JPS60150047A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents
ポジ型感光性組成物Info
- Publication number
- JPS60150047A JPS60150047A JP604984A JP604984A JPS60150047A JP S60150047 A JPS60150047 A JP S60150047A JP 604984 A JP604984 A JP 604984A JP 604984 A JP604984 A JP 604984A JP S60150047 A JPS60150047 A JP S60150047A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive composition
- compd
- quinonediazide
- sensitivity
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は平版印刷版、多色印刷の校正印刷、IC回路や
ホトマスクの製造に適するポジ型感光性組成物に関する
ものであり、特に0−キノンジアジド化合物を含有して
なる感光性組成物に、特定の化合物を添加して高感度化
したポジ型感光性組成物に関するものである。さらに詳
しくは、現像許容性に影響を及ぼすことなく、感度を高
めることができるポジ型感光性組成物に関する。
ホトマスクの製造に適するポジ型感光性組成物に関する
ものであり、特に0−キノンジアジド化合物を含有して
なる感光性組成物に、特定の化合物を添加して高感度化
したポジ型感光性組成物に関するものである。さらに詳
しくは、現像許容性に影響を及ぼすことなく、感度を高
めることができるポジ型感光性組成物に関する。
0−キノンジアジド化合物を含有してなる感光性組成物
は、非常に優れたポジ型感光性組成物として平版印刷版
の製造やホトレジストとして工業的に用いられてきた。
は、非常に優れたポジ型感光性組成物として平版印刷版
の製造やホトレジストとして工業的に用いられてきた。
従来、この0−キノンジアジド系のポジ型感光性組成物
の感光性を高める方法について種々の提案がなされてき
たが、満足すべきものは得られていない。例えば0−キ
ノンジアジド化合物の量を少なくすると、当然感度は上
昇するが、それに伴って現像時において現像許容性(最
適現像結果が得られるに許容される時間巾。
の感光性を高める方法について種々の提案がなされてき
たが、満足すべきものは得られていない。例えば0−キ
ノンジアジド化合物の量を少なくすると、当然感度は上
昇するが、それに伴って現像時において現像許容性(最
適現像結果が得られるに許容される時間巾。
以下、同じ。)が狭くなり、実用的でなくなるという欠
点があった。また、O−キノンジアジド化合物に、アル
カリ水溶液溶解性の大きいバインダー樹脂を組み合せた
系は、やはり見かけの感度は上昇するが、前記の場合と
同じく、現像許容性が狭くなるという欠点を有していた
。
点があった。また、O−キノンジアジド化合物に、アル
カリ水溶液溶解性の大きいバインダー樹脂を組み合せた
系は、やはり見かけの感度は上昇するが、前記の場合と
同じく、現像許容性が狭くなるという欠点を有していた
。
また、O−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物に
非感光性の化合物(増感剤)f!r:添加して、g度を
上昇させる技術が提案されているが、いずれも充分な効
果?得ておらず、捷た種々の欠点を有しているのが現状
である。例えば、米国特許第J 、JA/ 、タ♂コ号
明細書に記載されているように、一定の複素環式化合物
、例えばJ−アザシクロノナンーコーオン、インドール
、キナゾリン及びテトラゾールの添加によって感度?上
昇させろことができるが、この場合も上記した場合と同
様に極度に狭い現像許容性を有するにすぎなかつた。
非感光性の化合物(増感剤)f!r:添加して、g度を
上昇させる技術が提案されているが、いずれも充分な効
果?得ておらず、捷た種々の欠点を有しているのが現状
である。例えば、米国特許第J 、JA/ 、タ♂コ号
明細書に記載されているように、一定の複素環式化合物
、例えばJ−アザシクロノナンーコーオン、インドール
、キナゾリン及びテトラゾールの添加によって感度?上
昇させろことができるが、この場合も上記した場合と同
様に極度に狭い現像許容性を有するにすぎなかつた。
更に特公昭16−≠コμ弘2号公報には、写真感光度?
上昇させるための種々の添加剤、例えばトリフェニルメ
タン染料、ベンズアルデヒド−m−トリルヒト2シン、
ハロゲン化炭化水素及びアゾ染料が記載されているが、
これらの化合物は高感度化について顕著な効果を有して
いない。また、同じ目的で〇−安息香酸スルフイミド、
ヒダントイン及びその誘導体、チオヒダントイン及びそ
の誘導体の添加が提案されている(特開昭タ0−362
03号公報参照)。さらに、同じ目的で環式酸無水物の
添加剤が提案されている(特開昭5.2−zoo、22
号公報参照)。しかし、これらの場合にも、感度の上昇
が認められる程変の添加量においては、現像時における
現像許容性が狭くなるという欠点があった。さらにポリ
ヒドロキシベンゾフェノンを含有する感光性複写材料に
ついても提案されている(特開昭タコ−タ≠り03号公
報参照。)が、該化合物は支持体への接着性を改良する
ために添加されており、これと関連して、感度を高めて
いる技術であって、高感度化についての顕著な効果は期
待できない。また、感度上昇?目的としてヒドロキシベ
ンゾフェノンとホルムアルデヒドとの縮合生成物の添加
が提案されている(特開昭タター730弘夕号公報参照
)が、この場合は、前記1時開昭タコータ弘り03号公
報中の化合物の場合と同様に、明らかな感度の上昇が認
められるにはかなりの添加量が必要であり、現1家許容
性と耐薬品性の低下は免れることができなかった。さら
に特開昭タフ−111237号公報および特開昭タフ−
1112311号公報にはそれぞれ下記一般式[A)お
よび〔B〕で示される化合物を添加することが記載され
ているが、これらの場合においても明らかな感度上昇が
認められる場合には、現像許容性が極端に低下してしま
うという欠点が伴った。
上昇させるための種々の添加剤、例えばトリフェニルメ
タン染料、ベンズアルデヒド−m−トリルヒト2シン、
ハロゲン化炭化水素及びアゾ染料が記載されているが、
これらの化合物は高感度化について顕著な効果を有して
いない。また、同じ目的で〇−安息香酸スルフイミド、
ヒダントイン及びその誘導体、チオヒダントイン及びそ
の誘導体の添加が提案されている(特開昭タ0−362
03号公報参照)。さらに、同じ目的で環式酸無水物の
添加剤が提案されている(特開昭5.2−zoo、22
号公報参照)。しかし、これらの場合にも、感度の上昇
が認められる程変の添加量においては、現像時における
現像許容性が狭くなるという欠点があった。さらにポリ
ヒドロキシベンゾフェノンを含有する感光性複写材料に
ついても提案されている(特開昭タコ−タ≠り03号公
報参照。)が、該化合物は支持体への接着性を改良する
ために添加されており、これと関連して、感度を高めて
いる技術であって、高感度化についての顕著な効果は期
待できない。また、感度上昇?目的としてヒドロキシベ
ンゾフェノンとホルムアルデヒドとの縮合生成物の添加
が提案されている(特開昭タター730弘夕号公報参照
)が、この場合は、前記1時開昭タコータ弘り03号公
報中の化合物の場合と同様に、明らかな感度の上昇が認
められるにはかなりの添加量が必要であり、現1家許容
性と耐薬品性の低下は免れることができなかった。さら
に特開昭タフ−111237号公報および特開昭タフ−
1112311号公報にはそれぞれ下記一般式[A)お
よび〔B〕で示される化合物を添加することが記載され
ているが、これらの場合においても明らかな感度上昇が
認められる場合には、現像許容性が極端に低下してしま
うという欠点が伴った。
ooa
一般式CB)
(上記一般式(A)中、Rは水素原子、アルキル基、ア
ラルキル革、アリール基、着換アリール基、フクロアル
キル基またはアルカリ金属、一般式[13)中、ax、
R2,Raはそれぞれ水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アリール基、置換アリール基、アシル基、ノ・ロ
