JPS60175050A - 金属膜パタ−ン作成方法 - Google Patents
金属膜パタ−ン作成方法Info
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- JPS60175050A JPS60175050A JP3066584A JP3066584A JPS60175050A JP S60175050 A JPS60175050 A JP S60175050A JP 3066584 A JP3066584 A JP 3066584A JP 3066584 A JP3066584 A JP 3066584A JP S60175050 A JPS60175050 A JP S60175050A
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- metallic film
- pattern
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Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野〕
本発明は金属膜パターン作成方法に係り、特に非金属材
料曲面上に任意の金属膜パターンを高精度に作成する方
法に関する。
料曲面上に任意の金属膜パターンを高精度に作成する方
法に関する。
（従来技術）
近年、直子技術の進歩につｆＬｂ 曲面を持つ非金属材
料表面上に金属膜のパターン乞尚稍匿に作成する技術が
望まれている。従来１曲面体に対する高精就のエツチン
グの技術はなく、平面体のエツチング・パターンを非金
属材料曲面には９つける等の手法がとらｎているため、
±０．５圏程度０寸法精度及び位置決め精度に止まって
いた。この程度の精度では％実用上問題が多く、利用で
きない場合がしばしばあった。
料表面上に金属膜のパターン乞尚稍匿に作成する技術が
望まれている。従来１曲面体に対する高精就のエツチン
グの技術はなく、平面体のエツチング・パターンを非金
属材料曲面には９つける等の手法がとらｎているため、
±０．５圏程度０寸法精度及び位置決め精度に止まって
いた。この程度の精度では％実用上問題が多く、利用で
きない場合がしばしばあった。
（発明の目的）
不発明の目的は、以上の問題を改善し、非金属材料曲面
上に高精度な任意の金属膜パターンを作成する金属膜パ
ターン作成方法を提供することにある。
上に高精度な任意の金属膜パターンを作成する金属膜パ
ターン作成方法を提供することにある。
（発明の構成Ｊ
本発明の金属膜パターン作成方法の構成は、非金属材料
曲面坏上に金属膜全形成する工程と、インク・ジェット
・プリンタの印字ヘッドを三次元空間の所望の位置に移
動制例する手段に設け、この手段で所定のレジスト・パ
ターンを前記曲面体上の金Ｍ膜に描く工程と１次に前記
金属膜をケミカルΦエツチングする工程とｋ（ｉｔｌｔ
えたことを特徴とする。
曲面坏上に金属膜全形成する工程と、インク・ジェット
・プリンタの印字ヘッドを三次元空間の所望の位置に移
動制例する手段に設け、この手段で所定のレジスト・パ
ターンを前記曲面体上の金Ｍ膜に描く工程と１次に前記
金属膜をケミカルΦエツチングする工程とｋ（ｉｔｌｔ
えたことを特徴とする。
（実施例）
以下図面を参照しながら不発明の詳細な説明する◎
まず、第１図に示す非金属材料曲面上ｌの主表面に均一
な金）ｌＩ４膜２（曲面体がプラスチックでおれはへｉ
、Ｃｕ などのめっき、セラミックであればＭｏ−Ｍｎ
、Ａｇなどのメタライズ）ｔコーティングする（第２図
）。次に、第３図に示すように、同時３軸（，３次元）
制御が可能でおる愼械１例えばＮ０フライス盤の主軸Ｊ
にインク書ジェット・プリンタの印字ヘッド４を取９付
け、このインク・ジェット会プリンタの印字ヘッド４が
インクを正確に付看嘔せるように、インク・ジェット・
プリンタの印字ヘッド４と金稿コーティングされた非金
属材料曲面体との距離金富に一定に保つと共にインク書
ジェット・プリンタの印字ヘッド４ｉ一定速度に保つ制
御を行い、作成したいパターンのポジティブ部を走らせ
ることによｐ、レジスト・パターン５を作成する。５ｇ
ｊ図の様な不連続なレジスト・パターン５の場合も、イ
ンク・ジェット・プリンタの印字ヘッド４よりインク會
噴出延せるための制＠ｌｓと、ＮＣフライスの制御部と
を連携妊せる事により、容易にポジティブ・パターンを
作成できる。次に、できめかったレジスト−パターンを
ケミカル・エツチングすることによシ。
な金）ｌＩ４膜２（曲面体がプラスチックでおれはへｉ
、Ｃｕ などのめっき、セラミックであればＭｏ−Ｍｎ
、Ａｇなどのメタライズ）ｔコーティングする（第２図
）。次に、第３図に示すように、同時３軸（，３次元）
制御が可能でおる愼械１例えばＮ０フライス盤の主軸Ｊ
にインク書ジェット・プリンタの印字ヘッド４を取９付
け、このインク・ジェット会プリンタの印字ヘッド４が
インクを正確に付看嘔せるように、インク・ジェット・
プリンタの印字ヘッド４と金稿コーティングされた非金
属材料曲面体との距離金富に一定に保つと共にインク書
ジェット・プリンタの印字ヘッド４ｉ一定速度に保つ制
御を行い、作成したいパターンのポジティブ部を走らせ
ることによｐ、レジスト・パターン５を作成する。５ｇ
ｊ図の様な不連続なレジスト・パターン５の場合も、イ
ンク・ジェット・プリンタの印字ヘッド４よりインク會
噴出延せるための制＠ｌｓと、ＮＣフライスの制御部と
を連携妊せる事により、容易にポジティブ・パターンを
作成できる。次に、できめかったレジスト−パターンを
ケミカル・エツチングすることによシ。
非金属材料曲面体ｌ上に金属膜パターン６を作成するこ
