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JPS60163887A - Cyclosiloxane derivative - Google Patents

Cyclosiloxane derivative

Info

Publication number
JPS60163887A
JPS60163887A JP1951084A JP1951084A JPS60163887A JP S60163887 A JPS60163887 A JP S60163887A JP 1951084 A JP1951084 A JP 1951084A JP 1951084 A JP1951084 A JP 1951084A JP S60163887 A JPS60163887 A JP S60163887A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cyclosiloxane
solution
general formula
reaction
mole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1951084A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyohide Matsui
松井 清英
Yutaka Nagase
裕 長瀬
Junko Onozuka
小野塚 純子
Masaki Uchikura
内倉 昌樹
Toru Kiyota
徹 清田
Akira Akimoto
明 秋元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sagami Chemical Research Institute
Tosoh Corp
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
Toyo Soda Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sagami Chemical Research Institute, Toyo Soda Manufacturing Co Ltd filed Critical Sagami Chemical Research Institute
Priority to JP1951084A priority Critical patent/JPS60163887A/en
Publication of JPS60163887A publication Critical patent/JPS60163887A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (式中、Xは炭素数1〜12のペルフルオロアルキル基
又はベルフルオロアルコキシ基,ペンタフルオロフェニ
ル基,ペンタフルオロフェノキシ基。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (In the formula, X is a perfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a perfluoroalkoxy group, a pentafluorophenyl group, or a pentafluorophenoxy group.

置換フェニルジメチルシリル基,ジメチル(含フツ素基
置換アルキル)シリル基,ポリフルオロアルキルメチル
オキシカルボニル基であ’)、lは2〜4,m,nは正
の整数を表し、m+n=5〜6。
Substituted phenyldimethylsilyl group, dimethyl (fluorine-containing substituted alkyl)silyl group, polyfluoroalkylmethyloxycarbonyl group'), l is 2 to 4, m and n are positive integers, m + n = 5 to 6.

n/mは0.2〜50である。)で表されるシクロシロ
キサン誘導体に関する。前記一般式(I)で表されるシ
クロシロキサン誘導体は、例えば耐久性を有するシリコ
ーンゴムあるいは酸素富化膜等の製造用中間体として有
用である。
n/m is 0.2-50. ) Regarding the cyclosiloxane derivative represented by. The cyclosiloxane derivative represented by the general formula (I) is useful, for example, as an intermediate for producing durable silicone rubber or oxygen-enriched membranes.

特に近年、空気より酸素ガスを分離する方法として高分
子膜を用いる方法が注目を集めている。
Particularly in recent years, methods using polymer membranes have been attracting attention as a method for separating oxygen gas from air.

この目的に用いる高分子膜に望まれる特性は、酸素ガス
と9素ガスの選択性が高いことと、酸素ガスの透過量が
大きいことである。特に後者は、分離装置を小型化し、
処理可能な気体量を増加させる上で極めて重要である。
The desired properties of the polymer membrane used for this purpose are high selectivity between oxygen gas and 9-element gas, and a large amount of permeation of oxygen gas. In particular, the latter requires miniaturization of the separation device,
This is extremely important in increasing the amount of gas that can be processed.

大きな酸素ガス透過量を得るためには、膜素材として酸
素ガスの透過係数Po2の大きなものを選び、かつ膜の
厚みをできるだけ薄くする必要がある。
In order to obtain a large amount of oxygen gas permeation, it is necessary to select a membrane material with a large oxygen gas permeability coefficient Po2 and to make the membrane thickness as thin as possible.

大きなPO2を有する膜として、ポリジメチルシロキサ
ン膜が知られている。しかしながら、ポリジメチルシロ
キサンは膜とした場合機械的強度が小さいため、数十μ
m以下では実際の使用に耐えつる膜とすることができな
い。このため充分な気体透過量を有する薄膜を得ること
が難しい。この膜の機械的強度を改善する目的で、例え
ばポリジメチルシロキサンとポリカーボネートあるいは
ポリα−メチルスチレン等との共重合体などが開発され
ているが、酸素ガスの透過係数P02が低下したり、分
離係数αが不十分であるなど必ずしも満足しうるものと
はいえなかった。
A polydimethylsiloxane film is known as a film having a large amount of PO2. However, polydimethylsiloxane has low mechanical strength when formed into a film, so it
If the thickness is less than m, the film cannot be made to withstand actual use. For this reason, it is difficult to obtain a thin film having a sufficient amount of gas permeation. For the purpose of improving the mechanical strength of this membrane, copolymers of polydimethylsiloxane and polycarbonate or polyα-methylstyrene, etc., have been developed, but the permeability coefficient P02 of oxygen gas decreases and separation The results were not necessarily satisfactory, as the coefficient α was insufficient.

本発明者等は、これらの点に関して鋭意検討した結果、
主鎖に特定量のシルフェニレン基を含み、側鎖にペルフ
ルオロアルキル基あるいはペルフルオロアルコキシ基、
ペンタフルオロフェニル基等を有するシロキサン共重合
体からなる膜が、高いPo2およびαを示し、かつ優れ
た製膜性をも併せ持つこと及びその製造用中間体として
前記一般式(Dで表されるシクロシロキサン誘導体が有
用であることを見い出し、本発明を完成させたものであ
る。
As a result of intensive study on these points, the inventors found that
Contains a specific amount of silphenylene group in the main chain, perfluoroalkyl group or perfluoroalkoxy group in the side chain,
A film made of a siloxane copolymer having pentafluorophenyl groups etc. shows high Po2 and α and also has excellent film formability, and as an intermediate for its production, a cyclo The present invention was completed based on the discovery that siloxane derivatives are useful.

すなわち、本発明の前記一般式(I)で表されるシクロ
シロキサン誘導体から合成できる選択透過膜の繰り返し
単位として下記一般式 (式中、Xは炭素数1〜12のペルフルオロアルキル基
又はペルフルオロアルコキシ基、ペンタフルオロフェニ
ル基、ペンタフルオロフェノキ7基。
That is, as a repeating unit of a selectively permeable membrane that can be synthesized from the cyclosiloxane derivative represented by the general formula (I) of the present invention, the following general formula (wherein, X is a perfluoroalkyl group or perfluoroalkoxy group having 1 to 12 carbon atoms) is used. , pentafluorophenyl group, pentafluorophenoki 7 group.

置換フェニルジメチルシリル基、ジメチル(含フツ素基
置換アルキル)シリル基、ポリフルオロアルキルメチル
オキシカルボニル基であり、lは2−4.n/mは0.
2−5.0.qは100以上である。)を有し、p/q
≦1であるシロキサン共重合体を例示することができる
Substituted phenyldimethylsilyl group, dimethyl (fluorine-containing substituted alkyl)silyl group, polyfluoroalkylmethyloxycarbonyl group, l is 2-4. n/m is 0.
2-5.0. q is 100 or more. ) and p/q
A siloxane copolymer in which ≦1 can be exemplified.

本発明の化合物から誘導できる前記一般式(II)で表
されるシロキサン共重合体としては、FI′I F 等を例示することができる。
Examples of the siloxane copolymer represented by the general formula (II) that can be derived from the compound of the present invention include FI'IF and the like.

