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JPS5950085A - Ceramic,cermet or metal composite body - Google Patents

Ceramic,cermet or metal composite body

Info

Publication number
JPS5950085A
JPS5950085A JP17082282A JP17082282A JPS5950085A JP S5950085 A JPS5950085 A JP S5950085A JP 17082282 A JP17082282 A JP 17082282A JP 17082282 A JP17082282 A JP 17082282A JP S5950085 A JPS5950085 A JP S5950085A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
tin
composite according
carbide
alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17082282A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0244789B2 (en
Inventor
ジヨセフ・イントラ−タ−
ジ−ン・バ−トルド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ADOBANSUDO TEKUNOROJII Inc
Original Assignee
ADOBANSUDO TEKUNOROJII Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US06/415,502 external-priority patent/US4426423A/en
Application filed by ADOBANSUDO TEKUNOROJII Inc filed Critical ADOBANSUDO TEKUNOROJII Inc
Publication of JPS5950085A publication Critical patent/JPS5950085A/en
Publication of JPH0244789B2 publication Critical patent/JPH0244789B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基体又は基礎要素としての金属又はメタロイド
の窒化物、酸化物、ヒ化物、ホウ化物、リン化物、テル
ル化物、チタン酸塩、ケイ化物、炭化物などのそれ自体
又はそれらの圧縮成形体に関する。これらはコーティン
グ、フィルム層、又は中間層形成体として錫、鉛、イン
ジウム又はそれらの合金を炭化物又はカルyJ?=ル形
成体と混合して使用しかつ基体を一酸化炭素雰囲気にお
いてコーティングなどの形成体と結合する種々の他の基
体と結合できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the use of nitrides, oxides, arsenides, borides, phosphides, tellurides, titanates, silicides, carbides, etc. of metals or metalloids as substrates or basic elements. or compression molded products thereof. These include tin, lead, indium, or their alloys as a coating, film layer, or intermediate layer forming body. The substrate can be used in admixture with the former and bonded to a variety of other substrates, such as coatings, in a carbon monoxide atmosphere.

我々はさきの出願(特願昭JA−f♂711−/)にお
いて、錫、鉛、インジウム又はそれらの合金と炭化物又
はカルテニル形成体との混合物よシ成り、前記出願記載
の基体への接着コーティングを生成するのに特に有用で
あることが発見された種々の基体及び合金の組合せにつ
いて開示した。我々の方法はさきの出願の発明の種々の
点を利用、調査している間になされ、かつ異なる材料と
基体とを結合するのが非常に困難であることが従来から
知られている基体に応用して特に有用であることが常識
的に知見された次の発見に基くものである。
In the previous application (Japanese Patent Application No. Sho JA-f♂711-/), we have proposed an adhesive coating on the substrate described in the said application, consisting of a mixture of tin, lead, indium or their alloys and carbides or cartenyl formers. Various substrate and alloy combinations have been disclosed that have been found to be particularly useful in producing. Our method was developed while exploiting and investigating various aspects of the invention of the above-mentioned application, and was applied to substrates that have traditionally been known to be very difficult to bond to different materials and substrates. It is based on the following discoveries, which are commonly known to be particularly useful in applied applications.

さきの出願において開示しているように、錫、鉛、イン
ジウム又はそれらの合金と炭化物及びカル?ニル形成体
との組合せは、それらが適当に混合され、次いで基体と
一酸化炭素雰囲気において結合されるとき従来知られて
いない、完全に予知されない結果が得られている。この
発見はこれまで結合することが最も困難である基体と金
属とを結合する可能性の途を開いた。実質的に空隙がな
く、大なる接着性と耐性に測定できない増加とを有する
良好な結合を容易に形成することが従来できなかった種
々の基体に上記方法を実施することによって、すぐれた
収量で形成されることが知見された。これは基体で可能
であり、又基体上の錫、鉛、インジウム合金はさらに他
の基体又は金属と種々の形で結合できるため熱放散、電
流伝導などの目的の電子工業の如き多くの用途に有用な
従来から知られていない、新規の基体を提供し、かつこ
れらの装置間に汚染のない、実質的に全く気孔のない(
顕微鏡試験による〕結合を形成する。圧電体例えばチタ
ン酸バリウムの如き他の装置及びヒ化アルミニウムガリ
ウムに基〈ようなレーザー光線型振器は、基体を導電性
物質又は基体或は熱伝導性であるが電気絶縁性の基体例
えば酸化ベリリウムにうまく結合させるのにあらかじめ
必要なコストの小部分でを用な用途に対し容易な手段で
容易に結合及び加工することができる。
As disclosed in the previous application, tin, lead, indium or alloys thereof and carbides and cal? The combination with nil formers has yielded previously unknown and completely unexpected results when they are properly mixed and then bonded to the substrate in a carbon monoxide atmosphere. This discovery opens the door to the possibility of bonding metals to substrates that have hitherto been the most difficult to bond. By carrying out the above method on a variety of substrates on which it was not previously possible to easily form good bonds that are virtually void-free and have great adhesion and an unmeasurable increase in durability, excellent yields can be obtained. was found to be formed. This is possible with the substrate, and the tin, lead, and indium alloys on the substrate can further be combined with other substrates or metals in various ways, making it suitable for many applications such as in the electronics industry for purposes such as heat dissipation, current conduction, etc. Provides a novel, previously unknown substrate that is useful and has virtually no pores (with no contamination between these devices).
[by microscopic examination] forms a bond. Other devices, such as piezoelectrics, such as barium titanate, and laser beam vibrators, such as those based on aluminum gallium arsenide, use a substrate of an electrically conductive material or a thermally conductive but electrically insulating substrate, such as beryllium oxide. They can be easily bonded and fabricated by easy means for the desired application at a fraction of the cost required to successfully bond them.

