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JPS6014483B2 - resistor - Google Patents

resistor

Info

Publication number
JPS6014483B2
JPS6014483B2 JP7678880A JP7678880A JPS6014483B2 JP S6014483 B2 JPS6014483 B2 JP S6014483B2 JP 7678880 A JP7678880 A JP 7678880A JP 7678880 A JP7678880 A JP 7678880A JP S6014483 B2 JPS6014483 B2 JP S6014483B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
graphite layer
plate
electrode plate
metal plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP7678880A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS572501A (en
Inventor
準 丹羽
直人 三輪
秀隆 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NipponDenso Co Ltd filed Critical NipponDenso Co Ltd
Priority to JP7678880A priority Critical patent/JPS6014483B2/en
Publication of JPS572501A publication Critical patent/JPS572501A/en
Publication of JPS6014483B2 publication Critical patent/JPS6014483B2/en
Expired legal-status Critical Current

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  • Thermistors And Varistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、自動車等の内燃機関の吸気中の燃料を加熱し
て霧化の促進を行なう装置、送風機の回転数を制御する
装置、あるいは暖房用の温風発生器などに使用される、
正の抵抗温度特性をもった抵抗体に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a device that heats fuel in the intake air of an automobile or other internal combustion engine to promote atomization, a device that controls the rotation speed of a blower, or a hot air generator for heating. used for, etc.
This invention relates to a resistor with positive resistance-temperature characteristics.

従来この種の抵抗体においては、(1}正の抵抗温度特
性を有する磁器半導体にコイルスプリングを用いて放熱
板、電極板を圧着したもの、{2}接着剤を用いて半導
体と放熱板、電極板とを接着したもの、あるし・は(3
}半導体表面に形成してある薄膜電極に放熱板、電極板
をはんだ付けしたものがある。,しかし、上記(1)の
場合には、コイルスプリングにより接触抵抗の増大とい
う問題ががあり、一方上記(2ーの場合には、半導体と
放熱板、電極板との熱膨張の違いによる熱応力の発生で
接着剤が剥離する問題がある。
Conventionally, in this type of resistor, (1) a heat sink and an electrode plate are bonded together using a coil spring to a ceramic semiconductor having positive resistance-temperature characteristics, {2} a semiconductor and a heat sink are bonded together using an adhesive, The one with the electrode plate glued, or is (3
}There is one in which a heat dissipation plate and an electrode plate are soldered to a thin film electrode formed on the semiconductor surface. However, in case (1) above, there is a problem of increased contact resistance due to the coil spring, while in case (2-) above, there is a problem of increased contact resistance due to the difference in thermal expansion between the semiconductor, heat sink, and electrode plate. There is a problem that the adhesive peels off due to the generation of stress.

他方、上記【3}の場合は、上記■と同機に熱膨張によ
るはんだの剥れを議発しやすく、またはんば付けのため
の薄膜状電極材質の検討を強いられるという問題がある
。本発明は上記の諸問題を解決するため、正の抵抗温度
特性を有する磁器半導体と金属板との間にグラフアィト
層を装着したことにより、半導体と金属板との間の熱伝
導性、電気伝導性を確実にするとともに、両者の熱膨張
差を効果的に吸収できる抵抗体を提供することを目的と
するものである。以下本発明を具体的な実施例により説
明する。
On the other hand, in the case of [3] above, there is a problem that the solder is likely to peel off due to thermal expansion, or the material of the thin film electrode for bonding is forced to be considered. In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a graphite layer between a ceramic semiconductor having positive resistance-temperature characteristics and a metal plate, thereby improving thermal conductivity and electrical conductivity between the semiconductor and the metal plate. The object of the present invention is to provide a resistor that can effectively absorb the difference in thermal expansion between the two. The present invention will be explained below using specific examples.

本発明の基本的な構成は第1図に示すごとくであり、1
は正の抵抗温度特性を有する円板状の磁器半導体で、T
i02,母C03,Pb0,Sの2,Y203等を混合
した焼成したチタン酸バリウム系の材料で構成してある
。この半導体1は特定温度でで抵抗値が急増する特性も
有している。なお、半導体1の両面には、図示はしてい
ないが、無電解〆ッキ法、ペースト暁付け法等の方法に
よって薄膜状電極が形成してある。2は円板状の放熱板
であり、例えばアルミニウム等の熱伝導性良好な金属材
料で構成してある。
The basic configuration of the present invention is as shown in FIG.
is a disk-shaped ceramic semiconductor with positive resistance-temperature characteristics, and T
It is made of a fired barium titanate material mixed with i02, mother C03, Pb0, S2, Y203, etc. This semiconductor 1 also has the characteristic that its resistance value increases rapidly at a specific temperature. Although not shown, thin film electrodes are formed on both surfaces of the semiconductor 1 by a method such as an electroless plating method or a pasting method. Reference numeral 2 denotes a disc-shaped heat sink, which is made of a metal material with good thermal conductivity, such as aluminum.

