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JPS6017912Y2 - gas laser system - Google Patents

gas laser system

Info

Publication number
JPS6017912Y2
JPS6017912Y2 JP215183U JP215183U JPS6017912Y2 JP S6017912 Y2 JPS6017912 Y2 JP S6017912Y2 JP 215183 U JP215183 U JP 215183U JP 215183 U JP215183 U JP 215183U JP S6017912 Y2 JPS6017912 Y2 JP S6017912Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat exchanger
gas
laser
passage means
working medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP215183U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59180455U (en
Inventor
ジヤツク・ウイリアム・デイヴイス
アラン・プレスコツト・ワルチ
Original Assignee
ユナイテツド・テクノロジーズ・コーポレイシヨン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ユナイテツド・テクノロジーズ・コーポレイシヨン filed Critical ユナイテツド・テクノロジーズ・コーポレイシヨン
Priority to JP215183U priority Critical patent/JPS6017912Y2/en
Publication of JPS59180455U publication Critical patent/JPS59180455U/en
Application granted granted Critical
Publication of JPS6017912Y2 publication Critical patent/JPS6017912Y2/en
Expired legal-status Critical Current

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  • Lasers (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はレーザーに関するものであり、更に詳細に述べ
ると閉鎖サイクル式放電ガスレーザー装置に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a laser, and more particularly to a closed cycle discharge gas laser device.

多くの商業上の使用に対し益々将来有望な形式のレーザ
ーシステムの一つは!気励起ガス流レーザーである。
One of the increasingly promising types of laser systems for many commercial uses! It is a gas-excited gas flow laser.

共通の作動基本原則が、多少大ざっばに分類すれば三つ
の部門、即ち、同軸レーザー装置(coaxial 1
asers)と直交ビームレーザー装置(cross
beam 1asers)と交さ流レーザー装置(cr
oss flow 1asers)とに分けることがで
きる、電気システムの各種形状の全てに見られる。
The common basic principles of operation can be roughly classified into three categories: coaxial laser equipment (coaxial 1
asers) and orthogonal beam laser equipment (cross
beam 1 asers) and cross current laser equipment (CR
It is found in all the various forms of electrical systems, which can be divided into oss flow 1asers).

多分、これら分類のうちで説明するものにもまた操作す
ることにもこの両面で最も簡単なものは同軸形式のもぞ
であり、同形式では、ガス状作動媒質の流れ、放電方向
、光学空洞軸線とがパイレックス或いは類似のある種の
電気絶縁材製の放出チューブ内に共線している。
Perhaps the simplest of these categories, both to describe and to manipulate, is the coaxial type of groove, in which the flow of the gaseous working medium, the direction of the discharge, and the optical cavity are The axes are collinear within a discharge tube made of Pyrex or some similar electrically insulating material.

直交ビーム形式のレーザー装置は物理的外形が上記同軸
形式のものと非常に異なっており、従って作動特性も別
異のものとなっている。
Orthogonal beam type laser devices have a very different physical profile than the coaxial type described above, and therefore have different operating characteristics.

直交ビーム装置では、作動媒質は一般に矩形断面形状を
もつチャンネルを貫通し、放電は同流方向に伸びている
が、光軸はこのガス流の放電に対し横方向となっている
In orthogonal beam devices, the working medium passes through a channel of generally rectangular cross-sectional shape and the discharge extends co-currently, but the optical axis is transverse to the gas flow discharge.

放電レーザー形状の第3部門に属する交さ流形式の形状
もまた、矩形断面をもつガス流チャンネルでもって通常
構成されている。
Cross-flow type geometries belonging to the third category of discharge laser geometries are also commonly constructed with gas flow channels of rectangular cross-section.

放電と光軸はガス流の方向に対し横方向に維持されてお
り、そして放電は光軸に対し平行にも垂直にもどちらに
でもすることができる。
The discharge and optical axis are maintained transverse to the direction of gas flow, and the discharge can be either parallel or perpendicular to the optical axis.

この交さ流システムはしばしばガス流効果に対する放電
を安定させるための特別装置を要することがある。
This cross-flow system often requires special equipment to stabilize the discharge against gas flow effects.

各種レーザー装置形状についての付加的情報としては、
例えば、Buczekその他による米国特許第3.74
7.015号、名称°“安定直交磁界ガス流レーザー”
とBullisその他による米国特許第3.743.9
63号、名称“横形ガスレーザー“′を参照されたい。
For additional information on various laser device configurations,
For example, U.S. Pat. No. 3.74 by Buczek et al.
No. 7.015, title ° “Stable orthogonal magnetic field gas flow laser”
and U.S. Patent No. 3.743.9 by Bullis et al.
No. 63, entitled "Horizontal Gas Laser".

上述した形状による差異区別に加えて、放電レーザー装
置は作動媒質内の反転分布(thepopulatio
n 1nversion)を誘引するのに使用する方法
に基いてしばしば分類されることがある。
In addition to the above-mentioned shape-based differentiation, the discharge laser device also uses population inversion (thepopulation) in the working medium.
n1nversion) are often classified based on the methods used to induce them.

作動媒質をそれぞれ自体内の直流放電によって、或いは
作動媒質へ結合された適当なラジオ周波数放射によって
媒質内に誘引される放電によって、或いは作動媒質へ指
向された強力電子ビームによって増強される放電によっ
て、或いは光イオン化技術によって増強される放電によ
って作動媒質を励起する装置及びこれら励起技術の各種
組合せは有用であることが判明している:例えば、De
maria、 A、J、、“CW強カニ酸化炭素レしザ
ーニツいての考察”、Proceedings of
the IEEE 1973年61巻第6号、731〜
748頁、を参照されたい。
the working medium by a direct current discharge within itself, or by a discharge induced into the medium by suitable radio frequency radiation coupled to the working medium, or by a discharge enhanced by an intense electron beam directed into the working medium; Alternatively, devices for exciting the working medium by a discharge enhanced by photoionization techniques and various combinations of these excitation techniques have proven useful: for example, De
Maria, A. J., “Considerations on CW strong crab carbon oxide leather production”, Proceedings of
the IEEE 1973 Vol. 61 No. 6, 731~
See page 748.

