JPS60117643A - 双方向性ツエナ−ダイオ−ド - Google Patents
双方向性ツエナ−ダイオ−ドInfo
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- JPS60117643A JPS60117643A JP58226154A JP22615483A JPS60117643A JP S60117643 A JPS60117643 A JP S60117643A JP 58226154 A JP58226154 A JP 58226154A JP 22615483 A JP22615483 A JP 22615483A JP S60117643 A JPS60117643 A JP S60117643A
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- JP
- Japan
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- diode
- pellet
- wafer
- bump electrode
- bidirectional zener
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D8/00—Diodes
- H10D8/20—Breakdown diodes, e.g. avalanche diodes
- H10D8/25—Zener diodes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L24/14—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
- H01L2924/12035—Zener diode
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明はバンプ電極を表裏面に形成した双方向性ツェナ
ーダイオードのダイオードベレットの形状に関し、詳し
くはベレットウェーハを切断分離してダイオードペレッ
トを得る工程において、歩留向上が期待できる形状を提
供するものである。
ーダイオードのダイオードベレットの形状に関し、詳し
くはベレットウェーハを切断分離してダイオードペレッ
トを得る工程において、歩留向上が期待できる形状を提
供するものである。
口、従来技術における問題点
ダイオードのパッケージ構造に関する一例として、第1
図に示すような0110ダイオード(ダブル・ヒートシ
ンク・ダイオード)(1)がある、これはリード部(2
a)とスラグ部(2b)とからなる一対のスラブリード
(2)(2)を使用し、ガラス管(3)内で、ダイオー
ドペレット(4)をスラグ部(2b) (2b)にて挾
持し、ガラス管(3)の両端を該スラグ部(2b) (
2b)に融着させて封止するものである。このDIDダ
イオード(1)はダイオードペレット(4)に突出形成
した銀のバンプ電極(4a)のクッション作用を利用し
て、電極とスラグリード(2)(2)との接続を行なえ
るので製造が容易であり、且つスラグ部(2b) (2
b)がダイオードペレット(4)の発生熱のヒートシン
ク部として機能する効果がある。
図に示すような0110ダイオード(ダブル・ヒートシ
ンク・ダイオード)(1)がある、これはリード部(2
a)とスラグ部(2b)とからなる一対のスラブリード
(2)(2)を使用し、ガラス管(3)内で、ダイオー
ドペレット(4)をスラグ部(2b) (2b)にて挾
持し、ガラス管(3)の両端を該スラグ部(2b) (
2b)に融着させて封止するものである。このDIDダ
イオード(1)はダイオードペレット(4)に突出形成
した銀のバンプ電極(4a)のクッション作用を利用し
て、電極とスラグリード(2)(2)との接続を行なえ
るので製造が容易であり、且つスラグ部(2b) (2
b)がダイオードペレット(4)の発生熱のヒートシン
ク部として機能する効果がある。
而して双方向性ツェナーダイオードを、上記0110ダ
イオード構造で組立てようとする場合、そのダイオード
ペレット(5)の形状は第2図に示すように、表裏面に
銀のバンプ電極(6)(6)が突出形成されたものとな
る。なお、第2図において、(7)はN型の半導体基板
、(8)(8>はP型不純物拡散により形成したP型頭
域、(9)(9)は絶縁性の保護酸化膜である。
イオード構造で組立てようとする場合、そのダイオード
ペレット(5)の形状は第2図に示すように、表裏面に
銀のバンプ電極(6)(6)が突出形成されたものとな
る。なお、第2図において、(7)はN型の半導体基板
、(8)(8>はP型不純物拡散により形成したP型頭
域、(9)(9)は絶縁性の保護酸化膜である。
上記双方向性ツェナーダイオードのダイオードペレット
(5)は次のようにして製造されている。
