JPS5924654B2 - 圧力差吸着ガス精製方法 - Google Patents
圧力差吸着ガス精製方法Info
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- JPS5924654B2 JPS5924654B2 JP54155656A JP15565679A JPS5924654B2 JP S5924654 B2 JPS5924654 B2 JP S5924654B2 JP 54155656 A JP54155656 A JP 54155656A JP 15565679 A JP15565679 A JP 15565679A JP S5924654 B2 JPS5924654 B2 JP S5924654B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は圧力吸着式ガス精製方法に係り、特に空気中か
ら炭酸ガスや水分を分離除去するのに好適な圧力差吸着
式ガス精製方法とその装置に関する。
ら炭酸ガスや水分を分離除去するのに好適な圧力差吸着
式ガス精製方法とその装置に関する。
空気あるいは窒素等のガスを制御用、パージ用あるいは
深冷分離用等に利用する場合や、空気を原料として酸素
富化ガスや窒素富化ガスを製造する場合には、原料ガス
中に不純物として含有される炭酸ガス(以下、Co 2
と記す。
深冷分離用等に利用する場合や、空気を原料として酸素
富化ガスや窒素富化ガスを製造する場合には、原料ガス
中に不純物として含有される炭酸ガス(以下、Co 2
と記す。
)及び水分(以下、H2Oと記す。
)を空気等力)ら除去することが重要で、一般に吸着処
理が行わnている。
理が行わnている。
吸゛看処理によるガス精製方法は、被吸着物質を吸着し
た吸着剤の再生そげ)加熱ガスのパージによって行うT
SA(温度差吸着T he rma l Sw i n
gAdsorptionの略。
た吸着剤の再生そげ)加熱ガスのパージによって行うT
SA(温度差吸着T he rma l Sw i n
gAdsorptionの略。
以下同じ。)式と、E”plj、8時より〕低い圧力で
加熱を伴なわないガスのパージによって行うPSA(圧
力差吸!PressureSwing Adsorpt
ion の略。
加熱を伴なわないガスのパージによって行うPSA(圧
力差吸!PressureSwing Adsorpt
ion の略。
以下同じ。)式とに大別される。
従来は吸着剤としてCaA型又はNaX型の合成ゼオラ
イトを用いたTSA法が採用されてきたが、この方法は
加熱や冷却を必要とし、その為に吸着・脱着の切換時間
が4時間から8時間と長くなるという欠点があった。
イトを用いたTSA法が採用されてきたが、この方法は
加熱や冷却を必要とし、その為に吸着・脱着の切換時間
が4時間から8時間と長くなるという欠点があった。
そこで近年になって、TSAiに比べて加熱手段や冷却
手段が不要で、力)つ吸着塔の切替時間の短縮による吸
着剤充填容量の削減が可能なPSA法が適用されるよう
になってきた。
手段が不要で、力)つ吸着塔の切替時間の短縮による吸
着剤充填容量の削減が可能なPSA法が適用されるよう
になってきた。
PSA法は原料ガス中の特定成分を選択的に吸着除去し
て精製ガスを得る吸着操作と、この吸着操作に便用した
吸着剤から吸着物を前記吸着操作よりも低圧の雰囲気下
で脱着して前記吸着剤を再生する脱着操作とを交互に行
うカス精製方法である。
て精製ガスを得る吸着操作と、この吸着操作に便用した
吸着剤から吸着物を前記吸着操作よりも低圧の雰囲気下
で脱着して前記吸着剤を再生する脱着操作とを交互に行
うカス精製方法である。
モしてpsA2を行う為の装置は、吸着層を収納した吸
着塔と、この塔の一端に連通して原料ガスの供給と排出
ガスの排気とに交互に使用する第1のガス流路系と、や
はり前記基の他端に連通して精製ガスの排気と脱着用ガ
スの供給とに交互に使用する第2のガス流路系と、この
第1若しくは第2のガス流路系に設けた差圧発生手段例
えば圧縮機や真空ポンプとを有する。
着塔と、この塔の一端に連通して原料ガスの供給と排出
