JPS60254109A - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
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- JPS60254109A JPS60254109A JP59111548A JP11154884A JPS60254109A JP S60254109 A JPS60254109 A JP S60254109A JP 59111548 A JP59111548 A JP 59111548A JP 11154884 A JP11154884 A JP 11154884A JP S60254109 A JPS60254109 A JP S60254109A
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- illumination
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7069—Alignment mark illumination, e.g. darkfield, dual focus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の背景)
本発明は光電検出や観察に適した照明を対象物体へ与え
る装置に関し、特にICやLSIと云った集積回路パタ
ーンの様に特定の方向性を持った物体の光電検出や観察
に適する装置である。
る装置に関し、特にICやLSIと云った集積回路パタ
ーンの様に特定の方向性を持った物体の光電検出や観察
に適する装置である。
(従来技術の説明)
集積回路のパターンは回路設計あるいは描画上の利点か
ら、はとんどの線が縦線又は横線で構成されている。ま
たメモリーセルや配線パターンあるいはオートアライメ
ント用のパターンを入れる場合も±45度の斜め線に六
方限定されている。
ら、はとんどの線が縦線又は横線で構成されている。ま
たメモリーセルや配線パターンあるいはオートアライメ
ント用のパターンを入れる場合も±45度の斜め線に六
方限定されている。
こうしたICあるいはLSIパターン情報を扱い、画像
処理を行うシステムとしては、例えばマスクとウェハー
、マスクと半導体露光装置あるいはウェハーと加工装置
間のオートアライメントとか、マスクやウェハーのパタ
ーンの欠陥検査システムが挙げられる。
処理を行うシステムとしては、例えばマスクとウェハー
、マスクと半導体露光装置あるいはウェハーと加工装置
間のオートアライメントとか、マスクやウェハーのパタ
ーンの欠陥検査システムが挙げられる。
IC,LSI等の分野で対象となる物体はパターンの形
成されたマスク又はレチクルとつ三バーである。ところ
が光学的にパターンを検出しようという際、前二者とウ
ェハーとの間には明確な差異がある。即ち、前二者は透
明な硝子基板の上にクロム又はクロム−酸化クロムとい
った薄膜がパターニングされてのっているという構造を
している。従って光学的にはパターン部は透過か、非透
過という二値の状態しか無く、コントラストの高いパタ
ーン検出を容易に行う事ができる。これに対し、ウェハ
ーは不透明物質でそれ自体が反射物体であるため、コン
トラストの良い像が得にくいという欠点がある。ウェハ
ーの検出を通常の明視野法で行うと充分なS/N此がと
れないという事は良く知られており、そのため暗視野照
明下で検出する方法が採用される。
成されたマスク又はレチクルとつ三バーである。ところ
が光学的にパターンを検出しようという際、前二者とウ
ェハーとの間には明確な差異がある。即ち、前二者は透
明な硝子基板の上にクロム又はクロム−酸化クロムとい
った薄膜がパターニングされてのっているという構造を
している。従って光学的にはパターン部は透過か、非透
過という二値の状態しか無く、コントラストの高いパタ
ーン検出を容易に行う事ができる。これに対し、ウェハ
ーは不透明物質でそれ自体が反射物体であるため、コン
トラストの良い像が得にくいという欠点がある。ウェハ
ーの検出を通常の明視野法で行うと充分なS/N此がと
れないという事は良く知られており、そのため暗視野照
明下で検出する方法が採用される。
従来、この種の用途のために提案された発明として特願
昭57−210908号「検知光学系」があり、この出
