JPS595340B2 - アクリロニトリルの二量化用触媒組成物 - Google Patents
アクリロニトリルの二量化用触媒組成物Info
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- JPS595340B2 JPS595340B2 JP51053145A JP5314576A JPS595340B2 JP S595340 B2 JPS595340 B2 JP S595340B2 JP 51053145 A JP51053145 A JP 51053145A JP 5314576 A JP5314576 A JP 5314576A JP S595340 B2 JPS595340 B2 JP S595340B2
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- B01J31/1616—Coordination complexes, e.g. organometallic complexes, immobilised on an inorganic support, e.g. ship-in-a-bottle type catalysts
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明はアクリロニトリルの二量化に有用な触媒組成
物;該組成物の製法:ならびにかかる組成物を触媒とし
て用いる二量化法;に関する。
物;該組成物の製法:ならびにかかる組成物を触媒とし
て用いる二量化法;に関する。
1、4−ジシアノブテンおよび2−メチレングルタロニ
トリルのごとき生成物へのアクリロニトリルの二量化は
、普通、有機燐化合物(特に第三級ホスフィン類)の相
当量ないし触媒量の存在によつて接触され、またある種
のアミンによつても接“o 触されてきた。
トリルのごとき生成物へのアクリロニトリルの二量化は
、普通、有機燐化合物(特に第三級ホスフィン類)の相
当量ないし触媒量の存在によつて接触され、またある種
のアミンによつても接“o 触されてきた。
しかし、そのような方法は、普通、反応条件下でホスフ
ィンが溶解する液体媒質中で均一的に実施されるので、
ホスフィン触媒から二量体生成物を分離するのが困難で
あることがある。
ィンが溶解する液体媒質中で均一的に実施されるので、
ホスフィン触媒から二量体生成物を分離するのが困難で
あることがある。
″5 ここに液相または気相のアクリロニトリルの二量
化のための不均一系触媒として使用することができ、そ
して従来可能であつたよりも二量体生成物から容易に分
離されうる触媒組成物を案出した。
化のための不均一系触媒として使用することができ、そ
して従来可能であつたよりも二量体生成物から容易に分
離されうる触媒組成物を案出した。
この発明の一態様による触媒組成物はアクリロノo ニ
トリルの二量化に使用するのに適当であり、このものは
その表面に下記構造の一種またはそれ以上の有機燐化合
物を化学結合している耐火性金属酸化物のマトリックス
からなる、 ノ5 / \ (ここに基Rは同一であるか相異なつていてよく、炭化
水素基を表わし、有機燐化合物の燐原子10はマトリッ
クスの1個またはそれ以上の表面ヒドロキシル基の酸素
原子を介してマトリックスに結合されている)。
トリルの二量化に使用するのに適当であり、このものは
その表面に下記構造の一種またはそれ以上の有機燐化合
物を化学結合している耐火性金属酸化物のマトリックス
からなる、 ノ5 / \ (ここに基Rは同一であるか相異なつていてよく、炭化
水素基を表わし、有機燐化合物の燐原子10はマトリッ
クスの1個またはそれ以上の表面ヒドロキシル基の酸素
原子を介してマトリックスに結合されている)。
炭化水素基Rは脂肪族または芳香族であつてよい。
適当な基の例としては、アルキル、アルケニヲ5 ル、
アルカリール、アルアルキル、シクロアルキルまたはア
リール基がある。基Rはもつぱら炭化水素基であるけれ
ども、Rは置換基例えばハロゲンまたはシアナイドを含
んでいてよい。特に適当な基Rはエチル、フエニルおよ
びシクロヘキシルである。マトリツクス物質は、アクリ
ロニトリルまたは生成物と反応して悪影響与えることが
ない耐火住金属酸化物を細砕したものである。
アルカリール、アルアルキル、シクロアルキルまたはア