本発明のシクロシロキサン誘導体としてはしl’3 等を例示することができる。As the cyclosiloxane derivative of the present invention, etc. can be exemplified.

以下、本発明の化合物の合成法をルート別に詳述する。Hereinafter, the method for synthesizing the compound of the present invention will be explained in detail by route.

本発明の化合物は、例えば下記に示す4通りのルートに
より合成することができる。
The compound of the present invention can be synthesized, for example, by the following four routes.

(V) (Vl) ルート1 本ルートはジメチルジクロロシランと、前記一般式(I
II)で表されるジクロロシラン誘導体とを共加水分解
して前記一般式(T)で表されるシクロシロキサン化合
物を製造するものである。
(V) (Vl) Route 1 This route uses dimethyldichlorosilane and the general formula (I
The cyclosiloxane compound represented by the general formula (T) is produced by cohydrolyzing the dichlorosilane derivative represented by II).

原料のジメチルジクロロシランは安価に大量に入手容易
である。ジクロロシラン誘導体もそのいくつかは市販さ
れており、また対応するオレフィンとメチルジクロロシ
ランとのヒドロシリル化反応によって容易に合成しうる
。例えば、等を挙げることができる。
The raw material dimethyldichlorosilane is easily available at low cost and in large quantities. Some of the dichlorosilane derivatives are commercially available, and can also be easily synthesized by a hydrosilylation reaction between the corresponding olefin and methyldichlorosilane. For example, etc.

共加水分解反応にあたっては、水の存在が必須でありま
たジクロロシラン類は溶媒に溶解して行うのが好ましい
。水は少なくとも原料化合物に対し2当量以上必要であ
り、一般的には大過剰量用いて行う。溶媒としては、ジ
エチルエーテル、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン等を用いることができ、水と混じらない
溶媒を用いて水との界面で反応させることにより、得ら
れるシクロシロキサン化合物の収率を高めることができ
る。また、ジクロロシランの濃度は5.0mol/l以
下で行うのが望ましい。この反応は通常室温で行うが、
発熱反応のため氷水等により冷却して行っても良い。
In the cohydrolysis reaction, the presence of water is essential, and the dichlorosilane is preferably dissolved in a solvent. Water is required in an amount of at least 2 equivalents or more based on the raw material compound, and is generally used in a large excess amount. As the solvent, diethyl ether, n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, etc. can be used. By using a water-immiscible solvent and reacting at the interface with water, the yield of the cyclosiloxane compound obtained can be increased. can be increased. Further, it is desirable that the concentration of dichlorosilane is 5.0 mol/l or less. This reaction is usually carried out at room temperature,
Since the reaction is exothermic, it may be cooled with ice water or the like.

ルート2 本ルートは前記一般式(IV)で表されるヒドロシラン
型シクロシロキサンに下記一般式%式%() で表されるオレフィンを反応させることにより前記一般
式(T)で表されるシクロシロキサン誘導体を合成する
反応経路である。
Route 2 This route produces a cyclosiloxane represented by the general formula (T) by reacting a hydrosilane type cyclosiloxane represented by the general formula (IV) with an olefin represented by the following general formula % (). This is a reaction route for synthesizing derivatives.

原料の前記一般式(IV)で表されるヒドロシラン型シ
クロシロキサンは、ジメチルジクロロシランとメチルジ
クロロシランとを共加水分解することにより、前記ルー
ト1と同様の方法により合成しうる。(参考例1参照) 他方の原料である前記一般式(■)で表されるオレフィ
ンとしては、例えば、ペルフルオロアルキルエチレン、
ペンタフルオロフェニルエチレン、ペルフルオロアルキ
ルアクリレート、ペルフルオロアルキルメタクリレート
、ペルフルオロアルキルアリルエーテル、ペンタフルオ
ロフェニルアリルエーテル等が挙げられる。
The hydrosilane-type cyclosiloxane represented by the general formula (IV) as a raw material can be synthesized by the same method as in Route 1 by cohydrolyzing dimethyldichlorosilane and methyldichlorosilane. (See Reference Example 1) Examples of the other raw material, the olefin represented by the general formula (■), include perfluoroalkylethylene,
Examples include pentafluorophenyl ethylene, perfluoroalkyl acrylate, perfluoroalkyl methacrylate, perfluoroalkyl allyl ether, pentafluorophenyl allyl ether, and the like.

反応にあたっては触媒の使用が必須であり、触媒として
は塩化白金酸(H□Pt C16・6H,O)を用いる
のが最も一般的であるが、その他にもパラジウムやロジ
ウムを含む金属錯体が使用可能である。例えば、(Ph
5P) Pd、 (Ph5P)2PdC11゜(PhC
N)2Pd(J、、 (Ph、P)3RhCI、 (P
h、PH)、Rh(J。
The use of a catalyst is essential for the reaction, and chloroplatinic acid (H□Pt C16.6H,O) is most commonly used as a catalyst, but metal complexes containing palladium and rhodium are also used. It is possible. For example, (Ph
5P) Pd, (Ph5P)2PdC11゜(PhC
N)2Pd(J,, (Ph,P)3RhCI, (P
h, PH), Rh(J.

(PhsP )2 (Co) RhCl 、C(C2H
11)3 PTII! (Co)RhCA! などを触
媒として用いることができる。
(PhsP)2 (Co) RhCl, C(C2H
11)3 PTII! (Co)RhCA! etc. can be used as a catalyst.

反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒としては、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、アセトン、トリクロロエチ
レン、四塩化炭素、THFなどを用いることができる。
The reaction is preferably carried out in a solvent, and examples of the solvent include hexane, benzene, toluene, acetone, trichloroethylene, carbon tetrachloride, THF, and the like.

反応温度は、60℃〜160℃の温度範囲で行い、また
アルゴンや窒素等の不活性気体雰囲気下で行うのが望ま
しい。
The reaction temperature is preferably in the range of 60°C to 160°C, and preferably in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen.

ルート3 本ルートは前記一般式(V)で表されるビニル型シクロ
シロキサンに下記一般式 (式中、Rは前記と同一である。)で表されるヒドロシ
ランを触媒の存在下に反応させて、下記一般式(Iうで
表されるシクロシロキサン誘導体を合成する反応経路で
ある。
Route 3 This route involves reacting a vinyl cyclosiloxane represented by the general formula (V) with a hydrosilane represented by the following general formula (wherein R is the same as above) in the presence of a catalyst. This is a reaction route for synthesizing a cyclosiloxane derivative represented by the following general formula (I).

原料のビニル型シクロシロキサンはジメチルジクロロシ
ランとメチルビニルジクロロシランより前記ルート1と
同様の方法により合成しうる。(参考例2参照) 他方の原料である前記一般式(■)で表されるヒドロシ
ランとしては例えば、 (式中、a、bは各々1〜5の整数を表す。)等を挙げ
ることができる。
The raw material vinyl cyclosiloxane can be synthesized from dimethyldichlorosilane and methylvinyldichlorosilane in the same manner as in Route 1 above. (See Reference Example 2) Examples of the hydrosilane represented by the general formula (■), which is the other raw material, include (wherein a and b each represent an integer of 1 to 5). .

