JPS60181776A - デイスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
デイスプレイパネルの製造方法Info
- Publication number
- JPS60181776A JPS60181776A JP3704184A JP3704184A JPS60181776A JP S60181776 A JPS60181776 A JP S60181776A JP 3704184 A JP3704184 A JP 3704184A JP 3704184 A JP3704184 A JP 3704184A JP S60181776 A JPS60181776 A JP S60181776A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- display panel
- transparent electrode
- forming
- conductive film
- electrode
- Prior art date
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- Pending
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は透明電極上に該透明電極の一部を露出させて形
成された薄膜を介し導′ｔＦｉ、膜を形成し、該導電膜
をエツチングによりパターニングして上部電極を形成す
るディスプレイパネルの製造方法の改良に関するもので
ある。
成された薄膜を介し導′ｔＦｉ、膜を形成し、該導電膜
をエツチングによりパターニングして上部電極を形成す
るディスプレイパネルの製造方法の改良に関するもので
ある。
従来技術と問題点
従来この種のディスプレイパネルの上部電極形成に際し
ては、薄膜エレクトロルミネッセンスパネルＩを例にと
った第１図に示すように、ガラス基板１の上に透明電極
（ｒｒｏ膜）２を形成して、その上Ｋ Ｓｉ３Ｎ４ Ｏ
絶縁層３． ＺｎＳ：Ｋｎの発光層４゜Ｓｉ３Ｎ４の絶
縁層５よシなる薄膜を積層し、次にその上にＡｔ等の導
電膜６を蒸着した後、その上にレジストパターン７を形
成し、該レジストパターン７をマスクとして導電膜６の
エツチングを行なって上部電極（背面電極）を形成する
。なお、レジストパターン８轄、レジスト膜を塗布して
これに所定パターンで嬉光した後、現像を行うことによ
り形成される。
ては、薄膜エレクトロルミネッセンスパネルＩを例にと
った第１図に示すように、ガラス基板１の上に透明電極
（ｒｒｏ膜）２を形成して、その上Ｋ Ｓｉ３Ｎ４ Ｏ
絶縁層３． ＺｎＳ：Ｋｎの発光層４゜Ｓｉ３Ｎ４の絶
縁層５よシなる薄膜を積層し、次にその上にＡｔ等の導
電膜６を蒸着した後、その上にレジストパターン７を形
成し、該レジストパターン７をマスクとして導電膜６の
エツチングを行なって上部電極（背面電極）を形成する
。なお、レジストパターン８轄、レジスト膜を塗布して
これに所定パターンで嬉光した後、現像を行うことによ
り形成される。
この場合、レジストの現像、導電膜のエツチングは、透
明電極２の一部が薄膜から露出したままで行われていた
ため、これらの工程時に透明電極２の薄膜から露出して
いる部分（薄膜を積層しない部分）が黒く変色し、さら
には断線するという欠点があった。
明電極２の一部が薄膜から露出したままで行われていた
ため、これらの工程時に透明電極２の薄膜から露出して
いる部分（薄膜を積層しない部分）が黒く変色し、さら
には断線するという欠点があった。
また、この現像、エツチング時に各電極がレジスト現像
液、電極エツチング液等のアルカリ溶液に浸された場合
、そこに一種の電池が形成され両電極間に起電力が生じ
る。従って、第２図に示すように両電極間の薄膜８中に
ピンホール９が存在し、両電極間が低抵抗になっている
場合、そこに図中矢印線で示すように電流が流れ、上部
電極から透明前＆２へ電子が供給される。そして、例え
ば透明電極が酸化インジウム（Ｉｎ２０Ｂ）の場合、Ｉ
ｎ２０Ｂ ＋ ６ｇ：→２１ｎ＋ ５０”−のような還
元反応が起９、これにより透明電極が黒く変色し、さら
には断線が生じることになる。
液、電極エツチング液等のアルカリ溶液に浸された場合
、そこに一種の電池が形成され両電極間に起電力が生じ
る。従って、第２図に示すように両電極間の薄膜８中に
ピンホール９が存在し、両電極間が低抵抗になっている
場合、そこに図中矢印線で示すように電流が流れ、上部
電極から透明前＆２へ電子が供給される。そして、例え
ば透明電極が酸化インジウム（Ｉｎ２０Ｂ）の場合、Ｉ
ｎ２０Ｂ ＋ ６ｇ：→２１ｎ＋ ５０”−のような還
元反応が起９、これにより透明電極が黒く変色し、さら
には断線が生じることになる。
発明の目的
本発明は上述の欠点を解決するだめのもので、透明電極
の薄膜を積層しない部分に変色、断線が生じるのを防止
することのできるディスプレイパネルの製造方法を提供
することを目的としている。
の薄膜を積層しない部分に変色、断線が生じるのを防止
することのできるディスプレイパネルの製造方法を提供
することを目的としている。
発明の構成
本発明では、透明電極上の薄膜を積層しない部分に、レ
ジストパターン形成用現像液及び上部電極形成用エツチ
ング液に耐える保護層をレジストパターン形成に先だっ
て形成しておき、この状態でレジストのパターニング及
び導電膜のエツチングを行なって上部電極を形成するよ
うにして上記目的の達成を図っている。
ジストパターン形成用現像液及び上部電極形成用エツチ
ング液に耐える保護層をレジストパターン形成に先だっ
て形成しておき、この状態でレジストのパターニング及
び導電膜のエツチングを行なって上部電極を形成するよ
うにして上記目的の達成を図っている。
発明の実施例
以下、第６図に関連して本発明の詳細な説明する。図中
、従来と同一構成の部材は従来と同一符号を付している
。
、従来と同一構成の部材は従来と同一符号を付している
。
本発明では、透明′電極２の薄膜を積層しない部分に、
レジストパターン形成用現像液及び上部電極形成用エツ
チング液に耐える保護層１１をレジストパターン形成に
先立って形成しておいてレジストのパターニング及び導
電膜のエツチングを行なう。このように、透明電極２の
露出部分を保護層１１によシ保護した状態で現像、エツ
チングが行われるため、これらの工程時における透明電
極露出部分の変色、断面を確実に防止することができる
。
レジストパターン形成用現像液及び上部電極形成用エツ