3は同じく円板状の電極板であり、放熱板2と同じ金属
材料で構成してある。
Reference numeral 3 designates a disc-shaped electrode plate, which is made of the same metal material as the heat sink plate 2.

4は本発明に係わるグラフアイト層であり、このグラフ
アィト層4は炭素繊維をシート状にしたもので柔軟性を
有している。
4 is a graphite layer according to the present invention, and this graphite layer 4 is made of carbon fiber in the form of a sheet and has flexibility.

上記放熱板2および電極板3は前記半導体1の薄膜状電
極の上にグラファィト層4を介して装着されている。
The heat dissipation plate 2 and the electrode plate 3 are mounted on the thin film electrode of the semiconductor 1 with a graphite layer 4 interposed therebetween.

第2図は上記第1図の発展型で、グラフアィト層4と放
熱板2、電極板3との密着構成を示すものである。
FIG. 2 is a developed version of FIG. 1, and shows a structure in which the graphite layer 4, the heat dissipation plate 2, and the electrode plate 3 are in close contact with each other.

これは電極板3と裏蓋6との間にコイルスプリング5を
介装したものである。なお、放熱板2は箱形状に形成し
てあって裏蓋6に固着してある。上記構成において、 次に、本発明の効果を第3図および第4図により説明す
る。
This has a coil spring 5 interposed between the electrode plate 3 and the back cover 6. Note that the heat sink 2 is formed in a box shape and is fixed to the back cover 6. In the above configuration, next, the effects of the present invention will be explained with reference to FIGS. 3 and 4.

第3図は電極板3と半導体1との接触抵抗を従来例とも
に示したものであり、一方第4図は半導体1に1分間通
電し、その後9分間通電を断ち、これを繰り返すことに
よって塁積時間で接触抵抗がどのように変化するかを示
したものである。
Figure 3 shows the contact resistance between the electrode plate 3 and the semiconductor 1 in the conventional example, while Figure 4 shows the contact resistance between the electrode plate 3 and the semiconductor 1 in a conventional example, while in Figure 4 the semiconductor 1 is energized for 1 minute, then energized for 9 minutes, and repeated. This shows how contact resistance changes over time.

なお、実験に供した試料において、半導体1はチタン酸
バリウム系でキューリー点は15ぴ0、直径5仇舷、厚
さ1側の円板状であって常温抵抗値は0.30である。
これに付与した薄膜状電極はNiであり、この上に保護
用としてAgの膜を形成してある。また、電極板3は、
直径60肋、厚さ1.6柵の円板状であり、グラフアィ
ト層4は直径48肌、厚さ0.4帆の円板状である。半
導体1に対する印加電圧はDC12Vである。第3図お
よび第4図中、試料Aはコイルスプリングを用いた前記
従釆例(1}を示しており、そのコイルスプリング5に
よる荷重圧力は5kgとしてある。
In the sample used in the experiment, the semiconductor 1 is made of barium titanate and has a Curie point of 15 0, a disk shape with a diameter of 5 m and a thickness of 1, and a resistance value at room temperature of 0.30.
The thin film electrode provided thereon is made of Ni, and an Ag film is formed thereon for protection. Moreover, the electrode plate 3 is
It has a disc shape with a diameter of 60 ribs and a thickness of 1.6 ribs, and the graphite layer 4 has a disc shape with a diameter of 48 ribs and a thickness of 0.4 ribs. The voltage applied to the semiconductor 1 is DC 12V. In FIG. 3 and FIG. 4, sample A shows the above-mentioned follow-up example (1) using a coil spring, and the load pressure by the coil spring 5 is 5 kg.