ガスの排気とに交互に使用する第1のガス流路系と、や
はり前記基の他端に連通して精製ガスの排気と脱着用ガ
スの供給とに交互に使用する第2のガス流路系と、この
第1若しくは第2のガス流路系に設けた差圧発生手段例
えば圧縮機や真空ポンプとを有する。
精製ガスを連続的に得るには各々上記2種の流路系を備
え1こ複数の吸着塔を使用する。
え1こ複数の吸着塔を使用する。
ところでPSA法はTSA法に比べ、吸着・脱着を交互
に繰り返す内に精製ガス中の吸着除去されるべき特定成
分の濃度が上昇するという新1こな問題が生じた。
に繰り返す内に精製ガス中の吸着除去されるべき特定成
分の濃度が上昇するという新1こな問題が生じた。
本発明者等の検討によれば、この問題は、原料ガスから
吸着除去せんとする特定成分に対して強い選択的吸着性
を示す吸着層が必然的に原料ガス中の他の共存成分をも
吸着してしまう点に原因がある。
吸着除去せんとする特定成分に対して強い選択的吸着性
を示す吸着層が必然的に原料ガス中の他の共存成分をも
吸着してしまう点に原因がある。
吸着剤の選択的吸着性は後記するように細孔径に依ると
ころが大きい。
ころが大きい。
モして細孔径が小さくなる程(勿論、被吸着物の分子径
以上は必要であるが)、被吸着物が吸着除去すべき特定
成分であるか精製ガスの主成分とすべき共存成分である
。
以上は必要であるが)、被吸着物が吸着除去すべき特定
成分であるか精製ガスの主成分とすべき共存成分である
。
かに力)かわらず一般に吸着力は犬である。特定成分に
対して強い選択的吸着性を示す吸着層を原料ガスが流れ
る過程で、該層中に、第1のガス流路系側の特定成分高
濃度領域と、第2流路系側の特定成分低濃度領域とが生
ずる。
対して強い選択的吸着性を示す吸着層を原料ガスが流れ
る過程で、該層中に、第1のガス流路系側の特定成分高
濃度領域と、第2流路系側の特定成分低濃度領域とが生
ずる。
高濃度領域では特定成分が選択的に活発に吸着されるの
で共存成分はほとんど吸着されない。
で共存成分はほとんど吸着されない。
しかし、低濃度領域では特定成分の吸着量が少ないので
共存成分が相対的に多量に吸着される。
共存成分が相対的に多量に吸着される。
特に吸着時は脱着時よりも高圧の雰囲気下にある為、共
存成分の共吸着は活発に行われる。
存成分の共吸着は活発に行われる。
次に脱着時の減圧下では各吸着成分は徐々に吸着剤から
剥離されるが、この際、先ず最初に、吸着剤が選択性を
示さない共存成分が脱着される。
剥離されるが、この際、先ず最初に、吸着剤が選択性を
示さない共存成分が脱着される。
よく知られているように、脱着時には脱着熱が生ずる。
そこで共存成分の脱着熱によって吸着剤の温度が低下し
てしまう。
てしまう。
これもよく知らnていることであるが吸着時には吸着熱
が生ずるので、低温になる程吸着力は強まる。
が生ずるので、低温になる程吸着力は強まる。
そこで共有成分の脱着により低温化した吸着剤への特定
成分の吸着力が強くなる。
成分の吸着力が強くなる。
それ故、脱着性能は低下し、特定成分の禾脱着分が吸着
剤中に蓄積されることになる。
剤中に蓄積されることになる。
こうして吸着・脱着を繰り返す内に、前記の如きPSA
法特有の新たな問題が生ずるのである。
法特有の新たな問題が生ずるのである。
本発明の目的は、吸着剤充填容量の節減を図れるPSA
法を採用するに当り、吸着・脱Nを交互に繰り返して精
製ガス中に含まれる吸着除去すべきであった特定成分の
未吸着量が増加することのない圧力差吸着式ガス精製方
法を提供するにある。
法を採用するに当り、吸着・脱Nを交互に繰り返して精
製ガス中に含まれる吸着除去すべきであった特定成分の
未吸着量が増加することのない圧力差吸着式ガス精製方
法を提供するにある。
本発明は、脱着時の温度低下が起因して脱着不充分とな
らぬように、共存成分の共成Nf抑制するようにしたも
のである。
らぬように、共存成分の共成Nf抑制するようにしたも
のである。
すなわち、吸着層内に生ずる特定成分の高濃度領域、低
濃度領域のそ狽ぞれに最適な吸着剤を使用して、高濃度
領域では共存成分の共吸着がほとんど生じない範囲で専