願に記載された光学系は系内に互いに共役となる絞りを
設け、それら絞り開口の形状を工夫する事により縦線な
ら縦線、横線なら横線を選択的に検知するものである。
昭57−210908号「検知光学系」があり、この出
願に記載された光学系は系内に互いに共役となる絞りを
設け、それら絞り開口の形状を工夫する事により縦線な
ら縦線、横線なら横線を選択的に検知するものである。
この構成に基づく作用を第1図を使ってもう少し詳しく
説明する。符番1は微小凹凸の集積回路パターンを具え
るウェハー、2は顕微鏡対物レンズ、3は光路を分岐す
るビームスプリッタ−14は照明絞り、5は開口絞りで
ある。対物レンズ2の瞳と共役な位置に在る不図示の光
源から来る照明光束は4の絞りを通過して中抜けの光束
となり斜線を施した光で物体lを照明する。物体1で散
乱した光は絞り5を通り抜け、結像光6となり検出され
る。散乱せず正反射する光は絞り5でカットされる。絞
り5と6は対物レンズ2によって共役の関係に結ばれて
いる。
説明する。符番1は微小凹凸の集積回路パターンを具え
るウェハー、2は顕微鏡対物レンズ、3は光路を分岐す
るビームスプリッタ−14は照明絞り、5は開口絞りで
ある。対物レンズ2の瞳と共役な位置に在る不図示の光
源から来る照明光束は4の絞りを通過して中抜けの光束
となり斜線を施した光で物体lを照明する。物体1で散
乱した光は絞り5を通り抜け、結像光6となり検出され
る。散乱せず正反射する光は絞り5でカットされる。絞
り5と6は対物レンズ2によって共役の関係に結ばれて
いる。
この光学系の制約の1つは対物レンズ自体を照明系に用
いている事である。そして照明光は外側即ちよりNA(
開口数)の大きな光束を用いているのに実際に検知を行
うのは内側のNAの小さな部分という事で、解像力を犠
牲にして暗視野検出を行っている面がある。
いている事である。そして照明光は外側即ちよりNA(
開口数)の大きな光束を用いているのに実際に検知を行
うのは内側のNAの小さな部分という事で、解像力を犠
牲にして暗視野検出を行っている面がある。
又、レンズ設計上は対物レンズの各レンズを照明光が通
る分、余裕をつけて設計しなければならない事、対物レ
ンズ自体を通して照明するので、フレアが生じ易い等の
制約があった。
る分、余裕をつけて設計しなければならない事、対物レ
ンズ自体を通して照明するので、フレアが生じ易い等の
制約があった。
(発明の目的)
本発明の目的はNAの大きな光束を検出に使用できる様
にしたことである。
にしたことである。
またこれにより、簡便な光学系でフレアも減少し、パタ
ーンの方向性に対応した正確な検出が可能であり、干渉
による弊害を緩和する作用を持つた白色光を使用できる
利点がある。
ーンの方向性に対応した正確な検出が可能であり、干渉
による弊害を緩和する作用を持つた白色光を使用できる
利点がある。
(実施例の説明)
実施例の構成の説明に入る前に第2図(a)(b)を使
って光束の角度分布について説明する。第2図(a)は
ある1点Aから発散していく光束を立体的に示したもの
、(b)はその角度分布の様子を2次元的にあられした
ものである。第2図(b)で示される角度分布は第1図
で言えば対物レンズ2の焦平面上に実現される。本発明
では照明光を対物レンズに通す事はしないが、それでも
観察しようとする点Aに対する照明光及び検出光の角度
分布に制限を与える事によっである特定の方向のパター
ンを検出する事を特徴とする。
って光束の角度分布について説明する。第2図(a)は
ある1点Aから発散していく光束を立体的に示したもの
、(b)はその角度分布の様子を2次元的にあられした
ものである。第2図(b)で示される角度分布は第1図
で言えば対物レンズ2の焦平面上に実現される。本発明
では照明光を対物レンズに通す事はしないが、それでも
観察しようとする点Aに対する照明光及び検出光の角度
分布に制限を与える事によっである特定の方向のパター
ンを検出する事を特徴とする。
第3図(a)には横線を検知する光学系の角度分布を示
し、横線からの回折光は上下方向(白抜き矢印の方向)
に向う。又第3図(c)にある様に縦線からの回折光は
左右方向に向う。
し、横線からの回折光は上下方向(白抜き矢印の方向)
に向う。又第3図(c)にある様に縦線からの回折光は
左右方向に向う。
第2図(a)の内側の円錐の照明光で線条を照明すれば
