JPS60164913A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS60164913A JPS60164913A JP59020078A JP2007884A JPS60164913A JP S60164913 A JPS60164913 A JP S60164913A JP 59020078 A JP59020078 A JP 59020078A JP 2007884 A JP2007884 A JP 2007884A JP S60164913 A JPS60164913 A JP S60164913A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はビデオテープレコーダ等に好適な薄膜磁気ヘッ
ドに関する。
ドに関する。
近年、ビデオテープレコーダ用の磁気テープとしてメタ
ルテープが普及してきている。かかるメタルテープに適
した磁気ヘッドとして、飽和磁束密度の高いセンダスト
、パーマロイ等の磁性薄膜をコア材料に用いた薄膜磁気
ヘッドが提案でれている。
ルテープが普及してきている。かかるメタルテープに適
した磁気ヘッドとして、飽和磁束密度の高いセンダスト
、パーマロイ等の磁性薄膜をコア材料に用いた薄膜磁気
ヘッドが提案でれている。
第1図は従来のこの種薄膜磁気ヘッドの一例を示す斜視
図で、11および11′は非磁性板、12は磁性薄膜、
14は作動ギャップ、15は巻線用孔、16は巻線であ
る6 同図においては、トラック幅に相当する厚さをもつ磁性
薄膜12を2枚の非磁性基板11.’11’によって挟
み込んでコアブロックとし、これらを研摩および巻線用
孔15を加工し、非磁性スペーサを介して両コアブロッ
クを突合せボンディングして作動ギャップ14を形成し
、巻線16を施して薄膜磁気ヘッドを得ている。
図で、11および11′は非磁性板、12は磁性薄膜、
14は作動ギャップ、15は巻線用孔、16は巻線であ
る6 同図においては、トラック幅に相当する厚さをもつ磁性
薄膜12を2枚の非磁性基板11.’11’によって挟
み込んでコアブロックとし、これらを研摩および巻線用
孔15を加工し、非磁性スペーサを介して両コアブロッ
クを突合せボンディングして作動ギャップ14を形成し
、巻線16を施して薄膜磁気ヘッドを得ている。
このような構成の薄膜磁気ヘッドは、ボンディング作業
と同時に作動ギャップ14を得る構成であるため、ボン
ディング面の状態が作動ギャップ14のギャップ長に直
接影響を与えることKなる。また、左右に分割されたコ
アブロックを形成した後ボンディングするため、トラッ
ク合せが難しくなるなど寸法精度の面で問題があって歩
留りが悪かった。更に、ヘッドのマルチ加工、マルチボ
ンディングを行なう上で不利な構造となっていた。
と同時に作動ギャップ14を得る構成であるため、ボン
ディング面の状態が作動ギャップ14のギャップ長に直
接影響を与えることKなる。また、左右に分割されたコ
アブロックを形成した後ボンディングするため、トラッ
ク合せが難しくなるなど寸法精度の面で問題があって歩
留りが悪かった。更に、ヘッドのマルチ加工、マルチボ
ンディングを行なう上で不利な構造となっていた。
第2図は従来の薄膜磁気ヘッドの他の例を示す斜視図で
、12 aおよび12 bは磁性薄膜、Qdはギャップ
デプス、他の第1図との対応部分には同一符号をつけて
いる。
、12 aおよび12 bは磁性薄膜、Qdはギャップ
デプス、他の第1図との対応部分には同一符号をつけて
いる。
この例はボンティング作業を除去した薄膜磁気ヘッドで
、非磁性基板11の半面に第1の磁性薄膜12 aを被
潰し、その側面を切削あるいはエツチング等により加工
してギャップ14のための面を形成し、非磁性基板11
の残りの半面に被着した第2の磁性薄膜12 bの同様
の面との間に非磁性スペーサを介在して磁気コアを得て
いる。次いで、巻線用孔15を超音波加工等によって穿
設し、巻線16を施して薄膜磁気ヘッドを得ている。
、非磁性基板11の半面に第1の磁性薄膜12 aを被
潰し、その側面を切削あるいはエツチング等により加工