チング液に耐える保護層１１をレジストパターン形成に
先立って形成しておいてレジストのパターニング及び導
電膜のエツチングを行なう。このように、透明電極２の
露出部分を保護層１１によシ保護した状態で現像、エツ
チングが行われるため、これらの工程時における透明電
極露出部分の変色、断面を確実に防止することができる
。
なお、第６図では、レジスト膜により保護層１１を形成
する例を示しており、この場合の保護層１１は、レジス
トパターン７形成用のレジスト膜を透明電極露出部分ま
で全面的に塗布し、これをレジストパターン７形成用に
図示の形状に同時にパターニングして形成される。この
方法による場合は、保護層１１形成はレジストパターン
７と同工程で行われるため特別な工程が不要で工数的に
有利であり、しかも透明電極２上に積層される薄膜の端
面も保護層１１によシ保繰される。
する例を示しており、この場合の保護層１１は、レジス
トパターン７形成用のレジスト膜を透明電極露出部分ま
で全面的に塗布し、これをレジストパターン７形成用に
図示の形状に同時にパターニングして形成される。この
方法による場合は、保護層１１形成はレジストパターン
７と同工程で行われるため特別な工程が不要で工数的に
有利であり、しかも透明電極２上に積層される薄膜の端
面も保護層１１によシ保繰される。
保護層の形成は、上述のレジスト膜による他に、テープ
叫を貼ることによっても実現できる。
叫を貼ることによっても実現できる。
以上の説明では薄膜エレクトロルミネッセンスパネルの
例について述べたが、本発明はエレクトロクロミックデ
ィスプレイパネルあるいは液晶ディスプレイ等の他のデ
ィスプレイパネルの製造にも適用可能である。
例について述べたが、本発明はエレクトロクロミックデ
ィスプレイパネルあるいは液晶ディスプレイ等の他のデ
ィスプレイパネルの製造にも適用可能である。
発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、ディスプレイパネ
ルの製造工程中における透明電極の変色。
ルの製造工程中における透明電極の変色。
断面を防止することができ、製造歩′ｔｌＩシの同上及
びパネル性能の同上を図ることが可能である。
びパネル性能の同上を図ることが可能である。
第１図は従来の製造方法による薄膜エレクトロルミネッ
センスパネルの製造要領説明図、第２図は同問題点説明
図、第６図は本発明に係るディスプレイパネルの製造方
法の実施例を示す保繰層形成要領図で、図中、１はガラ
ス基板、２は透明電極、６，５は絶縁層、４は発光層、
６は導電膜、７はレジストパターン、８は薄膜、１１は
保護層である。 特許出願人富士通株式会社 代理人弁理士玉蟲久五部（外１名）
センスパネルの製造要領説明図、第２図は同問題点説明
図、第６図は本発明に係るディスプレイパネルの製造方
法の実施例を示す保繰層形成要領図で、図中、１はガラ
ス基板、２は透明電極、６，５は絶縁層、４は発光層、
６は導電膜、７はレジストパターン、８は薄膜、１１は
保護層である。 特許出願人富士通株式会社 代理人弁理士玉蟲久五部（外１名）
Claims (1)
- 透明電極上に核透明電極の一部を露出させて積層された
薄膜を介し導電膜を形成し、該導電膜を該導電膜上に形
成されたレジストパターンを用いてエツチングすること
によシ上部電極を形成するディスプレイパネルの製造方
法において、前記透明電極上の前記薄膜を形成しない部
分に、前記レジストパターンを形成するだめの現像液及
び前記上部電極を形成するだめのエラチン２液に耐える
保護層を形成しておき、この状態で現像液およびエツチ
ング液による処理を行うことを特徴とするディスプレイ
パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3704184A JPS60181776A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | デイスプレイパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3704184A JPS60181776A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | デイスプレイパネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60181776A true JPS60181776A (ja) | 1985-09-17 |
Family
ID=12486517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3704184A Pending JPS60181776A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | デイスプレイパネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60181776A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007164183A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板表示装置及び平板表示装置の製造方法 |
-
1984
- 1984-02-28 JP JP3704184A patent/JPS60181776A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007164183A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板表示装置及び平板表示装置の製造方法 |
| US8203264B2 (en) | 2005-12-09 | 2012-06-19 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display and method of fabricating the same |
| US8890406B2 (en) | 2005-12-09 | 2014-11-18 | Samsung Display Co., Ltd. | Flat panel display and method of fabricating the same |
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