前述に鑑み、さきの出願における開示はここで参考とす
るが、繰返す必要はない。一般に、同じ雰囲気条件が、
同じ温度範囲とともに適用され、これらは必要な条件で
基体に対し確立される。同様に、適当な結合が一酸化炭
素の還元性雰囲気により生ずる滞留時間は必要に応じ確
立されるが、一般にさきの出願に記載される範囲内であ
る。使用される特殊の温度及び滞留時間は特殊の基体に
対し最適であり、必要条件の単なる所定の確立は本発明
の実施が適用されることを求めている工業的設備におい
て実施されるとき、何れの場合でも遂行される。
In view of the foregoing, the disclosure in the earlier application is hereby incorporated by reference, but need not be repeated. Generally, the same atmospheric conditions
Applied together with the same temperature range, these are established for the substrate at the required conditions. Similarly, the residence time provided by the reducing atmosphere of carbon monoxide for suitable bonding is established as necessary, but is generally within the ranges described in the earlier application. The particular temperatures and residence times used are optimal for the particular substrate, and the mere predetermined establishment of the necessary conditions is not sufficient when the practice of the invention is carried out in the industrial installation to which it is sought to be applied. It is carried out even in the case of

一酸化炭素は極めてすぐれた還元剤であるけれども、他
の相容性の還元剤と混合することができる。同様に、−
酸化炭素の反応機構又は還元性に影響を与えない一酸化
炭素と相容性の他のガスで稀釈することもできる。還元
性雰囲気が確立され、かつ適当な結合が例えば実質的に
気孔がなく、前述のように十分な濡れと密接な付着とに
よって形成された後、還元雰囲気は適当に除かれ、他の
不活性雰囲気が置換されて形成される複合体を冷却する
。基体及び物質の予熱は同様に水素の如き還元ガスにお
いてなすことができるけれども、後続の冷却と同じ手段
で、始動する加熱は不活性雰囲気において行われる。然
しながら、最も有効な手段で、特にすぐれたものは基体
、層などを錫、鉛、インジウム及び(又は)それらの合
金及び炭化物又はカルがニル形成体と一酸化炭素の存在
において結合することであり、それは基体、錫など及び
(又は)炭化物又はカル7I=ル形成体でともかくも共
働的に相互作用するようである。
Although carbon monoxide is an excellent reducing agent, it can be mixed with other compatible reducing agents. Similarly, −
It can also be diluted with other gases compatible with carbon monoxide that do not affect the reaction mechanism or reducibility of the carbon oxide. After a reducing atmosphere has been established and a suitable bond has been formed, e.g. by substantially porosity free, sufficient wetting and intimate adhesion as described above, the reducing atmosphere is suitably removed and other inert The atmosphere is replaced and the formed composite is cooled. The initial heating is performed in an inert atmosphere by the same means as the subsequent cooling, although preheating of the substrate and material can also be done in a reducing gas such as hydrogen. However, the most effective means, and especially the best, are to combine substrates, layers, etc. with tin, lead, indium and/or alloys thereof and carbides or cals with nil formers in the presence of carbon monoxide. , it appears to interact synergistically with the substrate, tin etc. and/or carbide or carbide formers.

炭化物又はカルΔ?ニル形成体は種々の形式で使用され
るけれども、コロイド状から始まり、微粒子状で′今イ
ンチまでの微細粒子で使用するのが最も有利である。こ
れらの微粒子は錦などの金属に、例えば捏造及び(又は
)加温成形又は同様の方法によって助けられる条件の下
において分散され:同様に、それらの極めて微細な形式
の他における一方の分散質はロジン油又は分散体より容
易に蒸発する種々のフレオンの如きベヒクルに適当に混
合される。分散体はそれから基体上に塗布されるか又は
基体の厚さによってスクリーン法又は印刷によってそれ
に適用される。その後、材料が適当な条件の下において
前述の如き還元雰囲気で挿入される。斯くして、異なる
型(・母ターン)が基体例えば回路などを形成する導電
性通路及び同効物上に形成される。
Carbide or CalΔ? Although the nil formers are used in a variety of forms, they are most advantageously used in colloidal to fine particulate form up to 1.5 inches. These microparticles are dispersed in metals such as brocades under conditions assisted by, for example, forging and/or thermoforming or similar methods; likewise, the dispersoids of one in their extremely fine form are Suitably mixed in vehicles such as rosin oil or various freons that evaporate more easily than dispersions. The dispersion is then coated onto the substrate or applied to it by screening or printing, depending on the thickness of the substrate. Thereafter, the material is inserted under appropriate conditions in a reducing atmosphere as described above. In this way, different patterns (master turns) are formed on the substrate, eg conductive paths and the like forming circuits and the like.