上記のようなシステムが誘発し得る動力密度には固有の
制限があるが、共軸形状放電レーザー装置は理論的には
最も簡単な装置であり、実際上の考慮からは商業上のレ
ーザ一応用に容易に適合し得るものである。
Although there are inherent limitations on the power densities that such systems can induce, a coaxial discharge laser device is theoretically the simplest device, and practical considerations suggest that it is unlikely to be used in any commercial laser application. It can be easily adapted to.

出力が数キロワットの範囲内にある基本的共軸レーザー
システムの簡易性と信頼性については、出版物、Wis
nerXG、R6etal、“CO2放電対流レーザー
装置の不安定共振器″Appl、phys、Lette
rs、] 997坪1月、2284〜15頁によって明
示されているようにしばらく前に認識されたものであり
、同文献は2−チューブレーザー装置について説明し、
共軸対流レーザーの顕著な特性を明白にしている。
The simplicity and reliability of basic coaxial laser systems with powers in the range of several kilowatts is discussed in the publication Wis.
nerXG, R6etal, “Unstable resonator of CO2 discharge convection laser device” Appl, phys, Lette
rs,] 997 Tsubo January, pp. 2284-15, which described a two-tube laser device,
The remarkable characteristics of coaxial convection lasers are revealed.

光学共振器がその光軸を空洞内に端部と端部を当接して
配置した2本の流動管の幾何学的軸線と一致させて形成
されていることは非常に簡単なことである。
It is very simple to construct an optical resonator with its optical axis coincident with the geometrical axis of two flow tubes arranged end-to-end in the cavity.

各チューブは片寄り軸線の補助延長部を有し、同郡を通
って作動媒質が注入され光軸に沿って流動し共通排出空
間を通って排出されるようになっている。
Each tube has an auxiliary extension with an offset axis through which the working medium is injected, flows along the optical axis, and exits through a common exhaust space.

放電は各チューブの上記片寄り軸線補助延長部内に配置
された2個の陰極の各々と上記排出室に設けられた共通
陽極との間に各チューブ内部に維持される。
A discharge is maintained within each tube between each of the two cathodes located in the offset axial extension of each tube and a common anode located in the discharge chamber.

特種トラス構造体が上記光学空洞を形成する光学表面装
置類を連結している。
A special truss structure connects the optical surface devices forming the optical cavity.

この共軸レーザーシステムは12−チューブ増幅器の開
発へと発展したが、同増幅器では、低出力マスター発振
器からの安定出力が同12−チューブ形状装置内の多重
パス(multi pass)出力増幅器光学装置へ指
向される。
This coaxial laser system evolved into the development of the 12-tube amplifier, in which stable output from a low-power master oscillator is fed into multi-pass power amplifier optics within the 12-tube configuration. be directed.

これについてはBurwellW、G、、“CW強カレ
ーザー技術についての考察”(The Proceed
ings of the Th1rd Worksho
p onLaser Interaction a
nd Re1ated PlasmaPhenom
ena発表される予定)を参照されたい。
This is discussed in Burwell W, G, “Considerations on CW strong laser technology” (The Proceed
ings of the Th1rd Worksho
p onLaser Interaction a
nd Re1ated PlasmaPhenom
Please refer to ena (scheduled to be announced).

このシステムは共軸形成装置からの比較的多量の出力を
提供するが、装置全体は製作作業上幾分か非実用的であ
る。
Although this system provides a relatively large amount of output from the coaxial forming device, the overall device is somewhat impractical for manufacturing operations.

本考案の主目的は、標準商業的環境内で作動するよう設
計された器材によって公称出力1乃至10キロワツトの
範囲内の高品質レーザー放射ビームを提供することであ
る。
The primary objective of the present invention is to provide a high quality laser radiation beam in the nominal power range of 1 to 10 kilowatts with equipment designed to operate within a standard commercial environment.

本考案に基き不安定共振器と出力増幅器を有する共軸レ
ーザーシステムは、生産環境内で機能発揮するよう設計
された構造体内に高質品レーザー放射の環状ビームを発
生させる:レーザーガスは光学領域に2個の入口マニホ
ールドを通って流入し、同マニホールドは同ガスが電気
的に励起される複数個の放電チューブを通って中央出口
充満室へガス流を指向し、同放電チューブは光学的には
直列をなし、電気的には並列となっている。
Based on the invention, a coaxial laser system with an unstable cavity and a power amplifier generates an annular beam of high-quality laser radiation within a structure designed to function within a production environment: the laser gas is in the optical region. through two inlet manifolds that direct the gas flow to a central outlet fill chamber through a plurality of discharge tubes where the gas is electrically excited and which are optically excited. are in series and electrically in parallel.

更に本考案に基き、内部光学装置は周囲の振動や機械的
妨害事項から隔離され、電気短絡を起さないように絶縁
され、作動量温度変動を最小にするために冷却されてい
て、強固な単一トラス構造体でレーザー作動媒質とは接
触してない同構造体によって鏡配列システム及びその他
の光学装置と一体に統合されている。
Further, in accordance with the present invention, the internal optics are isolated from ambient vibrations and mechanical disturbances, insulated to prevent electrical short circuits, cooled to minimize actuation temperature fluctuations, and provided with a robust structure. A single truss structure, which is not in contact with the laser working medium, integrates the mirror array system and other optical devices.

本考案の一利点は、代表的な商業的生産設備に利害関係
を有する広い分野に亙る色々な場所へ信頼して指向でき
るレーザー放射ビームを使用に供し得ることである。
One advantage of the present invention is that it provides a beam of laser radiation that can be reliably directed to a variety of locations over a wide range of areas of interest in a typical commercial production facility.

本考案はガス補充が非常に少量ですむ閉鎖サイクルシス
テムとして無期限の時間に亙って作動し得る。
The invention can operate for an indefinite period of time as a closed cycle system requiring very little gas replenishment.

その上、本システム正分岐同焦点不安定共振器は最高輝
度か最高出力かどちらかを構成することができる。
Moreover, the system positive branch parfocal unstable resonator can be configured for either maximum brightness or maximum power.