、回折光又は散乱光は外側の円錐と内側の円錐との間に
存在する。
、回折光又は散乱光は外側の円錐と内側の円錐との間に
存在する。
後述する実施例の構成では逆に、外側と内側の円錐の間
から照明が行われ、内側の円錐内を反射光が通過する。
から照明が行われ、内側の円錐内を反射光が通過する。
従って第3図(a)の横線から回折光又は散乱光をとり
出す為の照明光の角度分布は第3図(b)のハツチング
をした部分の中に存在していなければならない。図中真
中の円は結像光学系が光束を捉える角度分布の範囲であ
る。この図かられかる様にある特定の方向のパターンを
検出する照明系の角度分布は、結像光学系の捉える光束
の角度分布に対して、パターン方向に直交する方向を持
つ接線を引く事によってめる事ができる。
出す為の照明光の角度分布は第3図(b)のハツチング
をした部分の中に存在していなければならない。図中真
中の円は結像光学系が光束を捉える角度分布の範囲であ
る。この図かられかる様にある特定の方向のパターンを
検出する照明系の角度分布は、結像光学系の捉える光束
の角度分布に対して、パターン方向に直交する方向を持
つ接線を引く事によってめる事ができる。
第3図(C)は縦方向のパターン、(e)は−45°方
向、(g)は+45″方向のパターンに対する照明光と
結像光の関係である。(a)と同様にハツチングを施し
た部分の角度分布に照明光学系の角度分布が納まってい
れば良い。この様に第3図より特定の方向のパターンの
みを検出する場合の照明光の角度分布を容易にめる本が
できる。
向、(g)は+45″方向のパターンに対する照明光と
結像光の関係である。(a)と同様にハツチングを施し
た部分の角度分布に照明光学系の角度分布が納まってい
れば良い。この様に第3図より特定の方向のパターンの
みを検出する場合の照明光の角度分布を容易にめる本が
できる。
第4図(a)は横方向のパターンのみを検知する場合に
要求される照明系の角度分布の存在範囲である。照明系
の角度分布はハツチングを施した部分の範囲に納まって
いれば良い。縦方向や±45″方向のパターンのみを検
知する照明光の角度分布の範囲は第4図(a)を回転さ
せる事により容易にめる事ができる。又第4図(b)は
縦線、横線は検知せず±456方向の線のみを検知する
場合に要求される照明系の角度の存在範囲である。
要求される照明系の角度分布の存在範囲である。照明系
の角度分布はハツチングを施した部分の範囲に納まって
いれば良い。縦方向や±45″方向のパターンのみを検
知する照明光の角度分布の範囲は第4図(a)を回転さ
せる事により容易にめる事ができる。又第4図(b)は
縦線、横線は検知せず±456方向の線のみを検知する
場合に要求される照明系の角度の存在範囲である。
本発明による照明法は従来公知の暗視野照明法すべてに
容易に適用する事ができる。代表的な例として第5図に
リングミラー10を用いて対物レンズ鏡筒の外側から照
明した例、第6図に対物レンズ鏡筒にファイバー束をと
り付けた場合の例を示す。
容易に適用する事ができる。代表的な例として第5図に
リングミラー10を用いて対物レンズ鏡筒の外側から照
明した例、第6図に対物レンズ鏡筒にファイバー束をと
り付けた場合の例を示す。
第5図で、1はウェハーで、直交方向の線条群とこれら
と456をなす斜線群から成るパターンを設ける。2は
対物レンズである。10はリングミラーで、対物レンズ
2の瞳近傍に斜設されており、正斜影が円形の開口を具
える。11は絞りで、例えば第4図(a)のハツチング
域に相当する開口を具えて、45″ごとに間欠的に回転
されるか、あるいは第4図(b)のハツチング域に相当
する開口を具えて、固定もしくは間欠回転等が用途に応
じて適宜選択される。
と456をなす斜線群から成るパターンを設ける。2は
対物レンズである。10はリングミラーで、対物レンズ
2の瞳近傍に斜設されており、正斜影が円形の開口を具
える。11は絞りで、例えば第4図(a)のハツチング
域に相当する開口を具えて、45″ごとに間欠的に回転
されるか、あるいは第4図(b)のハツチング域に相当
する開口を具えて、固定もしくは間欠回転等が用途に応
じて適宜選択される。
12は照明光源で白色光源が好ましいが、単色光源でも
良い。13はコンデンサーレンズ、14は中央に開口を
有する穴あきレンズで、穴あきレンズ14は対物レンズ
