[go: up one dir, main page]

JPS60190971A - ハイパーサーミア用加温装置 - Google Patents

ハイパーサーミア用加温装置

Info

Publication number
JPS60190971A
JPS60190971A JP59040794A JP4079484A JPS60190971A JP S60190971 A JPS60190971 A JP S60190971A JP 59040794 A JP59040794 A JP 59040794A JP 4079484 A JP4079484 A JP 4079484A JP S60190971 A JPS60190971 A JP S60190971A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
cooling
heating
living body
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP59040794A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0114795B2 (ja
Inventor
眞 菊地
二川 佳央
森 真作
隆成 寺川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Keiki Inc
Original Assignee
Tokyo Keiki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Keiki Co Ltd filed Critical Tokyo Keiki Co Ltd
Priority to JP59040792A priority Critical patent/JPS60190969A/ja
Priority to JP59040793A priority patent/JPS60190970A/ja
Priority to JP59040796A priority patent/JPS60190973A/ja
Priority to JP59040794A priority patent/JPS60190971A/ja
Priority to JP59040795A priority patent/JPS60190972A/ja
Publication of JPS60190971A publication Critical patent/JPS60190971A/ja
Priority to US07/251,973 priority patent/US4884580A/en
Publication of JPH0114795B2 publication Critical patent/JPH0114795B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/02Radiation therapy using microwaves