本考案の主特徴は、折り返し光学経路であり、同経路は
比較的に短いシステム外被へ比較的に長い光学経路を据
付けた共振器を設置することを可能にする。
The main feature of the invention is the folded optical path, which allows the installation of a resonator with a relatively long optical path installed in a relatively short system envelope.

環状鏡が上記不安定共振器からのエネルギを上記増幅器
へ結合し、上記光学装置は10マイクロラジアン以上良
好に指向性が安定している。
An annular mirror couples energy from the unstable resonator to the amplifier, and the optical device is directionally stable to better than 10 microradians.

この折り返し経路光学装置はモジュール基準寸法の構造
体であって、その長さ並びに発振器と増幅器の相対的割
合を極めて容易に変更できるものである。
The folded path optical device is a modular dimensioned structure whose length and relative proportions of oscillator and amplifier can be varied very easily.

主ガス循環配管装置は強固な連結ループに形成され、同
ループは本システムのレーザーセクションに柔軟に据付
けられている。
The main gas circulation piping system is formed into a rigid connecting loop, which is flexibly installed in the laser section of the system.

その上、本レーザー装置の内部光学装置を支承するプラ
ットホームがプラットホームハウジングから柔軟に据付
けられ、相互には強固な光学プラットホームによって竪
く連結されている。
Moreover, a platform supporting the internal optics of the laser device is flexibly mounted from the platform housing and vertically connected to each other by a rigid optical platform.

レーザーガスは複数個の放電チューブ内に維持される直
流放電によって励起される。
The laser gas is excited by a DC discharge maintained within a plurality of discharge tubes.

本考案の上述した及びその他の諸量的、諸特徴、諸利点
については、添付図面に例示する好適実施例についての
以下の詳細な説明を参照することによって更に明瞭にな
るものと思う。
The above-mentioned and other quantitative features and advantages of the present invention will become more apparent by reference to the following detailed description of the preferred embodiments illustrated in the accompanying drawings.

図面に関連して述べると、第1図に示す簡明化′した倒
立面図には地上14に据付けられた支持脚12を有する
ガスレーザー10が包含されている。
With reference to the drawings, the simplified inverted view shown in FIG. 1 includes a gas laser 10 having support legs 12 mounted on the ground 14.

光学ボックス16が本レーザー装置の主要部を崩落して
いる。
The optical box 16 has collapsed into the main part of the laser device.

ガス状作動媒質は本レーザー装置の両端にガス供給パイ
プ18を通して分配され、吐出充満室20を通して本レ
ーザー装置から排出され、ガス吐出パイプ22に運び去
られる。
The gaseous working medium is distributed through a gas supply pipe 18 to both ends of the laser device, exits the laser device through a discharge plenum 20 and is carried away to a gas discharge pipe 22 .

光学プラットホームトラス24は複数個の振動式据付装
置26によって懸架されており、同据付装置は上記光学
ボックスの各端部に設けられた光学プラットホーム装置
28に強固に取付けられている。
Optical platform truss 24 is suspended by a plurality of vibratory mounting devices 26 that are rigidly attached to optical platform devices 28 at each end of the optical box.

整列用装置30は上記トラスに強固に取付けられ、外側
光学装置32は上記プラットホームトラスから延伸して
いる外側支持部材34によって位置決めされている。
An alignment device 30 is rigidly attached to the truss, and an outer optical device 32 is positioned by an outer support member 34 extending from the platform truss.

一対の端部入口マニホールド36は、その一つが第2図
に示されており、上記光学ボックスを貫通している複数
個の放電チューブ38に結合されている。
A pair of end inlet manifolds 36, one of which is shown in FIG. 2, are coupled to a plurality of discharge tubes 38 extending through the optical box.

光学ボックスの各端部に光学プラットホームハウジング
40があり、これは第3図に示すよう上記放電チューブ
を通って上記吐出充満室と連通している。
At each end of the optical box is an optical platform housing 40 that communicates with the discharge plenum through the discharge tube as shown in FIG.

プラットホームハウジングは連接ロッド42がこれを貫
通し、可撓性密封装置44が連接ロッドのハウジング下
部板46のようなハウジング貫通個所に於けるガス密封
装置を形成している。
The platform housing has a connecting rod 42 extending therethrough, and a flexible seal 44 forms a gas seal at the point where the connecting rod passes through the housing, such as the lower housing plate 46.

光学プラットホーム装置28はプラットホーム装置上部
板64と同下部板66を有している;各プラットホーム
ハウジングの内部には、内部ベンチ68が設けられ、こ
れは上部ベンチ板70、下部ベンチ板72、及びこれら
上、下部ベンチ板を連結する裏当て板76に強固に取付
けられた反射用装置74を包含する。
The optical platform assembly 28 includes an upper platform plate 64 and a lower platform plate 66; each platform housing has an internal bench 68 that is connected to an upper bench plate 70, a lower bench plate 72, and a lower bench plate 72; It includes a reflective device 74 rigidly attached to a backing plate 76 connecting the upper and lower bench plates.

各光学プラットホーム装置からの同装置上、下部板は光
学プラットホームトラスに強固に取付けられており、振
動式据付装置はまた光学プラットホームハウジングに強
固に取付けられているので、これによってプラットホー
ムトラスとプラットホーム装置とはプラットホームハウ
ジング及び地上に連結されているこれらの支持用構造体
に対しては機械的に浮動している。
The same upper and lower plates from each optical platform device are rigidly attached to the optical platform truss, and the vibratory mounting device is also rigidly attached to the optical platform housing, thereby allowing the platform truss and platform device to are mechanically floating relative to the platform housing and their supporting structures connected to the ground.

本考案の構造に於ける主要な関心事項のうちの一つは、
熱循環現象のような不安定状態による各種の補助的支持
部材内のねじれ効果から本システムの光学装置を隔離す
ることであった;また、補助的器材の作動及びビルディ
ングの固有振動の両者により周囲環境内に存在する振動
に対しての隔離も上記反射用表面装置の電気的絶縁その
ものも共に必要である。
One of the main concerns in the structure of the present invention is that
The objective was to isolate the optical equipment of the system from torsional effects in the various auxiliary support members due to unstable conditions such as thermal cycling phenomena; Both isolation against vibrations present in the environment and the electrical isolation of the reflective surface device itself are necessary.

