JPS5986275A - 極低温電流リ−ド装置 - Google Patents
極低温電流リ−ド装置Info
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- JPS5986275A JPS5986275A JP57195965A JP19596582A JPS5986275A JP S5986275 A JPS5986275 A JP S5986275A JP 57195965 A JP57195965 A JP 57195965A JP 19596582 A JP19596582 A JP 19596582A JP S5986275 A JPS5986275 A JP S5986275A
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Landscapes
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は超電導装置の電流鴫入部である極低温電流リー
ド装置に関する。
ド装置に関する。
超電導装置は超箪編コイルを一269℃の液体ヘリウム
で冷却して超電導状態にし、これ(二通電することによ
ってほとんど無損失で強磁界を発生するものである。液
体ヘリウムは蒸発114熱が小さく蒸発し易いので、超
電導装置は具菫W1熱層を設けて熱伝導の距離を長くし
たり、助熱材を用いて極力侵入熱を少くしてヘリウム冷
凍機の負担を小さくしている。熱の侵入経路は超゛屯等
コイルを支持する支持部杓、ヘリウムの和排管からの熱
伝導経路、真空Wr熱層からの輻射伝熱経路、電流9−
ドからの熱伝導経路などがあるが、′電流リードからの
侵入熱は他に較べてかなり大きいため、その低減策が種
々試みら肚ている。
で冷却して超電導状態にし、これ(二通電することによ
ってほとんど無損失で強磁界を発生するものである。液
体ヘリウムは蒸発114熱が小さく蒸発し易いので、超
電導装置は具菫W1熱層を設けて熱伝導の距離を長くし
たり、助熱材を用いて極力侵入熱を少くしてヘリウム冷
凍機の負担を小さくしている。熱の侵入経路は超゛屯等
コイルを支持する支持部杓、ヘリウムの和排管からの熱
伝導経路、真空Wr熱層からの輻射伝熱経路、電流9−
ドからの熱伝導経路などがあるが、′電流リードからの
侵入熱は他に較べてかなり大きいため、その低減策が種
々試みら肚ている。
電流リードは超電導装置の¥温である晶温部から真空断
熱層を貫通して同体ヘリウム容器内の超′セ錯コイルに
接続しているので、通常は銅相の導電部とスデンレスb
idの容器とを伝わる伝導熱お裏び導電部のジュール発
熱が侵入熱となる。従って大電流リードでは導電部の銅
の断面積が大きくなるので伝導熱が増加するため、従来
は液体ヘリウムの蒸発ガスで導゛屯部を冷却する構造を
用い、尋′屯部を出来るだけ良く冷却しXvlシJ−ド
の低温端に熱が伝わらないようにした品性1ii<の慈
父換器の(111造にしている。
熱層を貫通して同体ヘリウム容器内の超′セ錯コイルに
接続しているので、通常は銅相の導電部とスデンレスb
idの容器とを伝わる伝導熱お裏び導電部のジュール発
熱が侵入熱となる。従って大電流リードでは導電部の銅
の断面積が大きくなるので伝導熱が増加するため、従来
は液体ヘリウムの蒸発ガスで導゛屯部を冷却する構造を
用い、尋′屯部を出来るだけ良く冷却しXvlシJ−ド
の低温端に熱が伝わらないようにした品性1ii<の慈
父換器の(111造にしている。
しかしながら、かかる構造のものはrLDL9−ドの7
5メ電部の1iii’を度勾配は商7hA端から低ん(
〜161まで約300’kから4,2°Kまで非1μ梅
的に変化し、熱交換特性にもよるが品温側での変化力鷲