さきの出願において与えられた基体例のあるものはこれ
まで開示されない基体とこの出願における同様によく結
合される。従って、本出願において開示し、請求してい
るような種々の基体はと\に開示しているような目的に
対し有用な顕著にして新規な組合せで結合することがで
きる。斯くして、電子顕微鐘に使用される非常に有効な
電子源として有用なホウ化ランタン、LaB5 は最初
に錫−バナジウムで被覆されるとき、電気装置に顕著に
結合される。この基体は一酸化炭素の雰囲気において約
1000℃で、約/j〜2チのバナジウム、残部錫より
組成物で良好に結合又は被覆される。
Some of the example substrates given in the earlier application combine equally well with previously undisclosed substrates in this application. Accordingly, the various substrates as disclosed and claimed in this application can be combined in distinct and novel combinations useful for purposes as disclosed in and. Thus, lanthanum boride, LaB5, useful as a highly effective electron source used in electron microscopy, is significantly bonded to electrical devices when first coated with tin-vanadium. The substrate is better bonded or coated with the composition at about 1000 DEG C. in a carbon monoxide atmosphere with about 1/2 to 2 parts vanadium, balance tin.

これらの粉末の均質混合、微細な形における容易な分散
性及び基体への容易な適用はこれらの組合せを前述の如
き他の種々の基体に対する適用の目的に対し貢献する。
The homogeneous mixing of these powders, their easy dispersibility in finely divided form, and their easy application to substrates lend their combination to the purpose of application to a variety of other substrates as mentioned above.

例えば酸化ベリリウムは2つの層の他方であるようなホ
ウ化ランタン又は炭化物又はカルブニル形成体例えばバ
ナジウムとの混合物においてコつに対する中間層として
錫などを有する基体と容易に結合される ヒ化ガリウム又はヒ化アルぽニウムガリウム上にフィル
ム、層などを形成し、かつ(又は)ヒ化ガリウム又はヒ
化アル電ニウムガリウムを種々の基体と結合する他の同
様に容易な方法が錫と炭化物又はカル&ニル形成体との
組合せを使用するとき発見された。これらのあるものは
例えばCr−3n。
For example, beryllium oxide is easily combined with a substrate having tin as an intermediate layer to the other of the two layers such as lanthanum boride or carbide or carbunyl formers such as gallium arsenide or carboxylic acid as an intermediate layer in a mixture with vanadium. Other equally easy methods of forming films, layers, etc. on gallium arsenide and/or bonding gallium arsenide or gallium alponium arsenide with various substrates include tin and carbide or gallium arsenide. was discovered when using combinations with nil formers. Some of these are, for example, Cr-3n.

V −Sn%Mo−!3n、 W −Sn、A−8n、
7’j−5n。
V-Sn%Mo-! 3n, W-Sn, A-8n,
7'j-5n.

Ta −Sn 、 Mn −sn 、 Nl −Sn 
 及びco−5nである。
Ta-Sn, Mn-sn, Nl-Sn
and co-5n.

上記組合せのチは約/j〜・2チの炭化物又はカルブニ
ル形成体、残り錫であり、好ましい範囲はヒ化ガリウム
又はヒ化アルミニウムガリウムに結合されるとき約10
〜73%の炭化物又はカルyt”ニル形成体である。上
記と同様に、特に5n−Vの組合せはケイ素、窒化ケイ
素又は酸化ケイ素に接着コーティングを形成するのに容
易に使用され、斯くして3つの種々の層の組合せを形成
する(これらの他、順繰りに他の前述の基体に結合され
る)。
The above combination is about /j~.2 carbide or carbnyl formers, the remainder being tin, with a preferred range of about 10% when combined with gallium arsenide or aluminum gallium arsenide.
~73% carbide or calyt"nyl formers. Similar to the above, the 5n-V combination in particular is readily used to form adhesive coatings on silicon, silicon nitride or silicon oxide, thus A combination of three different layers is formed (and these, in turn, are bonded to other aforementioned substrates).

上述の炭化物又はカル&ニル形成体の他、これらの混合
物も同様に有用である。例えば、Cr、V、MO及び2
0%のSnに対し10fl、のCOより成るコバルト混
合物に対する10チのニッケルの添加は炭化タングステ
ンの如き基体に、ここに述べたような基体との組合せに
おいて同様に顕著な接着を生ずる。
In addition to the carbides or car&nyl formers mentioned above, mixtures thereof are likewise useful. For example, Cr, V, MO and 2
Addition of 10 Ti of nickel to a cobalt mixture of 10 fl of CO to 0% Sn produces similarly pronounced adhesion to substrates such as tungsten carbide in combination with substrates as described herein.

さらに、発光ダイオード(light emlttln
gdlode )用のような高周波数で使用されるリン
死力゛リウムは炭化物又はカルブニル形成体との錫、イ
ンジウム、鉛合金、りOチのan、7%のV及びjチの
N1で一酸化炭素の雰囲気においてり00℃で被覆され
る。著しく接着性の結合が形成された。
Additionally, a light emitting diode (light emlttln)
Phosphate, which is used at high frequencies such as for gdlode, is a tin, indium, and lead alloy with carbide or carbnyl formers, 7% V and 7% N1 monoxide. The coating is carried out at 00° C. in a carbon atmosphere. A highly adhesive bond was formed.

同様な手段において、錫などに対しバナジウムを前述と
同じ割合で使用し、又ニッケル、ジルコニウムオルト−
シリケート自体又はケイ酸マグネシウムとの混合物及び
さらにケイ酸アルミニウムと混合する前記の2つは同じ
条件で一酸化炭素において著しい接着特性を有して良好
に被覆される。
In a similar manner, vanadium is used in the same ratio as above to tin, etc., and nickel, zirconium ortho-
The silicates themselves or in mixtures with magnesium silicate and also with aluminum silicate are well coated with remarkable adhesion properties in carbon monoxide under the same conditions.

