JPS5933222B2 - ガスブンセキソウチ - Google Patents
ガスブンセキソウチInfo
- Publication number
- JPS5933222B2 JPS5933222B2 JP50137607A JP13760775A JPS5933222B2 JP S5933222 B2 JPS5933222 B2 JP S5933222B2 JP 50137607 A JP50137607 A JP 50137607A JP 13760775 A JP13760775 A JP 13760775A JP S5933222 B2 JPS5933222 B2 JP S5933222B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- electron beam
- nozzle
- electron
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガス状の試料に電子線を照射して、その結果発
生する試料固有のＸ線を検出してガス分析を行う装置に
関するものである。
生する試料固有のＸ線を検出してガス分析を行う装置に
関するものである。
従来、走査型の電子顕微鏡等によつてガス状の試料を分
析することは行われていないが、これは観察測定する試
料に電子線を照射する必要上、試料は真空中に位置させ
ねばならないからである。
析することは行われていないが、これは観察測定する試
料に電子線を照射する必要上、試料は真空中に位置させ
ねばならないからである。
もし走査型電子顕微鏡ｂような集中した電子線ビームを
用いる構造によつてガス状の試料を分析するとすれば、
ガス状の試料を薄膜状のカプセル内に封入するか、又は
薄膜状パイプ中を通して電子線を照射する等と謂う、試
料と真空中である電子線照射部との通気を断絶して観察
測定する方法が考えられるが、この方法では薄膜材料を
通して電子線を照射するので、薄膜材料のバックグラウ
ンドが測定結果に影響して満足な結果が得られにくい。
本発明は電子線照射部の真空度を損うことなくガス状試
料に直接電子線を照射して、これにより生ずるＸ線を測
定できるようにした装置を提供せんとするものである。
用いる構造によつてガス状の試料を分析するとすれば、
ガス状の試料を薄膜状のカプセル内に封入するか、又は
薄膜状パイプ中を通して電子線を照射する等と謂う、試
料と真空中である電子線照射部との通気を断絶して観察
測定する方法が考えられるが、この方法では薄膜材料を
通して電子線を照射するので、薄膜材料のバックグラウ
ンドが測定結果に影響して満足な結果が得られにくい。
本発明は電子線照射部の真空度を損うことなくガス状試
料に直接電子線を照射して、これにより生ずるＸ線を測
定できるようにした装置を提供せんとするものである。
本発明の要旨とする所は、真空に維持された電子線発生
系中に試料を噴射するノズルと、これに対向して開口す
る゛試料吸引管とを設けて、噴射ノズルと吸引管との隙
間の試料噴射気流に前記電子線発生系の電子線ビームを
照射して発生したＸ線を検出せんとするものである。
系中に試料を噴射するノズルと、これに対向して開口す
る゛試料吸引管とを設けて、噴射ノズルと吸引管との隙
間の試料噴射気流に前記電子線発生系の電子線ビームを
照射して発生したＸ線を検出せんとするものである。
次にこれを実施例図について説明する。
１は電子線ビーム発生系の真空器壁で電子銃、加速部等
は図外で電磁対物レンズ２より上方にあり、これらより
鋭く集束した電子線ビーム３が得られる。
は図外で電磁対物レンズ２より上方にあり、これらより
鋭く集束した電子線ビーム３が得られる。
電子線発生系は排気系４に連絡していて真空が維持され
ている。電子線３の焦点部に試料導入管５の噴射ノズル
６と試料吸引管Ｔの吸引口８が対向して開口しており、
ノズル６の開口径より吸引管の吸引口８の方が大径であ
り、両開口は共心的に配置されていてノズルよりの噴射
試料は殆んどすべて吸引口８内に吸引され排気系９に導
かれるので電子線発生系内の真空度には殆んど影響を及
ぼさない。電子線ビーム３は噴射ノズル６と吸引口８と
の間で試料が噴射気流１０となつている箇所に直接照射
する。これにより試料ガスから発生すをＸ線１１をＸ線
検出系１２によつて検出測定してガス分析を行う。ガス
状試料に電子線を当て発生するＸ線等を検出するガス分
析法では、電子を飛行させるため或る程度の真空の保持
が必要であり、試料ガスも稀薄となるから発生するＸ線
等も微弱であり分析の感度、精度が低い。
ている。電子線３の焦点部に試料導入管５の噴射ノズル
６と試料吸引管Ｔの吸引口８が対向して開口しており、
ノズル６の開口径より吸引管の吸引口８の方が大径であ
り、両開口は共心的に配置されていてノズルよりの噴射
試料は殆んどすべて吸引口８内に吸引され排気系９に導
かれるので電子線発生系内の真空度には殆んど影響を及
ぼさない。電子線ビーム３は噴射ノズル６と吸引口８と
の間で試料が噴射気流１０となつている箇所に直接照射
する。これにより試料ガスから発生すをＸ線１１をＸ線
検出系１２によつて検出測定してガス分析を行う。ガス
状試料に電子線を当て発生するＸ線等を検出するガス分
析法では、電子を飛行させるため或る程度の真空の保持
が必要であり、試料ガスも稀薄となるから発生するＸ線
等も微弱であり分析の感度、精度が低い。
本発明においては、真空中においてノズルと吸引口とを
