/nの出力を有する紫外線ランプの10cm下を1m
/minの速度で通して紫外線を照射し塗工した樹脂を
硬化した。この後、前記フィルムを金型より剥離した。
c/nの出力を有する紫外線ランプの10cm下を1m
/minの速度で通して紫外線を照射し塗工した樹脂を
硬化した。この後、前記フィルムを金型より剥離した。
次に実施例1ど同様(Jして転写シートを作製した。
木方法を用いることによりきわめて効率良く転写シート
を作製できた。
を作製できた。
第1図および第2図は、本発明に係るホログラム転写シ
ートの断面図である。 1・・・ホログラム転写シー1〜.2・・・基材フィル
lい3・・・ボログラム層、4・・・反射竹金属薄股層
、5・・・接着剤層。 第1図 第2図 手 続 ン市 iI云 N1(方式) %式% 昭和59イ[特許願 第111664@2 発明の名称 ホログラム転写シートおよびその製造方法3 補止をす
る名 事イ′1との関係 特許出願人 (289)人日木印刷株式会社゛ 4代理人 Ilu和59年9月5日 (発送口 昭和59年9月25日) (3補正の苅象
ートの断面図である。 1・・・ホログラム転写シー1〜.2・・・基材フィル
lい3・・・ボログラム層、4・・・反射竹金属薄股層
、5・・・接着剤層。 第1図 第2図 手 続 ン市 iI云 N1(方式) %式% 昭和59イ[特許願 第111664@2 発明の名称 ホログラム転写シートおよびその製造方法3 補止をす
る名 事イ′1との関係 特許出願人 (289)人日木印刷株式会社゛ 4代理人 Ilu和59年9月5日 (発送口 昭和59年9月25日) (3補正の苅象
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 基材フィルム上に、熱成形性を有する紫外線硬化
樹脂、電子線硬化樹脂または熱12化樹脂により形成さ
れたホログラム層、反射性金属蒸着層および接も剤層が
この順序で設置Jられていることを特徴とりるホログラ
ム転写シート。 2、 基材フィルム上に設けられた熱成形性を有する紫
外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂または熱硬化樹脂から選
ばれた樹脂と、表面に物体からの光の波面に相当する干
渉縞が凹凸の形でホログラムに形成されているホログラ
ム原版とを加熱圧接させつつ紫外線または電子線を照射
するか熱をさらに加えて前記樹脂を硬化させて前記樹脂
表面に凹凸を形成し、次に凹凸が形成された樹脂表面に
反射性金属薄膜層を被着させ、次いでこの反射性金属薄
膜トに接着剤層を設けることを特徴とするホログラム転
写シートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59111664A JPH0677174B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラム転写シートおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59111664A JPH0677174B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラム転写シートおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60254175A true JPS60254175A (ja) | 1985-12-14 |
JPH0677174B2 JPH0677174B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=14567054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59111664A Expired - Fee Related JPH0677174B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラム転写シートおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0677174B2 (ja) |
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-
1984
- 1984-05-31 JP JP59111664A patent/JPH0677174B2/ja not_active Expired - Fee Related
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EP0952009A3 (en) * | 1998-04-22 | 2002-10-09 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a thin metal film with embossed pattern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0677174B2 (ja) | 1994-09-28 |
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |