[go: up one dir, main page]

JPS5983955A - ゲルマニウム含有ケイ酸塩ガラスを包含する光学的組成物の製造方法 - Google Patents

ゲルマニウム含有ケイ酸塩ガラスを包含する光学的組成物の製造方法

Info

Publication number
JPS5983955A
JPS5983955A JP58178376A JP17837683A JPS5983955A JP S5983955 A JPS5983955 A JP S5983955A JP 58178376 A JP58178376 A JP 58178376A JP 17837683 A JP17837683 A JP 17837683A JP S5983955 A JPS5983955 A JP S5983955A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
germanium
glass
optical
sample
gel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58178376A
Other languages
English (en)
Inventor
ジエ−ムス・ウイリアム・フレミング・ジユニヤ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Corp
Original Assignee
Western Electric Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co Inc filed Critical Western Electric Co Inc
Publication of JPS5983955A publication Critical patent/JPS5983955A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/016Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/04Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045Silica-containing oxide glass compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/31Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S65/00Glass manufacturing
    • Y10S65/901Liquid phase reaction process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特に光ファイバーや光学機器のようなゲルマニ
ウム含有ケイ酸塩カラスを包含する光学的組成物を製造
するためのケルカラス処理方法に関するものである。
モノリシックゲル酸化物カラスの製造は、主として慣用
的な処理技術と比較した場合のバルクガラスの製造にお
けるきわ立った差異、およびこnらの差異に起因する高
い均質性および純度のような関連した潜在的な利点のた
めに近ごろ一躍注目を集めている。ケルカラスは緩慢で
連続的な粘度の増加を経て凝固する液体前駆物質から形
成される。理論上、高密度カラスはカラス転移点より2
00℃よりも越えることなく形成される。製造σ〕最初
の工程7J・ら最終工程に至る間、一般的に七〇〕物質
の密度はおよそ2倍に変化し、そのかさ容積はおよそ8
0%に変化fるけれどもその物質は透明を維持する。個
々の酸化物前@物質U〕著(〜く異なる熱的特性0)り
めに、慣用的な技術によっては製造することが困難であ
った多成分組成を、今や高い均質性で混合することがで
き、さらに比較的低い温度で固体カラスに形成fろこと
ができることが太いに期待されている。
G e 02− SiO2二元系のカラスは、その光導
波ファイバーならびに機器て対−「ろ重要性のために特
に関心をもたれている。ケルマニア(Ge02)  は
石英ガラスの屈折率を増大させることが知られている。
石英光ファイバーのコアは典型的にケルマニアを含有し
、低屈折率のクラツド材によって囲まれγこ場合に光工
不ルキーをコアに閉じ込めるのを助けろ。同様に、基質
上に形成さ几定光学的導波路(1低屈折率領域に囲まn
た比較的高屈折率の領域を形成することにより、典型的
に光工不ルキーの伝達を達成する。偏光プリスム、回折
格子、指向性力ブラー、遅延ライン、レンズなどを含む
他の光学的機能は、石英中のより高い屈折率を有する物
質の領域を利用している。
非光学的応用においては、カラスは不動態層として用い
られる;たとえば半導体装置の製造において、ゲルマニ
ウムは石英カラスが流動する温度を典型刊に下げること
が知られている。
今日なされる大部分のケル作業は主成分としてシリコン
アルコキシドを用いることに基ついている;たとえばニ
ス、サッカ(S。
5akka ) l−材料科学および科学技術について
の論説J (Treatise On Materia
ls 5cienceAnd Technology)
、第22巻、4129〜167頁(1982年)参照。
シリコンアルコキシドはゆっくり加水分解し、容易にt
ノリシックケルを形成する。多成分モノリシックゲルを
形成するために、シリコンアルコキッドに他σ〕アルコ
キシドが添加さi y、、が、非光学的性質のカラスと
