JPS60179742A - Instrument for processing photosensitive lithographic plate - Google Patents
Instrument for processing photosensitive lithographic plateInfo
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- JPS60179742A JPS60179742A JP3695184A JP3695184A JPS60179742A JP S60179742 A JPS60179742 A JP S60179742A JP 3695184 A JP3695184 A JP 3695184A JP 3695184 A JP3695184 A JP 3695184A JP S60179742 A JPS60179742 A JP S60179742A
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- photosensitive lithographic
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- fluoroaliphatic
- pen
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光性平版印刷版用処理用具、特に筆記A業
界でフェルトペン、?インペン、マーキングペン、マー
カー、又は筆ペン等の名称で呼ばれる、bわゆるフェル
トペンタイノの筆記具の外客器に、感光性平版印刷版用
処理剤を充填した処理用具に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention is applicable to processing tools for photosensitive lithographic printing plates, particularly felt-tip pens in the writing industry. The present invention relates to a processing tool in which the outer container of a so-called felt-pentaino writing instrument, which is called an ink pen, marking pen, marker, or brush pen, is filled with a processing agent for photosensitive planographic printing plates.
感光性平版印刷版は、これを画像露光、現像して刷版と
して使用できるようにするまでに、種々の処理剤が適用
される。たとえば、Iジ原画フィルムを密着焼付けした
場合%フィルム切口部分においては露光が不足し、その
部分がインキ受容性となるので、ポジ原画フィルムを貼
シ込んだペース上のフィルム切O部分に「マット液」を
塗布し、光散乱させる方法がある。また露光焼付後r現
偉液」で非画像部(ポジ版においては露光部、ネガ版に
訃いては未露光部)を除去する。この時、フィルムの切
口、フィルムのゴミ付き、レジスターマーク等の不必要
な画像を「消去液」によって除去する。不要画像の消去
は、現像前に、露光焼付時の色変化を判断して消去する
方法と、現像後に、形成された画像を判断して消去する
方法とがある。Various processing agents are applied to a photosensitive lithographic printing plate before it can be used as a printing plate by imagewise exposure and development. For example, when contact-printing an I-zi original film, the exposure at the film cut end is insufficient, and that part becomes ink-receptive. There is a method of applying a liquid and scattering light. After exposure and printing, the non-image areas (exposed areas for positive plates, unexposed areas for negative plates) are removed using a printing solution. At this time, unnecessary images such as cut edges of the film, dust on the film, register marks, etc. are removed using an "erasing liquid". There are two methods for erasing unnecessary images: one is to judge the color change during exposure and printing before development, and the other is to judge the formed image and erase it after development.
逆に現像後、必要画像にピンホール等が発生した場合r
加鉦液」によル加筆修正が行われる。現像の終った版は
、画像部のインキ受容性の保護および/または消去作業
のための検版性向上のため「保護インキ」が必要に応じ
て塗布される゛。最後に、非画像部の親水性保護のため
「保護ガム」を塗布すると印刷版が出来上る。このとき
高耐刷力を望む場合はrバーニング用整面液」を使って
バーニングすることもある。また、印刷時、汚れが発生
した場合r−ル−トクリーナー」で汚れを除去する。On the other hand, if pinholes etc. occur in the required image after development,
Additions and corrections will be made using ``Kamen Liquid''. After development, a "protective ink" is applied as necessary to protect the ink receptivity of the image area and/or to improve plate inspection for erasing work. Finally, a "protective gum" is applied to protect the non-image area from hydrophilic, and the printing plate is completed. At this time, if high printing durability is desired, burning may be performed using "r-burning surface preparation liquid". Also, if dirt occurs during printing, remove it with the R-Root Cleaner.
このように%感光性平版団刷版から刷版を製造する際に
各種の処理剤が使用されているが、これを分類すると、
全面または大面積に使用するものと部分的または小面積
に使用するものに分けることが出来る。In this way, various processing agents are used when manufacturing printing plates from % photosensitive lithographic printing plates, but they can be classified into the following:
It can be divided into those used for the entire surface or large area and those used for partial or small area.
全面または大面積に使用する処理剤としては、バットや
自動現像機等による浸漬やシャワーリング、スポンジ等
に含ませて手で全面に塗布する場合に使用する現像液、
保護インキ、保護ガム、バーニング整面液、プレートク
リーナーなどがある。Processing agents used for the entire surface or large area include immersion or showering using a vat or automatic developing machine, developer used when soaked in a sponge, etc., and applied to the entire surface by hand,
Products include protective ink, protective gum, burning surface preparation liquid, and plate cleaner.