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Electrotherapy Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する分野〕 本発明は、ハイパサーミア用加温装置に係り、特に電磁
波の照射による島組織への加温で、癌組織の再生機能を
停止して致死に至らしめる/トイパザーミア用加温装置
に関する。
〔従来技術とその問題点〕
近年、加温療法〔「ハイパサーミャ」ともいう〕を用い
た治療法が脚光を浴びており、特に悪性腫傷を例えば4
3℃付近で1時間ないし2時間の間連続加温するととも
に、一定周期でこれを繰返すことにより癌細胞の再生機
能を阻讐ぜしめ、同時にその多くを致死せしめることが
できるという研究報告が相次いでな嘔れている(計測と
制御VOI。
22、/7610)。この釉の加温療法としては、全体
加温法と局所加温法とがめる。この内、癌組織およびそ
の周辺だけを選択的に温める局所加温法としては、電磁
波による方法、電磁誘導による方法、超音波による方法
等が提案されている。
一方、)凸組織への加温は、画業研究者間においては既
に知られているように43℃付近が加温効果のある温度
とされており、これより低いと効果が薄れ、逆にこれよ
り高いと正常組織に対し害を与え好ましくない。即ちハ
イパサーミアでは、癌組織に致死障害を与え、正常組織
にはあまり害を与えないような狭い温度範囲に生体温度
を保たなければならない。
しかしながら、従来技術においては、生体の特に深部加
温については、生体戦能の11¥妹性より当該目的の部
位を43℃前板の一定温度に1時間ないし2時間の間保
持することは容易でない。特に′電磁波による力旧晶療
法は、生体表面の電磁波吸収率が著しく大きいことから
、従来技術では深部加温に適埒ないとされ長い間装置さ
れており、僅かにな嘔れている研究成果としては、■え
はii図に示すように電磁波発生手段のオン・オフ(O
N・OFF ) I制御のみによる生体内部の加温を意
図しているものが多く、これがため、一応の進歩は認め
られても伏い温度範囲での効率のより温度11i1J1
a11をなすことができないという不都合があった。
〔発明の目的〕
本発明は、上記従来技術を勘案し、生体内の所定の加温
薗所を予め定めた所定の温度に継続して一定時間加温す
ることのできる制n機能を備えたハイパサーミア用加温
装置を提供することを、その目的とする。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を第2図ないし第5図に基づい
て説明する。
第2図は本発明の一実施例を示す電気的ブロック図でる
る。このハイパサーミア用加温装置は、マイクロ波発生
部2と、第1および第2の駆動制御手段を含む、制御部
4と、マイクロ波照射部6とから4.′ダ成されている
前記マイクロ波発生部2は、電磁波発生手段としてのマ
グネトロン8から成っており、主回御部180指令に基
ついてコントロールされるスイッチ6に付勢されてその
出力がオン・オフ(ON−OFF)を繰υ返すようにな
っている。
一方、マイクロ波照射部6は、マイクロ波を生体へ照射
するアプリケータ20と、このアプリケータ20の開口
部側すなわち生体表面を冷却するだめの冷却液を冷却す
る冷却装置21と、該冷却装置21を制御して水の冷却
調整を行なう液温制御回路としての冷却制御回路24と
該冷却装置で冷却された水を循環させるポンプ22と、
癌組織の温度を検出する温度センサー30とによシイ7
4成6れている。
前記アプリケータ20は、第3図に示すように生体32
に密着して、該生体32に電波を照射し、目的の癌組織
を加温するためのアンテナでおる。
このアプリケータ20には、冷却部34が装置4Mされ
生体の皮層部分での電磁前照射に起因する誘電損失によ
る著しい加熱に対し、この生体表1万1を冷却すること
によって、癌組織への熱伝導を有効に利用しかつ皮ノ一
部分の熱傷を防止し得る41虻成となりている。
該冷却部34には1本実施例で冷却液として使用してい
る水を通すlこめのパイプ36が設けられておシ、01
J記冷却装置21で?ダ却嘔れた水を前記ポンプ22で
強制的に循環8−き、該冷却部34内を通過させること
でアプリケータ20の開口面すなわち生体表面を冷却し
ている。一方、前記水の@度は冷却制御回路24によっ
て制御されており、水温の変化によって生体表面を冷却
し、マイクロ波によって加温されている癌組織の温度を
生体表面側から調整している。
前記生体内温度センサー30は、癌組織の温度を検出す
るためのセンサーであり、ここで得られる情報を基にし
て、前記冷却装置21の出力の調整が行なわgる。
一力、主制御部18は上記温度センサー30で得られた
情報をA/1)変換器42を介して入力し、このin報
とオペレータの指示を受けた入力部44とからの情報と
に基づいて癌組織の温度が所望の値に保たれるようす′
A変換回路48を介して水冷却装置1ffi21の出力
(冷却効果)とスイッチ46を介してマグネトロン8の
出力とを制御するとともに、加温状態をオペレータに知
らせるべく、上述した各11゛を報を出力部44に送出
するようになっている。
次に第4図に基づいて、上記装置の全体的な動作につい
て説明する。なお、ここで、癌組織に対しての加温設定
温度を一応を43℃とする。
まず、冷却装置21を稼動させ(第4図50)、十分に
水が冷却された後、ポンプ22の始動を行なう(同図5
2)。そして、一定時間マイクロ波の照射を行った後(
同図56)、これに続いてマグネトロン8の出力を切り
(同図58)、温度センサー30によって生体内部の温
度it測にはいる(同図60)。温度計側時にマイクロ
波の照射を行なわないのは、生体内に1山人された前記
温度センサー30がマイクロ波の影響を受けて、誤差が
生ずるからである。温度計測がなされた後は、生体内部
温度がオペレータによって入力された生体内部温度設定
値(本実施例では43℃)より高いか否かが判断される
(同図62)。内部温度が設定値より低い場合は冷却装
置i−21の出力(冷却助平)を1ステツプ下げること
によって(この場合冷却装置の出力がオフとなってもよ
い。ポンプ22によって水が循環されていることから生
体の表層に熱層が生ずることがないからである)生体表
面温度を上け(同図64)、マイクロ波の照射によりて
加温されている癌組織が迅速に設定温度に達するよう、
生体表面側から調整するようになっている。この結果、
局部の温度が設定値より高くなった場合は、癌組織の温
度が設定値より下がるまでマイクロ波の照射を行なわず
に、温度計測ループを繰り返す。そして、この間を利用
して、冷却装置21の出力(冷却効果)を1ステツプづ
つアップさせることで(同図68)、水を冷却し生体表
面温度を下げ、癌組織の温度が早く設定値に達するよう
生体表面側より温度調整を行なう。
ところで加温時間と癌組織を致死に至らしめる/ヒめの
相関関係は癌組織が43℃付近の温度になってからの時
間によって左右される。したがって、本実施例では、癌
組織が設定値を越えた時点から加温時間を計11111
しく同図66)、予めオペレータによって入力された加
温時間が到来したときに加温を終了する(同図72)。
第5図は、本実施例を用いて加温を行なったときのヲ]
9組織の温度分布状態(図中A)と、従来技術における
制御で加温を行ったときの癌組織の温度分布状態(図中