ら特定成分の吸Nを、低濃度領域では共存成分を極力吸
着せずに専ら残溜特定成分の吸着を行うようにしたもの
である。
濃度領域のそ狽ぞれに最適な吸着剤を使用して、高濃度
領域では共存成分の共吸着がほとんど生じない範囲で専
ら特定成分の吸Nを、低濃度領域では共存成分を極力吸
着せずに専ら残溜特定成分の吸着を行うようにしたもの
である。
共存成分に対して吸着性を示さず、しかも特定成分に対
して強選択的吸着性を示すという吸着剤は存在しない。
して強選択的吸着性を示すという吸着剤は存在しない。
それ故に若し一吸着層で成層処理を行2うとするならば
、吸着層は(1所定成芥に対して強選択的吸着性を示す
吸着剤か、(2)共存成分に対して吸着性を示さぬ吸着
剤か、(3)前記(IX2)の吸着剤の混合系かの0ず
nかで形成することになる。
、吸着層は(1所定成芥に対して強選択的吸着性を示す
吸着剤か、(2)共存成分に対して吸着性を示さぬ吸着
剤か、(3)前記(IX2)の吸着剤の混合系かの0ず
nかで形成することになる。
(1)による吸着層は、低濃度領域では共存成分も活発
に吸着してしまうので前記問題が生ずる。
に吸着してしまうので前記問題が生ずる。
(2)による吸着層は、特定成分に対して強選択的吸着
性を示さないので結局吸着剤充填裏が増加し、PSA法
のメリットが消失する。
性を示さないので結局吸着剤充填裏が増加し、PSA法
のメリットが消失する。
(3)による吸着層は、特定成分の高濃度領域では上記
(2)の問題が、そして特定成分の低濃度領域では上記
(1)の問題が生ずる。
(2)の問題が、そして特定成分の低濃度領域では上記
(1)の問題が生ずる。
また特開昭52−122273号公報に見るように積層
関係を逆にすると、つまり、前記(2)による吸着層を
第1のガス流路系側に、前記(1)による吸着層を第2
のガス流路系側にすると、吸着時には高濃度領域での特
定成分の吸着は不充分となり、逆に低濃度領域での共存
成分の共吸着が起こることになる。
関係を逆にすると、つまり、前記(2)による吸着層を
第1のガス流路系側に、前記(1)による吸着層を第2
のガス流路系側にすると、吸着時には高濃度領域での特
定成分の吸着は不充分となり、逆に低濃度領域での共存
成分の共吸着が起こることになる。
加えて再成層時には第2のガス流路系側の吸着層内に残
溜する特定成分をガス流が追し出して精製ガス純度を低
下させる可能性すらある。
溜する特定成分をガス流が追し出して精製ガス純度を低
下させる可能性すらある。
本発明者等はこれらの香事実を確認した上で本発明に到
達しfこ。
達しfこ。
以下に本発明の一実施例を図面に従って説明する。
第1図は本発明の一実施例を説明するものである。
空気の流入する圧縮機1の後段にはガス流路系2を設け
る。
る。
ガス流路系2は、切俣弁3を斤してガス流路系4を、ま
た切換弁5を介してガス流路系6を接続させる。
た切換弁5を介してガス流路系6を接続させる。
ガス流路系4はガス流路系2とは別に切換弁7を介して
ガス流路系8と接続させる。
ガス流路系8と接続させる。
同様にガス流路系5は切換弁9を介してガス流路系8に
接続させる。
接続させる。
ガス流路系aは最終的に大気に開放されている。
ガス流路塔4は吸着塔10の底部に、ガス流路系6は吸
着塔11の底部に開口している。
着塔11の底部に開口している。
吸着塔10と吸着塔11とは同一構造を採り、各基の内
部には半径方向に吸着剤粒子に関して不透過性で多孔質
の仕切板12゜13を設ける。
部には半径方向に吸着剤粒子に関して不透過性で多孔質
の仕切板12゜13を設ける。
吸着塔10は仕切板12で仕切られて、ガス流路系4側
に吸着層14を、反対側に吸着層15を設ける。
に吸着層14を、反対側に吸着層15を設ける。
一方吸着塔11は仕切板13で仕切らnて、ガス流路系
6側に吸着層16を、反対側に吸着層17を設ける。
6側に吸着層16を、反対側に吸着層17を設ける。
吸着層14゜16を形成する吸着剤は平均細孔径5〜1
0人の合成ゼオライトである。
0人の合成ゼオライトである。
一方、吸着層15.17を形成する吸着剤は平均細孔径
30〜70Aの酸洗調製による活性アルミナである。