一方、部分的に使用する処理剤としては、筆やへケ等で
塗布したり、あるいはフェルトベンタイプの容器に充填
して使用するマット液、消去液、加葺液などがある。On the other hand, processing agents that are used locally include matte liquids, erasing liquids, and roofing liquids that are applied by brush or spatula, or filled into a felt-ben type container.
フェルトベンタイプの処理剤は、筆等によって塗布する
場合に比べ、筆に液を供給する必要がなく作業性が優れ
ているが1次のような欠点がある。Feltven type treatment agents are superior in workability, as they do not require supply of liquid to a brush, compared to when applied with a brush, but they have the following drawbacks:
すなわち、キャップを開放して放置し、容器中の溶剤が
蒸発した場合や、長時間使用によって容器中の液量が減
少した場合には、処理剤の流れが悪くなシ、必要量がペ
ン先から流出しなくなるために、十分な処理効果が得ら
れなくなる。In other words, if the cap is left open and the solvent in the container evaporates, or if the amount of liquid in the container decreases due to long-term use, the processing agent may not flow well or the required amount may not reach the pen tip. As a result, sufficient treatment effects cannot be obtained.
また液流が悪くなるとペン先が非常圧汚れるために、十
分な処理効果が得られなくなることもある。Furthermore, if the liquid flow deteriorates, the pen tip becomes extremely dirty, which may prevent a sufficient treatment effect from being obtained.
したがって本発明の目的は、溶剤の蒸発を抑え、キャッ
プを開放して放置したシ、長時間使用した場合において
も処理剤が円滑に流出して十分な処理効果を与えること
ができる、作業性の良い感光性平版印刷版用の処理用具
を提供することにある。Therefore, it is an object of the present invention to suppress evaporation of the solvent, and to improve workability by allowing the processing agent to flow out smoothly and providing sufficient processing effects even when the cap is left open or used for a long time. The object of the present invention is to provide a good processing tool for photosensitive lithographic printing plates.
本発明の他の目的は、ペン先の汚れが少なく、十分表処
理効果を与えることができる1作業性の良い感光性平版
印刷版用の処理用具を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a processing tool for a photosensitive lithographic printing plate that has good one-time workability and can provide a sufficient surface treatment effect with less staining of the pen tip.
本発明者等は鋭意研究した結果、上記処理剤°にフッ素
系界面活性剤を含有させることにょ)上記目的が達成出
来ることを見出した。As a result of extensive research, the present inventors have found that the above object can be achieved by incorporating a fluorine-based surfactant into the processing agent.
本発明は1.フッ素系界面活性剤を含む、感光性平版印
刷版用処理剤を充填したフェルトベンタイプの感光性平
版印刷版用処理用具である。The present invention consists of 1. This is a feltven type photosensitive lithographic printing plate processing tool filled with a photosensitive lithographic printing plate processing agent containing a fluorine-based surfactant.
本発明において、フッ素系界面活性剤としては、陰イオ
ン性、陽イオン性又は非イオン性界面活性剤を使用する
ことができるが、特に非イオン性のフッ素系界面活性剤
が好ましい。非イオン性のフッ素系界面活性剤の特に好
ましい例としては、下記一般式(1)又は(II)で示
される。フルオロ脂肪族基とポリオキシアルキレン基と
を有するフルオロ脂肪族オリプマーが挙げられる。In the present invention, anionic, cationic or nonionic surfactants can be used as the fluorosurfactant, and nonionic fluorosurfactants are particularly preferred. Particularly preferred examples of nonionic fluorosurfactants are represented by the following general formula (1) or (II). Examples include fluoroaliphatic oligomers having a fluoroaliphatic group and a polyoxyalkylene group.
(Rず)mQ((OR)xQ’ A)n 、 (1)[
(Rf)mQ((OR)xQ’ A’ )n)z (E
l)ここで■ はフルオロ脂肪族基を示し、QはRf
とORとを共有結合させる連結基を示し。(Rzu)mQ((OR)xQ'A)n, (1)[
(Rf)mQ((OR)xQ'A')n)z(E
l) where ■ represents a fluoroaliphatic group, and Q represents Rf
represents a linking group that covalently bonds and OR.
