JPS6016910A - 美爪料 - Google Patents
美爪料Info
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- JPS6016910A JPS6016910A JP12377183A JP12377183A JPS6016910A JP S6016910 A JPS6016910 A JP S6016910A JP 12377183 A JP12377183 A JP 12377183A JP 12377183 A JP12377183 A JP 12377183A JP S6016910 A JPS6016910 A JP S6016910A
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- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 title abstract description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000003796 beauty Effects 0.000 claims description 14
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract description 5
- QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N Acetyl tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(C(=O)OCCCC)(OC(C)=O)CC(=O)OCCCC QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 abstract 1
- 235000019634 flavors Nutrition 0.000 abstract 1
- 230000003020 moisturizing effect Effects 0.000 abstract 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 4
- YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfonimidic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004909 Moisturizer Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 241000375392 Tana Species 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001333 moisturizer Effects 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な美爪料に関する。さらに詳しくは、マッ
トな仕」ニリを有し、塗り易く、経時でのもちが良く、
除光液での落し易さGこ優れた美爪料に関する。
トな仕」ニリを有し、塗り易く、経時でのもちが良く、
除光液での落し易さGこ優れた美爪料に関する。
美爪料の範ちゅうに入る化粧料にはネールエナメルの他
に、ネールエナメルのつきをよくしたりネールエナメル
を除去する際に顔料や染料が爪表面の溝Gこ残ることを
防ぐ為に使用されるネールエナメルベースコート、ある
いは美しい仕」二すを長もちさせる為にネールエナメル
使用後に用いるネールエナメルオーバーコ−1・等があ
るが、従来の美爪料はニトロセルローズとアルキ、ド系
レジXアクリル系レジン、トルエンスルホンアミド系レ
ジン等のレジンと可塑剤及び溶剤を主基剤とし、これに
必要に応じて顔料、染料、パール剤等が配合されてなる
爪」二で乾燥した後の光沢の非常に優れたものであった
□ そして、上記美爪料は、爪表面へ塗り易く経時のもちが
よいものであり、広く愛用されている。
に、ネールエナメルのつきをよくしたりネールエナメル
を除去する際に顔料や染料が爪表面の溝Gこ残ることを
防ぐ為に使用されるネールエナメルベースコート、ある
いは美しい仕」二すを長もちさせる為にネールエナメル
使用後に用いるネールエナメルオーバーコ−1・等があ
るが、従来の美爪料はニトロセルローズとアルキ、ド系
レジXアクリル系レジン、トルエンスルホンアミド系レ
ジン等のレジンと可塑剤及び溶剤を主基剤とし、これに
必要に応じて顔料、染料、パール剤等が配合されてなる
爪」二で乾燥した後の光沢の非常に優れたものであった
□ そして、上記美爪料は、爪表面へ塗り易く経時のもちが
よいものであり、広く愛用されている。
しかし、ニトロセルローズを使用していることから、」
二連の通りいずれも爪」二では光沢のある被膜を形成す
るものであり、つや消しのマットな仕上りを有するネー
ルエナメルは全く未開発であった。