してギャップ14のための面を形成し、非磁性基板11
の残りの半面に被着した第2の磁性薄膜12 bの同様
の面との間に非磁性スペーサを介在して磁気コアを得て
いる。次いで、巻線用孔15を超音波加工等によって穿
設し、巻線16を施して薄膜磁気ヘッドを得ている。
このような薄膜磁気ヘッドは、ギャップ14に直接影響
を与えるボンディング作業はなく、また共通の非磁性基
板11上に薄膜被着の繰返しによって磁気コアを形成し
ているために、トラック幅の寸法精度も大幅に同上する
。しかも、ギャップボンディング作業がないので、ウェ
ハ状の大面積基板で多数個のヘッドを製造でき量産性が
艮い。
を与えるボンディング作業はなく、また共通の非磁性基
板11上に薄膜被着の繰返しによって磁気コアを形成し
ているために、トラック幅の寸法精度も大幅に同上する
。しかも、ギャップボンディング作業がないので、ウェ
ハ状の大面積基板で多数個のヘッドを製造でき量産性が
艮い。
しかしながら、巻線用孔15の穿設に関して次のような
欠点があった。
欠点があった。
まず、巻線用孔15の寸法精度及び巻線用孔15の内面
の面精度が悪く、そのため、ギャップデプスGdの寸法
精度が悪化することである。これを工穿孔加工時の非磁
性基板11の加工性が恋く、刃先の摩耗がはげしいこと
による。すなわち、非磁性基板11の材料選択は、テー
プ走行時のヘッド摩耗を少なくするため、高硬度性、低
摩耗性のガラス。
の面精度が悪く、そのため、ギャップデプスGdの寸法
精度が悪化することである。これを工穿孔加工時の非磁
性基板11の加工性が恋く、刃先の摩耗がはげしいこと
による。すなわち、非磁性基板11の材料選択は、テー
プ走行時のヘッド摩耗を少なくするため、高硬度性、低
摩耗性のガラス。
セラミック材が用いられ、そのため難削材となりやすい
。また、同一材料でも穿孔加工自身、他の切削や溝掘加
工に比較してはるかに困難であり、その加工法も限られ
ていた。欠点の第2は、加工時の振動や発熱のため、磁
性薄膜の磁気特性の劣化及び膜はく離等のトラブルであ
る。特にギャップ近傍はギャップデプスGdをはじめと
して磁路断面積が狭く、ヘッド特性に京女な部分とされ
ているため、加工時における特性変化は問題となってい
た。なお、基板穿孔を製造プロセスの最初に行う方法も
考えられる。これによれば、確かKm性薄膜への悪影譬
はなくなるが、各種の膜被着工程で巻線用孔に不用膜が
付着し、これをいかに除去するかという別の問題が発生
する。
。また、同一材料でも穿孔加工自身、他の切削や溝掘加
工に比較してはるかに困難であり、その加工法も限られ
ていた。欠点の第2は、加工時の振動や発熱のため、磁
性薄膜の磁気特性の劣化及び膜はく離等のトラブルであ
る。特にギャップ近傍はギャップデプスGdをはじめと
して磁路断面積が狭く、ヘッド特性に京女な部分とされ
ているため、加工時における特性変化は問題となってい
た。なお、基板穿孔を製造プロセスの最初に行う方法も
考えられる。これによれば、確かKm性薄膜への悪影譬
はなくなるが、各種の膜被着工程で巻線用孔に不用膜が
付着し、これをいかに除去するかという別の問題が発生
する。
このように第2図の従来例に於る4孔加工は各種の幣害
を及ぼし、第1図の従来例に対する寸法精度、量鍾性の
利点が必ずしも生かされていない。
を及ぼし、第1図の従来例に対する寸法精度、量鍾性の
利点が必ずしも生かされていない。
さらに第1図、第2図の共通事項として巻線作業自身の
問題もある。すなわち、従来フェライトヘッドの場合も
そうであるが、ヘッドコストに占る巻線作業コストは全
体の数10%に達し、将来画期的な自動巻線機でも開発
されない限り、そのコスト低#は不可能である。その意
味でも巻線作業が不用、すなわち巻線用孔のない薄膜磁
気ヘッドは性能、コスト面で最良といえる。
問題もある。すなわち、従来フェライトヘッドの場合も
そうであるが、ヘッドコストに占る巻線作業コストは全
体の数10%に達し、将来画期的な自動巻線機でも開発
されない限り、そのコスト低#は不可能である。その意
味でも巻線作業が不用、すなわち巻線用孔のない薄膜磁
気ヘッドは性能、コスト面で最良といえる。