ゲノ基、ニトロ基または水酸基を示す。) 〔発明の目的〕 本発明の目的は、特定の添加物を含有させることにより
現像許容性等信の重要な性質に不利な影響を与えること
なしに、感度を向上させることができるポジ型感光性組
成物を提供することにある。
ラルキル革、アリール基、着換アリール基、フクロアル
キル基またはアルカリ金属、一般式[13)中、ax、
R2,Raはそれぞれ水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アリール基、置換アリール基、アシル基、ノ・ロ
ゲノ基、ニトロ基または水酸基を示す。) 〔発明の目的〕 本発明の目的は、特定の添加物を含有させることにより
現像許容性等信の重要な性質に不利な影響を与えること
なしに、感度を向上させることができるポジ型感光性組
成物を提供することにある。
本発明者tdo−キノンジアジド化合物?含むポジ型感
光性組成物に下記一般式(1)で示される化合物?含有
させることにより、上記目的が達成されること?見い出
した。
光性組成物に下記一般式(1)で示される化合物?含有
させることにより、上記目的が達成されること?見い出
した。
一般式CI)
(式中、R1およびR2は各々水素原子又は炭素数l〜
3のアルキル基を表わし、R3,R4゜R5,R16,
R,7およびR8は各々水素原子、水酸基、炭素数/〜
♂のアルキル基、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子な
ど)、炭素数l〜3のアルコキシ基、ニトロ基2表わす
。) これらの化合物の中でもビスフェノールAが性能および
原材料供給の面から最も好ましい。
3のアルキル基を表わし、R3,R4゜R5,R16,
R,7およびR8は各々水素原子、水酸基、炭素数/〜
♂のアルキル基、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子な
ど)、炭素数l〜3のアルコキシ基、ニトロ基2表わす
。) これらの化合物の中でもビスフェノールAが性能および
原材料供給の面から最も好ましい。
所で、ビスフェノールAt−を合成上の中間反応物、た
とえば、ビスフェノールAとナフトキノン−7゜コージ
アジドータースルホニルクロライドとのエステル化合物
およびビスフェノール型のバインダー(ビスフェノール
Aと他の化合物より合成され、。
とえば、ビスフェノールAとナフトキノン−7゜コージ
アジドータースルホニルクロライドとのエステル化合物
およびビスフェノール型のバインダー(ビスフェノール
Aと他の化合物より合成され、。
るバインダー)等の原料としての利用はあったが、これ
らは感度馨向上させる目的のものではなかった。またビ
スフェノール人から反応合成された誘導化合物でになく
、ビスフェノールAそのものが感光性組成物中に添加さ
れたことげなかった。意外にも本発明者等は従来合成原
料として活用されていたビスフェノールAを含めた該化
合物CI)馨ポジ型感光性組成物に添加することによっ
て、現像許容性を低下させることなく感度を向上させる
ことが出来ることを見出したのである。
らは感度馨向上させる目的のものではなかった。またビ
スフェノール人から反応合成された誘導化合物でになく
、ビスフェノールAそのものが感光性組成物中に添加さ
れたことげなかった。意外にも本発明者等は従来合成原
料として活用されていたビスフェノールAを含めた該化
合物CI)馨ポジ型感光性組成物に添加することによっ
て、現像許容性を低下させることなく感度を向上させる
ことが出来ることを見出したのである。
上記一般式〔I〕で示される化合物が添加されられてい
るものが含まれる。特にO−キノンジアジド化合物とフ
ェノール性樹脂からなるものが好ましい。
るものが含まれる。特にO−キノンジアジド化合物とフ