二連の通りいずれも爪」二では光沢のある被膜を形成す
るものであり、つや消しのマットな仕上りを有するネー
ルエナメルは全く未開発であった。
本発明者らは、こうした事情にかんがみ、鋭意研究を重
ねた結果、ニトロセルローズ、レジン、可塑剤、溶剤を
含有する美爪料において、特定シでの落し易さなど美爪
料として必要な他の特性をも兼備していることを見いだ
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
ねた結果、ニトロセルローズ、レジン、可塑剤、溶剤を
含有する美爪料において、特定シでの落し易さなど美爪
料として必要な他の特性をも兼備していることを見いだ
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すすわち、本発明はニトロセルローズ、レジン、可塑剤
、溶剤を含有する美爪料において、平均粒子径001〜
30μのシリカを1〜]owt%配合することを特徴と
する美爪料を提供するものである。以下、本発明の構成
について詳述する。
、溶剤を含有する美爪料において、平均粒子径001〜
30μのシリカを1〜]owt%配合することを特徴と
する美爪料を提供するものである。以下、本発明の構成
について詳述する。
本発明で用いられるニトロセルローズは、従来用いられ
ている周知のものを使用する事ができる。
ている周知のものを使用する事ができる。
ニトロセルローズR3−g秒などが挙げられる。これら
の中から1種または2種以上が任意に選ばれる配合量は
一般的には30wt%IPA湿潤度品で5〜25wt%
である。
の中から1種または2種以上が任意に選ばれる配合量は
一般的には30wt%IPA湿潤度品で5〜25wt%
である。
本発明で用いられるレジンは周知のものでよく、例えば
アルキッド系レジン、アクリル系レジン、トルエンスル
ホンアミド系レジンなどの合成レジンあるいはロジン、
ソエラノクなどの天然レジンなどが挙げられる。これら
の中から1種または2種以上が任意に選ばれる。配合量
は一般的には3〜]、5 wt%である。
アルキッド系レジン、アクリル系レジン、トルエンスル
ホンアミド系レジンなどの合成レジンあるいはロジン、
ソエラノクなどの天然レジンなどが挙げられる。これら
の中から1種または2種以上が任意に選ばれる。配合量
は一般的には3〜]、5 wt%である。
本発明で用いられる可塑剤はフタル酸エステル系、クエ
ン酸エステル系などの周知のものを使用することができ
る。例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレ−
1・、クエン醗トリブチル、クエン酸アセチルトリブチ
ルなどが挙げられる。これらの中から1種または2種以
」二が任意に選択される。配合量は一般的には2〜8
wt%である。
ン酸エステル系などの周知のものを使用することができ
る。例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレ−
1・、クエン醗トリブチル、クエン酸アセチルトリブチ
ルなどが挙げられる。これらの中から1種または2種以
」二が任意に選択される。配合量は一般的には2〜8
wt%である。
不発、明で用いられる溶剤は、従来用いられていたエス
テル系、アルコール系、芳香族系などの周知のものを使
用することができる。例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸セルソルブ、エチルアルコール、イソプロピルアル
コール、ブチルアルコール、トルエンなどが挙げられる
。これらの中か上 ら1種または2種以千が任意に選択される。配合量は一
般的には60〜85 wt%である。
テル系、アルコール系、芳香族系などの周知のものを使
用することができる。例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸セルソルブ、エチルアルコール、イソプロピルアル
コール、ブチルアルコール、トルエンなどが挙げられる
。これらの中か上 ら1種または2種以千が任意に選択される。配合量は一
般的には60〜85 wt%である。
は0.5〜10μである。001μ以下ではマットな仕
上りが得られない。また、配合量が多いと美爪料の粘度
が著しく高くなり使用感(塗り易さ)が悪くなる。また
・307+以上では皮膜の美観が損われ、また・マット
感の付与効果も充分に発揮されない。
上りが得られない。また、配合量が多いと美爪料の粘度
が著しく高くなり使用感(塗り易さ)が悪くなる。また
・307+以上では皮膜の美観が損われ、また・マット
感の付与効果も充分に発揮されない。
配合量は1〜10wt%の範囲で選択されるが、とくけ
4〜6 wt%である。1 wt%以下ではマットな仕
」ニリが充分でなく、10wt%を越えると、美爪料の
粘度が高くなり、使用性(塗り易さ)が悪くなで ってくる。また、経時≠のもちが悪くなってくる。
4〜6 wt%である。1 wt%以下ではマットな仕
」ニリが充分でなく、10wt%を越えると、美爪料の