強固な光学構造体ユニットは、基本的には上記光学プラ
ットホームトラス24とこのトラスに強固に取付けられ
た上記2個の光学プラットホーム装置28とを包含する
が、機械的及び電気的絶縁のための設備を有する。
The rigid optical structure unit basically includes the optical platform truss 24 and the two optical platform devices 28 rigidly attached to this truss, but with provision for mechanical and electrical isolation. has.

内部ベンチ68は、インパールのような金属から構成さ
れ、これを取囲むイオン化されたガスのために地上より
高電位にあるが、これらはアルミナのような絶縁材から
なる上記連接ロッド上に据付けられている。
The internal benches 68 are constructed of a metal such as Imphal and are at a higher potential than ground due to the surrounding ionized gases, which are mounted on the connecting rods of an insulating material such as alumina. ing.

これらのロッドはガラス繊維材のような絶縁材から同様
に構成されている上記光学プラットホームハウジング4
0から可撓性密封装置44によって機械的に絶縁されて
いる。
These rods are also constructed from an insulating material such as fiberglass material.
0 by a flexible sealing device 44.

更に、この剛性光学構造体が振動式据付装置26によっ
て光学プラットホームハウジングから支承されているの
で、同構造体は支持装置に対して機械的に浮動している
状態にある。
Additionally, because the rigid optical structure is supported from the optical platform housing by a vibratory mounting device 26, the structure remains mechanically floating relative to the support device.

本光学システムの機械的及び電気的絶縁についての更に
詳細なことに対しては、C0ruO10その他による“
ガスレーザー用安定プラットホーム構造体°′、米国特
許出願番号第427、−95峰、同日出願、同−譲受人
、に記載された関連発明を参照されたい。
For further details on the mechanical and electrical isolation of the present optical system, see “C0ruO10 et al.
See related invention described in Stable Platform Structure for Gas Laser °', U.S. Pat.

ガス循環と放電に関連する追加的の細部事項が第4図に
示されている。
Additional details related to gas circulation and discharge are shown in FIG.

ガス供給パイプが作動媒質を各端部入口マニホールド3
6に供給し、この作動媒質を放電チューブの水平位置へ
持ち上げそして吐出充満室へ流すようにする4本の絶縁
チューブが各マニホールドの頂面に結合されている。
A gas supply pipe carries the working medium to each end of the inlet manifold 3
Connected to the top surface of each manifold are four insulating tubes that supply the working medium to the discharge tubes 6 and lift the working medium to the horizontal position of the discharge tubes and allow it to flow into the discharge plenum.

各チューブは環状陰極リング78を有し、同リングは肉
厚の銅オリフィスで作動耐用期間の長いものである。
Each tube has an annular cathode ring 78 with a thick walled copper orifice for long operating life.

チューブは全て地上電位に維持される共通陽極として働
く放電マニホールド80を貫通している。
The tubes all pass through a discharge manifold 80 which serves as a common anode that is maintained at ground potential.

放電チューブの水平セクションの頂面、底面、側面は矩
形チューブ包封装置82によって被覆されており、同包
封装置は光学プラットホームハウジングに強固に連接さ
れている。
The top, bottom and sides of the horizontal section of the discharge tube are covered by a rectangular tube encapsulation device 82, which is rigidly connected to the optical platform housing.

チューブ包封装置冷却器84は熱吸収ループ86を備え
、このチューブ包封装置の内部を冷却する。
A tube encapsulator cooler 84 includes a heat absorption loop 86 to cool the interior of the tube encapsulator.

説明しているこの特定システムは8チユーフ共軸放電レ
ーザーである。
This particular system being described is an 8-tube coaxial discharge laser.

8本のチューブは光学的には直列に、電気的及び流動に
関しては並列に配列されている。
The eight tubes are arranged optically in series and electrically and flow-wise in parallel.

これらチューブは単一水平面内に並列された対をなして
まとめられており、そのうちの6本は本レーザー装置の
発振器部分に、2本は増幅器部分に配置されている。
These tubes are grouped in parallel pairs in a single horizontal plane, six of which are located in the oscillator section and two in the amplifier section of the laser device.

作動媒質は二酸化炭素、ヘリウム、及び窒素の混合物で
あって、300〜400ft/Sec (91,4〜1
21.9m/5ec)の流速で本レーザー装置を貫通し
、公称で3Qtorr静水圧に維持される。
The working medium is a mixture of carbon dioxide, helium, and nitrogen, and the working medium is 300-400 ft/Sec (91,4-1
A flow rate of 21.9 m/5 ec) passes through the laser device and is maintained at a nominal hydrostatic pressure of 3 Qtorr.

上記発振器と増幅器の経路長はそれぞれ約30ft (
9,14m、)と10ft (3,0577L) T:
あり、3in (7,62cm)径の放電チューブ内の
ビームのモード(mode)径は約2−’in (6,
98cm)である。
The path lengths of the oscillator and amplifier above are each approximately 30ft (
9,14m, ) and 10ft (3,0577L) T:
The mode diameter of the beam in the 3-inch (7,62 cm) diameter discharge tube is approximately 2-' (6,2 cm)
98cm).

12000ft3/m in (3407re/min
)の容量で作動する主循環器によって、50キロワツ
トの直流エネルギがこの8本の放電チューブ内の作動媒
質に加えられていると7キロワツトの有用レーザー出力
を包含する出力ビームが提供される。
12000ft3/min (3407re/min
) provides an output beam containing 7 kilowatts of useful laser power when 50 kilowatts of direct current energy is applied to the working medium in the eight discharge tubes.

ここに説明したレーザー形状装置に対して、本システム
全体が非常に良好なガス密の完全さを有することが判明
しており、その結果少ない流量の補給ガスを必要とする
のに留まりガス除去によって清掃が実施される。
For the laser shaping apparatus described here, the entire system has been found to have very good gas-tight integrity, resulting in low flow rates of make-up gas required while retaining gas removal. Cleaning will be carried out.