ェノール性樹脂からなるものが好ましい。
本発明に用いられろ0−キノンジアジド化合物は、少な
くとも7つの0−キノンジアジド基?有する化合物で、
活性照射によりアルカリ可溶性な増すものであり、極め
て棟々の構造の化合物?用いることができる。かかるO
−キノンジアジド化合物に関しては、J、コーサー著「
ライト−センシティブ−yステムズJ (John W
iley &5ons、Inc、)第339〜!夕2頁
に詳細VCNe載されており、これらは本発明に使用さ
れ得る。
くとも7つの0−キノンジアジド基?有する化合物で、
活性照射によりアルカリ可溶性な増すものであり、極め
て棟々の構造の化合物?用いることができる。かかるO
−キノンジアジド化合物に関しては、J、コーサー著「
ライト−センシティブ−yステムズJ (John W
iley &5ons、Inc、)第339〜!夕2頁
に詳細VCNe載されており、これらは本発明に使用さ
れ得る。
特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族
アミノ化合物と反応させた0−キノンジアジドのスルホ
ン酸エステル又はスルホンアミドが好適である。
アミノ化合物と反応させた0−キノンジアジドのスルホ
ン酸エステル又はスルホンアミドが好適である。
本発明に使用される0−キノンジアジド化合物のうち、
特公昭≠3−2ざグ03号公報に記載されているような
、ベンゾキノン(/ 、2)−ジアジドスルホン酸クロ
ライドまたはナフトキノン−(/、2)−ジアジドスル
ホン酸クロライド4=に一゛°ジ゛ 遣弊−岬ト←ボとピロガロール−アセトン樹脂とのエス
テルが最も好ましい。その他の好適な0−キノンジアジ
ド化合物としては、米国特許第3.0グt、120号お
よび同第J 、 /Ilr 、210号明細書中に記載
されているベンゾキノン−(/。
特公昭≠3−2ざグ03号公報に記載されているような
、ベンゾキノン(/ 、2)−ジアジドスルホン酸クロ
ライドまたはナフトキノン−(/、2)−ジアジドスル
ホン酸クロライド4=に一゛°ジ゛ 遣弊−岬ト←ボとピロガロール−アセトン樹脂とのエス
テルが最も好ましい。その他の好適な0−キノンジアジ
ド化合物としては、米国特許第3.0グt、120号お
よび同第J 、 /Ilr 、210号明細書中に記載
されているベンゾキノン−(/。
、2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキ
ノン−(/、、2)−ジアジドスルホン酸クロライドと
フエノール−ホルムア!レデヒド樹111.!=のエス
テルがある。
ノン−(/、、2)−ジアジドスルホン酸クロライドと
フエノール−ホルムア!レデヒド樹111.!=のエス
テルがある。
その他の有用なO−キノンジアジド化合物としては、数
多くの特許に報告され、知られている。
多くの特許に報告され、知られている。
たとえば、特開昭47−4303号、間開≠r−t3g
’02号、間開4J’−A3r03号、間開≠r−タロ
タフタ号、間開ゲター317θ/号、間開≠♂−/33
タ弘号、特公昭al−iiコ22号、間開4tター9t
/θ号、間開ゲター17≠r1号公報、米国特許第コ、
7り7.213号、同第3.μタゲ、≠oo号、同第3
.タグ11,323号、同第3.タフJ 、9/ 7号
、同第3.t74’、41!号、同第3.71!、1.
2夕号、英国特許第1..2.!7.乙0.2号、同第
11.2夕l。
’02号、間開4J’−A3r03号、間開≠r−タロ
タフタ号、間開ゲター317θ/号、間開≠♂−/33
タ弘号、特公昭al−iiコ22号、間開4tター9t
/θ号、間開ゲター17≠r1号公報、米国特許第コ、
7り7.213号、同第3.μタゲ、≠oo号、同第3
.タグ11,323号、同第3.タフJ 、9/ 7号
、同第3.t74’、41!号、同第3.71!、1.