B)とを示している。この図において、温度が上昇して
いる間隔がマイクロ波照射時であり、温度が下降してい
る間隔が温度計側時であり、温度計測時にはマグネトロ
ンの出力がオフとなっている。しかし、従来技術におい
ては、局部の温度に対して生体表面を冷却する水の温度
を可変していない点、目的温度(43℃)を越えてもマ
イクロ波発振器のオン・オフ制御(一定時の加温と一足
時間の休止)の繰り返しを続けるという点から、内部の
加温がきわめて不正確となっている。これに対し、本実
施においては、上記した制御方式を採用している点から
、目的11情度にまで早く達し、目的温度を越えても早
く冷却することかり能であることから、はとんど43℃
一定に温度を保っている。
なお、上記実施例において、生体表面温度をより正確に
制御したい場合は、第6図に示すようにアプリケータ2
0の冷却部34の水の排出側に温度センサー28を設け
、これによって表面蟲度を計測し、ここからの情報をA
/υ俊換器と介して主制呻部18に入力させ、第7図に
示すフローチャート(第7図は第4図のフローチャート
の点線部を変更したものであって、そのほかは第4図と
同様である)に基づいて制御を行なえばよい。即ち、内
部温度が設定値より低い場合は前記温度センサー28に
よって計σI11した表面温度(同図60)が、オペレ
ーターによって設定された表面温度より低いか否かを判
断しく同図63)、表面温度が設定値より低い場合は上
述した如く塞怜却装置21の出力(冷却効果)を1ステ
ツプ下け(同図64)、逆に表面温度が高い場合はTC
冷却装置の出力(冷却効果)を1ステツプ上ける(同図
63)という(1・1成にすればよい。
また、局部100が表体表面近くに存在する場合は、無
侵襲(生体内部に温度センサー30を(…入する8費が
ないこと)で、加温が可能となる(第8図参照)。即ち
、局部が生体表面近くに存在する場合は、局部の温度と
生体表面温度がeよは等しいと考えてよいことから、生
体内に抑大した温度センサー30の変わりに、生体表面
温度センザー28からの情報に基づいて水冷却装置21
の出力(冷却効果)の制御を行なえばよい(第9図参照
)。
またこのような場合は、温度センサー28がマイクロ波
の影響を受けないことがら、温度計測時にわざわざマグ
ネトロンの出力を切る必要はない。
したがって、第1O図に示すように、マグネトロンの出
力をオンにしだ後(同図102人生体表面の温度計測を
行ない(同図104)、表面温度が設定値より低い場合
は水冷却装置21の出力(冷却効果)を下けて(同図1
06)そのままマイクロ波の照射を行ない続け、表面温
度が設定値より高くなった場合は、マグネトロンの出力
を切シ(同図108)、水冷却装置f?21の出力(冷
却効果)を1ステツプ上け(同図110)、表面温度が
設定値より下がる1ではマイクロ波の照射を行なわず仁
のループを縁り返すという制御方式を採用してもよい。
この方式は第9図のものと比べてより正確に目的の部位
への加温がiJ能である。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明によると、 電磁波を断続的に出力する電磁波発生手段と、この電磁
波発生手段から出力される電磁波を生体へ照射するアプ
リケータと、このアプリケータの電磁波照射開口部に装
備された冷却手段と、mj記電電磁波断続出力に対応し
て加温箇所の温度測定を行う温度計測手段とを備えたハ
イパサーミア用加温製置において、前記冷却手段には、
当該冷却手段に使用されている冷却液の温度を調整する
液温調整装置を装備し、この液温調整装置には、前記温
度計611手段が予め定めた設定値以上の生体温度を検
知した場合に直ちに前記液温め検装置を稼働せしめて当
該冷却液を冷却制御する液温制御回路を設けるという1
1・1成を採用したので、電磁波発生手段を桟雑に制御
することlく極く容易に生体内の加温箇所を予め設足し
た所定温度に一定時間継続して加温することができ、と
くに冷却液の直接の温度制笹vであることから大量の冷
却液を要せず、従って装置全体も小型化することもてき
るという実用面でも優れた従来にないハイパサーミア用
加温装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例による電磁波発生手段による加温例を示
す線図、第2図は本発明の一実施例を示すブロック図、
εi)3図はアプリケークの−し1」を示す斜視図、第
4図は第2図の動作を示すフローチャー1・、第5図は
第2図の実施例による加温状態を従来例との比較におい
て示した線図、第6図は他の実施例を示すブロック図、
第7図は第6図の動作を示すフローチャート、第8図は
その他の実施例を示すブロック図、第9図ないし第10
図は各々第8図の動作を示すフローチャートである。 8・・・電磁波発生手段、18・・・第1および第2の
駆動制御手段を含む主11il)(+)1部、20・・
・アプリケータ、24・・・液温11rlJ Wit回
路としての冷却制御回路、30・・・温度計σI11手
段、34・・・冷却手段としての?’S却都。 特許出願人 菊池 眞(ほか3名) f?−λ入 代理人 弁理士 高 橋 勇j、i、;%!茫第1図 (t (tniガ) 第9図 第1O図 手続補正書(自発) 昭和60年3月12日 特許庁長官 志 賀 学 殿 昭和59年特許願第040794号 2、発明の名称 ハイパサーミア用加温装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都三鷹市井の頭1丁目16番19号氏 名
 菊 地 眞 (ほか3名) 4、代理人 〒16410003) 361−0819
号 1− −.1)プ′j鴫 メifυ; J′力・′ 5、補正の対象 : 明細書および図面\ \ 〜ム 3゛−j ・・・−サノ 7、前記以外の特許出願人 住 所 東京都練馬区練馬2丁目26番14号氏 名 
二 川 佳 火 柱 所 東京都世田谷区奥沢1丁目31番6号氏 名 
森 真 作 成 名 東京都大田区南蒲田2丁目16番46号名 称
 (338)株式会社 東 京 計 器代表者 河野俊
助 明細書 ■1発明の名称 ハイパサーミア用加温装置 2、特許請求の範囲 (1)、電磁波吸収率する電磁波発生手段と、この電磁
波発生手段から出力される電磁波を生体へ照射するアプ
リケータと、このアプリケータの電磁波照射開口部に装
(Ji17された冷却郡工Yと、前記電磁波■蛋力に対
応して加温箇所の温度測定を行う温度計測手段とを備え
たハイパサーミア用加温装置において、 前記冷却皿■に、当該冷却機構用の冷却液のiC度を調
整する液温調整手段を連結装備し、前記温度計測手段が
予め定めた設定値と異なる生体温度を検知した場合に直
ちに前記液温調整手段を稼動せしめる冷却制御回路を設
りたことを特徴とするハイパサーミア用加温装置。 3、発明の詳細な説明 〔発明の属する分野〕 本発明は、ハイパサーミア用加温装置に係り、特に電磁
波を利用して生体内の癌組織を局所加温し、これによっ
て当該癌組織の再生機能を停止せしめ致死に至らしめる
ためのハイパサーミア用加温装置に関する。 〔従来技術とその問題点〕 近年、加温療法(「ハイパザーミア」ともいう)による
治療法が脚光を浴びており、特に悪性腫瘍を例えば43
℃付近で1時間ないし2時間の間連続加温するとともに
、一定周期でこれを繰り返すことにより癌細胞の再生機
能を阻害せしめ、同時にその多(を致死−1しめること