なるようであろ;シ工−・シュリックティング(J、S
chlichting)およびニス・ニューマン(S、
 Newmann )、j−非晶質固体シャーナルJ 
(Journal ”0fNoncrystallin
e 5olids )、第28巻、第185〜193頁
(1982年)、[多孔性ンリコン含有セラミックスの
酸化抵抗を増大させろケルからのGeO2/S4.O7
−カラス」(GeO2/5i02− Glasses 
from Ge1s t。
Increase the 0xida口on Re5
istance ofPorous 5ilicon 
Containing Ceramics )  参照
。限られた量のGeO2を含有するカラスはコロイドケ
ルを用いこれまで製造され、こ几は加水分解を受けて半
透明の固体を形成することができろ:米国特許第3,9
54,431号参照。加水分解の連間は典型的ンコ速過
ぎてモノリスを生じることができない。こnは好適なカ
ラス製造法ではあるが、得らnる物質の微細構造は、透
明なバルクカラスを得る1こめにドーパントの昇華点よ
り充分高い温度まで加熱しなければならないような構造
のものである。典型的には、ゲルは低い温度で加熱され
、細かい粉Cfc砕かn1続いてアールエフ(rf)プ
ラスマ炎中に注入して俗がさ几ろ。
ドーパントの濃度が増大するにつれて昇華に起因する不
均質性もまた増大する。均質なガラスを製造するために
用いられた先行技術。)限界を越えろゲルマニウムドー
パントレベルを得ることが望まれる。
本発明はゲルマニウムを含有する均質なケイ酸塩カラス
を包含する物品の製造方法である。この技術においては
、加水分解さ7′1.1こテトラペンチルオキシケルマ
ン(TPeOG )  および部分的にガロ水分解され
1こシリコンアルコキシドを包含するゲルを形成する。
ケルはその後十分に乾燥する。目下のところ好ましいシ
リコンアルコキシドはテトラエナルオルトケイ酸塩(T
E01)であるが、他σ)もσ)を使用することも可能
である。
ゲルマニウム含有石英カラスを包含する光学的組成物の
ケル処理法による製造方法にっいて以下詳細に説明する
。ここにおいて用いられる[光学的組成物J (0pt
ical Compo −nent)なる語は、ここで
製造されろカラスを通しての光伝送を利用する物品を意
味する。
したがってこの語は光ファイバー、光学曲溝、岐路、お
よび偏光プリズム、回折格子、指向性カプラー、遅延ラ
イン、レンズなどを含む他の光学機器を含む。同様にこ
こに用いられろ「実質的に包含する」なる語は、それが
ケルの成分に言及している場合は、その成分が、得らn
る乾燥カラスの少なくとも1モルパーセントを形成する
のに十分な量として存在することを意味fろ。「金属ア
ルコキシド」なる語は、ケル中の、ケルマニワム、ケイ
素、リンなど本技術分野における慣習に従って考えられ
るあらゆる金属アルコキシドを意味する。「均質」なる
語はカラスが顕微鏡スケールで均質であることを意味す
る。これは得られるガラスが不透明ないし曇っていると
いうよりもむしろ透明な性質を帯びることから特徴的に
明らかである。得られろ高置の均質性はま1こカラスの
低いレーり散乱によって特徴づけられろ。しかし、カラ
スの組成は比較的大キナスケールで変化する:すなわち
、ゲルマニウムのレベルはカラス中において変化するこ
とができ、例えば光ファイバーや他の光学的構成部分内
への光の閉じ込めを生じる。
ゲルマニウムケイ酸塩カラスの製造にモノリシックゲル
法を使用するために、シリコンアルコキシドと融和し得
るゲルマニウム含有化合物を見い出す必要があった。最
も普通に用いら几るシリコンアルコキシドはテトラエチ
ルオルトケイ酸塩(TE01)、 St (OC2Hs )4である。その化合物σ)い(
つかの通例の特徴は以下のようであるべきである:(1
)化合物は室温あるいはそれに近い温度において液体で
なければならない;(2)化合物はTE01と混和可能
であり、加水分解し得る化合物でなければならない;(
3ン化合物はTE01と混合した場合、ゲル成形中に2
つの液体の分離が生じないような条件と同様の条件の下
でTE01の加水分解速度に近い速度で/J[]水分解
するものでなければブ、Cらな℃・。
メチル−、ブチル−1およびペンチル−ケイ酸塩を含む
他のシリコンアルコキシドもまKそれらのケル形成特性
の点で好適であり、ここに含まれろ。
多数のゲルマニウム化合物が試験され、最初に有効性お
よび室温におけろ相を基礎として選択さfLだ。それら
を表IK示すが、そのすべてがTE01の同族体である
。そ7’Lかも混相可能なOH含有ゾルが形成さn得る
か否かを識別するためにこれら化合物をTE01、水、
アt’トン、酢酸、種々のアルコール、塩酸および水酸
化アンモニウムと種々の組み合わせで結合させた。混合
は種々の順序で、異なった温度において行なった。N要
な応答はその物質が上記の特性な満足するかどうかとい
うことであった。
表1 テトラメチルオキシゲルマン (T M OG )  Ge(OC& )4テトラエチ
ルオキシゲルマン (T E OG )  Ge(OC2H6)4テトラブ
チルオキシゲルマン (T B OG )  Ge(OC4Ho )4テトラ
ペンチルオキシゲルマン (T P e OG )  Ge(OCsH++)+テ
トラヘキシルオキシケルマン (T HOG )  Ge(QC61(+3 )4テト
ラプロピルオキシゲルマン (T P r OG )  Ge(OC3H7)4テト
ラプロピルオキシゲルマン(TPrOG)、テトラブチ