30〜70Aの酸洗調製による活性アルミナである。
各吸着塔内で活性アルミナの充填率は全吸着層の50%
である。
である。
吸着塔10の頂部にはガス流路系18が、吸着塔110
頂部にはガス流路系19が開口している。
頂部にはガス流路系19が開口している。
ガス流路系18の他端は切換弁20を介してガス流路系
21に、また切換弁22を介してガス流路系23に接続
している。
21に、また切換弁22を介してガス流路系23に接続
している。
同じくガス流路系19の他端は切換弁24を介してガス
流路系21に、また切換弁25を介してガス流路系23
に接続している。
流路系21に、また切換弁25を介してガス流路系23
に接続している。
そしてガス流路系21とガス流路系23とは切換弁26
.27を介して通じている。
.27を介して通じている。
上記構成を採ることにより、−塔が吸着にたずされって
いる間、他塔は脱着にたずされるようにする。
いる間、他塔は脱着にたずされるようにする。
先ず空気は圧縮機1を経て加圧さ眉、ガス流路系2、切
換弁3、ガス流路系4を順次介して吸着塔10の底部に
至る。
換弁3、ガス流路系4を順次介して吸着塔10の底部に
至る。
この時切換弁7は閉じられていて、ガス流路系8との流
通は遮断されている。
通は遮断されている。
また切換弁5も閉じられていて吸着塔11へは加圧空気
は流入できない。
は流入できない。
しかし後記するように吸着塔11とガス流路系8とは流
通状態にある。
通状態にある。
吸着塔10の座部から導入された加圧空気は先ず吸着層
14を通過しこの過程で空気中のC02とN20の大部
分が吸着除去される。
14を通過しこの過程で空気中のC02とN20の大部
分が吸着除去される。
次いで仕切板12を介して吸着層15を通過する。
吸着層14を通過する過程で過程で、空気中のCO2と
N20の残部分が共存成分の窒素(以下、N2と記す。
N20の残部分が共存成分の窒素(以下、N2と記す。
)や窒素(以下、0□ と記す。)の共吸着なしに吸着
除去される。
除去される。
得られた精製ガスは一;流路系18、切換弁20、ガス
流路系21を 介して回収される。
流路系21を 介して回収される。
この時切換弁22は閉じられていて、ガス流路系23と
の流通は遮断されている。
の流通は遮断されている。
精製ガスの一部は切換弁26.27を介してガス流路系
23に流入する。
23に流入する。
ガス流路系23は脱着用ガスの流路系であり、後記する
ようにガス流路系8をもって大気に開放さnている。
ようにガス流路系8をもって大気に開放さnている。
ガス流路系23は切換弁25、ガス流路系19を順次介
して吸着塔110頂部に至る。
して吸着塔110頂部に至る。
この時切換弁24は閉じられていて、ガス流路系19と
ガス流路系21との流路は遮断されている。
ガス流路系21との流路は遮断されている。
また切換弁22も閉じられていて脱着用ガスは吸着操作
中の吸着塔10には流入できない。
中の吸着塔10には流入できない。
吸着塔110頂部から導入された減圧精製ガスは先ず吸
着層17を通過し、この過程で少量しか吸着されていな
い吸着物を脱着する。
着層17を通過し、この過程で少量しか吸着されていな
い吸着物を脱着する。
ガス流は更に仕切板&3、吸着層16を順次介しながら
脱着作用をなして吸着塔11の底部に至る。
脱着作用をなして吸着塔11の底部に至る。
吸着塔11の底部から出た排気ガスはガス流路系6、切
換弁9、ガス流路系8を順次介して排気される。
換弁9、ガス流路系8を順次介して排気される。
この時切換弁5は閉じられていて加圧空気は流入できな
い。
い。
また切換弁7は閉じらnていて、ガス流路系4とガス流
路系8との流通は遮断されている。
路系8との流通は遮断されている。
上記の通り、切換弁3,9゜20.25を開の状態に、
そして切換弁5,7゜22.24を閉の状態にすると吸
着塔10内は吸着操作中、吸着塔11内は脱着操作中と
なる。
そして切換弁5,7゜22.24を閉の状態にすると吸
着塔10内は吸着操作中、吸着塔11内は脱着操作中と
なる。
この関係を適宜逆転させれば連続的に精製ガスが得られ
る。