粘度が高くなり、使用性(塗り易さ)が悪くなで ってくる。また、経時≠のもちが悪くなってくる。
なお、ソリ力粒子の形状については、その粒径が上記の
範囲内で皆任意に選択し得る。又、ソリ力の製法につい
ては湿式法、乾式法が知られているが、何れのものでも
よい。
範囲内で皆任意に選択し得る。又、ソリ力の製法につい
ては湿式法、乾式法が知られているが、何れのものでも
よい。
(以下余白)
本発明の美爪料には上記必須成分に加えて、必要に応じ
、香料、パール剤、ラメ剤、顔料、染料、薬剤、保湿剤
、紫外m@収剤などが配合される。
、香料、パール剤、ラメ剤、顔料、染料、薬剤、保湿剤
、紫外m@収剤などが配合される。
もちろん、これらは、本発明の効果を損わない質的、量
的条件下で使用されなければならない。
的条件下で使用されなければならない。
本発明の美爪料はマットな仕上りを有する美爪料であっ
て、塗り易さ、経時でのもち、除光液での落し易さ等美
爪料として要求される他の性質をも兼備するものである
。これらは単独でも、また、従来の美爪料の上に重ね塗
りして併用することも可能なものである。
て、塗り易さ、経時でのもち、除光液での落し易さ等美
爪料として要求される他の性質をも兼備するものである
。これらは単独でも、また、従来の美爪料の上に重ね塗
りして併用することも可能なものである。
次に実施例によって、本発明を更に詳細に説明する。本
発明はこれらにより限定されるものではない。配合量は
wt%である。
発明はこれらにより限定されるものではない。配合量は
wt%である。
(以下余白)
〔実施例]、比較例1,2,3,4.5)〈製法〉
■■■■■■■■を混合し、■を添加し攪拌溶解した後
、[相]〜[相]を加え攪拌混合した。
、[相]〜[相]を加え攪拌混合した。
分散し難い粉末については■、■等に混合し、ローラー
処理して使用した。
処理して使用した。
(以下余白)
〔効果〕
実施例1と比較例1.2.3.4.5の品質評価を行い
、その結果を(表−1)に示した。
、その結果を(表−1)に示した。
(表−1)
※1 ■ 実際の使用において官能で評価◎、非常にマ
ットな仕」−り ○ マットな仕」−リ △ やや光沢がある × 非常に光沢がある ■ 光沢語を用いて光沢を測定(表−2)測定条件 機種 日本電色工業株式会社 MEASυREMENT UNIT D−2入射角60
゜ 試料 アート紙上に0.35mmの厚さで塗布0 (表−2) (数値が小さい程マットであることを示す。
ットな仕」−り ○ マットな仕」−リ △ やや光沢がある × 非常に光沢がある ■ 光沢語を用いて光沢を測定(表−2)測定条件 機種 日本電色工業株式会社 MEASυREMENT UNIT D−2入射角60
゜ 試料 アート紙上に0.35mmの厚さで塗布0 (表−2) (数値が小さい程マットであることを示す。
2%以下であれば光沢は殆んどない。
なお、実施例■からシリカを除去したクリアーベースの
測定値は90であった。) ※2 実際の使用において官能で評価 ◎ 非常に塗り易い ○ 塗り易い △ 塗り難い × 非常に塗り難い ※3 実際の使用(3日間)において官能評価◎ 非常
にもちがよい ○ もちがよい △ もちが悪い × 非常に、もちが悪い 1↑ ※4 実際の使用において官能評価 除光液は下記組成のものを用いた。
測定値は90であった。) ※2 実際の使用において官能で評価 ◎ 非常に塗り易い ○ 塗り易い △ 塗り難い × 非常に塗り難い ※3 実際の使用(3日間)において官能評価◎ 非常
にもちがよい ○ もちがよい △ もちが悪い × 非常に、もちが悪い 1↑ ※4 実際の使用において官能評価 除光液は下記組成のものを用いた。
アセトン 50.0
エチルアルコール 400
イオン交換水 100
◎ 非常によく落ちる
O よく落ちる
△ 落ちにくい
× 非常に落ちにくい
(表−1)、(表−2)から明らかなように、実施例1
の美爪料はマットな仕上りが非常に優れ、塗り易さ、経
時でのもち、除光液での落し易さにも優れていることが
判る。これに比較して比較例1〜5はマットな仕上りと
いう点で全く及ばない。
の美爪料はマットな仕上りが非常に優れ、塗り易さ、経
時でのもち、除光液での落し易さにも優れていることが
判る。これに比較して比較例1〜5はマットな仕上りと
いう点で全く及ばない。
又、他の使用性についても実施例が優れていることがわ
かる。
かる。
次に製品の評価を美爪料使用経験者田名の実使用テスト
にて評価した。結果を(表−3)に示す。
にて評価した。結果を(表−3)に示す。
表中の数字は設問に対して肯定の回答をした人の数であ
る。
る。
特開昭GO−16910(4)
(表−3)の使用テスト結果から明らかな様に本発明に
よる美爪料はマットな仕上りを有し、塗り易く、経時で
のもちが良く・除光液での落し易さに優れていることが
確認され、非常に高い評価を得た。
よる美爪料はマットな仕上りを有し、塗り易く、経時で
のもちが良く・除光液での落し易さに優れていることが
確認され、非常に高い評価を得た。
(以下余白)
3
〔実施例2.3、比較例6.7.8.9〕()は平均粒
