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JPS5942911A - セラミツクシエルモ−ルドの製造プラント - Google Patents

セラミツクシエルモ−ルドの製造プラント

Info

Publication number
JPS5942911A
JPS5942911A JP14262483A JP14262483A JPS5942911A JP S5942911 A JPS5942911 A JP S5942911A JP 14262483 A JP14262483 A JP 14262483A JP 14262483 A JP14262483 A JP 14262483A JP S5942911 A JPS5942911 A JP S5942911A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
drying
station
passage
air
section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP14262483A
Other languages
English (en)
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JPH0254182B2 (ja
Inventor
ギユンテル・ゲルスツインヌス
ウエルネル・ホツフマン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BEBU KOMUBINAATO GIISERAI ANRAAGENBAU UNTO GUSERUTSUOIKUNITSUSEEJIZAAGUU
GIISERAI ANRAAGENBAU UNTO GUSE
Original Assignee
BEBU KOMUBINAATO GIISERAI ANRAAGENBAU UNTO GUSERUTSUOIKUNITSUSEEJIZAAGUU
GIISERAI ANRAAGENBAU UNTO GUSE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BEBU KOMUBINAATO GIISERAI ANRAAGENBAU UNTO GUSERUTSUOIKUNITSUSEEJIZAAGUU, GIISERAI ANRAAGENBAU UNTO GUSE filed Critical BEBU KOMUBINAATO GIISERAI ANRAAGENBAU UNTO GUSERUTSUOIKUNITSUSEEJIZAAGUU
Publication of JPS5942911A publication Critical patent/JPS5942911A/ja
Publication of JPH0254182B2 publication Critical patent/JPH0254182B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
  • Casting Devices For Molds (AREA)
  • Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、精密flJ造用上用セラミックシェルモール
ド造に関し、セラミックシェルモールドの製造プラント
に係る。
#’vWi 鋳造用セラミックシエルモールドは周知の
方法では次のようにしイ作られる。即ち、モールドか十
分な環上になるまで、結合剤懸濁敢にPi 7A L,
、この付着した懸濁液フィルムに側火性の粒子を砂を株
し、続いて乾燥することによって、このような籾数の被
覆層を、溶去する模パV凍たは鋳造システムにそ怜3れ
た房状模型上に形成するこどにより作られる。前記の十
分な原資のモールドtよ枦型制利が溶去I一た後で燃焼
ぎれて直ちに使用できるモールドに々Z・。
セラミックシェルモールドを製造するために2つの型の
プラントが知られている、、ffilのいわゆるメリー
ゴーランド型の代表的なものは米国特許明細■第327
8998号、同第3429358号および同第36o2
fiss号に記載式れてbる。このプラントは個々の被
覆層を硬化するために化学的な方法が専ら用いられる。
しかし、中間乾燥を行わずにセラミックモールドを製作
1ると、セラミックモールドの品質が悪くなり q47
にモールドの強度が弱くなる。続いて行わizるモール
ドの仮乾燥ではこの欠点を除去することができない第2
の型のプランhtよ米国特許明細書第2932864号
、同第3850224号と西独国特許公開公報第273
5395号に記載式れている。このプラントは被U!層
の数に相当する数のU字状乾燥トンネノレと、この乾燥