2夕号、英国特許第1..2.!7.乙0.2号、同第
11.2夕l。
3グt号、同第1..2t7,00!号、同第7゜32
9、l#I号、同第1,330,932号、ドイツl寺
許第rタグ、Irり0号などの各明細書中に記載されて
いるものをあげることができる。
9、l#I号、同第1,330,932号、ドイツl寺
許第rタグ、Irり0号などの各明細書中に記載されて
いるものをあげることができる。
また、本発明に係るポジ型感光性組成物中にはこのより
な0−キノンジアジド化合物は単独で使用できるが、好
ましくはバインダーと混合して使用される。好適なバイ
ンダーにはアルカリ水溶液可溶性のノボラック樹脂があ
げられる。このようなノボラック樹脂の例としてはフェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール−クレゾール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、p−tert−ブチルフェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キンレン樹脂など?代表
例としてあげることができる。
な0−キノンジアジド化合物は単独で使用できるが、好
ましくはバインダーと混合して使用される。好適なバイ
ンダーにはアルカリ水溶液可溶性のノボラック樹脂があ
げられる。このようなノボラック樹脂の例としてはフェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール−クレゾール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、p−tert−ブチルフェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キンレン樹脂など?代表
例としてあげることができる。
またフェノール性水酸基を有するポリビニル化合物、例
えばポリヒドロキシスチレン重合体およびその共重合体
、ハロゲン化ポリヒドロキシスチレン重合体および共重
合体もあげることができる。
えばポリヒドロキシスチレン重合体およびその共重合体
、ハロゲン化ポリヒドロキシスチレン重合体および共重
合体もあげることができる。
全組成物中の0−キノンジアジド化合物の量はlO〜よ
0重倚係で、より好ましくは、20〜μθ重量憾である
。そしてフェノール性樹脂の配合量は全組成物中の4L
よ−ざ0重量幅で、好ましくはタO〜70重敬係である
。
0重倚係で、より好ましくは、20〜μθ重量憾である
。そしてフェノール性樹脂の配合量は全組成物中の4L
よ−ざ0重量幅で、好ましくはタO〜70重敬係である
。
本発明において0−キノンジアジドと組合せて使用され
る該化合物(1)の添加量は、全組成物中の/−20重
重量幅適当であり、より好ましくはλ〜/夕重i憾であ
る。
る該化合物(1)の添加量は、全組成物中の/−20重
重量幅適当であり、より好ましくはλ〜/夕重i憾であ
る。
本発明のポジ型感光性組成物中にはさらに、充てん剤、
色素、染料、顔料、元分解性酸発生削。
色素、染料、顔料、元分解性酸発生削。
例、tば/、、2−ナフトキノン−(2)−u−スルホ
ン酸クロリド、塗布性改良のための界面活性剤、及び他
の常用の添加剤及び助削を含有することができる。これ
らの添加剤類はその種類によっても異なるが、概してそ
の添加量は全組成物に対してo、oi〜−20重重量幅
好ましくはo 、 o j−i。
ン酸クロリド、塗布性改良のための界面活性剤、及び他
の常用の添加剤及び助削を含有することができる。これ
らの添加剤類はその種類によっても異なるが、概してそ
の添加量は全組成物に対してo、oi〜−20重重量幅
好ましくはo 、 o j−i。
重量幅が適当である。本発明において好ましく用いられ
る染料としては、塩基性染料および油溶性染料がある。
る染料としては、塩基性染料および油溶性染料がある。
具体的には、ビクトリア・ピュア・ブルー・HOH,ビ
クトリア・ブルー・HR,メチル・バイオレット、アイ
ゼン・マラカイト・グリーン(以上、保土谷化学工業M
)、パテント・ピュア・ブルー・■X、ローダミンB1
メチレン・ブルー(以上、住友化学工業製)等の塩基性
染料、並びにスーダン・ブルー・■、ビクトリア・ブル
ー・F4B(以上、B 、 A 、 S 、 F 、製
)、オイル−・ブルー・z6oJ、オイル・ブルー・B
o3、オイル・ブルー・■N(以上、オリエント化学工
業製)等の油溶性染料があげられる。
クトリア・ブルー・HR,メチル・バイオレット、アイ
ゼン・マラカイト・グリーン(以上、保土谷化学工業M
)、パテント・ピュア・ブルー・■X、ローダミンB1
メチレン・ブルー(以上、住友化学工業製)等の塩基性
染料、並びにスーダン・ブルー・■、ビクトリア・ブル
ー・F4B(以上、B 、 A 、 S 、 F 、製
)、オイル−・ブルー・z6oJ、オイル・ブルー・B
o3、オイル・ブルー・■N(以上、オリエント化学工
業製)等の油溶性染料があげられる。
本発明に係る感光性組成物は、アルミニラム板、亜鉛板
、鋼板、クロームメッキが施こされた鉄板。
、鋼板、クロームメッキが施こされた鉄板。
板、酸化クロム蒸着ガラス板の如き積層板など適当な支
持体上に塗布乾燥して種々の用途に供される。この際、