(5)は次のようにして製造されている。
まず、半導体ウェーハ(シリコン基板)の表裏面にフォ
トリソグラフィ法を用いて、不純物の選択拡散等の処理
を行い、基盤口状に配列された多数の双方向性ツェナー
ダイオード素子を形成し、さらに各ダイオード素子の表
裏面の電極形成部分に銀の電解メッキを選択的に施こし
て第3図に示すようなペレットウェーハ(1o)を製作
する。しかる後、このペレットウェーハ(10)を、第
4図に示すような各ダイオード素子(11) (11)
−の区画線(12) (12)−に沿って切断分離し、
第2図に示すようなダイオードペレット(5)を得る。
トリソグラフィ法を用いて、不純物の選択拡散等の処理
を行い、基盤口状に配列された多数の双方向性ツェナー
ダイオード素子を形成し、さらに各ダイオード素子の表
裏面の電極形成部分に銀の電解メッキを選択的に施こし
て第3図に示すようなペレットウェーハ(1o)を製作
する。しかる後、このペレットウェーハ(10)を、第
4図に示すような各ダイオード素子(11) (11)
−の区画線(12) (12)−に沿って切断分離し、
第2図に示すようなダイオードペレット(5)を得る。
上記ダイオードソー7l−(5)の切断分離ば、一般に
次の二種の方法のいずれかを用いている。
次の二種の方法のいずれかを用いている。
第1の方法は第5図に示すようにペレットウェーハ(1
0)の一方の面に粘着性テープ(13)を貼り付け、ダ
イオード素子(11) (IIL−・の区画線(12)
(12)−に沿って上面からペレットウェーハ(10
)の厚さの半分まで、グイシングツ−(14)を用いて
切込み(10”)を形成し、次に切込み(10’ )を
形成したペレットウェーハ(10)の上面に粘着性テー
プ(15)を貼り付け、さらに第6図に示すように、こ
れを裏返してゴム板(16)の上に置き、ローラ(17
)で上から押圧しながら、前後左右に動かして各ダイオ
ード素子(11)(11)(11)・−を分割してダイ
オードペレット(5)(5)−−−−一を得るものであ
る。
0)の一方の面に粘着性テープ(13)を貼り付け、ダ
イオード素子(11) (IIL−・の区画線(12)
(12)−に沿って上面からペレットウェーハ(10
)の厚さの半分まで、グイシングツ−(14)を用いて
切込み(10”)を形成し、次に切込み(10’ )を
形成したペレットウェーハ(10)の上面に粘着性テー
プ(15)を貼り付け、さらに第6図に示すように、こ
れを裏返してゴム板(16)の上に置き、ローラ(17
)で上から押圧しながら、前後左右に動かして各ダイオ
ード素子(11)(11)(11)・−を分割してダイ
オードペレット(5)(5)−−−−一を得るものであ
る。
第2の方法は第7図に示すようにペレットウェーハ(1
0)の下面をワックス(18)を介してガラス板(19
)に貼付はダイオードソー(14)を用いてペレットウ
ェーハ(1o)の下面に達するまで切込み、各ダイオー
ド素子(11) (11)−を切断分離してダイオード
ペレット(5)(5)−を得るものである。
0)の下面をワックス(18)を介してガラス板(19
)に貼付はダイオードソー(14)を用いてペレットウ
ェーハ(1o)の下面に達するまで切込み、各ダイオー
ド素子(11) (11)−を切断分離してダイオード
ペレット(5)(5)−を得るものである。
しかしながら上記第1及び第2の方法のいずれによって
切断分離作業を行っても、ベレントウェーハ(10)に
分散形成されている先端形状が丸い多数のバンブ電極(
6)(6)に分断時の押圧が加わるので、特に、切断り
1にペレットウェーハ(10)の固定が不充分になり、
無理な力がペレットウェーハ(1o)に不都合にも加わ
りクランクが生じたり、分離されたダイオードペレット
(5)に第8図に示すような欠け(2o)(チッピング
)が生じ、ここから侵入する異物によって特性が劣化す
る問題があった。なお、上記問題が生じる一態様を示す
と、第9図に示すように、バンブ電極(6)(6L−の
高さは一般に中央部は端部より低く不均一であり、バン
ブ電極(6°)が低くて上方からの押圧力を支持できな
いダイオード素子(11)の切断時に、ペレットウェー
ハ(1o)を歪ませるカが作用しクランク(21) (
21)が生じるのである。また上記問題点は各ダイオー
ドソーン) (5)(’5)−・が分断される際にも生
じるものであり、上記第1の方法では、第6図に示した
ローラ(17)によるブレーキングの際に起き、と上記
第2の方法では第7図に示したグイシングツ−(14)
による切断の瞬間に起きる。
切断分離作業を行っても、ベレントウェーハ(10)に
分散形成されている先端形状が丸い多数のバンブ電極(
6)(6)に分断時の押圧が加わるので、特に、切断り
1にペレットウェーハ(10)の固定が不充分になり、
無理な力がペレットウェーハ(1o)に不都合にも加わ
りクランクが生じたり、分離されたダイオードペレット