ができるという研究報告が相次いでなされている(計測
と制御Vol、22. Na1O)。ごの種の加温療法
としては、全体加温法と局所加温法とがある。この、内
、癌組織およびその周辺だけを選択的に温める局所加温
法としては、電磁波による方法、電磁誘導による方法、
超音波による方法等か提案されている。 一方、癌組織への加温は、漁業研究者間においては既に
知られているように43℃付近が加温効果のある温度と
されており、これより低いと効果が薄れ、逆にこれより
あまり高いと正常組織に対し害を与え好ましくない。即
ちハイバサーミャでは、癌組織に致死障害を与え、正常
組織にはあまり害を与えないような狭い温度範囲に生体
温度を保たなければならない。 しかしながら、従来技術においては、生体内の深部加温
、につい−では、生体機能の特殊性例えば血流による冷
却作用等により、当該目的の部位を43℃前後の一定温
度に1時間ないし2時間の間保持することは容易ではな
い。特に電磁波による加温療法は、生体表面の電磁波吸
収率が著しく大きいことから、従来技術では深部加温に
適さないとされ、長い間装置されており、僅かになされ
ている研究成果とし°ζは、例えば第1図に示すように
電磁波発生手段のオン・オフ(ON・0Fli)制御の
みによる生体内部の加温を意図しているものが多(これ
がため、一応の進歩は認められても狭い温度範囲での効
率のよい温度制御をなすことができないという不都合が
あった。 〔発明の目的〕 本発明は、かかる上記従来技術を勘案し、生体内の所定
の加温箇所を予め定めた所定の温度に継続して一定時間
加温することのできる制御機能を備えたハイパサーミア
用加温装置を提供することを、その目0勺とする。 〔発明の概要〕 そこで、本発明では、電磁波を出力する電磁波発生手段
と、この電磁波発生手段から出力される電磁波を生体へ
照射するアプリケータと、このアプリケータの電磁波照
射開口部に装備された冷却機構と、前記電磁波の出力に
対応して加温箇所の温度測定を行う温度計測手段とを偵
えたハイパサーミア用加温装置において、前記冷却機構
に、当該冷却機構用の冷却液の温度を調整する液温調整
手段を連結装備し、前記温度計測手段が予め定めた設定
値と異なる生体温度を検知した場合に直ちに前記液温調
整手段を稼動せしめる冷却制御回路を設けるという構成
を採り、これによって前記目的を達成しようとするもの
である。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例を第2図ないし第5図に基づい
て説明する。 第2回は本発明の一実施例を示す全体的系統図である。 この実施例において、ハイバザーミア用加温装置は、マ
イクし1波発生部2と第1および第2の駆動制御手段を
含む制御部4とマイクロ照射部6とをその要部としてか
ら構成されている。 前記マイクロは発生部2は、電磁波発生手段とし′Cの
マグネトロン8と該マグネトロン8を駆動する電源9と
から成っており、前記制御部4における主制御部18の
指令に基づいてコントロールされるスイッチ46に付勢
されて、その出力がオン・オフ(ON −01? +?
)を繰り返すようになっている。 一方、マイクロ照射部6は、本実施例では、マイクロ波
を生体へ照射するアプリケータ20と、このアプリケー
タ20の開口部側すなわぢ生体表面を冷却するための冷
却機構34とを要部とし、これに癌組織の温度を検出す
る温度センサー30を装備した構成となっている。そし
て、前記冷却機構34には、冷却液を冷却する液温調整
手段とし”この冷却装置21と、該冷却装置21を制御
して冷却液たとえば水の冷却調整を行う液温制御回路と
しての冷却制御回路24と、前記冷却装置ず21で冷却
される水を循環させるポンプ22とが連結装備されてい
る。 前記アプリケータ20は、第3図に示すように生体32
に密着して、該生体32に電波を照射し、目的の癌組織
を加温するためのアンテナである。 このアプリケータ20には、前述したように冷却機構3
4が装備され、生体の皮膚部分での電磁波照射に起因す
る誘電損失による著しい過熱に対し、当該生体表面を冷
却することによって癌&Il織への熱伝導を有効に利用
しかつ皮膚部分の悲傷を防止し得る構成となっている。 前記冷却機構34には、本実施例で冷却液として使用し
ている水を通ずためのパイプ36が設げられており、前
記冷却装置21で冷却された水を前記ポンプ22で強制
的に循環させ、当該冷却機構34内を通過させることで
アプリゲータ20の開口面すなわち生体表面を冷却して
いる。一方、前記冷却水の温度は冷却制御回路24によ
っ−ζ制御されており、水温の変化によって生体表面を
冷却し、これにより、マイクロ波によって加温されてい
る癌組織の温度を生体表面側から調整している。 また、前記生体内温度センサー30は、癌組織の温度を
検出するためのセンサーであり、ここで得られる情報を
基にして、前記冷却装置21の出力の8j目整が行われ
る。 一方、主制御部18は、上記温度センサー3゜で得られ
た情報をへ/D変換器42を介し′C入力し、この情報
とオペレータの指示を受けた入力部44とからの情報と
に基づいて癌組織の温度が所望の値に保たれるようにD
/八へ換回路48を介して冷却装置21の出力(冷却効
果)を、またスイッチ46を介してマグネトロン8の出
力を各々制御するとともに、加温状態をオペレータに知
らせるべく上述した各情報を出力部44に送出するよう
になっている。 この場合、前記主制御部18内の第1の駆動制御手段(
図示せず)がポンプコン1−ローラユニット(図示せず
)を介してポンプ22の回転数を増減制御するようにな
っており、また、前記制御1部内の第2の駆動制御手段
(図示せず)が前記スイッチ46を介してマグネトロン
8の出力を必要に応じて増減制御するようになっている
。 次に第4図に暴づいて、上記装置の全体的な動作につい
て唱明する。なお、ここで、癌組織に対しての加温設定
温度を一応43°Cとする。 まず、冷却装置21を稼動させ(第4図50)、十分に
水が冷却された後、ポンプ22の始動を行う(同図52
)。そして、一定時間マイクロ波の照射を行った後(同
図56)、これに続いてマグネトロン8の出力を切り(
同図58)、温度センサー30によって生体内部の温度
a1測にはいる(同図60)。温度計測時にマイクロ波
の照射を行わないのは、マイクロ波の影響を受けて、生
体内に挿入された前記温度センサー30に生じる僅かな
誤差を排除するためである。温度計測がなされた後は、
生体内部温度がオペレータによっC予め入力された設定
値(本実施例では43°C)より高いが否かが判断され
る(同図62)。内部温度が設定値より低い場合は冷却
装置21の出力(冷却効果)を1ステップ下げ(この場
合、ポンプ22によって水が循環されていることから、
冷却装置21の出力がオフとなっCもよい)、これによ
って生体表面温度を上げ(同図64)、マイクロ波の照
射によって加温されている癌組織が迅速に設定温度に達
するように生体表面側から加温調整するようになってい
る。この結果、局部の温度が設定値より高くなった場合
は、癌組織の温度が設定値より下がるまでマイクロ波の
照射を行わずに、温度計測ループを繰り返す。そして、
この間を利用して、冷却装置21の出力(冷却効果)を
1ステツプづつアップさせることで(同図68)、水を
冷却し生体表面温度を下げ、癌組織の温度が早く設定値