2と共軸に配される。本例では照明光源12の光束はコ
ンデンサーレンズ13で穴あきレンズ14の瞳近傍に一
旦結像してウェハー1を照明するケーラー照明を採用し
ているが、クリティカル照明法を採用することもできる
。絞り11は、ウェハー1の表面を鏡面とした時に穴あ
きレンズ14と対物レンズ2に関して対物レンズ2の瞳
と実質共役関係を満たす。15はビデオカメラ等の光電
変換器で、対物レンズ2を通してウェハー1のパターン
を撮像する。ビデオカメラ15からの信号はビデオ受像
器(不図示)に映出されるか、電気的加工処理がなされ
て表示等がなされる。尚、照明系の角度分布の範囲をよ
り厳密に決定する事が必要な場合にはリングミラー10
と絞り11の間にリレー光学系を配置するのが好ましい
。
良い。13はコンデンサーレンズ、14は中央に開口を
有する穴あきレンズで、穴あきレンズ14は対物レンズ
2と共軸に配される。本例では照明光源12の光束はコ
ンデンサーレンズ13で穴あきレンズ14の瞳近傍に一
旦結像してウェハー1を照明するケーラー照明を採用し
ているが、クリティカル照明法を採用することもできる
。絞り11は、ウェハー1の表面を鏡面とした時に穴あ
きレンズ14と対物レンズ2に関して対物レンズ2の瞳
と実質共役関係を満たす。15はビデオカメラ等の光電
変換器で、対物レンズ2を通してウェハー1のパターン
を撮像する。ビデオカメラ15からの信号はビデオ受像
器(不図示)に映出されるか、電気的加工処理がなされ
て表示等がなされる。尚、照明系の角度分布の範囲をよ
り厳密に決定する事が必要な場合にはリングミラー10
と絞り11の間にリレー光学系を配置するのが好ましい
。
以上の構成で、ウェハー1上のパターンの方向性、例え
ば縦方向、横方向、45°方向に合わせて絞り11の回
転角度を選択すれば、その都度、選択した方向性を持っ
た線条からの回折光、散乱光のみがビデオカメラ15に
達する様な照明光束がウェハー1を照明することになる
。この場合ウェハー1に欠陥があれば、欠陥は照明光の
角度分布に係わりなく散乱光を生ずるから、受像器の画
面に他の線条と連絡しない光点が現われて発見されると
か、ウェハー1上の他のチップの映像信号との相互比較
で判別される。
ば縦方向、横方向、45°方向に合わせて絞り11の回
転角度を選択すれば、その都度、選択した方向性を持っ
た線条からの回折光、散乱光のみがビデオカメラ15に
達する様な照明光束がウェハー1を照明することになる
。この場合ウェハー1に欠陥があれば、欠陥は照明光の
角度分布に係わりなく散乱光を生ずるから、受像器の画
面に他の線条と連絡しない光点が現われて発見されると
か、ウェハー1上の他のチップの映像信号との相互比較
で判別される。
またオートアライメントのためのマーク検出系に使用す
る場合、絞り11はマークを構成する線条の方向に合わ
せて固定され、最適角度分布の照明光がマークを照明す
る。従ってマーク以外の領域に照明光が入射しても、こ
の領域からの散乱光は光電変換器15に達することはな
いから、SN比が向上する。
る場合、絞り11はマークを構成する線条の方向に合わ
せて固定され、最適角度分布の照明光がマークを照明す
る。従ってマーク以外の領域に照明光が入射しても、こ
の領域からの散乱光は光電変換器15に達することはな
いから、SN比が向上する。
第6図は別の実施例の要部を示す。ここでは第5図の絞
り11とリングミラー10及び穴あきレンズ14の替り
に分岐されたオプティカルファイバー束20が配置され
、暗視野照明を行う、21は照明光源、22は集光用の
楕円ミラーで、楕円ミラー22は照明光源21からの光
をオプティカルファイバー束20の入射端に集光する。
り11とリングミラー10及び穴あきレンズ14の替り
に分岐されたオプティカルファイバー束20が配置され
、暗視野照明を行う、21は照明光源、22は集光用の
楕円ミラーで、楕円ミラー22は照明光源21からの光
をオプティカルファイバー束20の入射端に集光する。
オプティカルファイバー束20の分岐端20a、20e
その他は被照明部が重なり合う様に内側へ向けて対物レ
ンズ2の周囲に配置する。これら分岐端のもたらす角度
分布が円形であったとすれば、第7図に示す様に分岐端
20a〜20hを配置すれば良い。ここで20aと20
eのファイバーの組合わせが横線、20bと2Ofの組