リール基がある。基Rはもつぱら炭化水素基であるけれ
ども、Rは置換基例えばハロゲンまたはシアナイドを含
んでいてよい。特に適当な基Rはエチル、フエニルおよ
びシクロヘキシルである。マトリツクス物質は、アクリ
ロニトリルまたは生成物と反応して悪影響与えることが
ない耐火住金属酸化物を細砕したものである。
好まLいマトリツクス物質の例としては、シリカ、シリ
カ/アルミナまたはアルミナがあるが、マグネシアも使
用することができ、あるいは他のマトリツクス物質の一
つに配合されてもよい。アルミナは特に好ましいマトリ
ツクス物質である。かかるマトリツクス物質は、普通、
その表面に結合されたヒドロキシル基を有すること、そ
して、それらのヒドロキシル基の酸素原子を介して、こ
の発明組成物中の燐原子がマトリツクスの表面へ結合さ
れるときは理解されよう。この発明の別の一態様によれ
ば、触媒組成物の製法が提供され、その製法においては
、表面ヒドロキシル基を有する耐火比金属酸化物のマト
リツクス(前記定義)を下記の一般式の燐化合物と反応
させ;(ここにRは前記定義の通Dであわ、Xは表面ヒ
ドロキシル基の水素原子と反応して、最初に基Xが結合
していた燐原子を化合物HXの離脱によつて該ヒドロキ
シル基の酸素原子を介して、マトリックスに結合させる
ことができる基である〕、次いで生成組成物を遊離燐化
合物を除去するために処理する。
カ/アルミナまたはアルミナがあるが、マグネシアも使
用することができ、あるいは他のマトリツクス物質の一
つに配合されてもよい。アルミナは特に好ましいマトリ
ツクス物質である。かかるマトリツクス物質は、普通、
その表面に結合されたヒドロキシル基を有すること、そ
して、それらのヒドロキシル基の酸素原子を介して、こ
の発明組成物中の燐原子がマトリツクスの表面へ結合さ
れるときは理解されよう。この発明の別の一態様によれ
ば、触媒組成物の製法が提供され、その製法においては
、表面ヒドロキシル基を有する耐火比金属酸化物のマト
リツクス(前記定義)を下記の一般式の燐化合物と反応
させ;(ここにRは前記定義の通Dであわ、Xは表面ヒ
ドロキシル基の水素原子と反応して、最初に基Xが結合
していた燐原子を化合物HXの離脱によつて該ヒドロキ
シル基の酸素原子を介して、マトリックスに結合させる
ことができる基である〕、次いで生成組成物を遊離燐化
合物を除去するために処理する。
適当な基Xの例としては、アルコキシド、アミド、塩素
、臭素および沃素のようなアニオン基がある。
、臭素および沃素のようなアニオン基がある。
この発明を限定するものではないが、上記の反応は下記
一般式で示されるように進行するものと考えられる。
一般式で示されるように進行するものと考えられる。
〔ここVCRおよびXは前記定義の通クであ沙、マトリ
ツクス)−0Hは、その表面にヒドロキシル基を結合し
て有するマトリツクスを表わす〕。
ツクス)−0Hは、その表面にヒドロキシル基を結合し
て有するマトリツクスを表わす〕。
例えば基XがアルコキシドであるときにはHXはアルコ
ールになるが、XがアミドであるときにはHXは第二級
アミンになる。反応が完結したとき、化合物Xおよび過
剰の未反応燐化合物を(例えば、適当な溶媒で洗浄する
ことによV))除去する。例えばメトキシジフエニルホ
スフインを細砕シリカとともに処理したときには、生成
した触媒組成物を赤外線吸収スペクトル分析試験すると
、領域950〜1090−1に吸収バンドが表われた。
これらはP−0−Si結合に典型的なものと考えられた
。過剰のメトキシジフエニルホスフインは観察されなか
つた。燐化合物との反応前のマトリツクス表面上の一0
H基濃度を制御するためには、マトリツクスを好ましく
は100〜700℃の範囲の温度、さらに好ましくは1
50〜600℃の範囲の温度で加熱する。
ールになるが、XがアミドであるときにはHXは第二級
アミンになる。反応が完結したとき、化合物Xおよび過
剰の未反応燐化合物を(例えば、適当な溶媒で洗浄する
ことによV))除去する。例えばメトキシジフエニルホ
スフインを細砕シリカとともに処理したときには、生成
した触媒組成物を赤外線吸収スペクトル分析試験すると
、領域950〜1090−1に吸収バンドが表われた。
これらはP−0−Si結合に典型的なものと考えられた
。過剰のメトキシジフエニルホスフインは観察されなか