(5)に第8図に示すような欠け(2o)(チッピング
)が生じ、ここから侵入する異物によって特性が劣化す
る問題があった。なお、上記問題が生じる一態様を示す
と、第9図に示すように、バンブ電極(6)(6L−の
高さは一般に中央部は端部より低く不均一であり、バン
ブ電極(6°)が低くて上方からの押圧力を支持できな
いダイオード素子(11)の切断時に、ペレットウェー
ハ(1o)を歪ませるカが作用しクランク(21) (
21)が生じるのである。また上記問題点は各ダイオー
ドソーン) (5)(’5)−・が分断される際にも生
じるものであり、上記第1の方法では、第6図に示した
ローラ(17)によるブレーキングの際に起き、と上記
第2の方法では第7図に示したグイシングツ−(14)
による切断の瞬間に起きる。
ハ0発明の目的
本発明は上記従来の問題点に鑑み、これを改良したもの
で、ペレットウェーハからのダイオードペレットの切り
離しが無理な力を与えることなく行え、ベレットにクラ
ンクや欠けを生じない双方向性ツェナータイオードを提
供することを目的とする。
で、ペレットウェーハからのダイオードペレットの切り
離しが無理な力を与えることなく行え、ベレットにクラ
ンクや欠けを生じない双方向性ツェナータイオードを提
供することを目的とする。
二9発明の構成
本発明はバンブ電極をダイオードペレットの表裏面に形
成した双方向性ツェナーダイオードにおいて、一方面の
バンブ電極を、他方面のバンブ電極の高さより低く且つ
台形状にしたことを特徴とする。
成した双方向性ツェナーダイオードにおいて、一方面の
バンブ電極を、他方面のバンブ電極の高さより低く且つ
台形状にしたことを特徴とする。
ホ、実施例 −
上記構成のダイオードペレットを得るには次のような実
施例がある。
施例がある。
第1の実施例は第10図に示すようにバンブ電極(6)
(6)−が形成されたペレットウェーハ(10)の一方
の面に、各バンブ電極(6)(6)−の先端部分のみが
露出する厚さでワックス(22)を塗布し、この後ワッ
クス(22)の塗布面にサンドブラスト処理又は液体ホ
ーニング処理によって各バンブ電極(6) ([3)−
の先端部分を削り落とすものである。この処理によって
一方の面の各バンブ電極(6)(6)・−・の高さは低
くなり、且つ台形状になる。
(6)−が形成されたペレットウェーハ(10)の一方
の面に、各バンブ電極(6)(6)−の先端部分のみが
露出する厚さでワックス(22)を塗布し、この後ワッ
クス(22)の塗布面にサンドブラスト処理又は液体ホ
ーニング処理によって各バンブ電極(6) ([3)−
の先端部分を削り落とすものである。この処理によって
一方の面の各バンブ電極(6)(6)・−・の高さは低
くなり、且つ台形状になる。
第2の実施例は各ダイオード素子が形成された半導体基
板(ペレットウェーハ)の表裏面の電極形成部分に電解
メッキにより銀のバンブ電極を形成する際、通電電流の
通電時間を加減してバンブ電極の高さを設定するもので
ある。つまり一方の面のバンブ電極の高さを他方の面の
バンブ電極の高さより低くする場合には、一方の面のメ
ッキ通電時間を短くするのである。すると、高さが低い
一方の面のバンブ電極はメッキ液中における電極への電
光集中効果によってその形状が丸くなる前に、メッキ処
理が終了するので、平坦な台形状に形成される。
板(ペレットウェーハ)の表裏面の電極形成部分に電解
メッキにより銀のバンブ電極を形成する際、通電電流の
通電時間を加減してバンブ電極の高さを設定するもので
ある。つまり一方の面のバンブ電極の高さを他方の面の
バンブ電極の高さより低くする場合には、一方の面のメ
ッキ通電時間を短くするのである。すると、高さが低い
一方の面のバンブ電極はメッキ液中における電極への電
光集中効果によってその形状が丸くなる前に、メッキ処
理が終了するので、平坦な台形状に形成される。
上記第1の実施例又は第2の実施例によって、一方の面
に高さが低く、且つ台形状のバンブ電極が形成されたペ
レットウェーハ(10)は、先に説明した第5図及び第
6図に示した切断分離方法又は第7図に示した切断・分
離方法によって各ダイオード素子ごとに分離される。こ
の場合高さが低く且つ平坦な台形状のバンブ電極(6”
) (6” )・−を有する面は、第11図又は第12
図に示すように切り離し時に下になるようにする。この
切り離し時に上方からの押圧力はバンブ電極(6” )
(6’”)−の面積が大きくなった平坦な面で受けら
れるから、ペレットウェーハ(10)を安定性良く支持
することができ、分断時に無理な力が作用するのを防止
できる。従ってペレットウェーハ(10)にクランクが
入ること、並びにダイオード素子ッj−(5)のチッピ
ングを減少できる。またバンブ電極(6” ) (6°
”)・−・を低くすることにより、その高さを均一化で
きるから、第6図で説明したようなバンブ電極(6)(
6)・・・−の高低差に起因する歪み力の発生を防止し