ORはポリオキシアルキレン基を示し、^は一価の末端
有機基を示しs A ’ I/is少々くとも1つはQ
と結合したRが他のQに結合することを条件に。OR represents a polyoxyalkylene group, ^ represents a monovalent terminal organic group, and at least one is Q.
on the condition that the R bonded to is bonded to another Q.
A又は単なる結合基を示し*Q’ldA又はA′とRと
を共有結合させる結合基を示し1mは2以上の整数を示
し%nは2以上の整数を示し、 Xtf5以上の整数を
示す。A or a simple bonding group *Q'ldA or a bonding group covalently bonding A' and R; 1m represents an integer of 2 or more; %n represents an integer of 2 or more; Xtf represents an integer of 5 or more.
上記Rfは直鎖、分枝又は環状の飽和−価の脂肪族残基
を含み、フルオロ脂肪族骨格鎖は炭素原子とのみ結合す
る酸素原子や5価へテロ窪素原子を含みうる。Rf は
炭素原子数3〜2oのもの。The above Rf includes a linear, branched, or cyclic saturated-valent aliphatic residue, and the fluoroaliphatic backbone chain may include an oxygen atom or a pentavalent heterosilicon atom bonded only to carbon atoms. Rf has 3 to 2 carbon atoms.
最も好ましくは6〜12のものから選ばれ、その40〜
78重量憾、l/にも好ましくは50〜770〜77重
量%子に結合したフッ素原子のものである。最も好まし
いRfはパーフルオロアル中ル基、即ち%CnF (こ
こで、nは3〜20% よプ。Most preferably selected from 6 to 12, of which 40 to
78% by weight, preferably 50 to 770 to 77% by weight of fluorine atoms bonded to l/l. The most preferred Rf is a perfluoroalkyl group, i.e. %CnF (where n is from 3 to 20%).
2n+1 好ましくは6〜12の整数を示す。)である。2n+1 Preferably it represents an integer of 6 to 12. ).
mは2以上の整数を示し、よシ好ましくはRfに含まれ
る炭素原子に結合したフッ素原子がフルオロ脂肪族オリ
ゴマーに対して5〜30重量%、最も好ましくは10〜
250〜25重量%うな整数である。m represents an integer of 2 or more, and preferably the fluorine atoms bonded to the carbon atoms contained in Rf are 5 to 30% by weight, most preferably 10 to 30% by weight, based on the fluoroaliphatic oligomer.
It is an integer between 250 and 25% by weight.
前記一般式(1)又は(幻におけるORで示されるオキ
シアルキレンのアルキレン=Rは炭素原子数が2〜4%
よシ好ましくは2〜3のアルキレンを示し、中でもエチ
レンとプロピレンが最も好ましい。The alkylene=R of the oxyalkylene represented by the general formula (1) or (OR in the illusion) has 2 to 4% carbon atoms.
More preferably, it represents 2 to 3 alkylenes, of which ethylene and propylene are most preferred.
ポリオキシアルキレン: (OR)xにおける0Rit
:、同一のもの(即ち、ポリオキシエチレン又はIリオ
キシノロピレン)であってもよく%またオキシエチレン
とオキシプロピレンがランダムに又は!ロック状に含ま
れていてもよいが、特にオキシエチレンとオキシプロピ
レンのブロックポリマーが好ましい。更にポリオキシア
ルキレン鎖中には。Polyoxyalkylene: (OR) 0Rit in x
:, may be the same (i.e., polyoxyethylene or I-lioxynolopylene), or oxyethylene and oxypropylene may be randomly or! Although it may be contained in a lock form, block polymers of oxyethylene and oxypropylene are particularly preferred. Furthermore, in the polyoxyalkylene chain.
−CONH−C6H4−NHCO,−8”’%−CH2
−CH−CH2゜−coco−基などの基が含まれてh
てもよい。このような(OR)x#lj:、フルオロ脂
肪族オリゴマーに極性の異なる種々の溶剤に対して良好
な溶解性を保有させる、所謂可溶化基として機能するも
のであシ、従ってXは(OR) xの分子量が5oo〜
2500となる範囲から選択される。-CONH-C6H4-NHCO, -8'''%-CH2
-CH-CH2゜-coco- group and other groups are included.
You can. Such (OR) ) The molecular weight of x is 5oo ~
It is selected from a range of 2,500.