前記と同じ手段で、種々のチタン酸塩例えばチタン酸バ
リウム;窒化ケイ素−酸化物例えば酸化ホウ素;ヒ化物
;ケイ化物:テルル化物及び同効物が錫含有災化物又は
カルホニル形成体で炭素例えば黒鉛;金属例えばステン
レス鋼;酸化物例えば酸化ベリリウムなどの如き基体に
結合される。
In the same manner as above, various titanates such as barium titanate; silicon nitride-oxides such as boron oxide; arsenides; silicides: tellurides and the like are tin-containing disasters or carbonyl formers such as carbon, such as graphite. bonded to a substrate such as a metal such as stainless steel; an oxide such as beryllium oxide;

水沫によれば、複合物はすぐれた機械的及び(又は)電
気的及び(又は)熱伝導特性を有する。
According to Mizuyoshi, the composite has excellent mechanical and/or electrical and/or thermal conductive properties.

新規な金属を使用する必要もなくメス・々ツタリングも
必要とせずかつ極めて堅実にして強固な結合が形成され
る。温度は高温要求がこれまでできなかったような、例
えばこれまでのこれらの温度制限が達成できないスラン
して鋼に結合するときのような特別製のケースにおいて
遭遇するよう風種々の基体で調節される。
There is no need to use new metals, no scalpel ring is required, and an extremely solid and strong bond is formed. Temperatures are regulated in various substrates such that high temperature requirements are encountered in special cases such as when bonding to steel in a slump where these temperature limits have hitherto not been achievable. Ru.

一般に、本発明はサーメットとして知られるセラミック
スと金属との混合物を包含する総てのセラミック型の物
質及び金属又はメタロイドの酸化物、窒化物、ヒ化物、
チタン酸塩、テルル化物、ケイ化物、ホウ化物、リン化
物及び炭化物を包含する同効物に適用できることが発見
された。これらは粉末の形において例えば非常に高い圧
力の下(粉末の鑵において、周知の技術のように高い静
圧に付されるとき)で非常な強固なマスに 静圧的に圧
縮されるとき、基体物質として特に有用であることが発
見された。
In general, the present invention covers all ceramic type materials, including mixtures of ceramics and metals known as cermets, and oxides, nitrides, arsenides, and metals or metalloids.
It has been discovered that the same compounds can be applied including titanates, tellurides, silicides, borides, phosphides and carbides. When in powder form they are, for example, hydrostatically compressed into a very solid mass under very high pressure (when the powder is subjected to high static pressures, as is well known in the art), It has been discovered that it is particularly useful as a substrate material.

これらの基体物質は又相容性であるか又は相容性でない
が強い互に又は他の同様の形式で微細な分散体を形成す
る形式で粉末として分布され、それから顕著な性質の完
全に稠密な形に 静圧的に圧縮される。斯くして、これ
らはその後鍋など及び炭化物又はカルボニル形成体とに
よって他の金属、セラミックス、サーメット及び同効物
に結合される処のセラミックス又はサーメット(セラミ
ック、金属の糺合せ)であり得る。その後こ\に記載す
るように炭化物又はカルボニル形成体と混合する錫、鉛
、インジウム又はそれらの合金体で結合されるとき、こ
れらの基体はお互に又は他の金属及びサーメットと強い
結合を有しかつ上述の種々の目的に使用される。
These base materials can also be distributed as powders in the form of forming fine dispersions with either compatible or incompatible but strong mutually or other similar forms, and then completely densified with remarkable properties. is compressed statically into a shape. These may thus be ceramics or cermets (ceramic, metal lamination) which are subsequently bonded to other metals, ceramics, cermets and the like by means of pots and the like and carbide or carbonyl formations. These substrates have strong bonds with each other or with other metals and cermets when subsequently bonded with tin, lead, indium or alloys thereof mixed with carbides or carbonyl formers as described herein. and used for the various purposes mentioned above.

又さきの出願において、我々は炭素例えば黒鉛、ダイヤ
モンドなど及び基体と結合するのが非常に困難なその他
のものと接着複合体を形成するための炭化物又はカルy
t”ニル形成体との種々の錫、鉛、インジウム組成物に
ついて開示した。加うるに、これらの基体は、これらが
さきの出願に開示したように錫、鉛、インジウム組成物
をその上に析出及び処理したとき、基体と結合するのが
困難なこれらに、他の金属を結合するこれまで藺められ
なかったり能性を有している。例えば錫合金にこのよう
に結合されるとき鋼は温度特性を強化した青銅組成物を
形成し、又黒鉛、錫及び銅の如き複合体は最後のλつが
青銅に変るとき、錫単味で達成できるものよシ遥かに過
剰の有用な温度限界を有する黒鉛−青銅複合体を形成す
る。
In a previous application, we also describe the use of carbides or carbides to form adhesive composites with carbon such as graphite, diamond, etc. and others that are very difficult to bond to substrates.
Various tin, lead, indium compositions with t''nyl formers are disclosed. In addition, these substrates have tin, lead, indium compositions thereon as disclosed in the earlier application. When deposited and processed, these have the hitherto undiscovered ability to bond other metals that are difficult to bond to substrates, such as steel when bonded in this way to tin alloys. forms bronze compositions with enhanced temperature properties, and composites such as graphite, tin, and copper, when the last λ is converted to bronze, have useful temperature limits far in excess of those achievable with tin alone. form a graphite-bronze composite having

我々はさらに、これら及び他の基体がNl −Cu−N
lの如きサンドウィッチの形である金属と共に使用され
るとき、さらに付加する有益な特性が得られかつ温度限
界がさらに改良されることを発見した。
We further demonstrate that these and other substrates are Nl-Cu-N
It has been discovered that additional beneficial properties are obtained and temperature limits are further improved when used with metals in the form of a sandwich such as I.