多くの循環式ガスレーザーシステムに於て、新規ガスを
出力ビームに出力安定状態を維持するために、即ち効率
的な作動を遠戚するために主循環器を通過する流量の1
%以上の割分て流動システムに追加しなければならない
ことが起ることは珍しいことではない。
In many circulating gas laser systems, a fraction of the flow rate through the main circulator is required to maintain a steady output state of the new gas in the output beam, i.e. to ensure efficient operation.
It is not uncommon for it to occur that more than % must be added to the flow system.

上記に挙げたパラメータで作動する本考案に対して、2
413G間以上の作動に作動媒質の流量の1%の僅か5
/100の公称補給ガス流量を必要としたに過ぎなかっ
た。
For the present invention that operates with the parameters listed above, two
For operation over 413G, only 5% of the flow rate of the working medium is required.
A nominal make-up gas flow rate of /100 was required.

ここに説明したシステムは本質的に密封された閉鎖ルー
プシステムであり、周囲大気から低圧作動媒質の真空に
近い状態の中へ漏入するのが最小でる結果を得た。
The system described herein is an essentially sealed closed loop system resulting in minimal leakage from the surrounding atmosphere into the near vacuum conditions of the low pressure working medium.

仮に空気含有水蒸気或いはその他の汚染物質が作動媒質
の循環ループ中に漏入するとすれば、極めて複雑なプラ
ズマ化学作用が、特に本レーザー装置の放電領域内に、
起り、レーザー性能が大いに低下することがあり得る。
If air-containing water vapor or other contaminants were to leak into the circulation loop of the working medium, extremely complex plasma chemistry would occur, especially within the discharge region of the laser device.
This can occur and laser performance can be significantly degraded.

本考案に基く閉鎖サイクルガスレーザーを構成するシス
テム全体が第5図に図解的に示されている。
The entire system constituting a closed cycle gas laser according to the invention is schematically shown in FIG.

ガス状作動媒質が本放電レーザー装置10に流入し、同
装置は整列レーザー(the alignmentla
ser) 30、包封装置用冷却器(the encl
osurecooler) f36、電源88と制御装
置90によって支援されており、そして本レーザー装置
は外側光学装置32と相互作用する放射線を発生する。
A gaseous working medium flows into the discharge laser device 10, which generates the alignment laser.
ser) 30, Enclosing equipment cooler (the encl
osurecooler) f 36 , a power supply 88 and a controller 90 , and the laser device generates radiation that interacts with the outer optics 32 .

作動媒質はレーザーセクションを離れ、吐出充満室(t
he discharge plenum)内に配置さ
れている排気熱交換器92内で冷却される。
The working medium leaves the laser section and enters the discharge plenum chamber (t
It is cooled in an exhaust heat exchanger 92 located in the discharge plenum.

補給ガス供給システム94は上述した量の新規作動媒質
を主流と混合腰混合物は主循環器96を貫流し、同循環
器は作動媒質に閉鎖サイクルを作動するのに必要とする
圧力変化を提供する。
A make-up gas supply system 94 supplies the fresh working medium in the amount described above to the main stream and the mixture flows through a main circulator 96 which provides the working medium with the pressure changes necessary to operate the closed cycle. .

循環器の高圧側のループに接続されたガス除去システム
98はシステム圧力の必要とする制御を提供する。
A gas removal system 98 connected to the high pressure side loop of the circulator provides the necessary control of system pressure.

循環器から作動媒質は圧縮により作動媒質に吸収された
仕事熱(work heat)を除去する循環器系熱交
換器100を貫流し、再びレーザー装置に流入する。
From the circulator, the working medium flows through a circulatory system heat exchanger 100, which removes the work heat absorbed by the working medium by compression, and flows back into the laser device.

本考案の好適実施例の光学空洞を形成する鏡表面装置を
第6図に示す。
A mirror surface arrangement forming an optical cavity according to a preferred embodiment of the present invention is shown in FIG.

4個の回転式平面鏡104と組合せられた端部凹面鏡1
02と端部凸面鏡106とがこの空洞の共振器部分を形
成する;端部鏡類は、折返し経路、正分枝(posit
ive branch)、同焦点不安定共振器を形成す
る。
Concave end mirror 1 combined with four rotating plane mirrors 104
02 and an end convex mirror 106 form the resonator part of this cavity; the end mirrors
ive branch), forming a parfocal unstable resonator.

環状平面鏡108は、この共振器から環状断面を有する
放射ビームを取出しこれを増幅器平面鏡110へ送り、
同増幅器平面鏡はこの環状ビームを同空洞の増幅器部分
の中へ再度指向する。
An annular plane mirror 108 extracts a radiation beam with an annular cross-section from this resonator and directs it to an amplifier plane mirror 110;
The amplifier plane mirror redirects this annular beam into the amplifier section of the cavity.

公称30ft (9,14rrL)長平安定共振器は注
意深く準備された100ft (30,4877L)乃
至150ft (45,72rn、)の範囲の曲率半径
をもつ凹面鏡によって実施可能である。
A nominally 30 ft (9,14 rrL) long planar stable resonator can be implemented with carefully prepared concave mirrors with radii of curvature ranging from 100 ft (30,4877 L) to 150 ft (45,72 rn,).

これにより長い曲率半径をもつ凹面鏡からなる構造は商
業上の適用に対しては実用的でないことが判明している
This has made structures consisting of concave mirrors with long radii of curvature impractical for commercial applications.

シャッター114、ビームキャッチャ(beamcat
cher) 116、出力窓118を包含する出力貫通
室(output window chamber)
l l 2は、第7図に示すよう外側光学装置を有す
る光学プラットホームハウジングに取付けられる。
Shutter 114, beam catcher (beamcat)
cher) 116, an output window chamber containing an output window 118;
l l 2 is attached to an optical platform housing with an outer optic as shown in FIG.

この窓は出力ビームの経路内に配置されており、これの
平担表面装置類は小角度αだけずれており、そのため、
これら表面によって反射された放射線はレーザー装置の
軸線に沿って元には戻されない。
This window is placed in the path of the output beam and its planar surface arrangements are offset by a small angle α, so that
Radiation reflected by these surfaces is not reflected back along the axis of the laser device.