ルオキシゲルマン(TBOG)、テトラペンチルオキシ
ゲルマン(TPeOG’)。
およびテトラヘキシルオキシケルマン (THOG)は実験室で製造しなけ几ばならなかつtこ
。用いた処理方法はアメリカ化学会ジャーナル(Jou
rnal Of TheAmericanChemic
al 5ociety)、第75巻、第718〜720
頁(1953年)、エイチ、オー、ションンン(H,0
0Johnson ) :uよびエイチ。
イー、フリツツ(H−E、 Fr1tz )著、「テト
ラアルコキシケルマンJ   (Tetraalkox
ygermanes)に報告さ几たものに近いものであ
つ1こ。フラスコには還流冷却器、および乾燥室系発泡
機構を取り付けfこ適下管を備え付け1こ。反応混合物
を攪拌するにはテフロン製σ)シャフトと羽根を備えた
電動スターラーが有ノ 効であつ1こ。Ge  に結合するアルコキシドはフラ
スコ中で金属Na  と反応してナトリウムアルコキシ
ドを生成した。結合は化学量論的であつ1こ。この反応
は最初は発熱的であるので容器を冷却した。終結に近つ
くと反応は遅くなるので速度を上げるため加熱を行なつ
1こ。
反応α)結果は−すべての場合クリアな液体であつfこ
。しかし、イソプロピルアルコールとの反応πよろ生成
物は室温で非常に粘着性が太きかった。次いでナトリウ
ムアルコキシドにGeα4を滴Fした。Ge  アルコ
キシドおよびNaty!’&形成するこの反応もやはり
発熱的であろθ)で再び外部冷却を行なった。反応が完
了したのち、遠心分離機と真空ろ過によりNaCt  
を除去し1こ。次いでクリアーな液体を還流し過剰のG
eα4とアルコールを除去しγムTEO8とのモノリシ
ックケルの形成に好適な特性を有する化合物の追求にお
いて、重要な応答はゲル化前またはケル化中における沈
殿生成であった。コロイドケルに関fる従前の研究から
四塩化ゲルマニウム、テトラメチルオルトゲルマニウム
酸塩、およびテトラエチルオルトゲルマニウム酸塩は−
tべてTE01と混和し得ることが知られている。
上記の米国特許第3,954.431号参照。しかしこ
の初期の経験では、加水分解の速度をモノリシックケル
を形成fるような点まで低下させることができることを
暗示するようなものは−切なかった。メチル−およびエ
チル−オキシケルマンを使用し得る可能性をさらに調査
す・5ために、それらを夫々TgO8と共に数時間還流
した。その目的は加水分解の速度を低下させ、均質化す
る何らかの予備反応が達成されるかどうかを確認するこ
とであった。還流した混合物と、少量加えた他の使用で
きるOHトナーとを組み合わせろと、すべての場合液体
ゾル中の白色物質の沈殿となつTこ。こ几はおそら< 
G e OHx  であろう。混合物および化合物をそ
れらがほとんど混合不可能である溜1度まで冷却しても
やはり効果がなかつ1こ。再び白色沈殿が形成し同じよ
5VC失敗し1こ。
上記の有機金属が商業的に利用し得ることが判明した唯
一のものである。上述し1こものに加え、表1ycは高
分子量のいくつかのゲルマニウムアルコキシドを掲載し
である。
T BOGもまたすべての試験条件においてあまりに速
く加水分解し過ぎて実用的な二酸化ケルマニウム前駆物
質にシまなり得なかった。
TPrOGは室温で粘着性が太き過ぎて実用的であると
は考えられなかった。THOGは室温で粘着性が太き過
ぎて取扱いにくがっに0本発明者は表1に掲げたゲルマ
ニウムアルコキシドσ〕5ちTE01とのモノリシック
ケルの形成に好適な唯一のものはTPeOGであること
を発見した。モノリシックゲル形成の見込みのあるゲル
マニウムアルコキシトラ得た(7)−C−1史に!¥f
殊な実験を行なっブこ。
TE01とTP e OGとの混合物を上に掲げた他の
液体と組み合わせ、ゲルにした。この方法は可能な組合
せをさらに明確にした。より有望なのはT P e O
G ST E OS 、  H201エタノール、ペン
タノール、およびHαであった。後者は触媒として用い
た:非結晶性固体ジャーナル(Journal Of 
NoncrystallineSolids) 、第3
7巻、第191〜2o1頁(1980年)、エム、ノカ
ミ(M、 Nogami)およびワイ、モリャ(Y、 
Moriya )著、[NH4OHおよびHffmfi
を加えr、ニー s4(OC2Hs)4の加水分解を経
るカラス生成J (GlassFormation T
hrough Hydrolysis ofSj(OC
2H5)4 Wlt)I  NH40Hand HCl
5olutiOn)参照。この系を調べるために以下の
実験を行なった。金属アルコキシド1モル当1)のH2
Oのモル数で定義さ几ろrが0.7、■、33  およ
び2であるようなモル比でTE01を脱イオン水に数分
にわたって混合した。次いで水相し1こTEO8混合物
を予め決定した量のTPeOGおよびペンタノール;お
よびアルコキシド1モル当りυ、υ、026゜0.05
3モルのHαと混合した。作ら几た組成を表Hに示す。
試料は直径9Crnのパイレックスざらに入れて蓋をし
た。各混合物の一対の試料を室温(23’C)環境下と
大気に開放l−た50しり〕オーブン中に置き、ケル化
させた。すべての試料は最終の混合の後数時間以内にケ
ル化した。ゲル化に続いて室温装置いた方Q〕試料を他
のものと一緒KW−ブン内に置いTこ。50℃における
合計時間は2週間であった。続いてこの物質を乾燥N2
を満たしたチャンバー内で室温でさらに乾燥した。lケ
月後、試料片を大気に開放L 7.−電気抵抗式マツフ
ル炉内で、750’C,900C及び1000℃で8時