この反応に使用される触媒の種類、溶媒1反応温度など
の反応条件は前記ルート2の場合とまったく同様である
The reaction conditions such as the type of catalyst used in this reaction and the reaction temperature of the solvent 1 are exactly the same as in the case of Route 2 above.

ルート4 本ルートは前記一般式(Vl)で表されるヨウ素置換シ
クロシロキサンを還元することにより、下記一般式(う
で表されるシクロシロキサン誘導体を合成するものであ
る。
Route 4 This route is to synthesize a cyclosiloxane derivative represented by the following general formula (U) by reducing the iodine-substituted cyclosiloxane represented by the above general formula (Vl).

(式中、Rfはペルフルオロアルキル基を表す。)原料
の前記一般式(Vl)で表されるヨウ素置換シクロシロ
キサン化合物はルート6で原料として用いたビニル型シ
クロシロキザンにペルフルオロアルキルヨーシトを、R
u3 (Co)12 ! Fe2 (CO)g +Fe
3 (Co)12等の触媒の存在下、クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素等の溶媒中で付加させることに
より得ることができる。ペルフルオロアルキルヨーシト
は各種市販されており入手容易である。
(In the formula, Rf represents a perfluoroalkyl group.) The iodine-substituted cyclosiloxane compound represented by the general formula (Vl) as a raw material is a vinyl-type cyclosiloxane used as a raw material in Route 6, and a perfluoroalkyl iosite. R
u3 (Co)12! Fe2 (CO)g +Fe
It can be obtained by addition in a solvent such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, etc. in the presence of a catalyst such as 3 (Co)12. Various types of perfluoroalkyl iosites are commercially available and are easily available.

還元剤としては、LiA/H4,BH3,NaBH4+
Nap(CT’J)H3+ LiBH41(CHs )
4 NBIFT4 + NaAlH4+NaAIH2(
OCH2CH20CH3)21 [、(n−C,H,)
3Sn)20等を用いることができ、TI(F 、ベン
ゼン、トルエン、ジエチルエーテル、ジグライム、キシ
レン等の溶媒中で、還元剤を室温にて原料(VI)の当
モル量又は少過剰量加えることにより反応は容易に進行
する。このようにして得られた前記一般式(■′うで表
されるシクロシロキサンは、前記一般式(Vl)で表さ
れるシクロシロキサンに比べ熱及び酸、アルカリに対し
て安定性が向上し、精製が容易であるばかりでなく、後
に示す重合反応においても有用な原料となり得るもので
ある。
As a reducing agent, LiA/H4, BH3, NaBH4+
Nap(CT'J)H3+ LiBH41(CHs)
4 NBIFT4 + NaAlH4 + NaAIH2 (
OCH2CH20CH3)21 [, (n-C,H,)
3Sn) 20 etc. can be used, and a reducing agent is added in an equimolar amount or a slight excess amount of the raw material (VI) at room temperature in a solvent such as TI(F, benzene, toluene, diethyl ether, diglyme, xylene, etc.) The reaction proceeds easily.The cyclosiloxane represented by the general formula (■'U) thus obtained is more resistant to heat, acids, and alkalis than the cyclosiloxane represented by the general formula (Vl). On the other hand, it not only has improved stability and is easy to purify, but also can be a useful raw material in the polymerization reaction described later.

前記一般式(I“)中のペルフルオロアルキル基として
は、例えば、(−CF2±CF3.÷CF2fCFs 
The perfluoroalkyl group in the general formula (I") is, for example, (-CF2±CF3.÷CF2fCFs
.

+ CF2+rCF、l、 + CF−「CFa 、+
 CF−「CF3 +÷cgヤCF、 。
+ CF2+rCF,l, + CF-"CFa,+
CF-“CF3 +÷cgyaCF,.

−CI’CF、CF8.−CF2−C,F−CF部、 
−C1q−OF’−CFCF、。
-CI'CF, CF8. -CF2-C, F-CF part,
-C1q-OF'-CFCF.

C民CF3CF9C馬CF3 −CF2−CF−C1”−CFS、−C(C6入等を挙
げることができる。
C people CF3CF9C horses CF3 -CF2-CF-C1''-CFS, -C (C6 included, etc.) can be mentioned.

以下に、本発明の化合物からシロキサン共重合体に誘導
する方法について例示する。
Below, a method for deriving a siloxane copolymer from the compound of the present invention will be exemplified.

本発明の化合物を用いて、下式に示す2つの工程により
、下記一般式(IX)で表されるポリシロキサンを経て
優れた成膜性を有しかつ酸素ガスの選択透過性に優れた
膜素材となる前記一般式佃)で表される共重合体を合成
することができる。
Using the compound of the present invention, a polysiloxane represented by the following general formula (IX) is formed through the two steps shown in the following formula to form a film having excellent film-forming properties and excellent selective permselectivity for oxygen gas. A copolymer represented by the above-mentioned general formula (Tsukuda) can be synthesized as a raw material.

第一工程 本工程は前記一般式(I)で表されるシクロシロキサン
誘導体を触媒の存在下開環重合することにより、前記一
般式(TX)で表されるポリシロキサン誘導体を製造す
るものである。
First step This step is to produce a polysiloxane derivative represented by the general formula (TX) by subjecting the cyclosiloxane derivative represented by the general formula (I) to ring-opening polymerization in the presence of a catalyst. .

反応にあたっては触媒の使用が必須であり、前記一般式
(Dで表されるシクロシロキサンに対して約1/10〜
115重量部の触媒を加えアルゴン又は窒素等の不活性
気体雰囲気下で60°C〜150℃に通常10分〜2時
間加熱することにより容易に粘稠なポリシロキサンを合
成することができる。触媒としては、一般にシクロシロ
キサンの開環重合に用いられる触媒はすべて使用可能で
、例えば酸触媒としては濃硫酸。
The use of a catalyst is essential for the reaction, and the catalyst is approximately 1/10 to 1/10 of the cyclosiloxane represented by the general formula (D).
A viscous polysiloxane can be easily synthesized by adding 115 parts by weight of a catalyst and heating at 60 DEG C. to 150 DEG C. for usually 10 minutes to 2 hours under an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen. As a catalyst, any catalyst generally used for ring-opening polymerization of cyclosiloxane can be used; for example, as an acid catalyst, concentrated sulfuric acid can be used.

活性白土2強酸性イオン交換樹脂など、またアルカリ触
媒としては、NaOH、KOH! (Ch13 )4N
OHなどを用いることができる。
Activated clay 2 strongly acidic ion exchange resins, etc., and alkaline catalysts such as NaOH, KOH! (Ch13) 4N
OH etc. can be used.

第二工程 本工程は前記一般式(TX)で表されるポリシロキサン
誘導体をp−ビス(ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼ
ンと共に触媒存在下に脱水縮重合することにより、前記
一般式(TI)で表されるポリシルフェニレンシロキサ
ン/ポリシロキサン共重合体を製造するものである。原
料のp −ビス(ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼン
は市販されており入手容易な化合物である。
Second step This step involves dehydration condensation polymerization of the polysiloxane derivative represented by the general formula (TX) with p-bis(dimethylhydroxysilyl)benzene in the presence of a catalyst. This method produces a polysilphenylene siloxane/polysiloxane copolymer. The raw material p-bis(dimethylhydroxysilyl)benzene is a commercially available compound.