このビームキャッチャは上記表面で反射された放射線の
経路内に配置されてこのエネルギを捕促し、これによっ
て構造に及ぼす損傷或いはその他の有害な影響を除去す
る。
The beam catcher is placed in the path of the radiation reflected from the surface to capture this energy, thereby eliminating damage or other deleterious effects on the structure.

シャッターはこの出力貫通室の内側に可動に取付けられ
ている:このことはこの出力貫通が上記光学プラットホ
ームハウジングの真空度を破壊することなく変化される
ことを可能にしている。
A shutter is movably mounted inside this output passage chamber: this allows this output passage to be changed without destroying the vacuum of the optical platform housing.

通常、レーザー装置はたとは出力ビームが間欠的に作動
地域に射出しても差支えないとしても連続して作動され
る。
Typically, laser devices are operated continuously, although the output beam may be delivered to the operating area intermittently.

放射中止間、ビームは転向用鏡120によってその通常
経路から転向され、この転向用鏡が第2図に示すカロリ
メーター122へ全出力ビームを振り向ける。
During radiation cessation, the beam is diverted from its normal path by a diverting mirror 120 which directs the full power beam to a calorimeter 122 shown in FIG.

この転向用鏡は尖鋭な直線先端縁を有し、出力ビームを
横切って滑動する。
The deflecting mirror has a sharp straight edge and slides across the output beam.

このやり方で、出力ビームは目標地域か、或いはこの転
向用鏡が出力ビームの経路内へ回転させられたときには
一般環境に対する反射を少しも生じることなくカロリメ
ーターへ指向されるかどちらかに指向される。
In this manner, the output beam can be directed either to the target area or to the calorimeter without causing any reflections to the general environment when the deflecting mirror is rotated into the path of the output beam. Ru.

この転向用鏡の位置は破損防止安全システム内の電気ソ
レノイドと組合されている空圧シリンダによって制御さ
れる;適当な空気圧がこの空圧シリンダに分配されずそ
して制御された電位がこのソレノイドに分配されなけれ
ば、この転向用鏡はレーザー出力ビームの経路内に留ま
り、それによってビームを上記カロリメーターに転向さ
せる。
The position of this deflecting mirror is controlled by a pneumatic cylinder in combination with an electric solenoid in the anti-tamper safety system; no suitable air pressure is distributed to this pneumatic cylinder and a controlled electrical potential is distributed to this solenoid. Otherwise, the deflecting mirror remains in the path of the laser output beam, thereby deflecting the beam to the calorimeter.

カロリメーターの内側は黒く塗られてその吸収性が増大
させられており、実質的にこの転向させられたビームの
全てがこのカロリメーターの内面上に吸収される。
The inside of the calorimeter is painted black to increase its absorption, so that virtually all of the deflected beam is absorbed onto the inside of the calorimeter.

このカロリメーターは本レーザー装置からの出力を測定
すべく計量されている。
The calorimeter is calibrated to measure the output from the laser device.

この結果は代表的な方法としては適当なサーモカップル
による温度測定によって得られる。
This result is typically obtained by temperature measurement using a suitable thermocouple.

特別の注意が特に該吐出充満室の近辺のガス供給パイプ
と吐出パイプの設計に払われており、同近辺ではこれら
パイプ類は地表面から隔離絶縁された装置(stand
off device) 124によって相互に強固に
ボルト締めされている;同装置は第2図に示すよう複数
回のスタンドオフロッド130によって相互に連結され
た第1ボルト締め板126と第2ボルト締め板128と
を包含している。
Particular attention has been paid to the design of the gas supply pipes and discharge pipes, especially in the vicinity of the discharge plenum, where these pipes are placed in isolated and insulated arrangements from the ground.
off device) 124; the device includes a first bolting plate 126 and a second bolting plate 128 interconnected by a plurality of standoff rods 130, as shown in FIG. It includes.

該吐出充満室を排出パイプに結合する充満パイプ(pl
enum pipe ) l 32が分割用パイプ(s
plitting pipe) 134に強固に接続さ
れ、同分割用パイプは吸込管を入口マニホールドに結合
してこれらパイプ類の内外の圧力差動の結果として本レ
ーザー装置に側部負荷がかかるのを除くようになってい
る。
A fill pipe (pl) connecting the discharge fill chamber to a discharge pipe
enum pipe) l 32 is the dividing pipe (s
The splitting pipe connects the suction pipe to the inlet manifold to eliminate side loads on the laser system as a result of pressure differentials across these pipes. It has become.

更に、パイプ132,134は可撓性ベロー装置136
によってこの隔離絶縁装置(スタンドオフ装置)に柔軟
に接続されて主循環システムの振動から本レーザー装置
を絶縁している。
Furthermore, the pipes 132, 134 are connected to a flexible bellows device 136.
is flexibly connected to this standoff device to isolate the laser device from vibrations in the main circulation system.

このスタンドオフ装置の重要な構造上の要求は、この入
口及び出口バイブの断面が等しく且この断面の幾何学的
中心を通る共通軸線に垂直であって吐出充満室にねじり
モーメントの負荷のかかるのを除去することである。
An important structural requirement of this standoff device is that the cross-sections of the inlet and outlet vibrators are equal and perpendicular to a common axis passing through the geometric center of the cross-sections to load the discharge plenum with torsional moments. The goal is to remove the

また、主循環器、その駆動モーター、循環器系熱交換器
を光学装置から分離上でいる支持パッド上に据付けて本
レーザー装置に伝達される振動総量を最小にしている。
Additionally, the main circulator, its drive motor, and the circulatory system heat exchanger are mounted on a support pad separate from the optical system to minimize the amount of vibration transmitted to the laser system.

本システムの数個所に冷却を必要とする。Cooling is required in several parts of this system.

システムから最大量の熱が除去される場所は排気熱交換
器92である。
It is at the exhaust heat exchanger 92 that the greatest amount of heat is removed from the system.

このユニットでは、略全放電電力がレーザー放射線に転
換されるわけではなく、作動媒質から取に除かれる二通
常の水冷式ファン・チューブ構造が使用される。
This unit uses a two-conventional water-cooled fan-tube structure in which substantially the entire discharge power is not converted into laser radiation, but is removed from the working medium.