第3図はコンピュータ用等に用いられる薄膜コイμにで
巻線した薄膜磁気ヘッドを示す斜視図で、13は磁性薄
膜、Ctは膜厚、Twは幅、その他の第2図と同一符号
は同等物を示す。
巻線した薄膜磁気ヘッドを示す斜視図で、13は磁性薄
膜、Ctは膜厚、Twは幅、その他の第2図と同一符号
は同等物を示す。
非磁性基板11上には、第1の磁性薄膜12が被着され
、第1の磁性薄膜12は膜厚CL、)ラック幅に等しい
幅Twを有している。薄膜コイル17を配線した後、第
1の磁性薄膜12の上に第2の磁性薄膜13を被着して
磁気コアを形成している。テープ摺動方向は膜厚Ctの
方向となっている。
、第1の磁性薄膜12は膜厚CL、)ラック幅に等しい
幅Twを有している。薄膜コイル17を配線した後、第
1の磁性薄膜12の上に第2の磁性薄膜13を被着して
磁気コアを形成している。テープ摺動方向は膜厚Ctの
方向となっている。
このような構成の薄膜磁気ヘッドの場合、記録再生時の
磁束効率を悪化させない条件は、フロントギャップ面積
Sg = Tw X Qd と、コア断面積Sc =
Tw X Ctが、Sg(Sc となることである。
磁束効率を悪化させない条件は、フロントギャップ面積
Sg = Tw X Qd と、コア断面積Sc =
Tw X Ctが、Sg(Sc となることである。
これよりCL)Gdとなり、磁性薄膜の厚さCtは所定
のギャップデプスGdより常に大きくせねばならない。
のギャップデプスGdより常に大きくせねばならない。
通常ギャップデプスQdはヘッド摩耗による寿命を考え
て数10μm必要であり、この条件によると磁性薄膜の
厚さCtをそれ以上にゼねばならず、薄膜形成上容易で
はない。さらKこのヘッド構造の場合、いわゆるコンタ
−効果のため、記録再生周波数特性に周期的なうねりを
生じ好ましくない。これを避けるため摺動面のコア長を
長くする等の方法はあるが、前と同様に容易ではない。
て数10μm必要であり、この条件によると磁性薄膜の
厚さCtをそれ以上にゼねばならず、薄膜形成上容易で
はない。さらKこのヘッド構造の場合、いわゆるコンタ
−効果のため、記録再生周波数特性に周期的なうねりを
生じ好ましくない。これを避けるため摺動面のコア長を
長くする等の方法はあるが、前と同様に容易ではない。
これらの欠点は、第3図に於てギャップ面14と磁性博
912.13の面が平行であるということに起因してい
るが、逆に従来技術では薄膜コイル17を非磁性基板1
1への積層方向に形成していたため、膜厚Ctを厚(す
るには限界があってコンタ−効果を防止するのが難しか
った。
912.13の面が平行であるということに起因してい
るが、逆に従来技術では薄膜コイル17を非磁性基板1
1への積層方向に形成していたため、膜厚Ctを厚(す
るには限界があってコンタ−効果を防止するのが難しか
った。
この理由で、コンピュータ用薄膜磁気ヘッドとして使用
できてもビデオテープレコーダ用としては適切ではなか
った。
できてもビデオテープレコーダ用としては適切ではなか
った。
本発明の目的は、穿孔加工を無くして、ヘッド性能およ
び量産性に優れた薄膜磁気ヘッドを提供するにある。
び量産性に優れた薄膜磁気ヘッドを提供するにある。
この目的を達成するために、本発明を工、非磁性基板に
左右に区分された1対のフロントコアを形成すると共に
、これらフロントコアを橋絡してリアコアを形成し、両
コアの接合部分を包囲するよう薄膜コイルをバターニン
グした点に′%徴がある。
左右に区分された1対のフロントコアを形成すると共に
、これらフロントコアを橋絡してリアコアを形成し、両
コアの接合部分を包囲するよう薄膜コイルをバターニン
グした点に′%徴がある。
以下本発明の実施例を図面と共に説明する。
第4図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例をボす
斜視図で、1は非磁性基板、2は非磁性パターン材、3
aおよび3bはフロントコア、4は作動ギャップ、5は
薄膜コイル、6は摺動面、その他第3図との対応部分に
は同一符号をつけている。
斜視図で、1は非磁性基板、2は非磁性パターン材、3
aおよび3bはフロントコア、4は作動ギャップ、5は