間加熱した。炉は20 C/hour  の割合で加熱
しまた。均熱に続いて七7tらを炉の最大冷却速度で冷
却した。
上述したことに加え、以下の説明を付す。
TPeOGは沈殿の生成が明らかとなるまでに、H2O
を含む加水分解用液体とr = 4まで結合し得ること
が判った。このTE01゜TPeOGおよび水の結合は
結合すべき散体を冷却することにより促進される。本発
明者らが今までに見い出したもっとも有望なO■ドナー
は水である。しがし酢酸およびアセトンもまた可能なも
のの−っである。反応成分を結合させる最良の方法は、
最初VcH20をSi(OC2H5)4  と予備混合
し、エタノールを添加するか約40’Cに加熱するかし
て均質な浴液を調整することである。
ト  ト  ト  η  吟  η −1・・・・・・ 0  0  0   x   x   x   N  
 〜  凶実施例1 これらの最初の実験ではTE01と TPeOGとの固定した組合せを3つの異なった水分と
混合し、且つそれらのそれぞれを3つの異なった触媒と
混合した;表■の試料1ll−233参照。試料より得
られるカラス中のGeO2σ〕平均的期待濃度は約30
から36モルパーtントまで調整する。23℃または5
0Cにおけるケル化ののち試料の強度、透明度、色彩、
割れの数、均質性、Ge 含量および気泡含量を調べる
検査をした:表IIIおよび■参照。表■および表■に
おいては、上記の要素についての主観的評価を行ない、
■から4までの等級を付けた:l=最悪、4−最良。透
明度を基礎として、最初に室温に維持し1こr = 2
の試料を除外することができた。
これらは乾燥後、不透明白色であった。加つるに両方の
ケル化雰囲気においた最高の酸含量を有′fるいくつか
の他の試料も同じく不透明であった。すべての場合、有
機金属の相分離が考えらオする原因である。50’Cで
ケル化し7たr = 2の試料はその表面に白い被覆を
有し7て16す、ケル化中における分離を示していf二
。ケル化の1こめに室温に維持した試料もゲル化の遅い
試料と同じ問題を示した゛それらは触媒無しか、中間の
触媒含准でかつ低水分σ〕ものである。従って均質性に
関しては、もし沈殿か避は得ろならば急速なケル化が好
都合であると考えられる。50℃におけろ再度α〕乾燥
後シよ、それまで不透明白色とならなかつムニ室温でケ
ル化した試料も、r=0.7で最高の酸濃度を有fろ試
料化除いては不透明白色となった。この試料に加え、5
0℃でゲル化しプこr=0.7およびr−=1.33の
試料V″!、!、透明のままであった。これらは室温に
おける再度の乾燥を経てもそのままであつ1こ。
次にM要な応答は得ら几γこ乾燥LTこ試料片のサイス
である。すべての試料は少なくとも数片に割れた。モル
化後透明で均質であった7つの試料の破片は平均1 c
m2X O,3tyn厚であった。最も大きな破片は約
4cni×o、3crn厚であった。これは50℃でゲ
ル化したr−1,33でHα無添加の試料であっ1こ。
ゲル化の条件に無関係てすべでの試料の破片を、すべて
空気雰囲気中で上記の加熱スケジュールに従い750C
1900Cおよび1000cで焼成した。唯試料112
σつ場合のみでは初期における不満足な試料θ〕状態が
熱処理により改善された。試料113は室温でケル化し
1こ結果かなり良好な透明性および均質性を示し1こが
、750 CKおけろ加熱後シまかすかに乳白色を示し
た。900’Cに加熱後にほとんど不透明白色を示し、
l O00Cに加熱後は発泡し始めた。これは捕捉さi
tたアルキル基を有する試料の特徴である。fべてV)
加熱な経1こθ〕ち、50’Cでケル化し7j r=0
.7の試料は割7してクリヤーなカラスの非富に小さな
破片になった。
表In 4−最良、   ■−メ 111       3       2      
 1       1112      ;う    
  2     2     2113       
3       3       2       1
121      2      2        
     2122      3      3  
    1      1.5123      3 
     4      1       ]1 3 
1      1      −      −   
   11 32       t       −−
113321−IJ、5 沙悪 1   1        2 3    3    3    3 1i          3 ■−−4 ]、     l          11    2
         2 ■−−4 −−2 1    2         1 表■ 4=最良、  ■=最悪 211    4    4    3    221
2    4    4    4    1213 
   4    4    4    1J、5221
    4    4    3    2222  
  4    4    2    1223    
4    4    2    1231    3 
   2    1    0.52 3 2    
    3        2        1  
      0.52 3 3        2  
      2        1        0
.29000加熱 3      3       3       14
      4       4       11 
      −       −       14 
     4      4       44   