対向させているので、ノズルに送る試料ガスが一気圧或
はそれ以上の高圧であつても、噴出気流の流速が高く真
空空間に拡散する以前に吸引口より排気ポンプに吸引さ
れてしまい、真空中に局部的に高密度ガスの柱が作られ
ており、そこを集束させた電子ビームで照射するのでＸ
線等の強度が大幅に高められるのである。なお本発明装
置はガス分析専用として造ることもできるが、走査型電
子顕微鏡を利用することもできる。
対向させているので、ノズルに送る試料ガスが一気圧或
はそれ以上の高圧であつても、噴出気流の流速が高く真
空空間に拡散する以前に吸引口より排気ポンプに吸引さ
れてしまい、真空中に局部的に高密度ガスの柱が作られ
ており、そこを集束させた電子ビームで照射するのでＸ
線等の強度が大幅に高められるのである。なお本発明装
置はガス分析専用として造ることもできるが、走査型電
子顕微鏡を利用することもできる。
この場合通常の電子顕微鏡として用いる場合程小範囲に
電子ビームを集中させる必要はなく１ｍｄ程度に集束す
ればよいからレンズ絞りを外すことにより電子線電流を
増加させ１０−４Ａ程度とする。即ち本発明はエレクト
ロンプローブマイクロアナライザの機能を拡大するもの
であると同時に、ガス分析計の新しい方法を提供するも
のである。電子線励起によるＸ線を用いるので、ガス中
の金属元素分析の効率がよく、特定元素の時間的変化を
連続的に分析するのにも有利である。なお走査型電子顕
微鏡より大きくなるので、Ｘ線検出系としては波長分散
系のものよりエネルギー分散形のものの方が有利である
。
電子ビームを集中させる必要はなく１ｍｄ程度に集束す
ればよいからレンズ絞りを外すことにより電子線電流を
増加させ１０−４Ａ程度とする。即ち本発明はエレクト
ロンプローブマイクロアナライザの機能を拡大するもの
であると同時に、ガス分析計の新しい方法を提供するも
のである。電子線励起によるＸ線を用いるので、ガス中
の金属元素分析の効率がよく、特定元素の時間的変化を
連続的に分析するのにも有利である。なお走査型電子顕
微鏡より大きくなるので、Ｘ線検出系としては波長分散
系のものよりエネルギー分散形のものの方が有利である
。
図は本発明の要部断面説明図である。
１・・・・・・電子線発生系、２・・・・・・電磁対物
レンズ、３・・・・・・電子線）４・・・・・・排気系
、５・・・・・・試料導入管、６・・・・・・噴射ノズ
ル、７・・・・・・試料吸引管、８・・・・・・吸引口
、９・・・・・・排気系、１０・・・・・・噴射気流、
１１・・・・・・Ｘ線、１２・・・・・・Ｘ線検出系。
レンズ、３・・・・・・電子線）４・・・・・・排気系
、５・・・・・・試料導入管、６・・・・・・噴射ノズ
ル、７・・・・・・試料吸引管、８・・・・・・吸引口
、９・・・・・・排気系、１０・・・・・・噴射気流、
１１・・・・・・Ｘ線、１２・・・・・・Ｘ線検出系。
Claims (1)
- １ 真空容器で囲まれた電子ビーム収束電子光学系の電
子収束点をはさんで高圧の試料を噴射するノズルと、こ
れに近接対向して開口し排気装置に連結された試料吸引
管とを設け、噴射ノズルと試料吸引管の隙間の試料の高
密度噴射気流に前記電子ビームを収束させて照射して発
生したＸ線を検出するようにしたことを特徴とするガス
分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50137607A JPS5933222B2 (ja) | 1975-11-14 | 1975-11-14 | ガスブンセキソウチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50137607A JPS5933222B2 (ja) | 1975-11-14 | 1975-11-14 | ガスブンセキソウチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5260687A JPS5260687A (en) | 1977-05-19 |
| JPS5933222B2 true JPS5933222B2 (ja) | 1984-08-14 |
Family
ID=15202631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50137607A Expired JPS5933222B2 (ja) | 1975-11-14 | 1975-11-14 | ガスブンセキソウチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5933222B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3820549A1 (de) * | 1988-06-16 | 1989-12-21 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und vorrichtung zur untersuchung von membranoberflaechen |
-
1975
- 1975-11-14 JP JP50137607A patent/JPS5933222B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5260687A (en) | 1977-05-19 |
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