比較的大量の熱が作動媒質から除去されるもう一つの場
所は循環器系熱交換器100であり、これもまた水冷式
ファン・チューブ装置であって、圧縮工程間流動ガスに
よって吸収されたポンプ仕事を取り除く。
Another place where relatively large amounts of heat are removed from the working medium is in the circulatory system heat exchanger 100, which is also a water-cooled fan-tube arrangement and pumps absorbed by the flowing gas during the compression process. Get rid of work.

発振器と増幅器に於ける各鏡装置もまた冷却される。The mirror devices in the oscillator and amplifier are also cooled.

これら鏡装置から吸収される熱量は上述した装置に於け
るようには大量ではないが、しかしながら、この鏡冷却
は鏡表面上に及ぼす強力放射線束による同表面に対する
ねじれと損傷を防止するのに決定的なものである。
The amount of heat absorbed by these mirror devices is not as large as in the devices described above, however, this mirror cooling is essential to prevent distortion and damage to the mirror surface due to the intense radiation flux exerted on the same surface. It is something like that.

これら鏡類はこれの水冷却を可能にするための反射表面
の裏面に複雑な流体通路をもつ特別設計となっている。
These mirrors are specially designed with intricate fluid passages behind the reflective surface to enable water cooling of the mirrors.

この技術は当技術分野では周知のものであり、その概要
は米国特許第3.645.608号゛反射用装置に対す
る冷却装置tt、5tanleyその他による、に記載
されている。
This technique is well known in the art and is summarized in U.S. Pat. No. 3,645,608, Cooling Apparatus for Reflective Apparatus, by Tanley et al.

この冷却は鏡表面が接地以上の電位にあるので蒸溜水で
もって実施される。
This cooling is performed using distilled water since the mirror surface is at a potential higher than ground.

確な冷却器設計は重要なことではないが該矩形チューブ
包封体82の内部から過剰熱量を除去することは重大な
ことである。
While the exact cooler design is not critical, removing excess heat from the interior of the rectangular tube enclosure 82 is.

大量の熱が通常作動量放電チューブ内に発生し、そのう
ちの幾分かは光学プラットホームトラスの上方部分を通
して現われることになり、同トラス内の振動と光学的の
整列狂いを生ぜしめる。
A large amount of heat is normally generated within the working volume discharge tube, some of which is expressed through the upper portion of the optical platform truss, causing vibration and optical misalignment within the same.

該矩形チューブ包封装置は放電チューブが物理的損傷を
受けないように保護し、同トラスに対する伝達による熱
伝達を防止する;その上、同チューブ包封装置は光学ボ
ックス全体を大いに強化し、これによってねじり現象即
ちそうでなけれは伺トラス上に好ましくない力を加える
ことになるかも知れないねじれを減少するのに貢献する
The rectangular tube encapsulation device protects the discharge tube from physical damage and prevents heat transfer by conduction to the truss; moreover, the tube encapsulation device greatly strengthens the entire optical box and protects it from physical damage. This contributes to reducing torsional phenomena, i.e. torsions that might otherwise exert undesirable forces on the truss.

同チューブ包封装置冷却器は放電管の外側のガスの温度
を略室温に維持腰矩形チューブ包封装置の内部に配置さ
れた循環用ファンは同ガスを再循環させて同チューブ包
封装置全体に亙って一層均一の温度分布を提供する。
The tube encapsulation device cooler maintains the temperature of the gas outside the discharge tube at approximately room temperature.The circulation fan placed inside the rectangular tube encapsulation device recirculates the gas throughout the tube encapsulation device. provides a more uniform temperature distribution over the temperature range.

上述した冷却作用に加えて、該カロリメーター、転向用
鏡、各ビームキャッチャは、各々本システムの作動量適
当に冷却することを要する。
In addition to the cooling described above, the calorimeter, deflection mirror, and beam catcher each require cooling appropriate to the amount of operation of the system.