に達するように生体表面側より温度調整を行う。 ところで、加温時間と癌組織を致死に至らしめるための
相関関係は癌組織が43℃付近の温度になってからの時
間によって左右される。したがって、本実施例では、加
温部である癌組織の温度が設定値を越えた時点から時間
を計測しく同図66)、予めオペレータによって入力さ
れた加温時間が到来したときに加温を終了する(同図7
2)。 第5図は、本実施例を用いて加温を行ったときの癌組織
の温度分布状態(図中A)と、従来技術におりる制御で
加温を行ったときの癌組織の温度分布状態(図中B)と
を示している。この図におい゛て、温度が上昇している
間隔がマイクロ波照射時であり、温度が下降している間
隔が温度計測時であり、温度計測時にはマグネトロン8
の出力がオフとなっている。この場合、従来技術におい
ては、局部の温度に対して生体表面を冷却する水の流■
を可変していない点、目的温度(43℃)を越えてもマ
イクロ波発振器のオン・オフ制御(一定時間の加温と一
定時間の休止)の繰り返しを続けるという点から、内部
の加温がきわめて不正確となっている。これに対し、本
実施例においては、上記した制御方式を採用している点
から、目的温度にまで素早く達し、目的温度を越えても
早く冷却することが可能であることから、はとんど43
℃一定に温度を保っている。 なお、上記実施例において、生体表面温度をより正確に
制御したい場合は、第6図に示すようにアプリケータ2
0の冷却機構34の水の排出側に温度セン!J゛−’2
8を設り、これによっ”ζ表面温度を1測し、ここから
の情報をA / I)変換器40を介して主制御部18
に入力させ、第7図に示すフローチャー1・(第7図は
第4図のフローチャートの点線部分を変更したものであ
って、そのほかは第4図と同様である)に基づいて制御
を行えばよい。即ち、内部温度が設定値より低い場合は
前記温度センサー28によって計測した表面温度(同図
60′)がオペレータによって設定された表面温度より
低いか否かを判断しく同図63)、表面温度が設定値よ
り低い場合は上述した如く冷却装置21の出力(冷却効
果)を1ステップ下げ(同図64)、逆に表面温度が高
い場合は冷却装置の出力(冷却効果)を1ステツプ上げ
る(同図63′)という構成にすればよい。 また、局部100が生体表面もしくは表面近くに存在す
る場合は、無侵聾(生体内部に温度センサー30を挿入
する必要がないこと)で加温が可能となる(第8図参I
Q)、即ち、局部が生体表面近くに存在する場合は、局
部の温度と生体表面温度がほぼ等しいと考えてよいこと
から、生体内に挿入した温度センサー30の代わりに、
生体表面温度センサー28からの1n報に基づいて冷却
装置21の出力(冷却効果)の制御を行えばよい(第9
図参照)。 また、この場合は温度センサー28がマイクロ波の影響
を受けないことから、温度計測時にマグネトロン8の出
力を切る必要はない。したがって、第10図に示すよう
に、マグネトロンの出力をオンにしたi&(同図102
)、生体表面の温度計測を行い(同図104)、表面温
度が設定値より低い場合は冷却装置21の出ノj(冷却
効果)を下げて(同図106)そのままマイク1コ波の
照射を行い続り、表面温度が設定値より高くなった場合
は、マグネI・ロンの出力を切り(同図108)、冷却
装置21の出力(冷却効果)を1ステップ上げ(同図1
10)、表面温度が設定値より下がるまではマイクロ波
のIt<を射を行わずこのループを繰り返すという制御
方式を採用してもよい。この方式は第9図のものと比べ
てより正確に目的の部位への加温が可能である。更に、
生体内加温部の温度1測に関しては、電磁波の影響の少
ない温度側を使用する場合には当然のことながらマイク
ロ波を照射したまま温度測定するように構成してもよい
。 〔発明の効果〕 以上のように、本発明によると、電磁波を出力する電磁
波発生手段と、この電磁波発生手段から出力される電磁
波を生体へ照射するアプリケータと、このアプリケータ
の電磁波1((1躬開口部に装D111された冷却機構
と、前記電磁波の出力に対応して加温箇所の温度測定を
行う411度計測手段とを備えたハイパサーミア用加温
装置において、前記冷却機構に、当該冷却機構に使用さ
れている冷却液の温度を調整する液温調整手段を連結装
備し、前記温度計測手段が予め定めた設定値と異なる生
体温度を検知した場合に直″らに前記液温調整手段を稼
動せしめる冷却制御回路を設けるという構成を採用した
ので、電磁波発生手段を?Jf S’Uに制御すること
なく極く容易に生体内の加温箇所を予め設定した所定温
度に一定時間継続して加温することができ、とくに冷却
液の直接の温度制御であることから大量の冷却液を要−
Uず、従って装置全体も小型化することもできるという
実用面でも優れた従来にないハイパサーミア用加温装置
を提供することかできる。 4、図面の簡単な説明 第1図は1if=来例による電磁波発生手段による加温
例を示す線図、第2図は本発明7の一実施例を示す全体
的系統図、第3図はアプリケータの一例を示す斜視図、
第4図は第2図の動作を示すフローチャート、第5図は
第2図の実施例による加温状態を従来例との比較におい
て示した線図、第6図は他の実施例を示す系統図、第7
図は第6図の動作を示すフローチャー1・、第8図はそ
の他の実施例を示す系統図、第9図ないし第1O図は各
々第8図の動作を示すフローチャーI・である。 8−・−・−電磁波発生手段、18−・=−第1および
第2の駆動制御手段を含む主制御部、20− アプリケ
ータ、21−”−液温調整手段としての冷却装置、24
−・−液温制御回路としての冷却制御回路、30−−−
−−一温度計≧+t11手段、34−一−−79〕41
機11N。 特許出願人 菊 地 れ(ばか3名) 第1図 (Mtllfr間) −−a−(mLnJ第9図 第70図 手続補正書(自発) 昭和60年4月17目 1、事件の表示 昭和59年特許願第040794号 2、発明の名称 ハイパサーミア用加温装置 3、補正をする者 事件との関係 特許1用頭人 住 所 東京都三鷹市井の頭1丁目16番195;氏 
名 菊 地 眞 (ほか3名) 4、代理人 〒16410003) 361−081.
9号 ゛禿−ノ;/ 6、補正の内容 昭和60年3月12日4=1にて提出した全文補正の明
細書に関し、次の如く補正する。 (1)、明細書第3ページ第3行目の1ハイパサーミヤ
」を「ハイパサーミア」と訂正する。 (2)、明細書第5ページ第8行目の、「とじて」と「
構成」との間の「から」を削除する。 (3)、明4+11書第5ページ第9行目の1マイクロ
は」を1マイクロ波」と4正する。 (4)、明細書第5ページ第16行目の「マイクロ」を
「マイクロ波」と訂正する。 (5)、明X、lII書第6ページ第9行目の「電波」
を「電磁波」と訂正する。 (6)、明j111書第11ページ第9行目の「これに
よって」を削除し、この削除した箇所に「これにより冷
却液を介して」を、挿入する。 (7)、明細書第12ページ第10行目の「生体表面」
を、削除する。 (8)、明キIll書第15ページ第5行目の「手段」
と「、」との間に、「とじてのマグネトロン」を挿入す
る。 7.前記以外の特許用1頭人 住 所 東京都練馬区練馬2丁[126番14号氏 名
 二 川 佳 火 柱 所 東京都世田谷区奥沢1丁目31番6号氏名 森
 真 作 住 所 東京都大田区南蒲口J2丁目16番46号名 
称 (338)株式会社 東 京 ji 器代表者 河
 野 俊 助