つた。燐化合物との反応前のマトリツクス表面上の一0
H基濃度を制御するためには、マトリツクスを好ましく
は100〜700℃の範囲の温度、さらに好ましくは1
50〜600℃の範囲の温度で加熱する。
この加熱の温度および時間は、所望される−0H基濃度
によつて左右される。炭化水素溶媒中の燐化合物の溶液
とマトリツクス物質とを一緒に加熱して反応させる。
によつて左右される。炭化水素溶媒中の燐化合物の溶液
とマトリツクス物質とを一緒に加熱して反応させる。
両者の混合物を還流させることによつて加熱を行うのが
好ましい。従つて炭化水素溶媒の選択は、個々の燐化合
物の該溶媒への溶解度と、溶媒の沸点とによつて左右さ
れることは明白である。適当な溶媒の例としてはヘキサ
ン、トルエンおよび石油エーテルがある。燐化合物とマ
トリツクスとの間の反応が完結したとき、得られる触媒
組成物を、例えばろ過により、反応混合物から分離する
。
好ましい。従つて炭化水素溶媒の選択は、個々の燐化合
物の該溶媒への溶解度と、溶媒の沸点とによつて左右さ
れることは明白である。適当な溶媒の例としてはヘキサ
ン、トルエンおよび石油エーテルがある。燐化合物とマ
トリツクスとの間の反応が完結したとき、得られる触媒
組成物を、例えばろ過により、反応混合物から分離する
。
次いで組成物を新しい溶媒で洗浄液中に燐が含まれなく
なるまで洗浄し、そして不活住雰囲気(例えば窒素フ下
に貯蔵するのが便宜である。この発明のさらに別の一態
様によれば、アクリロニトリルの二量化法が提供され、
その方法においては、アクリロニトリルを昇温において
、下記一般式の有機燐化合物の一またそれ以上を表面足
化学結合して有する耐火住金属酸化物のマトリツクス(
前記定義)からなる触媒組成物と接触させる:(ここ【
Rは前記定義の通りであり、有機燐化合物の燐原子は、
マトリツクスの1個またはそれ以上の表面ヒドロキシル
基の酸素原子を介してマトリツクスに結合されている)
。
なるまで洗浄し、そして不活住雰囲気(例えば窒素フ下
に貯蔵するのが便宜である。この発明のさらに別の一態
様によれば、アクリロニトリルの二量化法が提供され、
その方法においては、アクリロニトリルを昇温において
、下記一般式の有機燐化合物の一またそれ以上を表面足
化学結合して有する耐火住金属酸化物のマトリツクス(
前記定義)からなる触媒組成物と接触させる:(ここ【
Rは前記定義の通りであり、有機燐化合物の燐原子は、
マトリツクスの1個またはそれ以上の表面ヒドロキシル
基の酸素原子を介してマトリツクスに結合されている)
。
アクリロニトリルは液相または気相であつてよく、そし
て殊【液相で用いられるときには適当な溶媒(例えばメ
トキシエタノールまたはt−ブタノール)!l(l溶解
されてよい。
て殊【液相で用いられるときには適当な溶媒(例えばメ
トキシエタノールまたはt−ブタノール)!l(l溶解
されてよい。
しかし、好ましくはアクリロニトリルを気相で触媒と接
触させて触媒からの生成物の分離を省略するようにする
。触媒は固定床または流動床の形態を採ることができ、
触媒床にアクリロニトリル蒸気を通すと、反応器から出
るアクリロニトリル/二量体生成物は実質上触媒を含ま
ない。反応は100〜300℃の範囲、好ましくは15
0〜2103Cの範囲の温度で実施される。
触させて触媒からの生成物の分離を省略するようにする
。触媒は固定床または流動床の形態を採ることができ、
触媒床にアクリロニトリル蒸気を通すと、反応器から出
るアクリロニトリル/二量体生成物は実質上触媒を含ま
ない。反応は100〜300℃の範囲、好ましくは15
0〜2103Cの範囲の温度で実施される。
通常、大気圧が適当であるが、気相法においては不活囲
ガス例えば窒素をわずか【昇圧で用いて、反応器内を蒸
気相および/または生成物を移動させるのが便宜である
。しかし、高圧を用いるのが望ましいならば高圧の使用
を排除するものではない。気相法操作のときには、反応
器からの流出蒸気相流を、二量体が選択的【凝縮するよ
うVC冷却する。次いで生成物は、分別蒸留によりさら
【精製することができる。反応を液相で実施するとき【
は、まず触媒をアクリロニトリル/生成物混合物から分
離し、次いで生成物を分別蒸留により分離、精製する。
いずれの操作においても、未反応アクリロニトリルは再