薄膜コイル、6は摺動面、その他第3図との対応部分に
は同一符号をつけている。
同図において、ガラスあるいはセラミックス材から成る
耐摩耗性の良い非磁性基板l&工、厚さQ、3mm、2
インチ径ウェハから約2mm口に切り出したものであり
、また、表面に磁性薄膜をスパッタリングで被着し、フ
ロントコア3a、3bを形成している。その形状は、ト
ラック幅T w分の厚さで、一方のフロントコア3aは
L字状、他方のフロントコア3bは1字状をなし、これ
らはテープ摺動面6側に於て互いにその側面を突合わせ
て、作動ギャップ4を形成している。磁性薄膜の材料と
しては飽和磁束密度が高く、またビデオ帯域で透磁率の
優れたセンダスト合金を用いた。非磁性パターン材2は
、前記フロントコアをL字状の部分3aと工学状の部分
3bに分離するとともに、摺動面6側に於て所定のギャ
ップデプスGdを設けるために形成したものである。そ
の形状は、厚みがトラック@TWに等しく、摺動面61
111に鋭角な先端部をもつ1字状としたが、先端部の
形状は磁気特性を考慮して他の形状にすることもできる
。この非磁性パターン材2としてはガラスあるいはセラ
ミクス等の非磁性材が用いられるが、前記非磁性基板l
と同一材でも良い。作動ギャップ4は非磁性パターン材
2の一方の側面の延長上に位置し、ギャップ面は磁性薄
膜をその厚み方向に横切り、非磁性基板lの上面に対し
所定のアジマス角となるように傾斜している。なお、フ
ロントコア3a、3b間の非磁性スペーサとしてSin
。
耐摩耗性の良い非磁性基板l&工、厚さQ、3mm、2
インチ径ウェハから約2mm口に切り出したものであり
、また、表面に磁性薄膜をスパッタリングで被着し、フ
ロントコア3a、3bを形成している。その形状は、ト
ラック幅T w分の厚さで、一方のフロントコア3aは
L字状、他方のフロントコア3bは1字状をなし、これ
らはテープ摺動面6側に於て互いにその側面を突合わせ
て、作動ギャップ4を形成している。磁性薄膜の材料と
しては飽和磁束密度が高く、またビデオ帯域で透磁率の
優れたセンダスト合金を用いた。非磁性パターン材2は
、前記フロントコアをL字状の部分3aと工学状の部分
3bに分離するとともに、摺動面6側に於て所定のギャ
ップデプスGdを設けるために形成したものである。そ
の形状は、厚みがトラック@TWに等しく、摺動面61
111に鋭角な先端部をもつ1字状としたが、先端部の
形状は磁気特性を考慮して他の形状にすることもできる
。この非磁性パターン材2としてはガラスあるいはセラ
ミクス等の非磁性材が用いられるが、前記非磁性基板l
と同一材でも良い。作動ギャップ4は非磁性パターン材
2の一方の側面の延長上に位置し、ギャップ面は磁性薄
膜をその厚み方向に横切り、非磁性基板lの上面に対し
所定のアジマス角となるように傾斜している。なお、フ
ロントコア3a、3b間の非磁性スペーサとしてSin
。
膜を0.2〜0.3μm被着してギャップ長を規制して
いる。次にフロントコアのキャップデプスGdの部分を
避け、摺動面6と反対方向に遠ざかった両脚状部分に於
て、フロントコア3aj 3bの上面を橋絡し、センダ
スト材の磁性薄膜からなるリアコア3Cをスパッタリン
グにて被着形成した。
いる。次にフロントコアのキャップデプスGdの部分を
避け、摺動面6と反対方向に遠ざかった両脚状部分に於
て、フロントコア3aj 3bの上面を橋絡し、センダ
スト材の磁性薄膜からなるリアコア3Cをスパッタリン
グにて被着形成した。
リアコア3Cの面積は約1 mm X 2 mmの四角
形とし、フロントコア3a、3bとの間で十分な接合面
積がとれるとともに、次に述べる薄膜コイル5の形成に
必要な余地を残ビた。薄膜コイN5は、フロントコア3
a、3b及び非磁性パターン材2の上面に平面状に形成
され、リアコア3cK対してはその下にもぐる形となっ
ている。薄膜コイル5の位置はフロントコア3a、3b
とリアコア3Cの接合部分の少なくとも一方、本実施例
ではL字状フロントコア3aとの接合部分の周囲に、渦
巻状に1ターンないし数ターン形成した(第4図では簡
単化のために1ターンの場合を示した)。