QおよびQ’ #′i、Rf%(OR)x、並びKA及
びAI とを共有結合させて一般式(り又#′iω)の
オリf−f−を完成させる結合基である。Qおよびql
は1例えばRfと(OR)x とを直接結合させるよう
な車なる結合基であってもよいし、例えば−CH2CH
< 、 −CH2−CH2−%−CH2CH(0M2−
)2のよう表多価脂肪族基1例えば2.4−)リレン。It is a bonding group that covalently bonds Q and Q'#'i, Rf%(OR)x, KA and AI to complete the ori f-f- of the general formula (Rimata #'iω). Q and ql
1 may be a bonding group such as a car that directly bonds Rf and (OR)x, for example, -CH2CH
< , -CH2-CH2-%-CH2CH(0M2-
2) Polyvalent aliphatic group 1 such as 2.4-)rylene.
オキシ、チオ、カルがニル、スルホン、スルホ牛シ、ホ
スホキシ& −P(OH) % アミン(例、ttf1
〇
−NH)−N(C2H5)−など)、更にはオキシアル
キレン、イミノアルキレン、イミノアリーレン、スルホ
ンアミド、カルボンアミド、スルホンアミド。Oxy, thio, carbonyl, sulfone, sulfonyl, phosphoxy & -P(OH)% amine (e.g., ttf1 〇-NH)-N(C2H5)-, etc.), as well as oxyalkylene, iminoalkylene, iminoarylene , sulfonamide, carbonamide, sulfonamide.
アルキレン、カルボンアミドアルキレン、ウレタン(例
えば−CH2CH20CON H”1−NHC0NH2
−、アシルアルキレン〔例えば。Alkylene, carbonamide alkylene, urethane (e.g. -CH2CH20CON H"1-NHC0NH2
-, acylalkylene [e.g.
co−co− (例えば、−=CQOCH2−など)であってもよい。co-co- (For example, -=CQOCH2-, etc.).
これらの連、詰碁は、入手の容易性および合成上の容易
性から、適当なものを選ぶことができる。QおよびQl
は、単なる結合以外の基の墓場にはフルオロオリゴマー
分子中に、10重量%以下の範囲で含まれていることが
好ましい。Appropriate ones can be selected from these reams and Tsumego based on their availability and ease of synthesis. Q and Ql
is preferably contained in the fluoro-oligomer molecule in an amount of 10% by weight or less in the graveyard of groups other than simple bonds.
A Fisアセチル、ベンゾイルなどの7フル基。A Fis 7 full groups such as acetyl and benzoyl.
メチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル。Methyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl.
メルカノトエチル、アミノエチルなどのアルキル基、フ
ェニル、クロロフェニル、/)キシフェニル、ノニルフ
ェニル、ヒドロキシフェニルナトノアり−ル基を含む。It includes alkyl groups such as merkanotethyl and aminoethyl, phenyl, chlorophenyl, /)xyphenyl, nonylphenyl, and hydroxyphenylnatonaryl groups.
一般式(り又は@)で示されるフルオロ脂肪族オリゴマ
ーは3〜50モノマー単位を含むオリゴマーであ)、分
子量10万以上の高分子ポリマーとは区別される。The fluoroaliphatic oligomer represented by the general formula (ri or @) is an oligomer containing 3 to 50 monomer units) and is distinguished from a high molecular weight polymer having a molecular weight of 100,000 or more.
一般式(1)又a (1)で示されるフルオロ脂肪族オ
リゴマーは、溶液重合法、懸濁重合法又は塊状重合法を
使って、縮合重合、ラジカル重合又はイオン重合させる
ことによシ得ることができ、/リエステル、Iリウレタ
ン、ポリエIキシド、ポリアミド、並びにIリアクリレ
ートのよう々ビニル重合体を含む。特に好ましいすりゴ
マ−1;j、 /リアクリレートであシ、フルオロ脂肪
族残基を有するアクリレートとポリオ中ジアルキレン残
基を有するアクリレートとを共重合させることによって
合成することができる。The fluoroaliphatic oligomer represented by general formula (1) or a (1) can be obtained by condensation polymerization, radical polymerization, or ionic polymerization using a solution polymerization method, suspension polymerization method, or bulk polymerization method. These include vinyl polymers such as /reesters, I-urethanes, polyoxides, polyamides, and I-reacrylates. A particularly preferred ground sesame polymer 1;j/reacrylate can be synthesized by copolymerizing an acrylate having a fluoroaliphatic residue and an acrylate having a dialkylene residue in polio.