支持体は接着性改良等のため電気的、機械的あるいは化
学的に表面処理されていてもよいO 本発明に係る感光性組成物は、塗布する際に轄種々の有
機溶媒に溶かして使用に供されるが、ここで使用する溶
媒としては、エナレンジクロライド、ンクロヘキサノン
、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エテIレセロン
ルブアセテート、ジオキサン、酢酸エチル、ジメチルホ
lレムアミドなどがあり、これらを単独あるいに混合し
で使用することができろ。上記塗布液成分中の1^1形
分濃呟は、l−夕O重肴係の範囲が望オしい。また。
持体上に塗布乾燥して種々の用途に供される。この際、
支持体は接着性改良等のため電気的、機械的あるいは化
学的に表面処理されていてもよいO 本発明に係る感光性組成物は、塗布する際に轄種々の有
機溶媒に溶かして使用に供されるが、ここで使用する溶
媒としては、エナレンジクロライド、ンクロヘキサノン
、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エテIレセロン
ルブアセテート、ジオキサン、酢酸エチル、ジメチルホ
lレムアミドなどがあり、これらを単独あるいに混合し
で使用することができろ。上記塗布液成分中の1^1形
分濃呟は、l−夕O重肴係の範囲が望オしい。また。
塗布14は中:Aによっても異なるが一般的に固形分と
してθ、タ〜グ、097m”が適当である。また、塗布
方法としては従来公知のあらゆる塗布技術を用いること
ができる。
してθ、タ〜グ、097m”が適当である。また、塗布
方法としては従来公知のあらゆる塗布技術を用いること
ができる。
こうして得られた感光材料の使用に際しては、従来から
常用されている方法が適用され得1例えば線画1゛普、
rta点画像など娶有する透明原画を感光面に密着し、
て1光し、次いでこれ馨アlレカリ水溶液にて現像する
ことにより、原画に対してポジ型のレリーフ像が得られ
ろ。1元に好適な光源としては、水銀灯、メ;ルハライ
ドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボン
アーク灯などが使用され、現像に使用されるアルカリ水
溶液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、第三りン酸ナトリラム、
第ニリン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などの水溶液のようなアルカリ水溶液がある。このとき
のアルカリ水溶液の濃度は、感光性組成物およびアルカ
リの種類により異なるが、概してO9l〜10重量係の
範囲が適当であり、また酸アルカリ水溶液には必要に応
じ界面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒?加え
ることもできる。
常用されている方法が適用され得1例えば線画1゛普、
rta点画像など娶有する透明原画を感光面に密着し、
て1光し、次いでこれ馨アlレカリ水溶液にて現像する
ことにより、原画に対してポジ型のレリーフ像が得られ
ろ。1元に好適な光源としては、水銀灯、メ;ルハライ
ドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボン
アーク灯などが使用され、現像に使用されるアルカリ水
溶液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、第三りン酸ナトリラム、
第ニリン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などの水溶液のようなアルカリ水溶液がある。このとき
のアルカリ水溶液の濃度は、感光性組成物およびアルカ
リの種類により異なるが、概してO9l〜10重量係の
範囲が適当であり、また酸アルカリ水溶液には必要に応
じ界面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒?加え
ることもできる。
本発明に係る感光性組成物?用いた感光材料、特に平版
印刷版は、従来のポジ型感光性組成物を用いて成るそれ
に比べて感度が高く、従って蕗元時間が短縮でき、作業
性が向上する。
印刷版は、従来のポジ型感光性組成物を用いて成るそれ
に比べて感度が高く、従って蕗元時間が短縮でき、作業
性が向上する。
このように本発明に係る感光性組成物?用いた感光材料
、特に平版印刷版は極めて有用であり、他の感光性組成
物?用いた場合にない特徴をも付与することができる。
、特に平版印刷版は極めて有用であり、他の感光性組成
物?用いた場合にない特徴をも付与することができる。
以下実施例?挙げて本発明を例証するが、これにより本
発明の実施態様が限定されるものではないO なお、下記実施例におけるl−I JHlとくにことわ
らない限り、すべて重量係である。
発明の実施態様が限定されるものではないO なお、下記実施例におけるl−I JHlとくにことわ
らない限り、すべて重量係である。
実施例1及び比較例a ”−e
厚み0.3ミリのアルミニウム板(材質10夕0)’t
トリクレン洗滌して脱脂した後、ナイロンブラシとび0
0メツシユの/耐ミスー水懸濁液を用いこの表面を砂目
立てし、よく水で洗滌した。この板v、gt ’cの2