て、上記クランク並びにチッピングの発生を減少できる
。
に高さが低く、且つ台形状のバンブ電極が形成されたペ
レットウェーハ(10)は、先に説明した第5図及び第
6図に示した切断分離方法又は第7図に示した切断・分
離方法によって各ダイオード素子ごとに分離される。こ
の場合高さが低く且つ平坦な台形状のバンブ電極(6”
) (6” )・−を有する面は、第11図又は第12
図に示すように切り離し時に下になるようにする。この
切り離し時に上方からの押圧力はバンブ電極(6” )
(6’”)−の面積が大きくなった平坦な面で受けら
れるから、ペレットウェーハ(10)を安定性良く支持
することができ、分断時に無理な力が作用するのを防止
できる。従ってペレットウェーハ(10)にクランクが
入ること、並びにダイオード素子ッj−(5)のチッピ
ングを減少できる。またバンブ電極(6” ) (6°
”)・−・を低くすることにより、その高さを均一化で
きるから、第6図で説明したようなバンブ電極(6)(
6)・・・−の高低差に起因する歪み力の発生を防止し
て、上記クランク並びにチッピングの発生を減少できる
。
なお、本発明の双方向性ツェナーダイオードペレット(
5)の寸法の一例を第13図に示す。すなわち−辺りが
350μ1m角で厚みtが300〜400 p mのダ
イオードペレット(5)では、高い方のバンブ電極(6
)の高さHは50〜70μmにし、低い方のバンブ電極
(61′)の高さhは10〜30μmにする。なおバン
ブ電極の高さが10μm未満になると第゛1図に示す0
110ダイオード封止構造にダイオードペレットを封入
する際、スラグ部(2b)のCu、、 Fe5Ni等の
金属がダイオードペレット(5)内のPN接合部まで到
達し合金化して特性を劣化させる恐れがあるので、10
μm以上の高さは確保する必要がある。
5)の寸法の一例を第13図に示す。すなわち−辺りが
350μ1m角で厚みtが300〜400 p mのダ
イオードペレット(5)では、高い方のバンブ電極(6
)の高さHは50〜70μmにし、低い方のバンブ電極
(61′)の高さhは10〜30μmにする。なおバン
ブ電極の高さが10μm未満になると第゛1図に示す0
110ダイオード封止構造にダイオードペレットを封入
する際、スラグ部(2b)のCu、、 Fe5Ni等の
金属がダイオードペレット(5)内のPN接合部まで到
達し合金化して特性を劣化させる恐れがあるので、10
μm以上の高さは確保する必要がある。
また、ダイオードへレット(5)の表裏のバンブ電極(
6’) (6”′)を共に低くすると、封入時のクッシ
ョン効果が弱まり、ダイオードペレット(5)のPN接
合部にストレスがかかり、電流のリーク等が発生ずる恐
れがあるから、結局本発明のように、表裏のバンブ電極
(6)(6°゛)を高いものと低いものとの組合せにす
る必要がある。
6’) (6”′)を共に低くすると、封入時のクッシ
ョン効果が弱まり、ダイオードペレット(5)のPN接
合部にストレスがかかり、電流のリーク等が発生ずる恐
れがあるから、結局本発明のように、表裏のバンブ電極
(6)(6°゛)を高いものと低いものとの組合せにす
る必要がある。
ハ0発明の効果
本発明によれば、双方向性ツェナーダイオードのダイオ
ードペレットをペレ7+・ウェーッ\から分離する際に
ペレットウェーッ\を安定性良く固定できるから、分離
時にペレットウェーッ\にクラックが入ること、並びに
分離されたダイオードペレットへのチッピングが防止さ
れ、双方向性ツェナーダイオード素子製造の飛曜的な歩
留り向上、並びに特性向上の効果がある。
ードペレットをペレ7+・ウェーッ\から分離する際に
ペレットウェーッ\を安定性良く固定できるから、分離
時にペレットウェーッ\にクラックが入ること、並びに
分離されたダイオードペレットへのチッピングが防止さ
れ、双方向性ツェナーダイオード素子製造の飛曜的な歩
留り向上、並びに特性向上の効果がある。
第1図は0110ダイオードの構造を示す断面図、第2
図は双方向性ツェナーダイオードペレットの構造を示す
断面図、第3図及び第4図は双方向性ツェナーダイオー
ドを製造するためのべレフトウェーへの側面図及び平面
図、第5図及び第6図は夫々ペレットウェーハからダイ
オードペレットを切断分離する方法を説明する断面図、
第7図はペレットウェーハからダイオードペレットを切
断分離する第2の方法を゛発明する断面図、第8図はチ
ッピングが生じた従来のダイオードペレットの斜視図、
第9図はバンブ電極の高さに差がある場合にブレーキン
グによってクランクが入る状態を示す断面図、第10図
は本発明のダイオードペレットを得るための第1の実施
例によるペレットウェーハの断面図、第11図及び第1
2図は夫々本発明に係るペレットウェーハを切断分離す
る作業を示すペレットウェーハの断面図、第13図は本
発明に係るダイオードペレットの寸法例を示す正面視し
た外形図である。 (5)−・−ダイオードペレット、 <6) (6”