一般式(1)又は(It)で示されるフルオロ脂肪族オ
リf1−及びその合成法は、特公昭57−54500号
公報(米因特許第3,787,351号に対応)に詳し
く説明されている。The fluoroaliphatic ori f1- represented by the general formula (1) or (It) and its synthesis method are explained in detail in Japanese Patent Publication No. 57-54500 (corresponding to U.S. Patent No. 3,787,351). There is.
本発明に使用されるフッ素系界面活性剤は、市販品とし
て入手することができ、具体的な例としてはFC−45
0、FC−431(以上3M社製)メガファツクF−1
41,同一142、同142−D、同F−143s同F
−144゜同F−144D、同F 52a%同F−17
0゜同F−171%同F−172%同F−175゜同F
−177、同F−183,同F−1e4〔以上大日本イ
ンキ化学工業C株)製)などを挙げることが出来る。フ
ッ素系界面活性剤の添加量は、使用する溶剤や添加剤な
どによって変わるが、処理剤全重量の0.001−5重
量係が好ましく、0.01−2重量係が特に好ましい。The fluorosurfactant used in the present invention can be obtained as a commercial product, and a specific example is FC-45
0, FC-431 (manufactured by 3M) Mega Fac F-1
41, same 142, same 142-D, same F-143s same F
-144゜F-144D, F 52a% F-17
0゜Same F-171%Same F-172%Same F-175゜Same F
-177, F-183, and F-1e4 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.). The amount of the fluorosurfactant added varies depending on the solvent and additives used, but is preferably 0.001-5% by weight, particularly preferably 0.01-2% by weight of the total weight of the processing agent.
添加量が少ない場合は効果が弱く1逆に添加量が多くな
ると、乾燥性が非常に悪くなったシ、マット液、加筆液
では密着性の低下、消去液では汚れ防止効果の低下など
が生じる。これらのフッ素系界面活性剤は単独または2
種以上併用して使用することができるO
本発明による処理剤は、フェルトベンタイプの容器に充
填して使用されるものであれば、いずれのものであって
もよ込が、先に述べたように、フェルトベンタイプの容
器の特性が発揮される部分的に使用する処理剤が適して
おシ、マット液、消去液、加筆液などが特に好ましb0
マット液、消去液、加筆液の組成は、当業界ではよく知
られてお〕、多くの商品が発光され、また多数の文献、
特許等に記載されているが、次に簡単に説明する。If the amount added is small, the effect is weak; on the other hand, if the amount added is large, the drying properties become very poor, the adhesion of matte liquids and addition liquids decreases, and the stain prevention effect of eraser liquids decreases. . These fluorosurfactants may be used alone or in combination
The treatment agent according to the present invention can be used in combination with more than one species. Therefore, processing agents that can be used locally and exhibit the characteristics of a felt-ben type container are suitable, and matte liquids, erasing liquids, and writing liquids are particularly preferred. The composition is well known in the industry], many products are emissive, and there are many publications,
This is described in patents, etc., but will be briefly explained below.
マット液は通常、主として1元散乱のための微粉末、そ
れを固着するためのバインダーおよび溶剤から構成され
ているが、これにフッ素系界面活性剤を添加する。微粉
末としては平均粒径が1μmから20師程度の二酸化珪
素、二酸化チタン等の微粒子が好んで使用される。バイ
ンダーとしては、フェノール樹脂、アクリル系樹脂、ロ
ジン、アルキッド樹脂等が%また溶剤としては、バイン
ダーを溶解し、微粉末の分散が良好である必要があシ、
エタノール、イノ・プロ/fノール、イソツタノール、
メチルイソグチルケトン、メチルセロソルグ、エチルセ
ロソルテ等の溶剤が使用される。The matte solution is usually mainly composed of a fine powder for one-element scattering, a binder and a solvent for fixing it, and a fluorine-based surfactant is added thereto. As the fine powder, fine particles of silicon dioxide, titanium dioxide, etc. having an average particle size of 1 μm to about 20 μm are preferably used. As the binder, phenol resin, acrylic resin, rosin, alkyd resin, etc. are used.The solvent must be able to dissolve the binder and disperse the fine powder well.
Ethanol, Inno Pro/f-Nol, Isotutanol,
Solvents such as methyl isobutyl ketone, methyl cellosorg, and ethyl cellosorte are used.