なお又、我々は窒化ホウ素、ニホウ化チタン(T482
 )又はそれらの混合物が基体として使用されるとき、
これらは又錫、鉛、インジウム及びそれらの合金を炭化
物又はカルボニル形成体と混合して、顕著な特性を有す
る接着複合体を形成することを発見した。これらの複合
体はそれから前述の如き目的及び抵抗体(resist
ance element )よりの汚染のないことが
求められる雰囲気において抵抗体の如き他の目的に対し
使用さnる。その型式の汚染は、例えば半導体の製造又
はシリコン金属の製造即ちシリコンが例えば太陽電池に
用いられる単結晶成長又はエビターシリコン成長には非
常に望まシくないものである。
Furthermore, we use boron nitride, titanium diboride (T482
) or a mixture thereof is used as a substrate,
They have also discovered that tin, lead, indium and their alloys can be mixed with carbide or carbonyl formers to form adhesive composites with remarkable properties. These complexes then serve a purpose and resistor as described above.
It is also used for other purposes such as resistors in atmospheres where the absence of contamination from ance elements is required. That type of contamination is highly undesirable, for example, in the manufacture of semiconductors or in the manufacture of silicon metals, i.e., single crystal growth or vitreous silicon growth where silicon is used, for example, in solar cells.

上述のような多くの複合体の中、複合体を加工する前述
の方法は混合物の析出、圧縮粉末予備成形体の析出又は
粉末混合物又は予備成形体への金属の析出に同様に適用
することができるものであり、そのいずれもは複合体を
形成するために基体又は金属の上でなすものである。
Among the many composites mentioned above, the aforementioned methods of processing composites can be equally applied to the deposition of mixtures, the deposition of compacted powder preforms or the deposition of metals into powder mixtures or preforms. Both can be made on a substrate or metal to form a composite.

さきの出願は炭化物又はカルボニル形成体の他に種々の
方法の詳細について述べているので、さきの出願はこ\
では参考となり本出願の一部を構成するものである。
Since the earlier application describes various process details in addition to carbide or carbonyl formers, the earlier application is hereby incorporated by reference.
It serves as a reference and forms part of this application.

次に本発明の実施例を示すが本発明はこれに限るもので
はない。
Next, examples of the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.

実施例/ 基体として窒化ホウ素が使用されるとき、実質的に自由
境界面のないSn −Cr組成物(Sn 90wtチ、
Cr / Owt %、/ 00 % Co雰囲気中)
の接着コーティングが窒化ホウ素の表面上に形成される
。この組成物は濡れ低下しない。黒鉛基体と同様に、そ
の錫コーティング上の銅層は青銅を形成する。窒化ホウ
素に加えて、前述の組成物で被覆されるとき(又は銅と
のサンドウィッチがコーティングで形成されるとき)ニ
ホウ化チタンはすぐれた構造的特性例えば強度を発揮す
る。窒化ホウ素とTc B 2との混合物は同様に錫及
び炭化物又はカルテニル形成元素又はその混合物例えば
上記のり0’1oan−101rCr組成物と結合され
る。窒化ホウ素はすぐれた研磨剤であり、又窒化ホウ素
−Tt B 2混合物はすぐれた抵抗体である。
Example / When boron nitride is used as the substrate, a Sn-Cr composition (Sn 90 wt.
Cr/Owt%, /00% Co atmosphere)
An adhesive coating of is formed on the surface of the boron nitride. This composition does not reduce wetting. Similar to the graphite substrate, the copper layer on its tin coating forms bronze. In addition to boron nitride, titanium diboride exhibits excellent structural properties such as strength when coated with the aforementioned compositions (or when a sandwich with copper is formed in the coating). Mixtures of boron nitride and Tc B 2 are likewise combined with tin and carbide or cartenyl-forming elements or mixtures thereof, such as the glue 0'1oan-101rCr compositions described above. Boron nitride is an excellent abrasive and the boron nitride-TtB2 mixture is an excellent resistor.

実施例λ 錫、鉛又はインジウム合金との炭化物又はカルy)Pニ
ル形成体、例えばCr 、TL、 Hf、 Zr、 C
o 、FbN l s Mn 、Re 、Ru1Rh 
< Os % l r、vs Nb−”a s W、M
O又はこれらの混合物は窒化ホウ素又はニホウ化チタン
基体如対し選択であり、或はこれらの基体は相互の混合
物例えば/:l混合物(重t)である。
Examples λ Carbides or carbides with tin, lead or indium alloys, e.g. Cr, TL, Hf, Zr, C
o , FbN l s Mn , Re , Ru1Rh
< Os % l r, vs Nb-”as W, M
O or mixtures thereof are optional such as boron nitride or titanium diboride substrates, or these substrates are mixtures of each other, such as /:l mixtures.

これらの基体組成物に対し他の金属が接着複合体(前述
の基体に対すると同様)として結合され、例えば揮々の
割合でのモネル金属型のようなCuとN1 又は厚さ7
〜10ミルのNiと2〜!ミル〜0、 /インチのCu
とのNl −Cu −Nl vンドゥイノテが例えば錦
上におかれる。/ミルのNi 、 jミルのCu、 /
ミルのNiが特に黒鉛上に70%5n−10チCr子備
成形体組成物で上記の複合体を形成するのに十分に作用
する。Nl、Cu、Moなとの種々の他のサンドウィッ
チ上張りが使用される。
To these substrate compositions other metals are bonded as adhesive composites (as for the substrates described above), for example Cu and N1, such as Monel metal type in volatile proportions or a thickness of 7.
~10mil Ni and 2~! Mil~0,/inch Cu
A Nl -Cu -Nl vnduinote with is placed, for example, on a brocade. / mil Ni, j mil Cu, /
Mill Ni works particularly well to form the above composites in 70% 5N-10 Ti Cr compact compositions on graphite. Various other sandwich overlays are used, such as Nl, Cu, Mo.