重合の際ポリシロキサンとp−ビス(ジメチルヒドロキ
シシリル)ベンゼンとの混合比を変化させることにより
任意の組成比(前記一般式(II)中、p/qの値)に
コントロールすることが可能であるが、この場合シルフ
ェニレン単位の重合度pが少なくとも20以上であるこ
とが製膜性の点で好ましい。
By changing the mixing ratio of polysiloxane and p-bis(dimethylhydroxysilyl)benzene during polymerization, it is possible to control the composition ratio (the value of p/q in the general formula (II) above) to any desired value. However, in this case, it is preferable that the degree of polymerization p of the silphenylene unit is at least 20 or more from the viewpoint of film formability.

反応にあたっては触媒の存在が必須であり、触媒として
例えば、テトラメチルグアニジンジ−2−エチルヘキソ
エート、n−ヘキシルアミン2−エチルヘキソエートな
どの酸塩基触媒(Hyde、 J、F、、 Fr、 P
at、 1,263,448参照)を用いることができ
、触媒量としては原料の1/100重量部以下の濃度で
充分である。
The presence of a catalyst is essential for the reaction, and examples of the catalyst include acid-base catalysts such as tetramethylguanidine di-2-ethylhexoate and n-hexylamine 2-ethylhexoate (Hyde, J.F., Fr, P
At, 1,263,448) can be used, and a catalyst amount of 1/100 part by weight or less of the raw material is sufficient.

反応は溶媒中で反応の進行と共に生成する水を共沸的に
除きながら行うことが好ましい。溶媒トしては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンナど水と混じり合わずかつ水と
共沸する有機溶媒であればいずれも使用可能である。反
応温度は溶媒の沸点還流温度に制御し、通常5時間ない
し12時間程度共沸的に脱水縮合することにより高重合
度の共重合体を得ることができる。
The reaction is preferably carried out in a solvent while azeotropically removing water produced as the reaction progresses. As the solvent, any organic solvent can be used as long as it is not miscible with water and has an azeotrope with water, such as benzene, toluene, and xylenna. A copolymer with a high degree of polymerization can be obtained by controlling the reaction temperature to the boiling point and reflux temperature of the solvent and carrying out azeotropic dehydration condensation for usually about 5 to 12 hours.

本工程で得られる共重合体の多くは、ベンゼン、トルエ
ン、THF、ジエチルエーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、四塩化炭素等の有機溶媒に可溶でアルコール類
又は水に対しては不溶性である。また、この共重合体を
上記の可溶性有機溶媒に溶解し、その溶液を例えばガラ
ス板あるいはテフロン板等の上に流延し溶媒を徐々に蒸
発させることにより厚み数μm〜数十μm程度の薄膜と
することができ、得られた膜は酸素ガスの選釈透過性に
優れていることが判明した。(参考例8参照) 以下に、実施例および参考例により本発明をさらに詳し
く説明する。ただし、本発明がこれらに限定されるもの
ではないことはもちろんである。
Most of the copolymers obtained in this step are soluble in organic solvents such as benzene, toluene, THF, diethyl ether, chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride, and insoluble in alcohols or water. In addition, by dissolving this copolymer in the above-mentioned soluble organic solvent and casting the solution onto, for example, a glass plate or a Teflon plate and gradually evaporating the solvent, a thin film with a thickness of several μm to several tens of μm can be produced. It was found that the obtained membrane had excellent permeability to oxygen gas. (See Reference Example 8) The present invention will be explained in more detail below using Examples and Reference Examples. However, it goes without saying that the present invention is not limited to these.

実施例1 ジメチルジクロロシラン30.8 、P (0,239
モル)ト、3,3.3−)リフルオロプロピルメチルジ
クロロシラン50.49 (0,239モル)とをエー
テル200m/に溶解し、この溶液をエーテル200m
1.純水400m1の混合溶液にアルゴンガス気流下で
室温にて6時間かげて滴下し共加水分解した。
Example 1 Dimethyldichlorosilane 30.8, P (0,239
Dissolve 50.49 (0,239 mol) of 3,3.3-)lifluoropropylmethyldichlorosilane in 200 ml of ether, and add this solution to 200 ml of ether.
1. The mixture was added dropwise to a mixed solution of 400 ml of pure water under an argon gas stream at room temperature for 6 hours for cohydrolysis.

滴下終了後、反応液よりエーテル層のみをとり出し、炭
酸水素ナトリウム水溶液および純水で中和。
After completion of the dropwise addition, take out only the ether layer from the reaction solution and neutralize it with an aqueous sodium bicarbonate solution and pure water.

洗浄した後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。After washing, it was dried using magnesium sulfate.

溶媒を除去した後減圧蒸留したところ、15ol)Tg
で70℃から120℃の沸点範囲で 得た。NMR測定の結果、このシクロシロキサンの平均
組成はml n = 60 / 40 (mole%)
であった。
After removing the solvent and distilling under reduced pressure, 15ol)Tg
It was obtained with a boiling point range of 70°C to 120°C. As a result of NMR measurement, the average composition of this cyclosiloxane is ml n = 60 / 40 (mole%)
Met.

実施例2 ジメチルジクロロシラン42.2.9 (0,327モ
ル)と、ヘプタフルオロイソプロポキシプロビルメチル
ジクロロシラン27.6 # (0,081モル)とを
エーテル200 mlに溶解し、この溶液をエーテル2
00m/、純水400m1の混合溶液中にアルゴンガス
気流下で室温にて約5時間かけて滴下し共加水分解した
。滴下終了後、反応液より油層部のみをとり出し、炭酸
水素ナトリウム水溶液および純水で中和、洗浄した後、
硫酸マグネシウムを用いて乾燥し減圧蒸留した。その結
果、13 mmHgで102℃から185℃の沸点範囲
で NMR測定の結果、このシクロシロキサンの平均組成は
m/n= 72/ 28 (mole%)であった。
Example 2 Dimethyldichlorosilane 42.2.9 # (0,327 mol) and heptafluoroisopropoxypropylmethyldichlorosilane 27.6 # (0,081 mol) were dissolved in 200 ml of ether, and this solution was dissolved. ether 2
The mixture was added dropwise to a mixed solution of 400 ml of pure water under an argon gas stream at room temperature for about 5 hours for cohydrolysis. After dropping, take out only the oil layer from the reaction solution, neutralize and wash with aqueous sodium bicarbonate solution and pure water,
It was dried using magnesium sulfate and distilled under reduced pressure. As a result, the average composition of this cyclosiloxane was m/n=72/28 (mole%) as a result of NMR measurement in the boiling point range of 102°C to 185°C at 13 mmHg.