合わせが+45”方向のパターン、20Cと20gが縦
線、20dと20hが一456方向のパターンの検知に
対応する事になる。これらのワち任意のファイバーの組
合わせをシャッター23等で選択する事により検知した
い方向のパターンを特定する事ができる。
その他は被照明部が重なり合う様に内側へ向けて対物レ
ンズ2の周囲に配置する。これら分岐端のもたらす角度
分布が円形であったとすれば、第7図に示す様に分岐端
20a〜20hを配置すれば良い。ここで20aと20
eのファイバーの組合わせが横線、20bと2Ofの組
合わせが+45”方向のパターン、20Cと20gが縦
線、20dと20hが一456方向のパターンの検知に
対応する事になる。これらのワち任意のファイバーの組
合わせをシャッター23等で選択する事により検知した
い方向のパターンを特定する事ができる。
勿論ファイバー20の形状や、第5図の絞り11の形状
などは任意に設定できるので、光量や各パターン間のク
ロストーク等を考慮して角度分布を設定すれば良い。
などは任意に設定できるので、光量や各パターン間のク
ロストーク等を考慮して角度分布を設定すれば良い。
又、第6図までは反射物体の場合のみを示したが、マス
クの様な透過物体の場合にも本発明は容易に応用できる
。第8図中30は照明光路用の対物レンズ、31は第5
図の絞り11と同様の絞りである。図示されない光源か
ら来る照明光束は照明用対物レンズ30を通って暗視野
照明を行う。
クの様な透過物体の場合にも本発明は容易に応用できる
。第8図中30は照明光路用の対物レンズ、31は第5
図の絞り11と同様の絞りである。図示されない光源か
ら来る照明光束は照明用対物レンズ30を通って暗視野
照明を行う。
ハツチングの施された光束は被照明部中の任意の1点を
照明する光束を示す。この光束はマスク1′の線条の方
向に応じた角度分布が与えられているので、規定方向を
向いた線条の回折された光のみが対物レンズ2を通って
検出に使用される。
照明する光束を示す。この光束はマスク1′の線条の方
向に応じた角度分布が与えられているので、規定方向を
向いた線条の回折された光のみが対物レンズ2を通って
検出に使用される。
(発明の効果)
以上述べた本発明によれば、対象物体に応じた最適照明
を行うことができると共に検出や観察のために大きな開
口数の光学系を使用できるから、高解像力の画像を得る
ことができる効果がある。
を行うことができると共に検出や観察のために大きな開
口数の光学系を使用できるから、高解像力の画像を得る
ことができる効果がある。
またこれにより検出精度が上がるから、以降の操作速度
が増加し、また誤動作が減少する利点がある。光学系の
構造は比較的簡単なものであるから、コスト上昇や組立
手数の増加はほとんどない。
が増加し、また誤動作が減少する利点がある。光学系の
構造は比較的簡単なものであるから、コスト上昇や組立
手数の増加はほとんどない。
第1図は先行例の光学断面図。第2図(a)(b)は光
束の角度分布を説明するための図。第3図(a)(c)
(e)(g)は回折方向を示す図で、(b)(d)(f
)(h)は照明光の角度分布を示す図。第4図(a)(
b)は照明光の角度分布を示す図。第5図は本発明の実
施例を示す光学断面図。第6図(a)は別実施例の光学
断面図で、(b)は構成部材の斜視図。第7図は構成部
材の配置説明図。第8図は他の実施例を示す光学断面図
。 図中、1はウェハー、2は対物レンズ、10はリングミ
ラー、11は絞り、12は照明光源、14は穴あきレン
ズ、20はオプティカルファイバー束、23はシャッタ
ー、3oは照明用の対物レンズ、31は絞り。 出願人 キャノン株式会社 兜3品 (にL) (c) (e) (El) 殆4厘 (α)(b) 第5履 第6図 1゛)(″
束の角度分布を説明するための図。第3図(a)(c)
(e)(g)は回折方向を示す図で、(b)(d)(f
)(h)は照明光の角度分布を示す図。第4図(a)(
b)は照明光の角度分布を示す図。第5図は本発明の実
施例を示す光学断面図。第6図(a)は別実施例の光学
断面図で、(b)は構成部材の斜視図。第7図は構成部
材の配置説明図。第8図は他の実施例を示す光学断面図
。 図中、1はウェハー、2は対物レンズ、10はリングミ
ラー、11は絞り、12は照明光源、14は穴あきレン
ズ、20はオプティカルファイバー束、23はシャッタ