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1λ ゛電磁波を断続的に出力する電磁波発生手段と
    、この電磁波発生手段から出力される電磁波を生体へ照
    射するアプリケータと、このアプリケータの電磁波照射
    開口部に装備された冷却手段と、前記電磁波の断続出力
    に対応して加温箇所の6度測定を行う温度計測手段とを
    備えたハイパサーミア用力旧晶装fFtにおいて、 前記冷却手段には、当該冷却手段に1史用されている冷
    却液の温度を調整する液温−X4整装置を装p16シ、
    この液温調整装置には、r4il記温度計測手段が予め
    定めfc設定値以上の生体温度を検知した場合に直ちに
    前記液温調整装置を稼働せしめて当該冷却液を冷却制御
    する液温制御回路を設けたこと(i:’l’¥敵とする
    ハイパサーミア用加温装置。
JP59040794A 1984-03-04 1984-03-04 ハイパーサーミア用加温装置 Granted JPS60190971A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59040792A JPS60190969A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040793A JPS60190970A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040796A JPS60190973A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040794A JPS60190971A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパーサーミア用加温装置
JP59040795A JPS60190972A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
US07/251,973 US4884580A (en) 1984-03-04 1988-09-30 Hyperthermia device

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59040792A JPS60190969A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040793A JPS60190970A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040796A JPS60190973A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040794A JPS60190971A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパーサーミア用加温装置
JP59040795A JPS60190972A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60190971A true JPS60190971A (ja) 1985-09-28
JPH0114795B2 JPH0114795B2 (ja) 1989-03-14