参考例1(原料調製例) ジメチルジクロロシラン159.619 (1,24モ
ル)ト、メチルジクロロシラン55.311 (0,4
8モル)とをエーテル200m/に溶解し、この溶液を
エーテル200i+l、純水400m1の混合溶液中に
アルゴンガス気流下で室温にて約5時間かけて滴下し共
加水分解した。滴下終了後、反応液よりエーテル層のみ
をとり出し、炭酸水素ナトリウム水溶液および純水で中
和、洗浄した後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し減圧
蒸留した。その結果、65mHgで30℃から55℃の
沸点範囲で結果、このシクロシロキサンの平均組成はm
/n= 73/ 27 (mole%)であった。また
、GC−MS分析を行ったところ、このシクロシロキサ
ン混合物はm、nのそれぞれ異なる以下に示すような9
成分よりなるものであった。
Reference example 1 (raw material preparation example) Dimethyldichlorosilane 159.619 (1.24 mol), methyldichlorosilane 55.311 (0.4
(8 mol) was dissolved in 200 ml of ether, and this solution was added dropwise to a mixed solution of 200 i+l of ether and 400 ml of pure water at room temperature under an argon gas stream for about 5 hours for cohydrolysis. After completion of the dropwise addition, only the ether layer was taken out from the reaction solution, neutralized and washed with an aqueous sodium bicarbonate solution and pure water, dried over magnesium sulfate, and distilled under reduced pressure. As a result, the average composition of this cyclosiloxane is m
/n=73/27 (mole%). In addition, when GC-MS analysis was performed, this cyclosiloxane mixture was found to have the following 9 cyclosiloxane mixtures with different m and n.
It consisted of ingredients.

rn = 2 r n =1 (5,9wt%)+ f
n−3+ l’l−o。
rn = 2 r n = 1 (5,9wt%) + f
n-3+ l'l-o.

(4,Owt%)、 m=n=2 (14,9wt%)
(4, Owt%), m=n=2 (14,9wt%)
.

m = 3. n = 1 (3B、 9 wt%)、
m=4.n=0(25,8wt%)+ m=2. n=
5 (2,6wt%)。
m = 3. n = 1 (3B, 9 wt%),
m=4. n=0(25.8wt%)+m=2. n=
5 (2.6wt%).

m= 5. n=2 (4,4wt%)、m=4.n=
1(2,9wt%L m=5.n=o (0,6wt%
)。
m=5. n=2 (4.4wt%), m=4. n=
1 (2,9wt%L m=5.n=o (0,6wt%
).

実施例3 参考例1で得られたシクロシロキサン12.5.9とペ
ンタフルオロスチレン1 t 2.9とをトルエン40
m1に溶解し、塩化白金酸エタノール溶液(0,193
mole/l) 201tlを加え、アルゴンガス気流
下にて80℃に加熱し、19時間かくはんした。この溶
液をIR測測定たところ、原料シクロシロキサンの5l
−H結合に基づく吸収ピーク(2175crIL )は
完全に消失していた。反応溶液を純水にて洗浄、乾燥後
、溶媒を除去し減圧蒸留した。その結果、1−5 mH
gで115℃から111°Cの沸点範囲で なる構造を有するシ の平均組成はm / n = 73 / 27 (mo
le%)であった。また、GC−MS分析の結果、この
シクロシロキサン混合物は、主にm= 3. n = 
1 (15,7wt%)、 m=n=2 (80,8w
t%)、m=4゜n= 1 (3,5wt%)の3成分
よりなるものであった。
Example 3 12.5.9 cyclosiloxane obtained in Reference Example 1 and 1 t 2.9 of pentafluorostyrene were mixed in 40 toluene.
ml of chloroplatinic acid ethanol solution (0,193
mole/l) 201 tl was added thereto, heated to 80°C under an argon gas stream, and stirred for 19 hours. When this solution was measured by IR measurement, it was found that 5 liters of the raw material cyclosiloxane
The absorption peak (2175crIL) based on the -H bond had completely disappeared. After washing the reaction solution with pure water and drying, the solvent was removed and distilled under reduced pressure. As a result, 1-5 mH
The average composition of C with a structure with a boiling point range of 115 °C to 111 °C in g is m / n = 73 / 27 (mo
le%). Moreover, as a result of GC-MS analysis, this cyclosiloxane mixture mainly had m=3. n=
1 (15.7wt%), m=n=2 (80.8w
t%), m=4°n=1 (3.5wt%).

実施例4 参考例1で得られたシクロシロキサン7、0 gトペン
タフルオロフェニル−3−ブテニルエーテル8.1gを
トルエン30m1に溶解し、塩化白金酸エタノール溶液
(0,193mole/J ) 20 Allを加え、
アルゴンガス気流下にて80℃に加熱し、18時間かく
はんした。この溶液をIR測測定たところ、原料シクロ
シロキサンの5l−H結合に基づく吸収ピーク(217
5m)は完全に消失していた。
Example 4 7.0 g of cyclosiloxane obtained in Reference Example 1 and 8.1 g of topentafluorophenyl-3-butenyl ether were dissolved in 30 ml of toluene, and a solution of chloroplatinic acid in ethanol (0,193 mole/J) 20 All Add
The mixture was heated to 80° C. under an argon gas stream and stirred for 18 hours. When this solution was measured by IR measurement, an absorption peak (217
5m) had completely disappeared.

反応溶液を純水にて洗浄、乾燥後、溶媒を完全にgを得
た。NMR測定の結果、平均組成はm / n= 68
/ 32 (mole%)であり、GCMS分析による
とこのシクロシロキサン混合物は主にm−3゜n = 
1 (90,5wt%) + m = n = 2 (
9,7wt%)の2成分よりなるものであった。
After washing the reaction solution with pure water and drying, g of the solvent was completely removed. As a result of NMR measurement, the average composition is m / n = 68
/ 32 (mole%), and according to GCMS analysis, this cyclosiloxane mixture is mainly m-3゜n =
1 (90.5wt%) + m = n = 2 (
It consisted of two components: 9.7 wt%).

実施例5 参考例1で得られたシクロシロキサン5.0 g トn
−ペルフルオロブチルエチレン4011をトルエン20
I+Ilに溶解し塩化白金酸エタノール溶液(0,19
3moIe/l ) 20μmを加え、アルゴンガス気
流下にて80℃に加熱し、6時間かくはんした。この溶
液をIR測測定たところ、原料シクロシロキサンの5t
−H結合に基づく吸収ピーク(2175cm )はほと
んど消失していた。反応溶液を純水にて洗浄、乾燥後、
溶媒を除去して減圧蒸留を行ったところ、1. Ox*
Hgで38℃からなる構造を有するシクロシロキサン混
合物!1.9Flを得た。NMR測定の結果、その平均
組成はm/n=76/24(mole%)であった。
Example 5 Cyclosiloxane obtained in Reference Example 1 5.0 g ton
-Perfluorobutylethylene 4011 to toluene 20
Dissolved in chloroplatinic acid ethanol solution (0,19
3 moIe/l) 20 μm was added, heated to 80° C. under an argon gas stream, and stirred for 6 hours. When this solution was measured by IR measurement, it was found that 5t of the raw material cyclosiloxane
The absorption peak (2175 cm) based on the -H bond had almost disappeared. After washing the reaction solution with pure water and drying,
When the solvent was removed and vacuum distillation was performed, 1. Ox*
A cyclosiloxane mixture with a structure consisting of 38°C in Hg! 1.9 Fl was obtained. As a result of NMR measurement, the average composition was m/n=76/24 (mole%).