トンネルの上方でループ状に延びる無端のセラミックモ
ールド用コンベヤ装置と、空気訓和兼供給装置とからな
っている、前記乾燥トンネルは自由端が開放した各々1
つの入口部分と、これと幇1似の各々1つの出口部分と
、入口部分と出口部分を接続する中央部分を備えイいる
8前記空気調和兼供給装置は空気供給通路と空気排出通
路によって乾燥トンネルと接続もれている。空気供給通
路または空気排出通路の配(?q.に応じて、乾燥空気
はセラミックモールドのコンベヤ装置に沿ってまたはコ
ンベヤ装置に対して横方向に乾燥トンネルを流過する。
乾燥トンネルの入口部分または出口部分の開放した各端
部は、各被4M層用校漬スデーションおよびザ/デイン
グステーションを付設した作業室に開口し7ている。
西独国特許公μr]公報第2735395号記載の実施
形の場合には、各乾燥l・ンネルに空気供給装置が付設
され、この空気供給装置は入口部分と出口部分のために
、別々の乾燥空気調和手段を備え、− ている。この手
段はその時hの乾燥度合に適合する。この実施形は米国
特詐明細書第2932864号と同第3850224号
i己載のプラントと違って、良好な品質のセラミックモ
ー・ルドの製造を可能にする。このセラミックモールド
は、各被覆層のだめの乾燥パラメータが厳守−ff i
t 、乙と、乾燥によって生ずる品質上の欠陥がない,
、 米国特許明細書第2932864号に記載上れている、
少数のセラミックモールドを乾j% 4せるための他の
実施形は、乾燥時にセラミックモーノレドが動かない点
で前記の実施形と異なる。この実施形の場合には、乾燥
通路がキャビネット状のケーシングの中に並列にかつ上
下に配置なれ、セラミックモールドがレールの形をした
各々1つの引出l−板によって乾燥通路の中に挿入上れ
る。
これらのプラントの共通の欠点は、H t4ステーショ
ンとサンデイングステーショント乾燥ステーションが各
被覆層のために別々に設けらノしているのでプラントの
装置上のコストが@iフめで太であり、かつ広い据付は
面積を8璧とすることにある。米国特許明細値ト第29
32864号記載のキャビネット状プランl・は実施が
容易であるが、作動態様が不連続であるので、精密鋳造
用鋳型の大量生産には適していないっ 本発明の目的は、セラミックシェルモールドを連続的に
大IJi−生=YRす、乙際に、品質特にモールド強度
を4F4なうことなく、装置コストと必要な据付は面積
を少なくすることである。
本発明のh果題t」:、極〈少数の浸漬ステーションと
サンディングステーションと乾燥ステーションを備えた
セラミックモールド製造プラントラ提供することである
。この場合、ステーションの数は被81−の数に依存せ
ず、そしてほぼ東独国特許公報(WP B 22c/ 
22342’ハに記載上れている方法で個々の被キA層
を、具なる性質特に異なる速IWの乾燥空気によって乾
燥式せるべきである。
この課題は本発明に従って、それぞれ水平な平面に沿っ
て延びる乾燥通路が2つだけ設けられ、かつこの乾燥通
路が間隔をおいて上下に配匿六れ、この両乾繰通路に共
通のコンベヤが付ft& ’れ、このコンベヤが2段の
無端コンベヤの形の両乾燥通路の全長にわたって砥び、
更に下方と上方の乾燥通路を通って模型またはセラミッ
クシェルモールドを1lli々にかつ例題も運搬できる
ようにするブ辷めに両乾燥辿路が互いに連通しているこ
とによって解決上れる。本発明の他の特徴に依れば、溶
去可能な模型にa4 ]の被覆層を形成するために、下
方の乾燥通路の入口の領域に、結合剤被覆層を形成する
だめの浸漬ステーションと耐火性の粒子を積層するため
のサンディングステーションが運搬方向に順々に設けら
れ、第2および他の被覆層を形成するための各々1つの
浸漬ステーションとサンディングステーションが下方の
乾燥通路の出口の領域に設けられている1、下方と上方
の乾燥通路は乾燥空気用供給導管と戻り導管によって乾
燥空気浄化用の中央のステーションと接続され、このス
テーション内で所定の割合の新気が空気調和上れ、絖い
て乾燥通路から戻る乾燥空気と混合され、そして被覆層
を乾燥嘘せるためにここから乾燥通路に供給盗れる。乾
燥通路は好ましくは互いに平行に配置された真直な複数
の区間からなり、この区間は、乾燥通路が蛇行形に延び
るよう中間部分によって対をなして交互に連帽七れでい
為1、性質が被4R層のそれぞれの乾燥過程に相応する
乾燥空気を乾燥通路の個々の区間に供給フるプこめに、
乾燥通路の仁の区間は個別的に貰たt」、り゛ループを
なしてその端面が供給導管と戻1− Qj?管によっ−
r乾燥空気N14d 1°]jスデーシヨンと接続盗れ
 セしてを気供給通路内には他の加熱装飲と、絞ね弁ま
たはルーバー薄板を備えた通風機もしくは沖1転数に応