循環させることができる。アクリロニトリルからの過度
な量の重合体の生成を最小化するためには、この発明の
実施の際に重合禁止剤を用いるのが望ましいことがぁる
。例えばp−ターシヤリイブチルカテコールまたはハイ
ドロキノンのような禁止剤を、アクリロニトリル基準で
0.001〜0.5wt%に相当する量で添加すること
ができる。アクリロニトリルの二量化法においてしばし
ば用いられるいわゆる「促進剤」例えばアルカノール類
は、この発明方法では通常不要であるけれども、所望な
らば用いることができる。
ガス例えば窒素をわずか【昇圧で用いて、反応器内を蒸
気相および/または生成物を移動させるのが便宜である
。しかし、高圧を用いるのが望ましいならば高圧の使用
を排除するものではない。気相法操作のときには、反応
器からの流出蒸気相流を、二量体が選択的【凝縮するよ
うVC冷却する。次いで生成物は、分別蒸留によりさら
【精製することができる。反応を液相で実施するとき【
は、まず触媒をアクリロニトリル/生成物混合物から分
離し、次いで生成物を分別蒸留により分離、精製する。
いずれの操作においても、未反応アクリロニトリルは再
循環させることができる。アクリロニトリルからの過度
な量の重合体の生成を最小化するためには、この発明の
実施の際に重合禁止剤を用いるのが望ましいことがぁる
。例えばp−ターシヤリイブチルカテコールまたはハイ
ドロキノンのような禁止剤を、アクリロニトリル基準で
0.001〜0.5wt%に相当する量で添加すること
ができる。アクリロニトリルの二量化法においてしばし
ば用いられるいわゆる「促進剤」例えばアルカノール類
は、この発明方法では通常不要であるけれども、所望な
らば用いることができる。
この発明方法の二量体生成物は、主として、シス一およ
びトランス−1,4−ジシアノブテン−1ならび【2−
メチレンーグルタロニトリルからなる(すなわち、直鎖
および分枝二量体の混合物である)。
びトランス−1,4−ジシアノブテン−1ならび【2−
メチレンーグルタロニトリルからなる(すなわち、直鎖
および分枝二量体の混合物である)。
直鎖二量体と分枝二量体との相対的な割合は、反応温度
のごときいくつかの因子により左右されるが、顕著な因
子は触媒の組成および形態であることが判つた。例えば
、主に直鎖二量体が所要の場合には、吸電子基が燐原子
に結合していることが好ましい。吸電子基の例は、フエ
ニル、トリル、シアノエチルおよびクロロフエニル基な
らびに弗化有機基である。これは、触媒がシリカまたは
アルミナ【結合されたフエニルエチル燐化合物からなる
ときには二量体生成物は10%以下の1,4−ジシアノ
ブテン−1を含むが、相当するジフエニル化合物(から
調製した触媒)を用いるときには生成物は50%以上の
1,4−ジシアノブテン−1を含むという事実Kよつて
例示説明される。それぞれの場合VCl,4−シアノブ
テンははとんどすべてがシス型である。二量体生成物に
加えて、重合体副生成物も形成されるが、これらは目的
の二量体生成物から容易に分離される。
のごときいくつかの因子により左右されるが、顕著な因
子は触媒の組成および形態であることが判つた。例えば
、主に直鎖二量体が所要の場合には、吸電子基が燐原子
に結合していることが好ましい。吸電子基の例は、フエ
ニル、トリル、シアノエチルおよびクロロフエニル基な
らびに弗化有機基である。これは、触媒がシリカまたは
アルミナ【結合されたフエニルエチル燐化合物からなる
ときには二量体生成物は10%以下の1,4−ジシアノ
ブテン−1を含むが、相当するジフエニル化合物(から
調製した触媒)を用いるときには生成物は50%以上の
1,4−ジシアノブテン−1を含むという事実Kよつて
例示説明される。それぞれの場合VCl,4−シアノブ
テンははとんどすべてがシス型である。二量体生成物に
加えて、重合体副生成物も形成されるが、これらは目的
の二量体生成物から容易に分離される。
アクリロニトリルと触媒組成物との接触時間も生成物分
布匡影響を与える。しかし、最も適切な生成物分布を生
じさせるのに必要な時間は実験によつて容易に決定する
ことができる。既に述べたように、触媒の形態は、マト
リツクス物質を燐化合物と反応させる前にマトリツクス
物質の熱処理を制御することにより改変することができ
、そしてこれを次いで二量体生成物の分布【反映させる