形とし、フロントコア3a、3bとの間で十分な接合面
積がとれるとともに、次に述べる薄膜コイル5の形成に
必要な余地を残ビた。薄膜コイN5は、フロントコア3
a、3b及び非磁性パターン材2の上面に平面状に形成
され、リアコア3cK対してはその下にもぐる形となっ
ている。薄膜コイル5の位置はフロントコア3a、3b
とリアコア3Cの接合部分の少なくとも一方、本実施例
ではL字状フロントコア3aとの接合部分の周囲に、渦
巻状に1ターンないし数ターン形成した(第4図では簡
単化のために1ターンの場合を示した)。
薄膜コイル5の材質は、電気抵抗の小さい銅またはアル
ミニウムを用い、またフロントコア3a。
ミニウムを用い、またフロントコア3a。
3b’Fリアコア3Cとの電気的短絡を防止するため絶
縁膜を介している。さらに図示していないがこれらの上
にアルミナ等の非磁性膜を加μm程度被着させて磁性薄
膜等を保護し、ヘッド全体の強度を高めた。
縁膜を介している。さらに図示していないがこれらの上
にアルミナ等の非磁性膜を加μm程度被着させて磁性薄
膜等を保護し、ヘッド全体の強度を高めた。
次に本発明による薄膜磁気へノドの動作を説明する。ま
ず、磁気コアは、フロントコ75字状の部分3a、作動
ギャップ4.工学状の部分3b。
ず、磁気コアは、フロントコ75字状の部分3a、作動
ギャップ4.工学状の部分3b。
及びリアコア3Cを径て閉磁路を形成している。
しかもフロントコア3a、3bとリアコア3Cの接合面
積はお良くとっであるので、その部分5での磁気抵抗は
少なく、従って記録再生時の損失を小さくすることがで
きる。薄膜コイル5はこの磁路に対して鎖交する形に施
しである。すなわち記録時には、薄膜コイル5によって
生じた起磁力は、それの取囲むフロントコア3aとリア
コア3Cの接合部分に印加されて信号磁束を生じ、前記
磁気回路を径て作動ギャップ4に伝達される。一方、再
生時には、接合部を通過する信号磁束により、これに鎖
交する薄膜コイ/I15に電圧が誘起される。
積はお良くとっであるので、その部分5での磁気抵抗は
少なく、従って記録再生時の損失を小さくすることがで
きる。薄膜コイル5はこの磁路に対して鎖交する形に施
しである。すなわち記録時には、薄膜コイル5によって
生じた起磁力は、それの取囲むフロントコア3aとリア
コア3Cの接合部分に印加されて信号磁束を生じ、前記
磁気回路を径て作動ギャップ4に伝達される。一方、再
生時には、接合部を通過する信号磁束により、これに鎖
交する薄膜コイ/I15に電圧が誘起される。
これら動作は、従来の巻線形ヘッドと何ら劣ることなく
、むしろ、磁路に対してより密着して巻線しである本実
施例のヘッドは、ノイズを少な(することが出来る。本
実施例の薄膜磁気ヘッドは、そのフロントコアの形状に
於て、フロントギャップ面積S g = Gd x T
w、コア断面積Sc=CwXTwに関し、G、d ((
CwゆえSg((Scが成立し、記録再生効率が後れ、
第3図の従来例で述べた欠点が排除された。また摺動面
6のコア形状は、Cwが非磁性基板1の幅方向に形成さ
れるため、記録波長に対し十分大きくとれ、コンタ−効
果による恋影譬がない。さらに、本実施例の薄膜磁気ヘ
ッドにおいて、そのギャップデプスGdは、非磁性パタ
ーン2の位置精度のみで決まり寸法精度が高い。また巻
線用穴の穿孔加工を排除したので、加工に伴う磁性薄膜
の特性劣化も皆無となり、これより高精度高性能薄膜磁
気ヘッドが実現できる。
、むしろ、磁路に対してより密着して巻線しである本実
施例のヘッドは、ノイズを少な(することが出来る。本
実施例の薄膜磁気ヘッドは、そのフロントコアの形状に
於て、フロントギャップ面積S g = Gd x T
w、コア断面積Sc=CwXTwに関し、G、d ((
CwゆえSg((Scが成立し、記録再生効率が後れ、
第3図の従来例で述べた欠点が排除された。また摺動面
6のコア形状は、Cwが非磁性基板1の幅方向に形成さ
れるため、記録波長に対し十分大きくとれ、コンタ−効
果による恋影譬がない。さらに、本実施例の薄膜磁気ヘ
ッドにおいて、そのギャップデプスGdは、非磁性パタ
ーン2の位置精度のみで決まり寸法精度が高い。また巻