実施例6 参考例1で得られたシクロシロキサン042gト、I 
H,I H,11H−アイコサフルオロウンデシルアク
リレート′57gをトルエンBmlに溶解し、塩化白金
酸エタノール溶液(0,193mole/l)2μjを
加え、アルゴンガス気流下にて80℃に加熱し、6時間
かくはんした。この溶液をIR測測定たところ、原料シ
クロシロキサンのS i −H結合に基づく吸収ピーク
(2175crrL )は完全に消失していた。反応溶
液を純水にて洗浄、乾燥後、溶媒を完全に除去して、 す なる構造を有するシクロシロキサン混合物3.5gを得
た。NMRによるとその平均組成はm / n −77
/ 23 (mole%)であった。
Example 6 042 g of cyclosiloxane obtained in Reference Example 1
Dissolve 57 g of H,I H,11H-icosafluoroundecyl acrylate in Bml of toluene, add 2 μj of chloroplatinic acid ethanol solution (0,193 mole/l), and heat to 80°C under an argon gas stream. It was stirred for 6 hours. When this solution was subjected to IR measurement, the absorption peak (2175crrL) based on the Si-H bond of the raw material cyclosiloxane had completely disappeared. After washing the reaction solution with pure water and drying, the solvent was completely removed to obtain 3.5 g of a cyclosiloxane mixture having the following structure. According to NMR, its average composition is m/n −77
/23 (mole%).

参考例2(原料調製例) ジメチルジクロロシラン49.7 f9 (0,385
モル)と、メチルビニルジクロロシラン27.2 #(
0,191モル)とをエーテル150−に溶解し、この
溶液をエーテル100m7!、純水150WLlの混合
溶液中にアルゴンガス気流下で室温にて約7時間かけて
滴下し共加水分解した。滴下終了後、反応液よりエーテ
ル層のみをとり出し、炭酸水素ナトリウム水溶液および
純水で中和、洗浄した後、硫酸マグネシウムを用いて乾
燥し減圧蒸留した。
Reference example 2 (raw material preparation example) Dimethyldichlorosilane 49.7 f9 (0,385
mol) and methylvinyldichlorosilane 27.2 #(
0,191 mol) in 150 m of ether, and this solution was dissolved in 100 m7 of ether! The mixture was added dropwise to a mixed solution of 150 WL of pure water at room temperature under an argon gas stream over a period of about 7 hours for cohydrolysis. After completion of the dropwise addition, only the ether layer was taken out from the reaction solution, neutralized and washed with an aqueous sodium bicarbonate solution and pure water, dried over magnesium sulfate, and distilled under reduced pressure.

その結果、Q、86Hgで66℃から50℃の沸点範囲
で よると、このシクロシロキサンの平均組成はm/n= 
76/ 24 (mole%)であった。また、GC−
MS分析を行ったところ、このシクロシロキサン混合物
はm、nのそれぞれ異なる以下に示すよりな5成分より
なるものであった。
As a result, the average composition of this cyclosiloxane is m/n=
It was 76/24 (mole%). Also, GC-
MS analysis revealed that this cyclosiloxane mixture consisted of the following five components with different m and n values.

m=3. n=o (1,6wt%)、m=4.n=0
(35,9wt%)、 m=3+ n=1 (4B、3
wt%)+m=n=2 (12,6wt%)1m−1,
n=3(1,6wt%)。
m=3. n=o (1.6 wt%), m=4. n=0
(35,9wt%), m=3+n=1 (4B,3
wt%)+m=n=2 (12,6wt%)1m-1,
n=3 (1.6 wt%).

実施例7 参考例2で得られたシクロシロキサン31gと、ペンタ
フルオロフェニルジメチルシラン5.9 gトをトルエ
ン10m/に溶解し、塩化白金酸エタノール溶液(0,
193mole/J ) 7μlを加え、アルゴンガス
気流下にて80℃に加熱し、24時間かくはんした。こ
の溶液なNMR測定したところ、原料シクロシロキザン
のビニル基に基づくプロトンピーク(5,58ppm 
)はほとんど消失していた。
Example 7 31 g of cyclosiloxane obtained in Reference Example 2 and 5.9 g of pentafluorophenyldimethylsilane were dissolved in 10 m/ml of toluene, and a solution of chloroplatinic acid ethanol (0,
193 mole/J) 7 μl was added, heated to 80° C. under an argon gas stream, and stirred for 24 hours. NMR measurement of this solution revealed a proton peak (5.58 ppm) based on the vinyl group of the raw material cyclosiloxane.
) had almost disappeared.

反応溶液を純水にて洗浄、乾燥後、溶媒を完全に−72
/ 28 (mole%)であり、GC−MS分析によ
るとこのシクロシロキサン混合物は、主にm−3! n
−1(66,3wt%)、m=n=2(17,3wt%
)、 m=4. n= 1 (5,7wt%)の3成分
よりなるものであった。
After washing the reaction solution with pure water and drying, completely remove the solvent at -72
/28 (mole%), and according to GC-MS analysis, this cyclosiloxane mixture is mainly m-3! n
-1 (66,3 wt%), m=n=2 (17,3 wt%
), m=4. It consisted of three components with n=1 (5.7 wt%).

実施例8 参考例2で得られたシクロシロキサン5.0 gおよび
ペルフルオロオクチルヨーシト15.0I9をクロロホ
ルム25m1に溶解し、RL+、(Co)、□0.02
 # 1エタノールアミン0.5−を加えアルゴン気流
下にて2時間還流した。反応溶液を水洗、乾燥後、溶な
る構造を有するシクロシロキサン17.89を得た。N
MR測定の結果、その平均組成はm / n =59 
/ 41 (mole%)であった。
Example 8 5.0 g of cyclosiloxane obtained in Reference Example 2 and 15.0 I9 of perfluorooctyl iosite were dissolved in 25 ml of chloroform, and RL+, (Co), □0.02
#1 0.5-liter of ethanolamine was added and the mixture was refluxed for 2 hours under an argon stream. After washing the reaction solution with water and drying, cyclosiloxane 17.89 having a soluble structure was obtained. N
As a result of MR measurement, the average composition is m / n = 59
/41 (mole%).