タ係水酸化ナトリウム水溶液にり秒間浸漬してエツチン
グを行ない水洗後、更に、2014硝酸に2θ秒間浸漬
して水洗した。この時の砂目立て表面のエツチング量は
約3g/m2であった。次にこの板を74値酸を電解液
として電流密度/ j A / dm2で3 g/m2
の直流陽極酸化皮膜?設けた後、水洗乾燥した。この次
にこのアルミニウム板に次の感光液実施例1.及び比較
の塗布量はすべてコ、≠〜コ、り9 / m2であった
。
トリクレン洗滌して脱脂した後、ナイロンブラシとび0
0メツシユの/耐ミスー水懸濁液を用いこの表面を砂目
立てし、よく水で洗滌した。この板v、gt ’cの2
タ係水酸化ナトリウム水溶液にり秒間浸漬してエツチン
グを行ない水洗後、更に、2014硝酸に2θ秒間浸漬
して水洗した。この時の砂目立て表面のエツチング量は
約3g/m2であった。次にこの板を74値酸を電解液
として電流密度/ j A / dm2で3 g/m2
の直流陽極酸化皮膜?設けた後、水洗乾燥した。この次
にこのアルミニウム板に次の感光液実施例1.及び比較
の塗布量はすべてコ、≠〜コ、り9 / m2であった
。
これらのポジ型感光性印刷版1730アンペアのカーボ
ンアーク灯で70cnの距離から繕光しだ後DP−≠(
曲品名:富士写真フィルム株式会社製)のr倍希釈液に
より、コタ0Cao秒間自動現像(IroOU:富士写
真フィルム株式会社製自動現像機による)を行なった。
ンアーク灯で70cnの距離から繕光しだ後DP−≠(
曲品名:富士写真フィルム株式会社製)のr倍希釈液に
より、コタ0Cao秒間自動現像(IroOU:富士写
真フィルム株式会社製自動現像機による)を行なった。
この時の適正蕗元時間は濃度差o、i夕のグレースケー
ル(富士写真フィルム株式会社製)で!段が完全にクリ
ヤーとなる点とし、これにより感光性印刷版の感度とし
た。
ル(富士写真フィルム株式会社製)で!段が完全にクリ
ヤーとなる点とし、これにより感光性印刷版の感度とし
た。
また、DP−μのt倍希釈液で2夕0Cのバット現像に
て4tθ秒現像時におけるグレースケールのベタ段数か
ら二段変化する時間(以下、現像許容性と称す。請求め
た。
て4tθ秒現像時におけるグレースケールのベタ段数か
ら二段変化する時間(以下、現像許容性と称す。請求め
た。
これらのポジ型感元性印刷版の感度(#光時間)と現像
許容性の結果を表−に示す。
許容性の結果を表−に示す。
表2かられかるように、比較例aに比ベビスフェノール
AY添加した実施例1は明らかに感度が上昇(適性露光
時間が短い)しており、また現像許容性は比較例aより
わずかに劣るけれども実技上全く問題にならない程度で
ある。
AY添加した実施例1は明らかに感度が上昇(適性露光
時間が短い)しており、また現像許容性は比較例aより
わずかに劣るけれども実技上全く問題にならない程度で
ある。
これに対してO−キノンジアジド化合物の一*W減少さ
せた比較例すは感度の上昇は認められるが、現像許容性
の低下が太きい。また従来公知の添加物はいずれも感度
は上昇するが、やはり現像許容性が狭くなってしまう。
せた比較例すは感度の上昇は認められるが、現像許容性
の低下が太きい。また従来公知の添加物はいずれも感度
は上昇するが、やはり現像許容性が狭くなってしまう。
実施例1と添加物のない比較例a’<印刷試験したとこ
ろ、他の性能も問題なく良好な結果を得た。
ろ、他の性能も問題なく良好な結果を得た。
実施例 2゜
上記組成の感光性塗布液を、電気化学的に粗面化され、
かつ陽極酸化されたアルミニウム板に塗布した。このと
きの乾燥後の膜室量は2.3g/m2であった。こうし
て得られた感光板を実施例と同じくして、最適g光時間
及び現像許容性を調べた。その結果最適μ光時間はt≠
秒であり、現像許容性は7分間であった。
かつ陽極酸化されたアルミニウム板に塗布した。このと
きの乾燥後の膜室量は2.3g/m2であった。こうし
て得られた感光板を実施例と同じくして、最適g光時間
及び現像許容性を調べた。その結果最適μ光時間はt≠
秒であり、現像許容性は7分間であった。
以上のようにして得られた印刷版をオフセット印刷機に
かけて印刷したところ画像良好な印刷物が多数枚得られ
た。
かけて印刷したところ画像良好な印刷物が多数枚得られ
た。
実施?Ll 3・
実施例2においてビスフェノ−1しAのかわりにビス(
≠−ヒドロキシフェニル)メタンw使用した以外は全〈
実施例2と同じにして感光性平版印刷版を得たところ、
実施例2と同様良好な結果を得た。
≠−ヒドロキシフェニル)メタンw使用した以外は全〈
実施例2と同じにして感光性平版印刷版を得たところ、
実施例2と同様良好な結果を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1) O−キノンジアジド化合物を含むポジ型感光性組
成物において、更に下記一般式(1)で示される化合物
を含有すること’f%徴とするポジ型感光性組成物。 一般式〔■〕 (式中、几lおよびR2は各々水素原子又は炭素数l〜
3のアルキル基を表わし、R3,R4゜us、R6,R
yおよびR8は各々水素原子、水酸基、炭素数/−J’
のアルキル基ν・ロゲン原子、炭素数l〜3のアルコキ
シ基又はニトロ基を表わす。) 2)該一般式〔I〕で示される化合物がビスフェノール