手続補正書(方式) 1、事件の表示 昭和よ7  年特許願 第170g2
.1号2 発明(D名称  セラミック、サーメットま
だは金属複合体3、 補正をする者 事件との関係  出願人 4、代理人
Procedural amendment (formality) 1. Indication of the case 1939 patent application No. 170g2
.. No. 1, No. 2 Invention (D title: Ceramic, cermet or metal composite 3, Relationship with the person making the amendment case: Applicant 4, Agent)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)金属またはメタロイドの窒化物、酸化物、ヒ化物
、チタン酸塩、ケイ化物、オ・つ化物、テルル化物、リ
ン化物または炭化物、あるいはそれらの圧縮成形体から
なる基体上の、接着コーティング、フィルムまたは層と
しての、炭化物形成体またはカルブニル形成体と組合わ
されたー成分としての錫、鉛、インジウム、錫合金、鉛
合金を九はインジウム合金からなる複合体であって、加
熱においても濡れ低下性がなく、該接着コーティング、
フィルムまたは層と該基体との間の接触角が零乃至負で
あり、該コーティング、フィルムまたは層と該基体との
間の界面には実質的に空隙のない複合体。 (2)炭化物形成体またはカルブニル形成体がクロム、
チタン、ハフニウム、ジルコニウム、コバ#)、鉄、ニ
ッケル、マンガン、レニウム、ルテニウム、ロジウム、
オスミウム、イリジウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、タングステンまたはモリブデン、あるいはそれらの
混合物である特許請求の範囲第(1)項記載の複合体。 (3)基体構造物がヒ化ガリウムまたはリン化がリウー
である特許請求の範囲第(1)項記載の複合体。 (4)  基体構造物がヒ化アルミニウムガリウムゝで
ある特許請求の範囲第(1)項記載の複合体。 (5)基体がLa日。で示される・ホウ化ランタンであ
る特許請求の範囲第(1)項記載の複合体。 (6)  基体がチ・タン酸バリウム、オルトケイ酸ジ
ルコニウム、ケイ酸マグネシウム、またはケイ酸アルミ
ニウム、あるいはこれらのケイ酸塩の混合物である特許
請求の範囲第(1)項記載の複合体。 (7)基体が窒化ケイ素である特許請求の範囲第(1)
項記載の複合体。 (8)基体がと化物である特許請求の範囲第(1)項記
載の複合体。 (9)基体が金属、メタロイドまたはこのコ種の混合物
の酸化物、窒化物、ホウ化物、ヒ化物、テルル化物、リ
ン化物、ケイ化物、チタンrv&塩またはそれらの混合
物の圧縮成形体である特許請求の範囲第(1)項記載の
複合体。 (ト) 炭化物形成体またはカルがニル形成体が7j〜
、2優のクロム、バナジウム、モリブデン、タングステ
ン、鉄、チタン、り/タル、マンガン、ニッケルまたは
コバルトあるいはそれらの混合物であり、残余が錫また
はインジウムあるいはそれらの合金である特許請求の範
囲第(2)項記載の複合体。 Ql)  鉄が錫とで約j対7jの比で炭化物形成体ま
たはカル/ニル形成体である特許請求の範囲第(1)項
記載の複合体。 に)炭化物形成体がクロムである特許請求の範囲第(1
)項記載の複合体。 (2) 炭化物形成体がバナジウムである特許請求の範
囲第(1)項記載の複合体。 α◆ カルぎニル形成体がバナジウムと混合したニッケ
ルである特許請求の範囲第(1)項記載の複合体。 (ト)錫合金が錫−鉛合金である特許請求の範囲第(1
)項記載の複合体。 (ロ) 合金がインジウム合金である特許請求の範囲第
(1)項記載の複合体。 0乃 インジウムがバナジウムと混合されている特許請
求の範囲第αQ項記載罐合体。 舖 基体材料の7種からなる基体上のコーティング、フ
ィルムまたは層の上にある上張りを更に含み、該上張り
は該基体上の該コーティング、フィルムまたは層と合金
化可能な金属である特許請求の範囲第(1)項記載の複
合体。 (至) 上張りが錫−クロムーヒ化物複合体上の銅であ
る特許請求の範囲第a→項記載の複合体。 翰 上張りがε化物である特許請求の範囲第a枠項記載
の複合体。 6!9  基体がヒ化ガリウムであり、コーティングが
錫とバナジウムとからなるものであり、上張りが酸化ぺ
IJ IJクロムある特許請求の範囲第α樟項記載の複
合体。 (ロ)基体がホウ化ランタンであシ、上張シが酸イヒペ
リリウムである特許請求の範囲第Q1項項記載複合体。 (ハ) ベリリアと、その上にある錫−バナジウムめコ
ーティング、フィルムまたは層と、ヒ化ガリウムまたは
ヒ化アル電ニウムバナジウムの上張りとからなるサンド
イッチである特許請求の範囲第(至)項記載の複合体。 (ハ)窒化ホウ素またはニホウ化チタンあるいはそれら
の混合物からなる基体上の、接着コーティング、フィル
ムまたは層としての、炭化物形成体またはカルビニル形
成体と組合わされ九−成分としての錫、鉛、インジウム
、錫合金、鉛合金またはイン・・クロム合金からなる複
合体。 (ハ) 炭化物形成体またはカルビニル形成体がクロム
、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、コバルト、鉄、
ニッケル、マンガン、レニウム、ルテニウム、ロジウム
、オスミウム、イリジウム。 パナゾウム、ニオブ、タンタル、タングステンまたはモ
リブデン、あるいはそれらの混合物である特許請求の範
囲第(ハ)項記載の複合体。 (ハ) 接着コーティング、フィルムまたは層が接着シ
タ銅、ニッケル、モリブデンまたはこれらの金属のサン
ドインチ層で更に上張シされている特許請求の範囲第(
ハ)項記載の複合体。 (ロ)接着上張す層がニッケルー銅−ニッケル複合材料
である特許請求の範囲第(ハ)項記載の複合体。 翰 基体が窒化ホウ素とニホウ化チタンとの混合物であ
る特許請求の範囲第(ハ)項記載の複合体。 四 基体が窒化ホウ素である特許請求の範囲第(ハ)項
記載の複合体。 (7) 基体がニホウ化チタンである特許請求の範囲第
(ハ)項記載の複合体。 0溌 窒化ホウ素基体上の接着コーティングとして錫が
クロムと組合わされている特許請求の範囲第(ハ)項記
載の複合体。 0■ 基体が窒化ホウ素とニホウ化チタンとの/対/の
重量比の混合物である特許請求の範囲第(ハ)項記載の
複合体。 勢 上張り層が黒鉛上にある特許請求の範囲第(ロ)項
記載の複合体。 (ロ) 金属形態の炭化物形成体またはカルがニル形成
体と錫、錫合金、鉛、鉛合金、インジウムまたはインジ
ウム合金の「錫群」金属とからなり、該炭化物形成体ま
たはカルテニル形成体か/〜tiosであり、残余が該
錫群金属である合金であって、−酸化炭素雰囲気中にお
いて、金属またはメタロイドの窒化物、酸化物、ヒ化物
、チタン酸塩、ケイ化物、ホウ化物、テルル化物、リン
化物または炭化物、あるいはそれらの圧縮成形体からな
る基体上での加熱溶融で零または負の接触角を有し且つ
繰り返しの加熱サイクルにおいても濡れ低下性のない層
を該基体上に形成する特性を有する合金。 (至) クロムが5〜13%であり、残余が錫であるク
ロム−錫合金である特許請求の範囲第(ロ)項記載の合
金。 (ロ) モリブデンが夕〜10%であり、残余が錫であ
るモリブデン−錫合金である特許請求の範囲第(ロ)項
記載の合金。 (ロ)金属またはメタロイドの窒化物、酸化物、ヒ化物
、チタン酸塩、ケイ化物、ホウ化物、テルル化物、リン
化物または炭化物、あるいはそれらの圧縮成形体からな
る基体上の、炭化物形成体またはカルテニル形成体と組
合わされた錫、鉛、インジウムまたはそれぞれの合金か
らなる接着コーティング、フィルムまたは層の調製法に
おいて、粒状の錫、鉛、インジウムまたはそれぞれの合
金と微細粒状の金属形態の炭化物形成体またはカルyt
rニル形成体とを、該基体上に与える分散液のための分
散質を形成するために、適したビヒクル中で混合して混
合物を生成させる工程、−酸化炭素の存在下で該混合物
の融点まで及びその融点で該混合物を反応させる工程、
該−酸化炭素雰囲気または一酸化炭素と不活性ガスとの
混合物の存在下で酸混合物を冷却するかあるいは水素ま
たは水素と窒素の不活性雰囲気中で該混合物を冷却する
工程、該混合物を「活性」合金として回収する工程を特
徴とする調製法。 (至)粒状物がコロイド状の330メツシユ(米国)カ
ラ/々インチ(3,/−73■)の粒度範囲の混合物で