次ニ、上記のシクロシロキサン178gをTHF50m
/に溶解し、アルゴン気流下激しくかくはんしながら水
素化リチウムアルミニウム2.1gを除徐に添加し、添
加終了後室温にてさらに1時間かくはんした。エタノー
ル2mlを加え反応を停止させた後、反応溶液を塩酸水
溶液、炭酸水素す) IJラム溶液および純水で順次洗
浄し、乾燥後溶媒を除去して減圧蒸留した。その結果0
.35 +amHgで、103℃から105°Cの沸点
範囲で、なる構造を有するシクロシロキサン混合物5.
7gを得た。NMR測定によるとその平均組成はm/n
= 70 / 50 (mole%)で、GC−MS分
析によるとそのシクロシロキサン混合物は主にm−6゜
n=1(91,3wt%) + m=n=2 (4,7
wt%)。
Next, add 178g of the above cyclosiloxane to 50ml of THF.
2.1 g of lithium aluminum hydride was gradually added to the solution under vigorous stirring under an argon stream, and after the addition was completed, the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. After terminating the reaction by adding 2 ml of ethanol, the reaction solution was sequentially washed with an aqueous hydrochloric acid solution, a hydrogen carbonate solution, an IJ ram solution, and pure water, dried, and then the solvent was removed and distilled under reduced pressure. The result is 0
.. 5. A cyclosiloxane mixture having the structure: 5.
7g was obtained. According to NMR measurement, its average composition is m/n
= 70/50 (mole%), and according to GC-MS analysis, the cyclosiloxane mixture is mainly m-6゜n=1 (91.3wt%) + m=n=2 (4,7
wt%).

m = 4 、n = 1 (4,Owt%)よりなる
ものであった。
It consisted of m = 4, n = 1 (4, Owt%).

参考例3(使用例) 実施例1で得られたシクロシロキサン混合物6.9gに
テトラメチルアンモニウムヒドロキシドのメタノール溶
液(10wt%)を0.5 ml加え、アルゴンガス気
流下にて110℃で20分間加熱し開環重合を行い、1
0%塩酸THF溶液20dを加えて反応を停止させるこ
とにより粘稠なオイルが得られた。これを、エーテルで
抽出し、水洗。
Reference Example 3 (Usage Example) 0.5 ml of a methanol solution (10 wt%) of tetramethylammonium hydroxide was added to 6.9 g of the cyclosiloxane mixture obtained in Example 1, and the mixture was heated at 110°C for 20 minutes under an argon gas stream. Heat for 1 minute to perform ring-opening polymerization, and
A viscous oil was obtained by adding 20 d of 0% hydrochloric acid solution in THF to stop the reaction. Extract this with ether and wash with water.

乾燥後、さらに0.5 *iHgの減圧下で200°C
にて5時間加熱し未反応のシクロシロキサンを除去すな
る構造を有するポリシロキサン4.8gが得られた。N
MR測定によると、その平均組成はm / n−60/
 40 (mole%)であった。
After drying, further heat at 200°C under reduced pressure of 0.5*iHg.
4.8 g of polysiloxane having a structure that removed unreacted cyclosiloxane by heating for 5 hours was obtained. N
According to MR measurements, its average composition is m/n-60/
40 (mole%).

こうして得られたポリシロキサン183gとp−ビス(
ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼン1、29 gをベ
ンゼン20m/と共に混合し、触媒としてテトラメチル
グアニジンジー2−エチルヘキソエートを0.1g加え
反応液から共沸的に系外へ生成水を取り除くことにより
脱水重縮合を行った。
183g of the polysiloxane thus obtained and p-bis(
By mixing 1.29 g of dimethylhydroxysilyl)benzene with 20 m/20 m of benzene, adding 0.1 g of tetramethylguanidine di-2-ethylhexoate as a catalyst, and azeotropically removing the produced water from the reaction solution. Dehydration polycondensation was performed.

19時間重合させた後、反応液をエタノール400m1
に再沈殿すると白色固体が得られ、これをろ別して乾燥
させたところ、 なる構造を有する共重合体2.01gが得られた。
After polymerizing for 19 hours, the reaction solution was diluted with 400ml of ethanol.
When reprecipitated, a white solid was obtained, which was filtered and dried to obtain 2.01 g of a copolymer having the following structure.

NMR測定の結果、共重合体の組成はp/mq/nq−
25/ 45 / 30 (mole%)であった。ま
た、GPC測定によると、共重合体の重量平均分子量は
15.lX10.数平均分子量は7.80X10 で分
散度は1.93であった。
As a result of NMR measurement, the composition of the copolymer is p/mq/nq-
It was 25/45/30 (mole%). Also, according to GPC measurement, the weight average molecular weight of the copolymer was 15. lX10. The number average molecular weight was 7.80×10 and the degree of dispersion was 1.93.

参考例4(使用例) 参考例3と同様な方法で、実施例2にて得られたシクロ
シロキサン混合物861gを開環重合し、なる構造を有
するポリシロキサン6、85.9が得られた。NMR測
定によると、ポリシロキサンの平均組成はm / n 
= 66 / 34 (mole%)であった。
Reference Example 4 (Usage Example) In the same manner as in Reference Example 3, 861 g of the cyclosiloxane mixture obtained in Example 2 was subjected to ring-opening polymerization to obtain polysiloxane 6, 85.9 having the following structure. According to NMR measurements, the average composition of polysiloxane is m/n
= 66/34 (mole%).

こうして得られたポリシロキサン103gとp−ビス(
ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼン0、53 #をベ
ンゼン10PA/と共に混合し、参考例3と同様な方法
で、脱水重縮合および精製を行ったところ なる構造を有する共重合体1、oOgが得られた。
103g of the polysiloxane thus obtained and p-bis(
Copolymer 1, oOg having the structure was obtained by mixing 0.53 # of dimethylhydroxysilyl)benzene with 10 PA/ of benzene and performing dehydration polycondensation and purification in the same manner as in Reference Example 3.

NMR測定の結果、共重合体の組成はp/mq/nq=
 25 / 50 / 25 (mole%)であった
。また、GPC測定の結果、共重合体の重量平均分子量
は10.2X10.数平均分子量は4.72X10 で
分散度は2.16であった。
As a result of NMR measurement, the composition of the copolymer is p/mq/nq=
It was 25/50/25 (mole%). Furthermore, as a result of GPC measurement, the weight average molecular weight of the copolymer was 10.2×10. The number average molecular weight was 4.72×10 and the dispersity was 2.16.

参考例5(使用例) 実施例3で得られたシクロシロキサン混合物t 74 
gに、活性白土を0.5g加え、アルゴンガス気流下に
て120℃で1時間加熱かくはんしたところ粘調なオイ
ルが得られた。このオイルをエーテル50m1に溶解し
ろ過後、エーテルを除去してさらに0.5wHgの減圧
下で200℃にて2時間加熱し未反応のシクロシロキサ
ンを除去すると、なる構造を有するポリシロキサン1.
31.9が得られた。NMR測定によると、その平均組
成はm/n = 66 / 34 (mole%)であ
った。
Reference Example 5 (Usage Example) Cyclosiloxane mixture t74 obtained in Example 3
0.5 g of activated clay was added to the mixture, and the mixture was heated and stirred at 120° C. for 1 hour under an argon gas stream to obtain a viscous oil. This oil was dissolved in 50 ml of ether, filtered, the ether was removed, and the unreacted cyclosiloxane was removed by heating at 200° C. for 2 hours under a reduced pressure of 0.5 wHg, resulting in a polysiloxane with the following structure: 1.
31.9 was obtained. According to NMR measurement, the average composition was m/n = 66/34 (mole%).