線用穴の穿孔加工を排除したので、加工に伴う磁性薄膜
の特性劣化も皆無となり、これより高精度高性能薄膜磁
気ヘッドが実現できる。
第5図は本発BAKよる薄膜磁気ヘッドの製造方法の一
具体例を示す工程図で、3はフロントコア層であり、他
の第4図との対応部分には同一符号をつげている。
具体例を示す工程図で、3はフロントコア層であり、他
の第4図との対応部分には同一符号をつげている。
非磁性基板1にトラック幅分の厚さの凸形状の非磁性パ
ターン材2をスパッタ及びエツチングにより形成しく第
5図(a))、磁性″lj#Mを仮着してフロントコア
#3を形成し、非磁性パターン材2と同一面になるまで
wr屋する(第5図の))。次いで、ギャップ位置にな
るべきフロントコア層3の側面をダイヤモンドバイト等
により切削除去し、所定のアジマス角をもつギャップ面
4を形成するととも忙、L字状のフロントコア3aを形
成する(第5図(C))。ギャップ面にギャップ規制用
5i01膜を被着し、朽度磁性博涙を被着し、@犀して
、1字状のフロントコア3bを形成しく第5図(d))
、8i0.絶縁膜を介して銅、アルミニウム等を被着、
エツチングし、必景な巻数をもつ薄膜コイル5を形成す
る。薄膜コイル5は、あとでリアコア矢合せ部となる部
分を取り囲み、平面状に形成する(第5図(e))。S
!0!絶縁膜を形成した後、磁性薄膜を既に形成したフ
ロントコア3a、3bの両脚部を連結する形に夜着して
リアコア3cを形成しく第5図(f) )、このように
して薄膜磁気ヘッドを完成させる。
ターン材2をスパッタ及びエツチングにより形成しく第
5図(a))、磁性″lj#Mを仮着してフロントコア
#3を形成し、非磁性パターン材2と同一面になるまで
wr屋する(第5図の))。次いで、ギャップ位置にな
るべきフロントコア層3の側面をダイヤモンドバイト等
により切削除去し、所定のアジマス角をもつギャップ面
4を形成するととも忙、L字状のフロントコア3aを形
成する(第5図(C))。ギャップ面にギャップ規制用
5i01膜を被着し、朽度磁性博涙を被着し、@犀して
、1字状のフロントコア3bを形成しく第5図(d))
、8i0.絶縁膜を介して銅、アルミニウム等を被着、
エツチングし、必景な巻数をもつ薄膜コイル5を形成す
る。薄膜コイル5は、あとでリアコア矢合せ部となる部
分を取り囲み、平面状に形成する(第5図(e))。S
!0!絶縁膜を形成した後、磁性薄膜を既に形成したフ
ロントコア3a、3bの両脚部を連結する形に夜着して
リアコア3cを形成しく第5図(f) )、このように
して薄膜磁気ヘッドを完成させる。
以上述べた実施例に於ては、巻線用穴tなくした構造と
したので、穿孔加工及び巻線作業に伴う加工上のトラブ
ルや作東時間が牧舎され歩貿りが向上するためヘッドコ
ストを低減できる。
したので、穿孔加工及び巻線作業に伴う加工上のトラブ
ルや作東時間が牧舎され歩貿りが向上するためヘッドコ
ストを低減できる。
上記実施例では、1つの非磁性基板l上で1個の薄膜磁
気ヘッドを製作しているが、大面積基板を用いて、この
基板上で一気に多数個の薄膜磁気ヘッドを製作すること
Kよってt産化できる。
気ヘッドを製作しているが、大面積基板を用いて、この
基板上で一気に多数個の薄膜磁気ヘッドを製作すること
Kよってt産化できる。
第6図は本発明による薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示
す斜視図でろって、2aおよび2bは非磁性ハターン材
、3a′はフロントコア、4aおよび4bは作動キャッ
プ、5aおよび5bは薄膜コイルであり、他の第4図と
の対応部分には同一符号をつけている。
す斜視図でろって、2aおよび2bは非磁性ハターン材
、3a′はフロントコア、4aおよび4bは作動キャッ
プ、5aおよび5bは薄膜コイルであり、他の第4図と
の対応部分には同一符号をつけている。
この薄膜磁気ヘッドは、2つの作動ギャップ4at4b
を持つ特殊再生可能なダブルアジマスヘッドであり、中
央のフロントコア3bを共通にして2つの磁気回路を形
成している。フロントコア3a、3b間には、8i0よ