Family

ID=27522114

Family Applications (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59040793A Granted JPS60190970A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040794A Granted JPS60190971A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパーサーミア用加温装置
JP59040795A Granted JPS60190972A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040796A Granted JPS60190973A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040792A Pending JPS60190969A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59040793A Granted JPS60190970A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59040795A Granted JPS60190972A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040796A Granted JPS60190973A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置
JP59040792A Pending JPS60190969A (ja) 1984-03-04 1984-03-04 ハイパサ−ミア用加温装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4884580A (ja)
JP (5) JPS60190970A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6131174A (ja) * 1984-07-24 1986-02-13 菊地 眞 ハイパサ−ミア用加温装置

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6133668A (ja) * 1985-03-31 1986-02-17 菊地 眞 ハイパーサ−ミア用加温装置
US5279762A (en) * 1985-04-27 1994-01-18 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Smectic liquid crystal phases
IT1247029B (it) * 1991-06-19 1994-12-12 S M A Segnalamento Marittimo E Apparecchiatura a microonde per ipertermia clinica nella termoterapia endogena
US5540737A (en) * 1991-06-26 1996-07-30 Massachusetts Institute Of Technology Minimally invasive monopole phased array hyperthermia applicators and method for treating breast carcinomas
DE4213053A1 (de) * 1992-04-21 1993-10-28 Matthias Dr Ing Herrig Einrichtung zur Laserstrahlungsapplikation bei interstitieller Hyperthermie/Thermotherapie/photodynamischer Therapie
US6655850B2 (en) * 2001-07-05 2003-12-02 Corning Incorporated Hybrid fiber expanded beam connector and methods for using and making the hybrid fiber expanded beam connector
AU2004235739B2 (en) 2003-05-01 2010-06-17 Covidien Ag Method and system for programming and controlling an electrosurgical generator system
US9861424B2 (en) 2007-07-11 2018-01-09 Covidien Lp Measurement and control systems and methods for electrosurgical procedures
US8152800B2 (en) 2007-07-30 2012-04-10 Vivant Medical, Inc. Electrosurgical systems and printed circuit boards for use therewith
US7645142B2 (en) 2007-09-05 2010-01-12 Vivant Medical, Inc. Electrical receptacle assembly
US8747398B2 (en) 2007-09-13 2014-06-10 Covidien Lp Frequency tuning in a microwave electrosurgical system
KR101667281B1 (ko) * 2014-06-13 2016-10-19 (주) 미디어인터랙티브 인지능력 훈련 장치 및 방법, 그리고 그 방법이 기록된 컴퓨터-판독가능한 저장매체

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS547789A (en) * 1977-06-20 1979-01-20 Rca Corp Heat curing method and device
JPS56109752U (ja) * 1980-01-21 1981-08-25