)・−・−バンブ電極。 (11)
図は双方向性ツェナーダイオードペレットの構造を示す
断面図、第3図及び第4図は双方向性ツェナーダイオー
ドを製造するためのべレフトウェーへの側面図及び平面
図、第5図及び第6図は夫々ペレットウェーハからダイ
オードペレットを切断分離する方法を説明する断面図、
第7図はペレットウェーハからダイオードペレットを切
断分離する第2の方法を゛発明する断面図、第8図はチ
ッピングが生じた従来のダイオードペレットの斜視図、
第9図はバンブ電極の高さに差がある場合にブレーキン
グによってクランクが入る状態を示す断面図、第10図
は本発明のダイオードペレットを得るための第1の実施
例によるペレットウェーハの断面図、第11図及び第1
2図は夫々本発明に係るペレットウェーハを切断分離す
る作業を示すペレットウェーハの断面図、第13図は本
発明に係るダイオードペレットの寸法例を示す正面視し
た外形図である。 (5)−・−ダイオードペレット、 <6) (6”
)・−・−バンブ電極。 (11)
Claims (1)
- (1) バンプ電極をダイオードペレットの表裏面に形
成した双方向ツェナーダイオードにおいて、一方面のバ
ンプ電極を、他方面のバンプ電極の高さより低く且つ台
形状にしたことを特徴とする双方向性ツェナーダイオー
ド。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58226154A JPS60117643A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 双方向性ツエナ−ダイオ−ド |
KR1019840007947A KR850005168A (ko) | 1983-11-29 | 1984-12-14 | 쌍방성 제너 다이오우드 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58226154A JPS60117643A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 双方向性ツエナ−ダイオ−ド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60117643A true JPS60117643A (ja) | 1985-06-25 |
Family
ID=16840703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58226154A Pending JPS60117643A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 双方向性ツエナ−ダイオ−ド |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60117643A (ja) |
KR (1) | KR850005168A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3818894A1 (de) * | 1987-06-05 | 1988-12-22 | Hitachi Ltd | Lottraeger, verfahren zu dessen herstellung und verfahren zur montage von halbleiteranordnungen unter dessen verwendung |
JP2009100592A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Viscas Corp | 電力ケーブル接続部 |
-
1983
- 1983-11-29 JP JP58226154A patent/JPS60117643A/ja active Pending
-
1984
- 1984-12-14 KR KR1019840007947A patent/KR850005168A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE3818894A1 (de) * | 1987-06-05 | 1988-12-22 | Hitachi Ltd | Lottraeger, verfahren zu dessen herstellung und verfahren zur montage von halbleiteranordnungen unter dessen verwendung |
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KR850005168A (ko) | 1985-08-21 |
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