   4      4       33     
 3      3      33      3 
     4      41        2  
      1        12       3
       1       1実施例2 50℃でゲル化したr=1.33’&有する試料は75
0℃で焼成するとクリヤーなカラスになり、青くかすん
だ外観によって示されるごく少量の散乱を示した。試料
221と222が900℃での焼成ののちは散乱がなか
ったが、たとえHe −Ne  レーサーで照射した場
合でも何れも最小の散乱を示した。これらの試料中には
1ooo℃での熱処理の後は発泡の形跡が残つTこ。こ
nはよりゆっくりした熱処理により取除かれろ。焼成中
にこれらの試料中にさらに割1”Lが生じた。酸触媒無
しか、または0.026モルを加えて作った試料はさら
にわずか1個または2個の破片に割几Tこ。最高Q)酸
含量の試料は高温焼成中にさらにわずかに広範囲に割れ
7こ。50℃でゲル化した、低位又は中位の触媒含量の
r=L33の試料221および222は、Ge 02−
&02カラスの製造に対し最も有望であることを示した
OHとアルコキシドが除去さ几ろ温度を確認するため、
焼成に先立ち、上記のケルの試料なTGAにより室温か
ら100Ocまで5℃/鵡で分析した。最良のゲル(試
料221)についてのTGA曲線は以下のことを示す:
50C乃至150℃の温度範囲にわたって7パーセント
の重量損失が生じ、吸収されたH2Oの損失を主として
示している:150Cから350℃までは曲線は比較的
平坦である。
そして350℃乃至500℃の範囲にわたって5パーセ
ントの重量損失を生じ、吸収されたH2Oおよび残留有
機物質の損失を示す。
500℃以上では有機物質の1重量パーセントの損失を
示す。
0.5893ミクロンにおける屈折率は1.4920で
あり、試料が予想より低いゲルマニウム含量を有するこ
とを示す。屈折率、熱膨張係数(4XlO−’)、およ
びガラス転移温度(695℃)は28モルパーセントの
GeO2を含有する組成であることを示す。最終カラス
へのGeO2の導入量が予想よりこのよ5vc低いのは
出発物質たるTPeOG中のアルコール不純物によるも
のと考えられろ。
他グ)七ノリシックケル生成系について、ゲルの微細構
造は浴液中の初期の水分に依存することがわかった。こ
こに述べたような低水分3敏のモノリシック法を経ての
カラスの製造は、一般的に外延的重合を生ずる。もし水
分が、完全な加水分解に必要な量よりかなり過剰である
と、得られろケルはコロイド粒子を形成する。この棟0
)ケルでは、良好なモノリシックケル形成のため目的の
水分は10モル1モル以上でなければならない。高水分
Q〕利点は七ノυシックケルの大きなかけらが製造でき
ろことであるが、一般VC数百度高い温度が必要になる
:上記のノカミ(Nogami)の文献参照。+:のよ
5な高水分のシリカゲルが最近、形成、乾燥、焼成さ几
、低損失ファイバーに延伸さ才t1こ:エレクトロニク
スレターズ(Electronics Letters
 )、第1巻、第499〜500頁(1982年)、ケ
ー、スーサ(K、 5usa )も著、[新しい光フア
イバー製造法J (New 0ptical Fibr
e Fabrica −tion )  参照。
ここに述べたTE01−TPeOGモノリシックゲル系
は、もし、初期浴液の均質性が維持さ几ろならば、完全
な加水分解にちょうど十分な水θ〕量までに明らかに制
限さ几る。多数の部分的に加水分解きnだ金属イオンと
の外延的な重合は糸がそのように異なった加水分解速度
を有する有機金属を含有する場合には好ましい反応であ
る。これらの実験で行なつ1こよ5なより遅い反応物質
fこるTE01とH2Oとσ)部分的な予備反応は均質
な浴液および得しれろケルにとって有利である。外延的
な重合および部分的な橋かけ結合は一般的にTg(カラ
ス転移温度)領域におけろ低温度稠密化を促進fると考
えられろ。しかし、もし加水分解が不完全であるとアル
キル基シエ刀うス微小細孔構造中に促えもれてしまう。
こ2”LがT8(刀うス軟化侶度〕以上の温度において
ガラス中での発泡を引き起こ−「ことがある。浴液シ工
非常にゆっくり熱処理を行ない、TGAで観察された臨
界温度において均熱−する。こitらの実験では、20
C/hr  O熱処理が高温でQ〕発泡を避けろために
十分なもσ)と考えら才する。
上記の実験で最良の結果が得も′nだのは試料221.
222および223であり、こnらはアルコキシド1モ
ル当り1.33モルの水を含有しており、これを50′
Cで急速にゲル化1〜、室温において乾燥箱中vc 1
ケ月放置L〜で乾燥(〜、次いで20℃/hour  
の速度で90tJCまで焼成し1時間そのまま保持し1
こものであつ1こ。同様の製造方法を用い、良好な特性
ケ有fる広範囲の組成物を製造し1こ。
」二記0)製造方法な修正して完全なG e 02−5
i022元系を被覆イるカラスを製造することができf
こ。
光学機器を製造する場合、本方法は基質上の比較的薄い
カラス被膜あるいはバルクカラスの小片を作ろ1こめに
代表的に用いられる。
その後エツチング、拡散または不純物の注入を含む操作
を行なうことができる。光ファイバーを製造する場合、
本方法により直径を異にする一連の管を製造することが
できろ。管壁は比較的薄くに、典型的には1ミリメート
ルのオ゛−ダーで作ることができ、ケルの乾燥の際の割
れの問題を最小にできろ。小径の管?大径の管に挿入し
て光ファイバーを紡糸するためのプリフォームを形成す