じて制御音れる通風機が設けられている。それによって
、乾りに空気温度が乾燥過程に適した温度に811節寄
れ、乾燥空気のj虱速がlJi定の連n゛Lに11周節
すれる。乾燥空気が水ブたは浴1v2と強く混合する乾
燥通路の区間は排気げ導管によって外気と直接的に−M
)I51L、ている。この区間は通常、セラミックモー
ルドがLシ?)′tおよび砂まきのラ−ぐ抜で運ばれて
通過する区間である。乾燥通路の横断面積は好ましくは
、それが模型の外形と調、(口しかつ乾燥通路の壁と模
型の間に狭い隙間が生じるように形成式れる0、セラミ
ックモールドが乾燥通路を通過する除に絶えず回転する
と好都合である1、この場合、この回転は周知の方法で
所属の荷重懸架装置mによつイ行わil−る。
本発明に係るプラントに装置コストが安いという利点と
据付は面積が狭いという利点を結びつけ、同時にその時
々の乾4j■Φ件に適1−だ界なる性質の乾燥空気によ
ってセラミックシェルモールドの個々の被覆層のための
乾燥態様を改善する。
本発明並びに他の詳細な事柄を図に基づいて   □詳
しく説明する。
本発明に係るプラントは下方の乾燥通路lとその上に設
けた上方の乾燥通路2からなっている。この両通路には
、模型とシェルモールド4のだめの共通のコンベヤ3が
付設上れている。
コンベヤ3は二段状の無端コンベヤであり、かつそれぞ
れ乾燥通路1.2の上方でその全長にわたって延びてい
る。この場合、コンベヤは(前送方向に見て上昇区間5
によって下方の乾燥刈路1の出口6と上方の乾燥通路2
の入ロアを接続し、そしてコンベヤ3の下降区間8は上
方乾燥通路2の下方へ延びるr++−分9に追従しイい
る。
コンベヤ3のこの下1t・6区間8並びに上昇区間5が
下方の乾t、”h 、itQ、 I#’+ ]と上方の
乾燥通路2を隔続しイい、もので、2つの平面に沿って
延びるセラミックを−ルビ4用乾燥F6が形成伐れ、す
べてのモールドがこの乾チ・■路社例度もJrh遇する
ことがでへる。、本′A施トリでは上方の乾燥通路2が
下方の乾燥通路1の1面まで下降する部分9を備えてい
る。下方の乾燥1通路1からの排気はこの部分を通って
詳Millに説明しない空気温オ[1ステーシヨンずな
ワ#y、 ?#気??化ステー シーt y2gへ導か
れ、同時に乾燥のために利用可能である。
更に、1・;6分9を設けないで本発明を実施し、乾燥
通路1からの排気を曲の方法で空気温オ[1ステーシヨ
ン29に戻すかまたは他の場所から排出することかで〜
る。
下方の乾燥)Ili hlh l IIよυ数の真直な
区間10. it 12からなっている。こJLらの区
間は対をなしてかつ中間部分13.14によって交互に
連趙されている。
従つイ、乾燥i+fi k’is 1は蛇行形に形成伐
1している。
下方の乾燥通路1の入口15の領域と、セラミックモー
ルドの運搬方向に見て出口6の後方において、結合剤懸
濁液を積層するための浸漬ステーション16.17 ト
ザンデイングステーション18. i9がコンベヤ3の
作用範囲内に設けられている。
この場合、入口15の領域に配置盗れた浸漬ステーショ
ン16と、第1の被覆層を形成するだめのサンディング
ステーション18と、残妙のすべての被覆層を形成する
ための浸@およびサンディングステーション17.19
が設けられてい石。このためにコンベヤ3はステーショ
ン16.18の領域において周知の方法で次のように形
成伐れている。
即チ、コンベヤ3の荷物つり八がステーション16、1
8を選択的に通過するかまたはこのステーションを迂回
して乾燥通路lの区間10へ直接的に運搬盗れるように
形成伐れている。
この種の装置は分岐装置として知られているので、ここ
では詳説しない。ステーション17.19の領域におい
てもコンベヤ3を前記と同様に形成することができる。
しかし、本実施例ではこのように形成する必要り:ない
。なぜなら、最後の117.4N Jmが形成もれそし
て乾燥通路12を新たに通過1だ後乾燥する゛まで、未
完成のセラミックモールドが通過の度毎にステーショy
 17.19 k通るからである。その後、セラミック
モールドは取去ステーション20でコンペーヤかう)&
 去亡iする。運搬方向に見てステーションlfi、 
18の手前に、11’J !’Q裔れていない模型また
は房状換型のだめの投入ステーション21が設けられて
いる。。
上方の乾燥JJf回路2は下方の乾燥通路とほぼ同じよ
うに多数の真直な区間22.23,24.25からなっ
ている。これらのl、<間は中間部分26.27.28
によって連結上れて蛇行形の乾燥通路2を形成している
セラミックモールド用乾燥空気を調和するために、空気
両相ステーション29が4管31によって吸込まれる新
気のための空気調和設備3oを備え6いる1、乾燥気は
空気θ4和ステーション29から供給導管3λ33.3