とができる（第４図）。
とができる（第４図）。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、非金属材料曲面
上に金属膜パターンを作成する場合２寸法精度や位置決
め精匿が、三次元空間においてインク拳ジェット・プリ
ンタの印字ヘッドを位置決めする機械の摺度及びインク
・ジェット・プリンタの印字精度によって決められるの
で、±０．０５四程厩に止めらｎるとい５効果が得られ
る。
上に金属膜パターンを作成する場合２寸法精度や位置決
め精匿が、三次元空間においてインク拳ジェット・プリ
ンタの印字ヘッドを位置決めする機械の摺度及びインク
・ジェット・プリンタの印字精度によって決められるの
で、±０．０５四程厩に止めらｎるとい５効果が得られ
る。
第１図乃至第４図は不発明の実施例のパターン作成方法
を工４１順に示す斜視図で６る。 同図において、ｌ・・・・・・非金属材料、２・・・・
・・金輌Ｍ、３・・・・・・ＮＣフライス盤主軸、４・
・・・・・インク・ジェット・プリンタの印字ヘッド％
５・・・・・・レジスト−パターン、６・・・・・・
金属膜パターン。
を工４１順に示す斜視図で６る。 同図において、ｌ・・・・・・非金属材料、２・・・・
・・金輌Ｍ、３・・・・・・ＮＣフライス盤主軸、４・
・・・・・インク・ジェット・プリンタの印字ヘッド％
５・・・・・・レジスト−パターン、６・・・・・・
金属膜パターン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非金属材料曲面体上に金属膜を形成する工程と、インク
・ジェット・プリンタの印字ヘッドを三次元空間の所望
の位置に移動制御する手段に設け。 この手段で所だのレジスト・パターンを前記金属膜に描
く工程と、仄に前記金属膜ｔケミカル・エツチングする
工程とて備えたことｔ−Ｗ徴とする金鵬膜ノくターン作
成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3066584A JPS60175050A (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 金属膜パタ−ン作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3066584A JPS60175050A (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 金属膜パタ−ン作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60175050A true JPS60175050A (ja) | 1985-09-09 |
Family
ID=12310030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3066584A Pending JPS60175050A (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 金属膜パタ−ン作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60175050A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995023244A1 (en) * | 1994-02-25 | 1995-08-31 | The University Of Edinburgh | Surface treatment of an object |
| US7097287B2 (en) | 2001-05-09 | 2006-08-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ink jet device, ink jet ink, and method of manufacturing electronic component using the device and the ink |
| CN102765267A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-07 | 意力(广州)电子科技有限公司 | 卷对卷电容产品印刷工艺 |
-
1984
- 1984-02-21 JP JP3066584A patent/JPS60175050A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995023244A1 (en) * | 1994-02-25 | 1995-08-31 | The University Of Edinburgh | Surface treatment of an object |
| US7097287B2 (en) | 2001-05-09 | 2006-08-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ink jet device, ink jet ink, and method of manufacturing electronic component using the device and the ink |
| CN102765267A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-07 | 意力(广州)电子科技有限公司 | 卷对卷电容产品印刷工艺 |
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