ことができる。例えばシリカをマトリツクスとして用い
、熱処理温度を前記の好ましい範囲、すなわち150〜
6000の範囲内で変えると、熱処理温度が上昇するに
つれて、生成物中の線状二量体(例:1,4−ジシアノ
ブテン−1)の割合が増大する。アクリロニトリルの二
量体は多くの応用に供される。
布匡影響を与える。しかし、最も適切な生成物分布を生
じさせるのに必要な時間は実験によつて容易に決定する
ことができる。既に述べたように、触媒の形態は、マト
リツクス物質を燐化合物と反応させる前にマトリツクス
物質の熱処理を制御することにより改変することができ
、そしてこれを次いで二量体生成物の分布【反映させる
ことができる。例えばシリカをマトリツクスとして用い
、熱処理温度を前記の好ましい範囲、すなわち150〜
6000の範囲内で変えると、熱処理温度が上昇するに
つれて、生成物中の線状二量体(例:1,4−ジシアノ
ブテン−1)の割合が増大する。アクリロニトリルの二
量体は多くの応用に供される。
例えば、アクリロニトリルの二量体を水素添化してジア
ミンを作り、これをポリアミドの製造に使用することが
できる。かくして、1,4−シジアノブテンの異l体を
水素添加して、ヘキサメチレンジアミンとする。(ヘキ
サメチレンジアミンはナイロン6,6の生産における中
間体として大量匡生産されている)。2−メチレングル
タロニトリルも化学製品中間体として有用である(例え
ばHydrOcarbOnPrOcessing,±A
,rl).12,P151,1965年12月号参照)
。
ミンを作り、これをポリアミドの製造に使用することが
できる。かくして、1,4−シジアノブテンの異l体を
水素添加して、ヘキサメチレンジアミンとする。(ヘキ
サメチレンジアミンはナイロン6,6の生産における中
間体として大量匡生産されている)。2−メチレングル
タロニトリルも化学製品中間体として有用である(例え
ばHydrOcarbOnPrOcessing,±A
,rl).12,P151,1965年12月号参照)
。
この発明方法は、反応器からのガス状流出物から二量体
生成物を分離し、アクリロニトリル蒸気を適宜補充後に
再循環させることにより連続的に実施しうることは明か
である。
生成物を分離し、アクリロニトリル蒸気を適宜補充後に
再循環させることにより連続的に実施しうることは明か
である。
この発明を以下実施例により説明する。
触媒組成物A−Dの調製
下記に示すごとき適当な燐化合物(32部)を窒素下の
ヘキサン(300部)中でその化合物が溶解するまで撹
拌することにより化合物の溶液を調製した。
ヘキサン(300部)中でその化合物が溶解するまで撹
拌することにより化合物の溶液を調製した。
細かく砕いたシリカ(54部)(このものは窒素下に3
00℃のマツフル炉中で12時間加熱し、冷却したもの
である)を下記のヘキサン溶液に加え、これを6時間還
流させ、その時間の終シ【放冷し、さらに12時間放置
した。次いで得られた触媒スラリーを淵過し、ヘキサン
によつて洗液中に燐が含まれなくなるまで洗浄し、次い
で減圧下に乾燥した。このよう【してシリカを下記の燐
化合物で処理した。A ジフエニルイソプロピルホスフ
イン (C6H,)2P0CH(CH3)2 Bフエニルエチルイソプロピルホスフイン(C6H,)
(C2H,)POCH(CH3)2Cジエチルアミノフ
エニルエチルホスフイン(C2H5)2NP(C6H5
)(C2H5)Dジエチルアミノジシクロヘキシルホス
フイン(C2H,)2NP(C6Hll)2得られる触
媒組成物は便宜上、次のように表わすことがでSる。
00℃のマツフル炉中で12時間加熱し、冷却したもの
である)を下記のヘキサン溶液に加え、これを6時間還
流させ、その時間の終シ【放冷し、さらに12時間放置
した。次いで得られた触媒スラリーを淵過し、ヘキサン
によつて洗液中に燐が含まれなくなるまで洗浄し、次い
で減圧下に乾燥した。このよう【してシリカを下記の燐
化合物で処理した。A ジフエニルイソプロピルホスフ
イン (C6H,)2P0CH(CH3)2 Bフエニルエチルイソプロピルホスフイン(C6H,)
(C2H,)POCH(CH3)2Cジエチルアミノフ
エニルエチルホスフイン(C2H5)2NP(C6H5
)(C2H5)Dジエチルアミノジシクロヘキシルホス
フイン(C2H,)2NP(C6Hll)2得られる触