4.35を通って乾燥通路1並びに乾燥通路2の区間2
2.23.24に供給される。乾燥通路1の下方には室
36が設けられている。乾燥通路1の排気が導管37を
経てこの室36に導かれ、る。
この排気の一部は、乾燥通路2の下方へ延びる部分9の
出口に設けた通JVtファン38によつイエアーカーテ
ンを形成するために利用上れ、大部分は戻り導管39と
乾燥通路2の下方へ延びる部分9と乾燥通路の区間25
を経イ窒気調和ステーション29へ供給上れるいこの場
合、部分9と区間2!夕内の排気はそこを通って運ばれ
るセラミックモールドを乾燥するために使用くれる。
区間22に供給盗れた乾燥空気は湿気が多いので排気導
管40から排気として排出式れる。区間23.24に吹
込まれた乾燥空気は戻り導管41を経て空気調和ステー
ション29に達する1、乾燥通路1゜2から区間25と
戻り導1i41を通って空気調和ステーション29に戻
った乾燥空気はここで空気嵯和式れた新気と混り、再生
されたこの乾燥空気は供給導管32.33.34.35
を経て乾燥1m路1.2に吹込壕れる。この供給導管は
調節可能な後熱装置と調節可能な絞+1弁を備えている
。室36内に他の通風ファンを設けてもよい。この通風
ファンは流動床を発生伏せるための適当な導管によって
サンディングステーション18.19に乾燥空気を供給
する。
セラミックモールドを製造するために溶去可能外模型ま
ブζは房状+(N型が投入ステーション21からコンベ
ヤ3に供給される。続いて、模型は洸蹟ステーション1
6とサンディングステーション18を通過し、そしてこ
こで結合剤懸濁液と耐火性の粒子からなる第1の彼覆部
が形成ネれるこのようにして小Iの被覆層を備えた模型
は続いて乾燥通路1の中を運ばれる。この場合、模型1
.1所定の性質の乾燥空気によって乾す1■さil、る
この乾燥タヱ気は供給導−一32から乾燥通路lの区間
10.11.12に供給上れる1、第1の破援1情が乾
燥した後で、セラミックモールドは出口6を通って乾燥
通路1から出七九、ぞして1:i漬ステーション17と
サンディングステーション19において新しい粘11濁
液フィルムと耐火性の粒子を付着させみことによってQ
’y 2の被捷lemが形成される。、第1の汲f笈層
のための乾燥空気性質よりも悪い所定の性質の乾燥空気
によって第2の被覆層を乾燥上せるために、セラミック
モールドはコンベヤ3によってこのコンベヤの上昇区間
5と入ロアを経て乾燥通路2に供D ’−t’する。セ
ラミックシェルモールドは乾燥通路2を通過するときに
乾燥空気によって送風室れる。この乾燥空気の性質は第
2およびその仙の被棟層の乾燥過程を開始するためにこ
の被覆層の乾燥条件に対応する。この乾燥空気は空気調
和ステーション29で空気l¥和すれ、そして供給導管
33.34.35を経て乾燥通路20区間2Z 23.
24に供給される。供給導管33.34.35内に設け
た後熱装置と絞り弁によって、乾燥空気の性質は乾燥通
路20区間毎に鋭わる乾燥条件に相応して微調部上れる
。セラミックシェルモールドは乾燥通路2を通過した後
、下方へ延びる部分9の端部からこの乾燥通路を出る。
本実施例に卦いてこの部分9は好tL<は乾燥通路lの
作業平面まで延びている。それによって、乾燥通路1を
流過してその中のモールドを乾燥した、湿気が比較的少
ない乾燥空気を、第1の乾燥1ヌ間内で第2およびその
他の被1驚層を乾ヅ]■嘘せるために、乾燥通路2の区
間25に供給することがコストをあまりかけずに可能で
ある。セラミックシェルモールドは乾燥通路2から出た
後で、コンベヤ3によって再び乾燥通路1に供給上れる
。この場合、ffeffiステーション1Gと一リンデ
ィングステーション18のところでは処理をせずに通り
過き゛る。乾燥通路1の第2の乾燥区間においイ第2の
被覆層の最長的な乾燥が行われるので、シェルモールド
は乾燥通路lの出「」6から出た後で浸漬ステーション
17とサンディングステーション19内で処理すること
によってh)、3の被覆層を形成することができる。
この被旬層の乾燥は前記の第2の破憤層と同じ(;pに
行われる。これにより、モールドがその実際の11ip
用にと−)で必臂な環上または強度を得るまで、シェル
モールドの他の被僚屑を形成および乾燥することができ
る。必要な数の被覆層が1へ型の周わに形成盗れかつ乾
燥盗れた後で、セラミックモールド・−ルドは取去ステ
ーション20でコンベヤ3から取去惚れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るプラントの概略仰1面図、第2図
のA−A線に沿った平面図、第3図は第1図の11−B
綜に沿った平面図である1、1゜2110・乾燥通路 3・・9コンベヤ 6・・・下方乾燥通路の出口 9・・・上方乾燥通路の下方へ延ひる部分10、11.