これらの溶剤は一般に、良好な塗布層が得られるように
、蒸発速度の大きいものと、小さいものを適宜組み合せ
て使用する。このようなマット液は、特開昭52−15
2505号公報に説明されているO
消去液は通常、感光層を溶解除去するための有機溶剤、
消去液の作用を促進し汚れを防止するための酸性物質を
必須の成分とし、それ以外に、必要に応じて湿潤剤、粘
調剤1着色剤、微粒子分散無機物質、非イオン系界面活
性剤、水等から構成されているが、これにフッ素系界面
活性剤を添加する。有機溶剤としてはラクトン類(慣用
名二環状分子内エステル)、メトキシグリコール、エト
キシグリコールなどのグリコール類、メチル−イソグチ
ルケトン、エチル−イソグチルケトン、シクロヘキサノ
ンなどのケトン類、2−メトキシエチルアセテート%2
−エトキシエチルアセテート。These solvents are generally used in appropriate combinations of those with high evaporation rates and those with low evaporation rates so as to obtain a good coating layer. Such a matte liquid is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-15
The O eraser described in Japanese Patent No. 2505 usually contains an organic solvent for dissolving and removing the photosensitive layer,
An acidic substance is an essential component to promote the action of the erasing liquid and prevent staining, and in addition, a wetting agent, a viscosity agent, a coloring agent, a fine particle dispersion inorganic substance, a nonionic surfactant, Although it is composed of water and the like, a fluorine-based surfactant is added to it. Examples of organic solvents include lactones (commonly known as bicyclic intramolecular esters), glycols such as methoxy glycol and ethoxy glycol, ketones such as methyl-isobutyl ketone, ethyl-isobutyl ketone, and cyclohexanone, and 2-methoxyethyl acetate%2.
-Ethoxyethyl acetate.
酢酸エチル酢酸グチルなどのエステル類、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテルなどのエーテル類その他ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド々どの特殊溶剤を使用する
ことができる。また酸性物質としては、リン酸、フッ化
水素;フフ化ジルコン酸等のフッ素含有化合物、クエン
酸、レツリン酸、乳酸などを使用することができる。こ
のような消去液の組成の詳細Fi1特公昭46−160
47号、同51−55442号及び特開昭55−121
447号の各公報に説明されている。Esters such as ethyl acetate and glutyl acetate, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether, and special solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethyl formamide can be used. Further, as the acidic substance, phosphoric acid, hydrogen fluoride; fluorine-containing compounds such as fluorinated zirconic acid, citric acid, retulic acid, lactic acid, etc. can be used. Details of the composition of such erasing liquid Fi1 Special Publication 1984-160
No. 47, No. 51-55442 and JP-A No. 55-121
It is explained in each publication of No. 447.
加筆液は、バインダーと溶剤の他に、耐刷性を保持させ
るための感光性ジアゾ樹脂、感光性アジド化合物、光重
合性組成物1分子中に不飽和二重結合を有する感光性樹
脂や、加筆した部分を見やすくするための着色剤等から
構成されているが、これにフッ素系界面活性剤を添加す
る。バインダーと溶剤は、マット液について例示したよ
うなものが使用される。In addition to the binder and the solvent, the addition liquid contains a photosensitive diazo resin for maintaining printing durability, a photosensitive azide compound, a photosensitive resin having an unsaturated double bond in one molecule of the photopolymerizable composition, It consists of a coloring agent to make the added parts easier to see, and a fluorine-based surfactant is added to this. The binder and solvent used are those exemplified for the matte liquid.
本発明において、処理剤を充填するのに使用される容器
は、筆記具業界で多数使用されている。In the present invention, the containers used to fill the processing agent are many used in the writing instrument industry.
いわゆるフェルトペンタイブのものであればl/ifれ
のものであってもよい。たとえば、容器内タンク部分に
中詰め用の綿やフェルトを使用しているもの、中空のタ
ンク内に直接インキを充填し、−9ルツ開閉によって流
量を調整する九とえばノック式のもの、ペン先が筆先と
同様の筆ペンタイグのものなどを挙げることができる。As long as it is a so-called felt pen type, it may be of a l/if type. For example, containers that use cotton or felt for filling in the tank inside the container, knock-type containers that fill ink directly into a hollow tank and adjust the flow rate by opening and closing, and pens. Examples include brush pentaigs whose tip is similar to the tip of a brush.