径 ぐ製法〉 ■■■■■■■を混合し■を添加し攪拌溶解した後、■
[相]■を加え攪拌混合した。
径 ぐ製法〉 ■■■■■■■を混合し■を添加し攪拌溶解した後、■
[相]■を加え攪拌混合した。
分散し難いシリカについては■、■等に混合しローラー
処理を行って使用した。
処理を行って使用した。
↑4
〔効果〕
(表−4)
評価方法は(表−1)の場合と同様である。
(表−4)から明らかなように・実施例2.3の美爪料
はマットな仕上りに非常に優れ、塗り易く、経時でのも
ちがよく、除光液での落し易さに優れている。」二記の
結果は、さらに実施例1と同様のパネル氏名による実使
用テストでも確認された。
はマットな仕上りに非常に優れ、塗り易く、経時でのも
ちがよく、除光液での落し易さに優れている。」二記の
結果は、さらに実施例1と同様のパネル氏名による実使
用テストでも確認された。
(以下余白)
15
(INIJ4) ネールエナメルベースコート■ ニト
ロセルローズ(+)15 ■ ニトロセルローズc表) 3 ■ クエン酸アセチルトリブチル 6 ■ 酢酸エチル 10 ■ 酢酸ブチル 36 ■ エチルアルコール 1゜ ■ トルエン 2゜ ■ n−ブチルアルコール 3 ■ 染 料 適量 ■ シリカ(平均粒径0.017り 2く製 法〉 ■■■■■■■を混合し■■を加え攪拌溶解した後、■
を添加し攪拌混合した。
ロセルローズ(+)15 ■ ニトロセルローズc表) 3 ■ クエン酸アセチルトリブチル 6 ■ 酢酸エチル 10 ■ 酢酸ブチル 36 ■ エチルアルコール 1゜ ■ トルエン 2゜ ■ n−ブチルアルコール 3 ■ 染 料 適量 ■ シリカ(平均粒径0.017り 2く製 法〉 ■■■■■■■を混合し■■を加え攪拌溶解した後、■
を添加し攪拌混合した。
(以下余白)
特開0R60−16910(5)
〔実m例5) ネールエナメルオーバーコートの ニト
ロセルローズ(+)17 ■ ジブチルフタレ−1・6 0 酢酸ブチル 15 ■ 酢酸エチル 32 ■ エチルアルコール 1゜ ■ トルエン 1゜ ■ n−ブチルアルコール 2 ■ 染 料 適量 ■ シリカ(平均粒径30μ) 8 〈製 法〉 ■■■■■■■を混合し■を加え攪拌溶解した後、■を
添加し攪拌混合した。
ロセルローズ(+)17 ■ ジブチルフタレ−1・6 0 酢酸ブチル 15 ■ 酢酸エチル 32 ■ エチルアルコール 1゜ ■ トルエン 1゜ ■ n−ブチルアルコール 2 ■ 染 料 適量 ■ シリカ(平均粒径30μ) 8 〈製 法〉 ■■■■■■■を混合し■を加え攪拌溶解した後、■を
添加し攪拌混合した。
(以下余白)
7
〔実施例4.5〕で得られた美爪料は、マットな仕上り
を有することに非常に優れ、塗り易く、経時でのもちが
よく、除光液での落し易さに優れ、美爪料として十分な
機能を有している新規なものであることが確認された。
を有することに非常に優れ、塗り易く、経時でのもちが
よく、除光液での落し易さに優れ、美爪料として十分な
機能を有している新規なものであることが確認された。
特許出願人 株式会社 資 生 堂
4
Claims (1)
- ニトロセルローズ、レジン、可塑剤、溶剤を含有する美
爪料Oこおいて、平均粒子径0.01〜工μのシリカを
l〜lowt%配合することを特徴とする美爪料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12377183A JPS6016910A (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | 美爪料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12377183A JPS6016910A (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | 美爪料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6016910A true JPS6016910A (ja) | 1985-01-28 |
Family
ID=14868869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12377183A Pending JPS6016910A (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | 美爪料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6016910A (ja) |
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-
1983
- 1983-07-07 JP JP12377183A patent/JPS6016910A/ja active Pending
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