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3077195A (en) * 1959-05-14 1963-02-12 Folsche Trutz Radiation device particularly for medical purposes
DE1440333A1 (de) * 1959-10-23 1969-04-30 Mikrowellen Gmbh Deutsche Anordnung an Hochfrequenz-Kocheinrichtungen
BE759712A (fr) * 1969-12-10 1971-06-02 Comp Generale Electricite Dioptre pour rayonnements electromagnetiques
JPS5228338A (en) * 1975-08-29 1977-03-03 Hitachi Ltd High output light beam focusing lens system
DE2648908A1 (de) * 1976-10-28 1978-05-03 Bosch Gmbh Robert Anordnung zur selektiven kuehlung humaner koerperbereiche bei einstrahlender hf - energie
US4108147A (en) * 1976-11-01 1978-08-22 The United States Of America As Represented By The Department Of Health, Education And Welfare Direct contact microwave diathermy applicator
US4140130A (en) * 1977-05-31 1979-02-20 Storm Iii Frederick K Electrode structure for radio frequency localized heating of tumor bearing tissue
US4228809A (en) * 1977-10-06 1980-10-21 Rca Corporation Temperature controller for a microwave heating system
US4204549A (en) * 1977-12-12 1980-05-27 Rca Corporation Coaxial applicator for microwave hyperthermia
US4271848A (en) * 1979-01-11 1981-06-09 Bio Systems Design, Corp. Apparatus for electromagnetic radiation of living tissue and the like
US4341227A (en) * 1979-01-11 1982-07-27 Bsd Corporation System for irradiating living tissue or simulations thereof
US4311154A (en) * 1979-03-23 1982-01-19 Rca Corporation Nonsymmetrical bulb applicator for hyperthermic treatment of the body
US4282887A (en) * 1979-10-11 1981-08-11 Rca Corporation Ridge-waveguide applicator for treatment with electromagnetic energy
US4638813A (en) * 1980-04-02 1987-01-27 Bsd Medical Corporation Electric field probe
US4462412A (en) * 1980-04-02 1984-07-31 Bsd Medical Corporation Annular electromagnetic radiation applicator for biological tissue, and method
US4397314A (en) * 1981-08-03 1983-08-09 Clini-Therm Corporation Method and apparatus for controlling and optimizing the heating pattern for a hyperthermia system
US4397313A (en) * 1981-08-03 1983-08-09 Clini-Therm Corporation Multiple microwave applicator system and method for microwave hyperthermia treatment
US4446874A (en) * 1981-12-30 1984-05-08 Clini-Therm Corporation Microwave applicator with discoupled input coupling and frequency tuning functions
JPS58127661A (ja) * 1982-01-27 1983-07-29 アロカ株式会社 マイクロ波加温治療装置
DE3210919C2 (de) * 1982-03-25 1986-07-10 Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen Vorrichtung zum zerkleinern von Konkrementen in Körpern von Lebewesen
EP0111386B1 (en) * 1982-10-26 1987-11-19 University Of Aberdeen Ultrasound hyperthermia unit
US4589424A (en) * 1983-08-22 1986-05-20 Varian Associates, Inc Microwave hyperthermia applicator with variable radiation pattern
US4601296A (en) * 1983-10-07 1986-07-22 Yeda Research And Development Co., Ltd. Hyperthermia apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS547789A (en) * 1977-06-20 1979-01-20 Rca Corp Heat curing method and device
JPS56109752U (ja) * 1980-01-21 1981-08-25

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6131174A (ja) * 1984-07-24 1986-02-13 菊地 眞 ハイパサ−ミア用加温装置
JPH0239272B2 (ja) * 1984-07-24 1990-09-04 Makoto Kikuchi

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60190969A (ja) 1985-09-28
US4884580A (en) 1989-12-05
JPH0356747B2 (ja) 1991-08-29
JPS60190972A (ja) 1985-09-28
JPH0356745B2 (ja) 1991-08-29
JPH0114795B2 (ja) 1989-03-14
JPS60190970A (ja) 1985-09-28
JPS60190973A (ja) 1985-09-28
JPH0356746B2 (ja) 1991-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0239271B2 (ja)
US7238183B2 (en) System and method for treating skin
JPS6137258A (ja) ハイパ−サ−ミア用加温装置
US20100204619A1 (en) Method and apparatus for treatment of skin using rf and ultrasound energies
JPH05220230A (ja) 内部発生熱療法での臨床的発熱療法用のマイクロ波装置
JPS60190971A (ja) ハイパーサーミア用加温装置
ATE537876T1 (de) Verfahren zum steuern eines mikroelektromagnetischen radiators zum aufbrechen von krebszellgewebe
JPS6133671A (ja) ハイパーサーミア用加温装置
JPH0241972B2 (ja)
JPS625364A (ja) ハイパ−サ−ミア用加温装置
JPH0241976B2 (ja)
JPS63305863A (ja) ハイパ−サ−ミア装置
JPS62152474A (ja) マグネテイツクインプラント加温装置
JPS625362A (ja) ハイパ−サ−ミア用加温装置
JPS625366A (ja) ハイパ−サ−ミア用加温装置
JPS6214850A (ja) 加熱治療器
JPS6133668A (ja) ハイパーサ−ミア用加温装置
JPH0241975B2 (ja)
JPS6133669A (ja) ハイパーサ−ミア用加温装置
JPS6373976A (ja) 遠赤外線温熱治療装置