12! 22.23.24,25・9−乾燥通路区間1
3、14,26.27・・−中間部分15・・・下方乾
燥通路の出口 16.17@・・浸漬ステーション 18、19・・Φサンディングステーション29・・・
空気調和ステーション 32に33.34.35 @・・供給導管37・・・導
管 し11ノー1:1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■、 乾・W:通路と、この乾燥通路に対応1−で設け
    G−> し7’Cコンベヤと、結合剤勿付着伏せるため
    の72漬ステーシヨンと、耐火性粒子を積層すまための
    ザンディングステーションと、空気調l1111ステー
    ションと、乾燥通路に接続−Y :Iシた空気tlム給
    イイrおよυ・空気戻を)導管とを備えた、ロスト模型
    ケ使用し、て精密鋳造用セラミソクシエルモールトラ製
    造するためのプラントにおいて、水平に配向aCt間隔
    を赴いて上下に配設上れlこ2つの乾燥】I11路(1
    ,2)を備え、仁の両乾燥通路(1,2)に共通の1つ
    のコンベヤ(3)が付設され、このコンベヤが両乾燥通
    路の全長にわたって延ひ、かつ両乾燥通路を二段状無端
    コンベヤの形に連;r−;f L、消失する模型に第1
    の破!A層を形成するための&jNステーション(16
    ) トザンディングスデーション(18)カ下方乾燥通
    路(1)の入口(15)の領域に搬送方向に見て順番に
    設けられ、第2および他の被段層を形成するための浸漬
    ステーション(]7)とザンデイングステーション(1
    9)が下方乾燥通路の出口(6)領域に設けられている
    ことを特徴とするプラント。 2、 両乾燥通路(1,2)に、中央の空気調第11ス
    テーション(29)が付設され、この空気調和ステーシ
    ョンが乾燥空気用の分離慣れた供給導管(32,33,
    34,35)によって下方および上方の乾燥通路と接続
    づれていることf:特徴とする前記特許請求の範囲第1
    項記載のプラント。 3、供給導管内に、調節可能な後熱装置と調@1可能な
    絞り弁が設けられていることを%敵とする前記特許請求
    の範囲第2項6己載のプラント。 4、 乾燥通路(1,2)が互いに平行に設けられた真
    直な区間(10,11,12,2a 23.24.25
    >からなり、コ(2) l、<間がそれぞれ対をなして
    かつ父互に中間部分(13,14,26,27)によっ
    て相互連結六れていることをjr!1′微とする前記特
    許請求の範囲第1項記載のプラント。 5、 上方の軸外通路(2)の一区間(25)が下方の
    乾;j′^通路(1)の面オで下降ずみ部分(9)を備
    え、このf−1へ分が下方乾燥通路(1)の排気のため
    の導管(:371と作用連結うれていることを特徴とす
    る特許
JP14262483A 1982-08-06 1983-08-05 セラミツクシエルモ−ルドの製造プラント Granted JPS5942911A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD22C/242313-6 1982-08-06
DD24231382A DD211925A3 (de) 1982-08-06 1982-08-06 Anlage zur herstellung keramischer maskenformen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5942911A true JPS5942911A (ja) 1984-03-09
JPH0254182B2 JPH0254182B2 (ja) 1990-11-20

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ID=5540500

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14262483A Granted JPS5942911A (ja) 1982-08-06 1983-08-05 セラミツクシエルモ−ルドの製造プラント

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JP (1) JPS5942911A (ja)
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CS (1) CS260961B1 (ja)
DD (1) DD211925A3 (ja)
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JPH0254182B2 (ja) 1990-11-20
CS260961B1 (en) 1989-01-12
CS460383A1 (en) 1985-07-16
RO87317A (ro) 1985-10-31
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