トシしく、低温側では変化か小さい。これは鋼の′電気
抵抗が低l晶側で1 / 100以下(ニー、λ少′す
゛ることと熱伝廊率が20’に@;J+xで篩l晶11
ケよりもかなり人きくなることに起因する。’4流リー
ドの侵入熱、IJ先は29竜部の低77、H端での温度
勾配と熱伝尋率とLυrila積とによって決まるから
、電流リードに銅を用い抽向積を高温端、低温端とも同
一にしているので熱侵入↓fiを大11」に臥少させる
ことかできない欠点があった。
5メ電部の1iii’を度勾配は商7hA端から低ん(
〜161まで約300’kから4,2°Kまで非1μ梅
的に変化し、熱交換特性にもよるが品温側での変化力鷲
トシしく、低温側では変化か小さい。これは鋼の′電気
抵抗が低l晶側で1 / 100以下(ニー、λ少′す
゛ることと熱伝廊率が20’に@;J+xで篩l晶11
ケよりもかなり人きくなることに起因する。’4流リー
ドの侵入熱、IJ先は29竜部の低77、H端での温度
勾配と熱伝尋率とLυrila積とによって決まるから
、電流リードに銅を用い抽向積を高温端、低温端とも同
一にしているので熱侵入↓fiを大11」に臥少させる
ことかできない欠点があった。
本発明は超″屯擲コイルの電流リ−Fを熱侵入爾か少な
い構造にした極低温゛屯vfLリード装Litを提供す
ることを目的とする。
い構造にした極低温゛屯vfLリード装Litを提供す
ることを目的とする。
すなわち、筒体内に奄tAt 9−ドを超mm安定化相
を被覆した複数本の超電編線を間隔を設けて榎数個の仕
切板で保持し、ヘリウムガスの冷却通勤を構成したもの
である。
を被覆した複数本の超電編線を間隔を設けて榎数個の仕
切板で保持し、ヘリウムガスの冷却通勤を構成したもの
である。
以下本発明を同曲に示す一実施例について説明する。図
において、筒体(1)は超箪得装置、のヘリウム容器(
2)およびヘリウム容器(2)の外側の真窒容器(3)
をH通して固着して上方に排出口(la)を設け、同体
(1)の上部には絶縁部祠(4)を介して上部端子(5
)(1) が貫通して固着している。筒体(親のビ]側には板状の
絶縁部拐(6)を内張して固着し、下方に絶(i ?’
rb 44(6)を介して固着する下部端子(’7)に
液体ヘリウム(:幻に浸偵する超?fi寺装り本体の口
出k (9)を接続して、いる。
において、筒体(1)は超箪得装置、のヘリウム容器(
2)およびヘリウム容器(2)の外側の真窒容器(3)
をH通して固着して上方に排出口(la)を設け、同体
(1)の上部には絶縁部祠(4)を介して上部端子(5
)(1) が貫通して固着している。筒体(親のビ]側には板状の
絶縁部拐(6)を内張して固着し、下方に絶(i ?’
rb 44(6)を介して固着する下部端子(’7)に
液体ヘリウム(:幻に浸偵する超?fi寺装り本体の口
出k (9)を接続して、いる。
上?ISl’1lii子(:i)を1・都蟻子(7)と
には超゛も郭素緑に銅またはアルミニウドなどの超?a
醇驚定化祠な被伝した複数本の超箱、堺線tllの端
部をそオtぞれろう付けまたはかしめなどの方法で取付
け、中間部は超電導D1. Lltl)をl1il k
iiを設けて保持する仕切板aυが複数個配設さIして
いる。そして−ト部端子(7)の欠切部分(7a)
、仕切板0Dの切欠tjlS分(lla)、上g15
’+l+i子(5)の切欠部分(5a)をそれぞれジク
ザグに配設し、下部端子(7)側の超?t4.提線(1
oa)は超電へ線曲の被覆した超71!尋安矩化拐を硝
酸などで俗解して薄くし、恨゛屯杓料のhlを少l[<
シである。
には超゛も郭素緑に銅またはアルミニウドなどの超?a
醇驚定化祠な被伝した複数本の超箱、堺線tllの端