これらの容器は既に市販されておシ公知のものであるた
め、その詳細な説明は省略する。Since these containers are already commercially available and well known, detailed description thereof will be omitted.
本発明によ]れば、キャブff開放して放置したシ、あ
るい、#−i長時間使用した場合にも、処理剤が適切に
流出して十分な処理効果を与えることができ、ペン先の
汚れが少々<1作業性のよい、フェルトペンタイブの感
光性平版印刷版用処理用具が得られる。According to the present invention, even if the cab is left open or the pen is used for a long time, the processing agent can properly flow out and provide a sufficient processing effect. A felt pen type photosensitive lithographic printing plate processing tool with good workability and a slight stain on the tip <1 is obtained.
次に実施例によシ1本発明をさらに詳細に説―する。 Next, the present invention will be explained in more detail with reference to examples.
実施例1および比較例i
次の第1表に示すような組成のマット液を調製し、フェ
ルトペン容器に充填した。Example 1 and Comparative Example i A matte liquid having the composition shown in Table 1 below was prepared and filled into a felt-tip pen container.
第 1 表
マット液の調製は、まずアエロジル380に溶剤の半分
量を加え、これをボールミル(容積11)にて12時間
粉砕し、これに、残量の溶剤にバインダーおよびFC−
450を溶解した液を添加混合することによシ行なった
。Table 1 To prepare the matte liquid, first add half of the solvent to Aerosil 380, grind it in a ball mill (volume 11) for 12 hours, and add the binder and FC-
This was done by adding and mixing a solution in which 450 was dissolved.
これらのマット液充填フェルトペンを、貼)込みフィル
ムの切ルロ部分のベース上にマット液を塗布するのに使
用した。温度25℃、湿度6Lo%RH,無風・状態の
室内でキャップをペン先からはずしたときに、比較例a
のペンでは5〜6分でかすれが生じた〕、多量に処理し
た後では液量が不足したため、フィルムエツジ部分がイ
ンキ受容性罠なってしまった。これに対し、実施例1の
ペンでは同じ条件でキャップを開放した場合にかすれが
生じるまで、の時間は約15分間であシ%また多量に処
理した後でも液量は十分であシ、フィルムエツジ部分が
イン牛受容性になることはカ(<、良好な結果が得られ
た。These matte liquid-filled felt tip pens were used to apply the matte liquid onto the base of the cut-out area of the laminated film. Comparative example a.
With the pen, smearing occurred in 5 to 6 minutes], and because there was insufficient liquid after processing a large amount, the film edge became an ink-receptive trap. In contrast, with the pen of Example 1, when the cap was opened under the same conditions, it took about 15 minutes before blurring occurred. The fact that the edge part becomes receptive to cows (<, good results were obtained.
実施例2および比較例す
次の第2表に示す組成の消去液を調製し偽筆ベンタイ!
の容器に充填した。Example 2 and Comparative Example An erasing liquid having the composition shown in Table 2 below was prepared and a fake brush was used!
filled into a container.
第 2 表 これを現像前用消去液として使用したところ。Table 2 This was used as an eraser before development.
比較例すのペンでは、25℃b 6o%”Hb無風状態
で長時間(約15分間)開放した場合、液がかすれたシ
液量が不足して消去が不完全となった、t+、tた多量
に処理をしたところ、液流が悪く、溶解された感光層が
筆先を汚し、消去性が劣化した。これに対し、実施例2
のペンでは、キャップを50分間以上開放しても液のか
すれがなく、多量に処理しても筆先の汚れの程度が少な
く、良好な結果が得られた。In the case of the Comparative Suno pen, when it was left open for a long time (approximately 15 minutes) in a no-air condition at 25°C, 6o% Hb, the liquid became blurry and the amount of liquid was insufficient, resulting in incomplete erasing. When treated in large quantities, the liquid flow was poor, the dissolved photosensitive layer stained the tip of the brush, and erasability deteriorated.In contrast, Example 2
With this pen, good results were obtained, with no liquid smearing even when the cap was left open for 50 minutes or more, and the degree of staining of the tip of the brush was small even after processing a large amount.
実施例3および比較例C
次の第3表に示す組成の消去液を調製して、フェルトペ
ンタイプの容器に充填して現像抜用消去ペンとした。Example 3 and Comparative Example C An erasing liquid having the composition shown in Table 3 below was prepared and filled into a felt pen type container to obtain an erasing pen for development.