ることができろ。このブリフォーみは光ファイバー〇〕
技術分野において既知の手法に従い、ファイバーに紡糸
する前にロラプスによりその中空部?なくすことができ
る。本発明て従って製造さ几たカラスを用いγこ光ファ
イバーおよび光学機器を製造するため、他の幾例学的手
法および操作を使用fることができる。
さらに低い光学的損失が要求されろ場合にはカラスから
さらに水(OH)  を除去することができる。たとえ
ば、高められた温度において塩素中で乾燥することによ
りさらに水を除去できる。本発明の方法により例えばリ
ン、ホウ素、フッ素などの他のドーパントをカラス中に
注入することができろ。これにより本技術分野における
既知の考え方に従い、屈折率、または融点、または熱膨
張係数あるいは他の特性を改変することができる。
出  願  人  、  ウェスターン エレクトリッ
ク刀ムパニー、インコーボレーデツド 361−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■ 加水分解されたシリコンアルコキシドおよび加水分
    解さ几1こゲルマニウム含有化合物を実質的に包含する
    ゲルを形成し、該ゲルを実質的に乾燥することを包含す
    る特に光ファイバーや光学機器のようなゲルマニウム含
    有ケイ酸塩カラスを包含する光学的組成物の製造方法に
    おいて、前記の加水分解されたゲルマニウム含有化合物
    として加水分解されたテトラペンチルオキシゲルマンを
    用いることを特徴とする光学的組成物の製造方法。 2 シリコンアルコキシドがテトラエチルオルトケイ酸
    塩であることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
    の方法。 3 金属アルコキシド1モル当り4モルより少ない水に
    よりゲルを形成することを特徴とする特許請求の範囲第
    1項または第2項に記載の方法。
JP58178376A 1982-09-28 1983-09-28 ゲルマニウム含有ケイ酸塩ガラスを包含する光学的組成物の製造方法 Pending JPS5983955A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/425,692 US4477580A (en) 1982-09-28 1982-09-28 Method for making germanium-silicate gel glass and articles
US425692 1982-09-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5983955A true JPS5983955A (ja) 1984-05-15

Family

ID=23687641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58178376A Pending JPS5983955A (ja) 1982-09-28 1983-09-28 ゲルマニウム含有ケイ酸塩ガラスを包含する光学的組成物の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4477580A (ja)
JP (1) JPS5983955A (ja)
DE (1) DE3335106A1 (ja)
FR (1) FR2533551B1 (ja)
GB (1) GB2127399B (ja)
NL (1) NL8303308A (ja)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6191024A (ja) * 1984-10-05 1986-05-09 Seiko Epson Corp 円筒状シリカ系ガラスの製造方法
FR2596909B1 (fr) * 1986-04-08 1993-05-07 Tech Nles Ste Gle Procede d'immobilisation de dechets nucleaires dans un verre borosilicate
US4767429A (en) * 1986-12-11 1988-08-30 American Telephone & Telegraph Co., At&T Bell Laboratories Glass body formed from a vapor-derived gel and process for producing same
US4765818A (en) * 1987-02-24 1988-08-23 Hoechst Celanese Corporation Porous glass monoliths
US4810674A (en) * 1987-02-24 1989-03-07 Hoechst Celanese Corp. Porous glass monoliths
US4937013A (en) * 1987-04-10 1990-06-26 Hoechst Celanese Corp. Process for preparing liquid crystalline polymer composites
US4944895A (en) * 1987-04-10 1990-07-31 Hoechst Celanese Corp. Process for producing liquid crystalline composites