部をそオtぞれろう付けまたはかしめなどの方法で取付
け、中間部は超電導D1. Lltl)をl1il k
iiを設けて保持する仕切板aυが複数個配設さIして
いる。そして−ト部端子(7)の欠切部分(7a)
、仕切板0Dの切欠tjlS分(lla)、上g15
’+l+i子(5)の切欠部分(5a)をそれぞれジク
ザグに配設し、下部端子(7)側の超?t4.提線(1
oa)は超電へ線曲の被覆した超71!尋安矩化拐を硝
酸などで俗解して薄くし、恨゛屯杓料のhlを少l[<
シである。
伏に作用をili?、明する。ft1〕休(1)内はヘ
リウム容器(2)内のztK体ヘリウム(8)の蒸発す
るヘリウムガスが切欠部分(7a)、(lia)、(5
a)で形成するジクザグの辿路乞通りυ1出口(1a)
から排出される。超電轡線uIは超”i4E S安定比
相の被位置は電流リードの性能を満足するに足るだけの
61を0右し、超電JQ素線は電流リードの演スi5に
はネーに寄与を期待してぃない。電流リードの低温端で
ある超″4〜線(10a)は蒸発ヘリウムガスで冷却さ
匙て10°に以下となり超電導状態となるから、この部
分でのジュール発熱はなくなる。
リウム容器(2)内のztK体ヘリウム(8)の蒸発す
るヘリウムガスが切欠部分(7a)、(lia)、(5
a)で形成するジクザグの辿路乞通りυ1出口(1a)
から排出される。超電轡線uIは超”i4E S安定比
相の被位置は電流リードの性能を満足するに足るだけの
61を0右し、超電JQ素線は電流リードの演スi5に
はネーに寄与を期待してぃない。電流リードの低温端で
ある超″4〜線(10a)は蒸発ヘリウムガスで冷却さ
匙て10°に以下となり超電導状態となるから、この部
分でのジュール発熱はなくなる。
一力、′4流リーM O) 、!i0′lLA側からO
J熱伝編ハ低?9A端側の超電導線(10a)が超電導
素線によるもののみとなり、超電導相の熱伝編率は一般
に銅やアルミニウムに比較して数百分の1から数十分の
1と非電に小さいため、熱伝編による侵入熱は大巾に減
少する。しかもこの部分はジュール発熱がないから゛従
来の電流リードに比較して大中C二熱侵入量は絨少する
。
J熱伝編ハ低?9A端側の超電導線(10a)が超電導
素線によるもののみとなり、超電導相の熱伝編率は一般
に銅やアルミニウムに比較して数百分の1から数十分の
1と非電に小さいため、熱伝編による侵入熱は大巾に減
少する。しかもこの部分はジュール発熱がないから゛従
来の電流リードに比較して大中C二熱侵入量は絨少する
。
なお上記において、下NIS端子(7)側の超電導線(
10a)は超電棉線四の仮位した尋゛屯材料をl、す離
し除去しても同様の作用が得られる。
10a)は超電棉線四の仮位した尋゛屯材料をl、す離
し除去しても同様の作用が得られる。
また筒体(1)内のヘリウムガスの通路は仕切板0υを
用いてジクザグに構成したが、要旨を変更しない範囲で
熱交換の−良い他の構造にしてもよいことは勿島δであ
る。
用いてジクザグに構成したが、要旨を変更しない範囲で
熱交換の−良い他の構造にしてもよいことは勿島δであ
る。
以上のようじ木うれ明(二よatは、極低温゛屯訛り一
ド装置dにおいて超′屯i41装置の容器に貫イjする
面体の中を助る電b’r 9−ドを超’i4 jM安定
化伺を仮覆した?!、l数木の超′r@、導線を用い液
体へリワムの蒸発するヘリワムガヌでtj7却するよう
にしたので、篩温側からの伝榊熱が誠少し、しかも低1
ota ’[1!llは超゛屯桿状態となってジュール
発熱がなくなり、液体へリクムの侵入熱を大中(二菖少
Jることができる。従って超電j!4装置C′1”、の
熱侵入1註の大半を占める屯υICリード装U1の熱侵
入L(は太「1」(ニアJ1表少することにより、超?