第 3 表
比較例Cのペンで#i:、25℃60チRH%無風状態
で長時間(約10分間)キャップを開放した場合、液が
かすれたり、液が不足して消去が不完全となった〕、ま
た大きな面積の不必要画像を多・ 量に処理した場合に
は液流が悪く、溶解された感光層がペン先を汚し、それ
の激しいものは中のフェルトを汚す程であったため、消
去性が劣化し、また非画像部上の液の輪郭部分が汚れた
。これに対し、実施例3のペンでは、60分間以上キャ
ップを開放してもかすれがなく、また液流も良好なため
%ペン先の汚れはわずかであり1輪郭部分の汚れが発生
することもなく、消去性が良好であった。#i: When using the pen of Comparative Example C in Table 3 and leaving the cap open for a long time (approximately 10 minutes) at 25°C, 60°C, and RH% without air, the liquid may become blurred or the liquid may be insufficient, resulting in incomplete erasing. ], and when large amounts of unnecessary images with large areas are processed, the liquid flow is poor and the dissolved photosensitive layer stains the pen tip, and in severe cases it can stain the felt inside. As a result, the erasability deteriorated and the outline of the liquid on the non-image area became smeared. On the other hand, with the pen of Example 3, there was no blurring even when the cap was opened for 60 minutes or more, and the liquid flow was good, so there was only a slight amount of dirt on the pen tip, and there was no chance of dirt on one outline. The erasability was good.
実施例4および比較例d
次の第4表に示す組成の加蓬液を調製し、フェルトイン
容器に充填し友。フッ素系界面活性剤FC−450を添
加しなかった比較例dのインで8〜9分間でかすれが生
じたのに対し、実施例4のペンでは20分間程度までか
すれが生じることがなかった。Example 4 and Comparative Example d Addition liquid having the composition shown in Table 4 below was prepared and filled into felt-in containers. While the pen of Comparative Example d, which did not contain the fluorosurfactant FC-450, caused smearing after 8 to 9 minutes, the pen of Example 4 did not smudge for about 20 minutes.
第 4 表
手続補正書
昭和 喝9.朗16日
1、事件の表示 昭和59年特許廟第36951号2、
発明の名称 感光性平版印刷版用処理用具3、補正をす
る者
名 称 (520)富士写真フィルム株式会社5、補正
命令の日付 自 発
6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄明細書
の記載を次のとおり訂正する。Table 4 Procedural Amendments Showa 9. Ro 16th 1, Incident Display 1981 Patent Temple No. 36951 2,
Title of invention Processing tool for photosensitive lithographic printing plates 3 Name of person making the amendment Name (520) Fuji Photo Film Co., Ltd. 5 Date of amendment order Voluntary 6 Subject of amendment Detailed explanation of the invention in the specification The description in the description is corrected as follows.
Claims (1)
を充填したフェルトペンタイノの感光性平版印刷版用処
理用具。A felt pentaino photosensitive lithographic printing plate processing tool filled with a photosensitive lithographic printing plate processing agent containing a fluorine-based surfactant.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3695184A JPS60179742A (en) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | Instrument for processing photosensitive lithographic plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3695184A JPS60179742A (en) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | Instrument for processing photosensitive lithographic plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60179742A true JPS60179742A (en) | 1985-09-13 |
Family
ID=12484049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3695184A Pending JPS60179742A (en) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | Instrument for processing photosensitive lithographic plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60179742A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0231028A2 (en) * | 1986-01-29 | 1987-08-05 | MicroSi, Inc. (a Delaware corporation) | High contrast low metal ion photoresist developing method and composition |
US4784937A (en) * | 1985-08-06 | 1988-11-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Developing solution for positive-working photoresist comprising a metal ion free organic base and an anionic surfactant |
US4822713A (en) * | 1986-01-23 | 1989-04-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive composition with fluorine containing acrylate or methacrylate copolymer surfactant |
-
1984
- 1984-02-28 JP JP3695184A patent/JPS60179742A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4784937A (en) * | 1985-08-06 | 1988-11-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Developing solution for positive-working photoresist comprising a metal ion free organic base and an anionic surfactant |
US4822713A (en) * | 1986-01-23 | 1989-04-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive composition with fluorine containing acrylate or methacrylate copolymer surfactant |
EP0231028A2 (en) * | 1986-01-29 | 1987-08-05 | MicroSi, Inc. (a Delaware corporation) | High contrast low metal ion photoresist developing method and composition |
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