媒組成物は便宜上、次のように表わすことがでSる。
A (C6H5)2P−0−シリカ
B (C6H5)(C2゛H3)P−0−シリカC (
C6H5)(C2H5)P−0−シリカD (C6Hl
l)2P−0−シリカ上記触媒組成物のそれぞれにおい
て、燐含有量は2Wt(Ft)のオーダーであることが
判つた。
C6H5)(C2H5)P−0−シリカD (C6Hl
l)2P−0−シリカ上記触媒組成物のそれぞれにおい
て、燐含有量は2Wt(Ft)のオーダーであることが
判つた。
実施例 1密閉容器内へ液体アクリロニトリルをポンプ
注人し、170℃に加熱して液体を蒸気VC変えた。
注人し、170℃に加熱して液体を蒸気VC変えた。
次いでその容器に窒素流を100psigで通して、そ
の蒸気を、外部加熱で170℃じ維持した触媒床(触媒
A)内へ移動させた。触媒床匡おける滞留時間は数分間
であつた。触媒床からの退出流をガス・液クロマトグラ
フ法(GLC)で分析したところ、生成物分布は次の通
りであつた。シス一1.4−ジシアノブテン−165%
2−メチレングルタロニトリル 2501)トラ
ン電丁1,4丁シアノブ乙ン一1) 100/)および
ジシアノシクロブタン退出流を次いで20℃に冷却して
、二量体生成物を凝縮させた。
の蒸気を、外部加熱で170℃じ維持した触媒床(触媒
A)内へ移動させた。触媒床匡おける滞留時間は数分間
であつた。触媒床からの退出流をガス・液クロマトグラ
フ法(GLC)で分析したところ、生成物分布は次の通
りであつた。シス一1.4−ジシアノブテン−165%
2−メチレングルタロニトリル 2501)トラ
ン電丁1,4丁シアノブ乙ン一1) 100/)および
ジシアノシクロブタン退出流を次いで20℃に冷却して
、二量体生成物を凝縮させた。
凝縮物はアクリロニトリル供給物の約7wt%の転化率
に相当した。生成物を受器に捕集し、分別蒸留により1
,4−ジシアノブテン−1を分離、精製した。
に相当した。生成物を受器に捕集し、分別蒸留により1
,4−ジシアノブテン−1を分離、精製した。
実施例 2−4
ホスフイン化合物として、ジフエニルメトキシルホスフ
インを用い前述の一般操作によつて触媒組成物を調製し
た。
インを用い前述の一般操作によつて触媒組成物を調製し
た。
しかし、シリカは、そのホスフイン化合物との反応前に
、下記に示す温度にシリカ管中で窒素流下VC24時間
加熱すること匡より熱処理した。次いで窒素下で冷却し
、前述の操作によつてホスフインと反応させた。三つの
異なる温度で加熱したシリカ試料を用いて触媒を作つた
。
、下記に示す温度にシリカ管中で窒素流下VC24時間
加熱すること匡より熱処理した。次いで窒素下で冷却し
、前述の操作によつてホスフインと反応させた。三つの
異なる温度で加熱したシリカ試料を用いて触媒を作つた
。
次いでごれらの触媒を用いて実施例1の方法でアクリロ
ニトリルの二量化反応を接触した。生成物をGLC分析
したところ、生成物はシス一1,4−ジシアノブテン−
1(DCB)および2−メチレングルタロニトリル(M
GN)の混合物からなることが判つた。この両者の割合
はシリカ・マトリツクスの熱処理Kよつて変つた。結果
を下記の表1に挙げる。実施例 5 アクリロニトリル内に窒素を徐々に通気して、アクリロ
ニトリル蒸気を含む窒素流を作つた。
ニトリルの二量化反応を接触した。生成物をGLC分析
したところ、生成物はシス一1,4−ジシアノブテン−
1(DCB)および2−メチレングルタロニトリル(M
GN)の混合物からなることが判つた。この両者の割合
はシリカ・マトリツクスの熱処理Kよつて変つた。結果
を下記の表1に挙げる。実施例 5 アクリロニトリル内に窒素を徐々に通気して、アクリロ
ニトリル蒸気を含む窒素流を作つた。
次いで、190℃の温度【維持した触媒Bの固定床【、
この流れを通した。生成流を液体窒素中で冷却し、次い
で液化し、GLCによつて分析した。この分析により、
アクリロニトリルの20%の転化が生じたことが判り、
分枝二量体と線状二量体との比は90:10であつた。
実施例 6 シリカの代りにアルミナを用いたこと以外は実施例1の
一般操作Kよつて別の触媒組成物を調製した。
この流れを通した。生成流を液体窒素中で冷却し、次い
で液化し、GLCによつて分析した。この分析により、
アクリロニトリルの20%の転化が生じたことが判り、