ある特許請求の範囲第(ロ)項記載の調製法。 (2) ビヒクルがロジン、オイル、フレオン組成物ま
九は類似のビヒクルであり、分散液がスクリーン印刷、
塗装、吹付または印刷によって基体上に付与される特許
請求の範囲第0η項記載の調製法。
[Scope of Claims] (1) Consisting of a metal or metalloid nitride, oxide, arsenide, titanate, silicide, oxide, telluride, phosphide or carbide, or a compression molded product thereof Composites consisting of tin, lead, indium, tin alloys, lead alloys as components in combination with carbide or carbide formers as an adhesive coating, film or layer on a substrate. The adhesive coating has no wetting property even when heated,
A composite wherein the contact angle between the film or layer and the substrate is zero to negative, and the interface between the coating, film or layer and the substrate is substantially void-free. (2) The carbide former or carbunyl former is chromium,
Titanium, hafnium, zirconium, iron, nickel, manganese, rhenium, ruthenium, rhodium,
The composite according to claim 1, which is osmium, iridium, vanadium, niobium, tantalum, tungsten or molybdenum, or a mixture thereof. (3) The composite according to claim (1), wherein the base structure is gallium arsenide or the phosphide is rieux. (4) The composite according to claim (1), wherein the base structure is aluminum gallium arsenide. (5) The substrate is La day. The composite according to claim 1, which is lanthanum boride represented by: (6) The composite according to claim (1), wherein the substrate is barium titanate, zirconium orthosilicate, magnesium silicate, aluminum silicate, or a mixture of these silicates. (7) Claim No. (1) in which the substrate is silicon nitride
Complexes described in Section. (8) The composite according to claim (1), wherein the substrate is a torment. (9) A patent in which the substrate is a compression molded body of oxides, nitrides, borides, arsenides, tellurides, phosphides, silicides, titanium rv & salts of metals, metalloids or mixtures thereof, or mixtures thereof. A composite according to claim (1). (g) The carbide-forming body or the Cal-Nyl-forming body is 7j~
, two predominant elements are chromium, vanadium, molybdenum, tungsten, iron, titanium, tal/tal, manganese, nickel or cobalt, or a mixture thereof, and the remainder is tin or indium or an alloy thereof. ). Ql) A composite according to claim 1, wherein the iron is a carbide former or a car/nil former with tin in a ratio of about j to 7j. 2) Claim No. 1, wherein the carbide former is chromium.
). (2) The composite according to claim (1), wherein the carbide former is vanadium. The composite according to claim 1, wherein the α◆ carginyl former is nickel mixed with vanadium. (g) Claim No. 1 in which the tin alloy is a tin-lead alloy
). (b) The composite according to claim (1), wherein the alloy is an indium alloy. 0 - The can assembly according to claim αQ, in which indium is mixed with vanadium. A claim further comprising an overlay overlying a coating, film or layer on the substrate of seven substrate materials, wherein the overlay is a metal that is alloyable with the coating, film or layer on the substrate. The complex according to item (1). (to) A composite according to claim 1, wherein the overlay is copper on a tin-chromium arsenide composite. The composite according to claim 1, wherein the top layer is an epsilon compound. 6!9 The composite according to claim 1, wherein the substrate is gallium arsenide, the coating is made of tin and vanadium, and the overlay is chromium oxide. (b) The composite according to claim Q1, wherein the substrate is lanthanum boride and the overlay is ihyperylium acid. (c) A sandwich consisting of beryllia, a tin-vanadium coating, film or layer thereon, and a gallium arsenide or alkalivanadium arsenide overlay. complex. (c) tin, lead, indium, tin as a component in combination with carbide or carbinyl formers as an adhesive coating, film or layer on a substrate consisting of boron nitride or titanium diboride or mixtures thereof; composites consisting of alloys, lead alloys or in-chromium alloys. (c) The carbide former or carbinyl former is chromium, titanium, hafnium, zirconium, cobalt, iron,