ii睨装置のl′1(洩装置自の負萄を大中には少して
全体的にMi’1−1h的な設備を実現できルすぐれた
効果がある。
ド装置dにおいて超′屯i41装置の容器に貫イjする
面体の中を助る電b’r 9−ドを超’i4 jM安定
化伺を仮覆した?!、l数木の超′r@、導線を用い液
体へリワムの蒸発するヘリワムガヌでtj7却するよう
にしたので、篩温側からの伝榊熱が誠少し、しかも低1
ota ’[1!llは超゛屯桿状態となってジュール
発熱がなくなり、液体へリクムの侵入熱を大中(二菖少
Jることができる。従って超電j!4装置C′1”、の
熱侵入1註の大半を占める屯υICリード装U1の熱侵
入L(は太「1」(ニアJ1表少することにより、超?
ii睨装置のl′1(洩装置自の負萄を大中には少して
全体的にMi’1−1h的な設備を実現できルすぐれた
効果がある。
図は本発明の極低温電流リード装置C1の一実施例を示
す縦Wr面図である。 (1)・・・fi、]休 (1a)・・・
排出口(2)・・・ヘリワム容器 (3)・・・輿
望容器(4)・・・絶縁部杓 (5)・・・上
部端子(13)・・・絶縁=1<拐 (7)・
・・下部端子(8)・・・液体へリクム (9)・
・・1」出線(10) 、 (10a)・・・超電等線
aυ・・・仕切板代理人 弁理士 井 上 −男
す縦Wr面図である。 (1)・・・fi、]休 (1a)・・・
排出口(2)・・・ヘリワム容器 (3)・・・輿
望容器(4)・・・絶縁部杓 (5)・・・上
部端子(13)・・・絶縁=1<拐 (7)・
・・下部端子(8)・・・液体へリクム (9)・
・・1」出線(10) 、 (10a)・・・超電等線
aυ・・・仕切板代理人 弁理士 井 上 −男
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 超電導装置本体を液体ヘリウムに浸偵する容器の
上部にYi岩し上方に排出口を設ける同体と、この同体
の上部に絶縁部杓を介して貝看する上部端子と、削記簡
体の下部に絶縁部杓な介して取付は前記超電導装置本体
に接続する下部端子と、この下部端子と前記上部端子と
の間を接続する超電堺安定化拐を被覆した複数本のAl
!L電棉線と、この蝮数本の超電導線を間隔を設けて保
持し前記1;d体内にヘリウムガスの通るコ1(1路を
形成する複数量の仕切板とからなる極低温電流リード装
置flS1.。 2、超箪桿線の下部端子側の超電尋安定化拐を薄くした
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の極低温″
電流リード装置。 3、超電導線の下部端子側の超電桿安定化杓を剥離して
なくしたことを特徴とする特W日+7求の範囲第1項記
載の極低/lla i上流リード製麹。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57195965A JPS5986275A (ja) | 1982-11-10 | 1982-11-10 | 極低温電流リ−ド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57195965A JPS5986275A (ja) | 1982-11-10 | 1982-11-10 | 極低温電流リ−ド装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5986275A true JPS5986275A (ja) | 1984-05-18 |
Family
ID=16349927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57195965A Pending JPS5986275A (ja) | 1982-11-10 | 1982-11-10 | 極低温電流リ−ド装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5986275A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993021642A1 (en) * | 1992-04-10 | 1993-10-28 | Trustees Of Boston University | Composite lead for conducting an electrical current between 75-80 k and 4.5 k temperatures |
US5324891A (en) * | 1991-07-01 | 1994-06-28 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Superconducting connecting leads having thermal plug |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5134707U (ja) * | 1974-09-06 | 1976-03-15 | ||
JPS56134785A (en) * | 1980-03-26 | 1981-10-21 | Hitachi Ltd | Super conductive device |
-
1982
- 1982-11-10 JP JP57195965A patent/JPS5986275A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5134707U (ja) * | 1974-09-06 | 1976-03-15 | ||
JPS56134785A (en) * | 1980-03-26 | 1981-10-21 | Hitachi Ltd | Super conductive device |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5324891A (en) * | 1991-07-01 | 1994-06-28 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Superconducting connecting leads having thermal plug |
WO1993021642A1 (en) * | 1992-04-10 | 1993-10-28 | Trustees Of Boston University | Composite lead for conducting an electrical current between 75-80 k and 4.5 k temperatures |
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