分枝二量体と線状二量体との比は90:10であつた。
実施例 6 シリカの代りにアルミナを用いたこと以外は実施例1の
一般操作Kよつて別の触媒組成物を調製した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 その表面に下記構造の一種またはそれ以上の有機燐
化合物を化学結合している耐火性金属酸化物のマトリッ
クスからなる、アクリロニトリルの二量化に使用するの
に適した触媒組成物;▲数式、化学式、表等があります
▼ (ここに基Rは同一であるか相異なつていてよく、炭化
水素基を表わし、有機燐化合物の燐原子はマトリックス
の1個またはそれ以上の表面ヒドロキシル基の酸素原子
を介してマトリックスに結合されている)。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB19615/75A GB1510707A (en) | 1975-05-09 | 1975-05-09 | Catalytic compositions |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS51139588A JPS51139588A (en) | 1976-12-01 |
JPS595340B2 true JPS595340B2 (ja) | 1984-02-03 |
Family
ID=10132325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51053145A Expired JPS595340B2 (ja) | 1975-05-09 | 1976-05-10 | アクリロニトリルの二量化用触媒組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4059542A (ja) |
JP (1) | JPS595340B2 (ja) |
AU (1) | AU499253B2 (ja) |
DE (1) | DE2620592C3 (ja) |
GB (1) | GB1510707A (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU499165B2 (en) * | 1975-10-31 | 1979-04-05 | Ici Limited | Dimerisation process |
GB1547431A (en) * | 1976-05-10 | 1979-06-20 | Ici Ltd | Dimerisation of acrylonitrile |
GB1514642A (en) * | 1976-05-24 | 1978-06-21 | Ici Ltd | Dimerisation of acrylonitrile |
DE2964157D1 (en) * | 1978-10-26 | 1983-01-05 | Ici Plc | A process for the dimerisation of acrylonitrile |
US4384981A (en) * | 1981-08-24 | 1983-05-24 | Occidental Research Corporation | Hydrogenation process utilizing novel catalyst |
US4386013A (en) * | 1981-08-24 | 1983-05-31 | Occidental Research Corporation | Hydroformylation process utilizing novel catalyst |
US4661615A (en) * | 1982-11-03 | 1987-04-28 | Allied Corporation | Selective conversion of acrylonitrile into 1,4-dicyano-1-butene catalyzed by plymer-bound alkyl diarylphosphinites |