こうして得られたポリシロキサン1.16.9と、p−
ビス(ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼン1、29 
gをベンゼン10m/と共に混合し、参考例3と同様な
方法で脱水重縮合および精製を行ったところ なる構造を有する共重合体1.57 gが得られた。
The polysiloxane 1.16.9 thus obtained and p-
Bis(dimethylhydroxysilyl)benzene 1, 29
g was mixed with 10 m/m of benzene and subjected to dehydration polycondensation and purification in the same manner as in Reference Example 3 to obtain 1.57 g of a copolymer having the following structure.

NMR測定の結果、共重合体の組成はp/mq/nq=
50/2B/22(mole%)で、またGPC測定の
結果、共重合体の重量平均分子量は21.5 X104
、数平均分子量は7.06X10’で分散度は302で
あった。
As a result of NMR measurement, the composition of the copolymer is p/mq/nq=
50/2B/22 (mole%), and as a result of GPC measurement, the weight average molecular weight of the copolymer was 21.5 x 104
The number average molecular weight was 7.06×10' and the dispersity was 302.

参考例6(使用例) 実施例4で得られたシクロシロキサン混合物315gに
活性白土を1.0g加え、アルゴンガス気流下にて12
0℃で3時間加熱かくはんしたところ粘調なオイルが得
られた。このオイルをエーテル50m/に溶解しろ過後
、エーテルを除去してさらに0.5 mmHgの減圧下
で200°Cにて2時間加熱し未反応のシクロシロキサ
ンを除去すると、なる構造を有するポリシロキサンi、
 66 gが得られた。NMR測定によると、その平均
組成はm/n = 58 / 42 (mole%)で
あッ六二。
Reference Example 6 (Usage Example) 1.0 g of activated clay was added to 315 g of the cyclosiloxane mixture obtained in Example 4, and the mixture was heated for 12 hours under an argon gas stream.
When heated and stirred at 0°C for 3 hours, a viscous oil was obtained. This oil was dissolved in 50ml of ether, filtered, the ether was removed, and the unreacted cyclosiloxane was removed by heating at 200°C for 2 hours under a reduced pressure of 0.5 mmHg. ,
66 g was obtained. According to NMR measurement, its average composition is m/n = 58/42 (mole%).

こうして得られたポリシロキサン1.661! トルー
ビス(ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼン1、35 
gをベンゼン20m1と共に混合し、参考例3と同様な
方法で脱水重縮合および精製を行ったところ なる構造を有する共重合体150gが得られた。
The polysiloxane thus obtained was 1.661! Trubis(dimethylhydroxysilyl)benzene 1,35
g was mixed with 20 ml of benzene and subjected to dehydration polycondensation and purification in the same manner as in Reference Example 3 to obtain 150 g of a copolymer having the following structure.

N M R測定の結果、共重合体の組成はp/mq/n
q= 40 / 35 / 25 (mole%)で、
またGPC測定の結果、共重合体の重量平均分子量は1
3.5X10゜数平均分子量は4.46X10 で分散
度は3.03であった。
As a result of NMR measurement, the composition of the copolymer is p/mq/n
q=40/35/25 (mole%),
Furthermore, as a result of GPC measurement, the weight average molecular weight of the copolymer was 1
The number average molecular weight was 4.46×10 and the dispersity was 3.03.

遣AtJ(使用例) 実施例日で得られたシクロシロキサン混合物1.41に
活性白土0.5gを加え、アルゴンガス気流下にて12
0℃で4時間加熱かくはんしたところ粘稠なオイルが得
られた。このオイルをエーテル504に溶解しろ過後、
エーテルを除去してさらに3.5 m+iHgの減圧下
で200℃にて2時間加熱し未反応のシクロシロキサン
を除去すると、なる構造を有するポリシロキサン0.8
7 gが得られた。NMR測定によると、その平均組成
はm/n = 73/ 27 (mole%)であった
AtJ (example of use) 0.5 g of activated clay was added to 1.41 g of the cyclosiloxane mixture obtained on the day of the example, and the mixture was heated for 12 g under an argon gas stream.
After heating and stirring at 0°C for 4 hours, a viscous oil was obtained. After dissolving this oil in ether 504 and filtering it,
When the ether was removed and unreacted cyclosiloxane was removed by heating at 200°C for 2 hours under a reduced pressure of 3.5 m+iHg, a polysiloxane with the following structure was obtained: 0.8
7 g was obtained. According to NMR measurement, the average composition was m/n = 73/27 (mole%).

こうして得られたポリシロキサン0.87.9’とp−
ビス(ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼン0、62 
gをベンゼン6dと共に混合し、参考例3と同様な方法
で脱水重縮合および精製を行ったところ なる構造を有する共重合体112gが得られた。
The thus obtained polysiloxane 0.87.9' and p-
Bis(dimethylhydroxysilyl)benzene 0,62
g was mixed with benzene 6d and subjected to dehydration polycondensation and purification in the same manner as in Reference Example 3 to obtain 112 g of a copolymer having the following structure.

NMR測定の結果、共重合体の組成はp/mq/nq=
39/47/14(mole%)で、またGPC測定の
結果、共重合体の重量平均分子量は15.2X1D4.
数平均分子量はB、0OX10’で分散度は1.90で
あった。
As a result of NMR measurement, the composition of the copolymer is p/mq/nq=
39/47/14 (mole%), and as a result of GPC measurement, the weight average molecular weight of the copolymer was 15.2X1D4.
The number average molecular weight was B, 0OX10', and the dispersity was 1.90.

参考例日 参考例3〜7で得られた共重合体をベンゼンに溶解し、
5重量%の溶液とした。これらの溶液をテフロン板上に
流延し、溶媒の蒸発、乾燥を経て、厚さ6〜160μm
のキャスト膜を得た。これらの膜はいずれも強じんな膜
であった。この膜を低真空性透過試験装置に装着し、酸
素ガスと窒素ガスの透過速度を測定した。ガスおよび膜
装置の温度は25℃で行った。
Reference Example Day The copolymers obtained in Reference Examples 3 to 7 were dissolved in benzene,
A 5% by weight solution was prepared. These solutions were cast onto a Teflon plate, and after the solvent was evaporated and dried, a thickness of 6 to 160 μm was formed.
A cast film was obtained. All of these films were strong films. This membrane was attached to a low-vacuum permeation test device, and the permeation rates of oxygen gas and nitrogen gas were measured. The temperature of the gas and membrane equipment was 25°C.

各気体の透過係数の測定結果を表−1に示す。Table 1 shows the measurement results of the permeability coefficients of each gas.

第1表Table 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 (式中、Xは炭素数1〜12のペルフルオロアルキル基
又はペルフルオロアルコキシ基、ペンタフルオロフェニ
ル基、ペンタフルオロフェノキシ基。 置換フェニルジメチルシリル基、ジメチル(含フツ素基
置換アルキル)シリル基、ポリフルオロアルキルメチル
オキシカルボニル基であ’)、lは2〜4.m、nは正
の整数を表し、m + n = 3〜6゜n / mは
02〜50である。)で表されるシクロシロキサン誘導
体。
[Scope of Claims] General formula (wherein, Substituted alkyl)silyl group, polyfluoroalkylmethyloxycarbonyl group'), l is 2-4. m and n represent positive integers, and m + n = 3~6°n/m is 02~50. ) A cyclosiloxane derivative represented by
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