US5254508A (en) * 1991-12-12 1993-10-19 Yazaki Corporation Sol-gel process for forming a germania-doped silica glass rod
US5910680A (en) * 1991-12-16 1999-06-08 Motorola, Inc. Germanium silicate spin on glass semiconductor device and methods of spin on glass synthesis and use
US5358776A (en) * 1992-01-31 1994-10-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Lightweight aerogel reflector
US5655046A (en) * 1994-12-14 1997-08-05 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Glass composition, optical fiber made of same, and method for preparing glasses
JP2775416B2 (ja) * 1995-12-08 1998-07-16 工業技術院長 紫外光照射により体積変化するガラス材料
US5783498A (en) * 1996-05-28 1998-07-21 Nec Corporation Method of forming silicon dioxide film containing germanium nanocrystals
US5935483A (en) * 1997-04-29 1999-08-10 Yong-Mi Kim Multi-purpose mineral powder and its process
US6442977B1 (en) * 2000-06-20 2002-09-03 Fitel Usa Corp. Sol-gel process for fabricating germanium-doped silica article
US6620368B1 (en) 2000-07-13 2003-09-16 Simax Technologies, Inc. Sol-gel process for production of oxide-based glass and ceramic articles
US7125912B2 (en) * 2001-10-09 2006-10-24 Simax Technologies, Inc. Doped sol-gel materials and method of manufacture utilizing reduced mixing temperatures
US7026362B2 (en) 2001-10-09 2006-04-11 Simax Technologies, Inc. Sol-gel process utilizing reduced mixing temperatures
US7000885B2 (en) * 2002-02-01 2006-02-21 Simax Technologies, Inc. Apparatus and method for forming a sol-gel monolith utilizing multiple casting
US20040194511A1 (en) * 2002-02-01 2004-10-07 Chih-Hsing Cheng Sol-gel-derived halogen-doped glass
US20030147606A1 (en) * 2002-02-01 2003-08-07 Shiho Wang Sol-gel-based optical preforms and methods of manufacture
US6928220B2 (en) * 2002-02-01 2005-08-09 Simax Technologies, Inc. Sol-gel-derived optical fiber preform and method of manufacture
US7001568B2 (en) * 2002-02-01 2006-02-21 Simax Technologies, Inc. Method of removing liquid from pores of a sol-gel monolith
US20070253668A1 (en) * 2004-12-08 2007-11-01 Nanyang Technological University Method of Producing Germanosilicate with a High Refractive Index Change
JP5741685B2 (ja) * 2011-06-01 2015-07-01 トヨタ自動車株式会社 電極活物質の製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3884550A (en) * 1973-01-04 1975-05-20 Corning Glass Works Germania containing optical waveguide
US3954431A (en) * 1974-09-26 1976-05-04 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Optical glass and its production