US4574060A (en) * | 1982-11-03 | 1986-03-04 | Allied Corporation | Selective conversion of acrylonitrile into 1,4-dicyano-1-butene catalyzed by polymer-bound alkyl diarylphosphinites |
GB8414767D0 (en) * | 1984-06-09 | 1984-07-11 | Bp Chem Int Ltd | Catalysis by supported catalysts |
US6090199A (en) * | 1999-05-03 | 2000-07-18 | Evergreen Solar, Inc. | Continuous melt replenishment for crystal growth |
KR102712847B1 (ko) * | 2019-10-11 | 2024-09-30 | 주식회사 엘지화학 | 신규 구조의 유기인계 촉매 및 이를 이용한 선형 디니트릴의 제조방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3755490A (en) * | 1969-05-01 | 1973-08-28 | Atlantic Richfield Co | Olefin polymerization catalyzed by a supported black amorphous nickelcomplex |
US3644563A (en) * | 1969-11-05 | 1972-02-22 | Shell Oil Co | Ethylene oligomerization |
GB1342876A (en) * | 1969-12-19 | 1974-01-03 | British Petroleum Co | Catalyst supports and transition metal catalysts supported thereon |
US3937742A (en) * | 1970-03-06 | 1976-02-10 | Atlantic Richfield Company | Hydroformylation process using catalyst comprising platinum group metal on support having separate alumina phase |
US3907852A (en) * | 1972-06-23 | 1975-09-23 | Exxon Research Engineering Co | Silylhydrocarbyl phosphines and related compounds |
-
1975
- 1975-05-09 GB GB19615/75A patent/GB1510707A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-05-10 JP JP51053145A patent/JPS595340B2/ja not_active Expired
- 1976-05-10 US US05/684,952 patent/US4059542A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-05-10 AU AU13789/76A patent/AU499253B2/en not_active Expired
- 1976-05-10 DE DE2620592A patent/DE2620592C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU499253B2 (en) | 1979-04-12 |
JPS51139588A (en) | 1976-12-01 |
US4059542A (en) | 1977-11-22 |
DE2620592B2 (de) | 1978-05-03 |
GB1510707A (en) | 1978-05-17 |
DE2620592C3 (de) | 1979-04-19 |
DE2620592A1 (de) | 1976-11-18 |
AU1378976A (en) | 1977-11-17 |
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