本考案についてその好適実施例に関連して図示、説明し
てきたが、その形態や細部についての各種変形と省略が
本考案の範囲から逸脱することなく可能である点は当技
術分野の技術妻達によって理解されるべきである。
Although the invention has been illustrated and described in connection with a preferred embodiment thereof, it will be recognized by those skilled in the art that various modifications and omissions in form and detail may be made without departing from the scope of the invention. should be understood.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本考案の簡明化した倒立面図で、本システム
の幾つかの主要構造ユニットの各種構造上の細部を示す
図である。 第2図は、第1図に示す装置の簡明化した端室面図であ
る。 第3図は、光学包封装置と主支持構造体の簡明化した図
解的倒立面図である。 第4図は、光学ボックス内のガス流システムと冷却装置
の追加的細部を示す簡明化した図解的倒立面図である。 第5図は、本考案に基く全閉鎖サイクルシステムの簡明
化した図解的ダイヤプラムである。 第6図は、レーザー発振器と増幅器を形成する光学装置
の簡明化した平面図である。 第7図は、出力貫通室の簡明化した図解図である。 10・・・・・・ガスレーザー、12・・・・・・支持
脚、14・・・・・・地上、16・・・・・・光学ボッ
クス、18・・・・・・ガス供給パイプ、20・・・・
・・吐出充満室、22・・・・・・ガス吐出パイプ、2
4・・・・・・光学プラットホームトラス、26・・・
・・・振動式据付装置、28・・・・・・光学プラット
ホーム、32・・・・・・外側光学装置、34・・・・
・・外側支持部材、36・・・・・・端部入口マニホー
ルド、38・・・・・・放電チュコブ、40・・・・・
・光学プラットホームハウジング、42・・・・・・連
接ロッド、44・・・・・・密封装置、68・・・・・
・光学ベンチ、74・・・・・・反射用装置、82・・
・・・・包封装置、86・・・・・・包封装置用冷却器
、92・・・・・・排気熱交換器 94・・・・・・補
給ガス供給装置、96・・・・・・主循環器、98・・
・・・・ガス除去システム、102・・・・・・凹面鏡
、104・・・・・・平面鏡、106・・・・・・凸面
鏡、108・・・・・・環状平面鏡、110・・・・・
・増幅器平面鏡、112・・・・・・出力貫通室、12
4・・・・・・スタンドオフ装置。
FIG. 1 is a simplified inverted view of the present invention, showing various structural details of some of the main structural units of the system. 2 is a simplified end chamber view of the apparatus shown in FIG. 1; FIG. FIG. 3 is a simplified schematic inverted view of the optical encapsulation device and main support structure. FIG. 4 is a simplified schematic inverted view showing additional details of the gas flow system and cooling device within the optical box. FIG. 5 is a simplified schematic diaphragm of a fully closed cycle system according to the present invention. FIG. 6 is a simplified plan view of the optical device forming the laser oscillator and amplifier. FIG. 7 is a simplified illustrative view of the output penetration chamber. 10... Gas laser, 12... Support leg, 14... Ground, 16... Optical box, 18... Gas supply pipe, 20...
...Discharge filling chamber, 22... Gas discharge pipe, 2
4...Optical platform truss, 26...
... Vibratory mounting device, 28 ... Optical platform, 32 ... Outer optical device, 34 ...
...Outer support member, 36...End inlet manifold, 38...Discharge tube, 40...
・Optical platform housing, 42...Connecting rod, 44...Sealing device, 68...
・Optical bench, 74...Reflection device, 82...
... Packaging device, 86 ... Packaging device cooler, 92 ... Exhaust heat exchanger 94 ... Makeup gas supply device, 96 ...・・Main circulatory system, 98・・
... Gas removal system, 102 ... Concave mirror, 104 ... Plane mirror, 106 ... Convex mirror, 108 ... Annular plane mirror, 110 ...・
・Amplifier plane mirror, 112... Output penetration chamber, 12
4...Standoff device.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 一つのループをなして循環されるガス状作動媒体によっ
てレーザー放射線を発生する閉鎖サイクルレーザーシス
テムにして、 ガス入口とガス出口と折曲げられた通路を有し且一つの
共通の光軸を有する二つの湾曲した反射面の間に形成さ
れ且前記光軸の周りに配置された複数個の放電チューブ
を有する不安定共振器と、前記不安定共振器内にレーザ
ー放射線を発生すべく前記光軸に沿って放電を発生させ
る手段と、前記光軸上に配置され前記不安定共振器より
レーザー放射線を環状断面を有する出力ビームとして取
出す平な反射面と、前記各反射面を冷却する手段と、前
記不安定共振器より取出されたレーザー放射線を増幅す
る部分とを含むガスレーザー装置と、 前記作動媒体に対し冷却効果を与える第一の熱交換器と
、 前記ガス出口を前記熱交換器に接続する通路手段と、 前記作動媒体を前記ループを通って連続的に循環させる
循環強制装置と、 前記熱交換器と前記循環強制装置とを接続する通路手段
であって前記第一の熱交換器を前記循環強制手段に生ず
る振動より遮断する手段を含む通路手段と、 前記循環強制手段を出た作動媒体に冷却効果を与える第
二の熱交換器と、 前記第二の熱交換器を前記循環強制装置に接続する通路
手段と、 前記第二の熱交換器を前記ガスレーザー装置の前記ガス
入口に接続する通路手段であって該ガス入口を前記第二
の熱交換器に生ずる振動より遮断する手段を有する通路
手段と、 前記各通路手段のいずれか一つに接続されて前記ループ
を流れる作動流体に新しい作動流体を補給する補給ガス
供給装置と、 前記循環強制装置と前記第二の熱交換器とを接続する通
路手段に接続され前記ループ内に安定した圧力を維持す
べく該ループ内の作動媒体の一部を除去するガス除去装
置と、 前記循環強制装置と前記第二の熱交換器とを接続する通
路手段と前記第二の熱交換器を前記ガスレーザー装置の
前記ガス入口へ接続する通路手段とを相互に結合しこれ
ら通路手段の内外の圧力差によって前記ガスレーザー装
置に横方向力が作用するのを回避するスタンドオフ装置
と、 を有することを特徴とする閉鎖サイクルレーザーシステ
ム。
[Claims for Utility Model Registration] A closed cycle laser system generating laser radiation by means of a gaseous working medium circulated in one loop, having a gas inlet, a gas outlet and a bent passage; an unstable resonator formed between two curved reflective surfaces having a common optical axis and having a plurality of discharge tubes arranged around the optical axis; means for generating an electrical discharge along said optical axis to generate an electrical discharge; a planar reflective surface disposed on said optical axis for extracting laser radiation from said unstable resonator as an output beam having an annular cross section; a gas laser device comprising means for cooling a surface and a part for amplifying the laser radiation extracted from said unstable resonator; a first heat exchanger providing a cooling effect on said working medium; and said gas outlet. passage means connecting the heat exchanger to the heat exchanger; a forced circulation device for continuously circulating the working medium through the loop; passage means connecting the heat exchanger and the forced circulation device, the passage means connecting the heat exchanger and the forced circulation device; passage means including means for isolating the first heat exchanger from vibrations occurring in the circulation forcing means; a second heat exchanger that provides a cooling effect to the working medium exiting the circulation forcing means; passage means connecting a heat exchanger to the forced circulation device; and passage means connecting the second heat exchanger to the gas inlet of the gas laser device, the gas inlet being connected to the second heat exchanger. passage means having a means for insulating against vibrations occurring in the loop; a replenishment gas supply device connected to any one of the passage means for replenishing new working fluid to the working fluid flowing through the loop; and the circulation forcing device. a gas removal device connected to a passage means connecting the second heat exchanger and removing a portion of the working medium in the loop to maintain a stable pressure in the loop; A passage means connecting the second heat exchanger and a passage means connecting the second heat exchanger to the gas inlet of the gas laser apparatus are interconnected, and a pressure difference between the inside and outside of these passage means causes the passage means to be connected to the gas inlet of the gas laser device. A closed cycle laser system comprising: a standoff device for avoiding lateral forces acting on the gas laser device;
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989001251A1 (en) * 1986-03-10 1989-02-09 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Axial flow type gas laser

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WO1989001251A1 (en) * 1986-03-10 1989-02-09 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Axial flow type gas laser

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