US4220461A (en) * 1978-04-06 1980-09-02 Mrinmay Samanta Low temperature synthesis of vitreous bodies and their intermediates
JPS55100231A (en) * 1979-01-19 1980-07-31 Hitachi Ltd Production of optical fiber base material
EP0029590B1 (en) * 1979-11-21 1984-03-21 Hitachi, Ltd. Method for producing optical glass
US4278632A (en) * 1980-02-08 1981-07-14 Westinghouse Electric Corp. Method of conforming clear vitreous gal of silica-titania material
JPS57191221A (en) * 1981-05-22 1982-11-25 Hitachi Ltd Production of porous substance

Also Published As

Publication number Publication date
GB8325792D0 (en) 1983-10-26
GB2127399A (en) 1984-04-11
FR2533551A1 (fr) 1984-03-30
NL8303308A (nl) 1984-04-16
GB2127399B (en) 1986-07-16
FR2533551B1 (fr) 1985-10-18
DE3335106A1 (de) 1984-03-29
US4477580A (en) 1984-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5983955A (ja) ゲルマニウム含有ケイ酸塩ガラスを包含する光学的組成物の製造方法
Yoldas Formation of titania-silica glasses by low temperature chemical polymerization
Zarzycki Past and present of sol-gel science and technology
US4851150A (en) Drying control chemical additives for rapid production of large sol-gel derived silicon, boron and sodium containing monoliths
CA2343726C (en) Sol-gel preparation of silica or silica-based vitreous films
US5182236A (en) Gradient index glasses and sol-gel method for their preparation
Jabra et al. Synthesis of binary glass-forming oxide glasses by hot-pressing of gels
Zhang et al. Preparation of transparent methyl-modified silica gel
Uhlmann et al. The ceramist as chemist-opportunities for new materials
Mukherjee Homogeneity of gels and gel-derived glasses
US8763430B2 (en) Method for manufacturing grin lens
US4769058A (en) Method of making a smooth silica glass body
JP2635313B2 (ja) シリカガラスの製造法
Sakka Low Temperature Preparation of Oxide Glasses and Ceramics from Metal Alkoxide Solutions
EP2123610B1 (en) Process for production of grin lenses
Klein Sol-Gel Glasses
Filin et al. Some aspects of precious opal synthesis
Uhlmann et al. Wet chemical synthesis of bulk optical materials
JPH0114177B2 (ja)
Mackenzie Sol-gel optics
YOKO et al. EUROGEL'91 S. Vilminot, R. Nass & H. Schmidt (editors)© 1992 Elsevier Science Publishers BV All rights reserved.
JPH02199033A (ja) 光学ガラスの製造方法
Toshinobu et al. GLASS RESEARCH AND FIBER DRAWING BY SOL-GEL PROCESSES IN JAPAN
CN101479322A (zh) 有机-无机混杂玻璃状材料及其制造方法
JPS643814B2 (ja)