AC,2,,2’−ビス(≠−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン)である特許請求の範囲第1項記載のポジ型感光
性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP604984A JPS60150047A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | ポジ型感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP604984A JPS60150047A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60150047A true JPS60150047A (ja) | 1985-08-07 |
Family
ID=11627759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP604984A Pending JPS60150047A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60150047A (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63313150A (ja) * | 1987-06-02 | 1988-12-21 | アグファーゲーヴェルト アクチエンゲゼルシャフト | 1,2‐ナフトキノン‐ジアジドを主成分とする感光性混合物、該混合物から製造された記録材料及び印刷版 |
EP0301332A2 (de) * | 1987-07-27 | 1989-02-01 | Ciba-Geigy Ag | Positiv-Fotoresist-Zusammensetzungen |
JPH01276131A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
EP0358871A2 (en) * | 1988-07-07 | 1990-03-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Radiation-sensitive positive resist composition |
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JPH03200250A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-02 | Nippon Zeon Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
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US5215856A (en) * | 1989-09-19 | 1993-06-01 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Tris-(hydroxyphenyl) lower alkane compounds as sensitivity enhancers for o-quinonediazide containing radiation-sensitive compositions and elements |
JPH0558673U (ja) * | 1992-11-06 | 1993-08-03 | 株式会社壽 | 繰り出し式棒状物受台 |
JPH0558674U (ja) * | 1992-11-06 | 1993-08-03 | 株式会社壽 | 繰り出し式棒状物受台 |
US5256521A (en) * | 1989-09-19 | 1993-10-26 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Process of developing a positive pattern in an O-quinone diazide photoresist containing a tris-(hydroxyphenyl) lower alkane compound sensitivity enhancer |
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US5783355A (en) * | 1989-08-24 | 1998-07-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Radiation-sensitive positive resist composition |
-
1984
- 1984-01-17 JP JP604984A patent/JPS60150047A/ja active Pending
Cited By (20)
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---|---|---|---|---|
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