Nickel, manganese, rhenium, ruthenium, rhodium, osmium, iridium. The composite according to claim (c), which is panazome, niobium, tantalum, tungsten or molybdenum, or a mixture thereof. (c) The adhesive coating, film or layer is further overlaid with an adhesive layer of copper, nickel, molybdenum or a sandwich layer of these metals.
The complex described in section c). (b) The composite according to claim (c), wherein the adhesive overlay layer is a nickel-copper-nickel composite material. The composite according to claim (c), wherein the substrate is a mixture of boron nitride and titanium diboride. (iv) The composite according to claim (c), wherein the substrate is boron nitride. (7) The composite according to claim (c), wherein the substrate is titanium diboride. A composite as claimed in claim (c) in which tin is combined with chromium as an adhesive coating on a boron nitride substrate. 0. The composite according to claim (c), wherein the substrate is a mixture of boron nitride and titanium diboride in a weight ratio of /v//. The composite according to claim (b), wherein the top layer is on graphite. (b) The carbide-forming body or cartenyl-forming body in the form of a metal is composed of a nyl-forming body and a “tin group” metal such as tin, tin alloy, lead, lead alloy, indium or indium alloy, and is the carbide-forming body or cartenyl-forming body. ~tios, the remainder being said tin group metal, wherein - in a carbon oxide atmosphere, nitrides, oxides, arsenides, titanates, silicides, borides, tellurides of metals or metalloids; , forming a layer on a substrate made of a phosphide or carbide, or a compression molded product thereof, which has a zero or negative contact angle and does not have wettability even after repeated heating cycles. Alloy with properties. (to) The alloy according to claim (b), which is a chromium-tin alloy containing 5 to 13% chromium and the balance being tin. (b) The alloy according to claim (b), which is a molybdenum-tin alloy containing 10% to 10% molybdenum and the remainder being tin. (b) A carbide-forming body on a substrate consisting of a metal or metalloid nitride, oxide, arsenide, titanate, silicide, boride, telluride, phosphide or carbide, or a compression molded body thereof; Process for the preparation of adhesive coatings, films or layers consisting of tin, lead, indium or their respective alloys in combination with cartenil formers, in which granular tin, lead, indium or their respective alloys and carbide formers in the form of finely granular metals are used. or calyt
rnyl former in a suitable vehicle to form a dispersoid for a dispersion provided on the substrate, - the melting point of the mixture in the presence of carbon oxide; reacting the mixture up to and at its melting point;
- cooling the acid mixture in the presence of a carbon oxide atmosphere or a mixture of carbon monoxide and an inert gas, or cooling the mixture in an inert atmosphere of hydrogen or hydrogen and nitrogen; ” A preparation method characterized by a process of recovering it as an alloy. A process according to claim (b), wherein the granules are a colloidal mixture with a particle size range of 330 mesh/inch (3,/-73 square centimeters). (2) The vehicle is a rosin, oil, or freon composition.
The preparation method according to claim 0η, which is applied onto a substrate by painting, spraying or printing.
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