ー、3oは照明用の対物レンズ、31は絞り。 出願人 キャノン株式会社 兜3品 (にL) (c) (e) (El) 殆4厘 (α)(b) 第5履 第6図 1゛)(″
Claims (1)
- (1)物体の結像に寄与する対物レンズを通すことなく
物体を照明する照明系と、対物レンズを通して物体から
来る光を受光する受光系を具える装置であって、物体の
所定方向のパターンによる散乱光を選択的に前記受光系
が受光する様に前記照明系の照明光に角度分布を付与す
る手段を設けることを特徴とする光学装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59111548A JPS60254109A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 光学装置 |
US07/225,826 US4871257A (en) | 1982-12-01 | 1988-07-29 | Optical apparatus for observing patterned article |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59111548A JPS60254109A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60254109A true JPS60254109A (ja) | 1985-12-14 |
Family
ID=14564170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59111548A Pending JPS60254109A (ja) | 1982-12-01 | 1984-05-31 | 光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60254109A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63113413A (ja) * | 1986-07-01 | 1988-05-18 | ラム・オプテイカル・インストルメンテ−ション・インコ−ポレ−テッド | 対物レンズ装置 |
JP2003075122A (ja) * | 2001-06-22 | 2003-03-12 | Topcon Corp | 光学測定装置 |
JP2008537178A (ja) * | 2005-04-19 | 2008-09-11 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 層に向かって放射を指向させるデバイス、かかるデバイスを含む装置、およびかかる装置を使用する方法 |
JP2011248216A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Olympus Corp | 暗視野光学系 |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP59111548A patent/JPS60254109A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63113413A (ja) * | 1986-07-01 | 1988-05-18 | ラム・オプテイカル・インストルメンテ−ション・インコ−ポレ−テッド | 対物レンズ装置 |
JP2003075122A (ja) * | 2001-06-22 | 2003-03-12 | Topcon Corp | 光学測定装置 |
JP2008537178A (ja) * | 2005-04-19 | 2008-09-11 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 層に向かって放射を指向させるデバイス、かかるデバイスを含む装置、およびかかる装置を使用する方法 |
JP2011248216A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Olympus Corp | 暗視野光学系 |
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