の絶縁膜を介して作動ギャップ4aが形成され、フロン
トコア3 a’、 3 b間には、5102絶縁膜を介
して作動ギャップ4bが形成されている。リアコア3c
は、フロントコア3a、3a’、3bを橋絡して前述の
2つの磁気回路を形成している。各磁気コアには、それ
ぞれ薄膜コイル5a、5bが設けられ、これら薄膜コイ
/L15a、5bは、フロントコア3a、3a’とリア
コア3Cの接合部を包囲して配置されている。
を持つ特殊再生可能なダブルアジマスヘッドであり、中
央のフロントコア3bを共通にして2つの磁気回路を形
成している。フロントコア3a、3b間には、8i0よ
の絶縁膜を介して作動ギャップ4aが形成され、フロン
トコア3 a’、 3 b間には、5102絶縁膜を介
して作動ギャップ4bが形成されている。リアコア3c
は、フロントコア3a、3a’、3bを橋絡して前述の
2つの磁気回路を形成している。各磁気コアには、それ
ぞれ薄膜コイル5a、5bが設けられ、これら薄膜コイ
/L15a、5bは、フロントコア3a、3a’とリア
コア3Cの接合部を包囲して配置されている。
フロントコア3 a 、3 a’ ト薄Hコイル5a、
5b間、また薄膜コイル5a、5bとリアコア3C間は
、それぞれSin、絶縁膜によって磁気的に区分されて
いる。
5b間、また薄膜コイル5a、5bとリアコア3C間は
、それぞれSin、絶縁膜によって磁気的に区分されて
いる。
このように本芙抛例によれば、ダブルアジマスヘッドを
容易に得ることができ、また第4図の実施例と同様の効
果を得ることができる。
容易に得ることができ、また第4図の実施例と同様の効
果を得ることができる。
以上説明したように、本発明によれば、従来不可欠であ
った基板等への井孔加工を不要にし、基板上の同平面に
形成したフロントコア間に作動ギャップを形成してフロ
ントギャップ面積よりもコア断面積を大きくしたため、
ヘッド性能に優れるとができ、従来技術の欠点を除いて
優れた機能の薄膜磁気ヘッドを提供することができる。
った基板等への井孔加工を不要にし、基板上の同平面に
形成したフロントコア間に作動ギャップを形成してフロ
ントギャップ面積よりもコア断面積を大きくしたため、
ヘッド性能に優れるとができ、従来技術の欠点を除いて
優れた機能の薄膜磁気ヘッドを提供することができる。
第1図、第2図および第3図はそれぞれ薄膜磁気ヘッド
の従来例を示す斜視図、第4図は本発明による薄膜蝉気
ヘッドの一実施例を示す斜視図、第5図(a)〜(f)
は第4図に示す薄膜磁気ヘッドの製造方法の一具体例を
示す工程図、′iJ、6図は本発明による薄膜磁気ヘッ
ドの他の実施例を示す斜視図である。 l・・・・・・非磁性基板、2・・曲非磁性パターン材
、3a、3a’および3b・・曲フロントコア、4,4
aおよび4b・・中・作動ギャップ、5.5aおよび5
b・・・・・・薄膜コイル。 第1図 5 4 第2図 5 第3図 7 第4図 第5図 第6図 4D JG−ノO
の従来例を示す斜視図、第4図は本発明による薄膜蝉気
ヘッドの一実施例を示す斜視図、第5図(a)〜(f)
は第4図に示す薄膜磁気ヘッドの製造方法の一具体例を
示す工程図、′iJ、6図は本発明による薄膜磁気ヘッ
ドの他の実施例を示す斜視図である。 l・・・・・・非磁性基板、2・・曲非磁性パターン材
、3a、3a’および3b・・曲フロントコア、4,4
aおよび4b・・中・作動ギャップ、5.5aおよび5
b・・・・・・薄膜コイル。 第1図 5 4 第2図 5 第3図 7 第4図 第5図 第6図 4D JG−ノO
Claims (1)
- 非磁性基板と、この非磁性基板上に磁性薄膜を被着して
形成すると共に作動ギャップを有する磁気コアと、この
磁気コアに薄膜コイルを施して成る薄膜磁気ヘッドにお
いて、前記磁気コアは、前記作動ギャップを挟んで前記
非磁性基板上の左右に形成されて前記作動ギャップ側全
開路した1対のフロントコアと、前記両フロントコアの
作動ギャップ側の開路部を橋絡するリアコアとを有し、
少なくとも一方の前記フロントコアと前記リアコアの接
合部を包囲して前記薄膜コイルを設げたことを特徴とす
る薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59020078A JPS60164913A (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 薄膜磁気ヘツド |
KR1019850000722A KR850006105A (ko) | 1984-02-08 | 1985-02-05 | 박막 자기헤드 및 그 제조방법 |
EP85101281A EP0152064A3 (en) | 1984-02-08 | 1985-02-07 | Thin film magnetic head and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59020078A JPS60164913A (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60164913A true JPS60164913A (ja) | 1985-08-28 |
JPH0522962B2 JPH0522962B2 (ja) | 1993-03-31 |
Family
ID=12017060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59020078A Granted JPS60164913A (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60164913A (ja) |
KR (1) | KR850006105A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6413207A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-18 | Kansai Nippon Electric | Thin film magnetic head |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5587322A (en) * | 1978-12-25 | 1980-07-02 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin film magnetic head |
JPS5620A (en) * | 1979-06-12 | 1981-01-06 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
-
1984
- 1984-02-08 JP JP59020078A patent/JPS60164913A/ja active Granted
-
1985
- 1985-02-05 KR KR1019850000722A patent/KR850006105A/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5587322A (en) * | 1978-12-25 | 1980-07-02 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin film magnetic head |
JPS5620A (en) * | 1979-06-12 | 1981-01-06 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6413207A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-18 | Kansai Nippon Electric | Thin film magnetic head |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0522962B2 (ja) | 1993-03-31 |
KR850006105A (ko) | 1985-09-28 |
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