試料Bは接着剤を用いた前記従来例■を示しており、接
着剤の組成はAg−Si樹脂である。また、試料Cは前
記従来例【3}のはんだ付け方式を示している。試料D
は本発明の前記第2図の実施例を示している。第3図お
よび第4図の比較から明白なごと〈、試料D即ち本実施
例のものは非常に優れていることがわかる。
Sample B shows the conventional example (2) using an adhesive, and the composition of the adhesive is Ag-Si resin. Moreover, sample C shows the soldering method of the conventional example [3}. Sample D
2 shows the embodiment of the invention shown in FIG. As is clear from the comparison of FIGS. 3 and 4, it can be seen that sample D, that is, the sample of this example, is very superior.

なお、第4図の結果からして放熱板2への熱伝導性も試
料Dの方が他の試料A〜Cに比べて耐久劣化しないこと
は明白である。
In addition, from the results shown in FIG. 4, it is clear that the thermal conductivity to the heat sink 2 does not deteriorate in durability in sample D compared to the other samples A to C.

以上詳述したごとく、本発明によれば、次に列挙する効
果を奏する。
As described in detail above, according to the present invention, the following effects are achieved.

‘1} グラフアィト層は柔軟性であるため、金属板の
面に多少の歪があった場合はグラフアィト層がその面に
なじむようにして変形し、従って半導体と金属板とがグ
ラフアィト層を介して均一に密着し、従って、半導体と
金属板との間における熱伝導性あるいは電気伝導性を確
実なものにできる■ グラフアィト層は潤滑性を有して
いるため、これに接する金属板が熱膨張すると、金属板
はグラフアィト層の表面をすべることになり、この結果
として金属板の熱駒鞍張による歪が半導体に伝達される
のを防止でき、従って半導体の割れを回避できる。
'1} Since the graphite layer is flexible, if there is some distortion on the surface of the metal plate, the graphite layer will deform to fit that surface, and the semiconductor and metal plate will be uniformly bonded through the graphite layer. The graphite layer has a lubricating property, so when the metal plate in contact with it expands thermally, the graphite layer The plate slides on the surface of the graphite layer, and as a result, it is possible to prevent the strain caused by the thermal tension of the metal plate from being transmitted to the semiconductor, thereby avoiding cracking of the semiconductor.

湖 上記‘21のごとく金属板の熱歪の吸収はグラフア
ィト層の変形で行なわれるのではなく、金属板がグラフ
アィト層の表面をすべることで熱歪が吸収されるのであ
り、従ってグラフアィト層自体が劣化することはなく、
よって上記‘1},■の効果を長期に亘つて継続できる
Lake: As mentioned in '21 above, thermal strain is absorbed by the metal plate not by the deformation of the graphite layer, but by the metal plate sliding on the surface of the graphite layer. Therefore, the graphite layer itself It will not deteriorate,
Therefore, the effects of '1} and (2) above can be maintained for a long period of time.

{41 グラフアィト層はその厚みと直交する方向の伝
熱がよいため、従ってグラフアィト層に接触している半
導体表面の熱を効果的に金属板に伝熱でき、放熱装置と
して用いた場合には金属板への熱伝達が良好となる。
{41 The graphite layer has good heat transfer in the direction perpendicular to its thickness, so the heat on the semiconductor surface in contact with the graphite layer can be effectively transferred to the metal plate. Good heat transfer to the plate.

【5’また、グラフアィト層は耐熱性が比較的高く、こ
のため半導体として放熱温度の高いものを使用しても安
全である。
[5' Furthermore, the graphite layer has relatively high heat resistance, so it is safe to use a semiconductor with a high heat dissipation temperature.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は本発明の一実施例を示す断面図、
第3図および第4図は本発明の効果の説明に供する特性
図である。 1・・・・・・半導体、2・・・・・・放熱板、3・・
・・・・電極板、4……グラフアイト層。 第1図 第2図 第3図 第4図
FIG. 1 and FIG. 2 are cross-sectional views showing one embodiment of the present invention;
3 and 4 are characteristic diagrams for explaining the effects of the present invention. 1... Semiconductor, 2... Heat sink, 3...
...Electrode plate, 4...Graphite layer. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 正の抵抗温度特性を有する磁器半導体と金属板との
間にグラフアイト層を装着したことを特徴とする抵抗体
1. A resistor characterized in that a graphite layer is attached between a ceramic semiconductor having positive resistance-temperature characteristics and a metal plate.
JP7678880A 1980-06-06 1980-06-06 resistor Expired JPS6014483B2 (en)

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JPS572501A JPS572501A (en) 1982-01-07
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