る。
つまり吸着塔10内を脱着操作中に、吸着塔11内を吸
着操作中にするには切換弁3,9゜20.25を閉の状
態に、そして切換弁5,7゜22.24を開の状態にす
る。
着操作中にするには切換弁3,9゜20.25を閉の状
態に、そして切換弁5,7゜22.24を開の状態にす
る。
上記構成・作用を採る為に本実施例によれば次の効果が
生ずる。
生ずる。
合成ゼオライナの層では専らCO2やN20の吸着を、
活性アルミナの層ではN2や02を極力吸着せずに残溜
CO2や残溜H20の吸着を行うので、N2の共吸着は
防止できる。
活性アルミナの層ではN2や02を極力吸着せずに残溜
CO2や残溜H20の吸着を行うので、N2の共吸着は
防止できる。
しかもCO2やN20を高度に除去できる。
そして脱着゛し易く脱着熱の発生源となり易いN2 の
吸着量が少ない為、脱着時の温度低下は抑制できる。
吸着量が少ない為、脱着時の温度低下は抑制できる。
従って、吸着・脱Nを交互に繰り返しても、本来吸着除
去すべきであるにもかかわらず精製ガス中に含まれるC
O2やN20の未収着量が増加することを防止できると
という効果がある。
去すべきであるにもかかわらず精製ガス中に含まれるC
O2やN20の未収着量が増加することを防止できると
という効果がある。
第2図に加圧空気を吸着層に導入した時の吸着層を構成
する吸着剤の細孔径に対する吸着強度の傾向を示す。
する吸着剤の細孔径に対する吸着強度の傾向を示す。
曲線1はN20に関、する傾向を、曲線11はCO□に
関する傾向を、そして曲線ii1はN2に関する傾向を
示す。
関する傾向を、そして曲線ii1はN2に関する傾向を
示す。
他の線分は説明の為の操作線であり、上記各曲線と各操
作線との支点が、吸着塔内の当該成分吸着強度を示す。
作線との支点が、吸着塔内の当該成分吸着強度を示す。
操作線aは細孔径1ONの合成ゼオライトに、操作線す
は細孔径50Aの記法調製活性アルミナに、操作線Cは
100Aのアルカリ法調製活性アルミナに関するもので
ある。
は細孔径50Aの記法調製活性アルミナに、操作線Cは
100Aのアルカリ法調製活性アルミナに関するもので
ある。
本実施例の2層式吸着層は操作線dで示される。
比較の為に示した操作線eは逆2層式吸着層つまり細孔
径50大の活性アルミナ層を第1の流路系側に設けた場
合に関するものであり、操作線fは細孔径10Aの合成
ゼオライトと細孔径50人の活性アルミナとを比率1:
1で混合した平均細孔径201の混合吸着剤に関するも
のである。
径50大の活性アルミナ層を第1の流路系側に設けた場
合に関するものであり、操作線fは細孔径10Aの合成
ゼオライトと細孔径50人の活性アルミナとを比率1:
1で混合した平均細孔径201の混合吸着剤に関するも
のである。
本図でも示される通り、本実施例の方法は、N20やC
O2の吸着除去力に非常に優れているにもかかわらず、
N2 の共成着力は非常に少なく、本図に示される吸着
層構成の中で最も優れていることが明らかである。
O2の吸着除去力に非常に優れているにもかかわらず、
N2 の共成着力は非常に少なく、本図に示される吸着
層構成の中で最も優れていることが明らかである。
尚、第3図は上記合成ゼオライトと記法調製活性アルミ
ナとを各単独に使用した場合の、吸着・脱着切換時の吸
着層内温度変化を示す。
ナとを各単独に使用した場合の、吸着・脱着切換時の吸
着層内温度変化を示す。
図中、曲線1■は合成ゼオライトの傾向を、■は活性ア
ルミナの傾向を示す。
ルミナの傾向を示す。
本図から明らかなように、合成ゼオライトの温度変化は
活性アルミナのそれに比べて非常に激しい。
活性アルミナのそれに比べて非常に激しい。
従って、合成ゼオライt−に単独で使用すれば、脱着時
に脱着不光分の結果が生ずることは明らかである。
に脱着不光分の結果が生ずることは明らかである。
ところで本実施例では、全吸着層の中に占める活性アル
ミナの体積を50%にしているが、活性アルミナの充填
割合と精製ガス中のCO2濃度との関係を示した第4図
から明らかのように、これは空気中からのCO2除去の
点では最も優れた充填割合である。
ミナの体積を50%にしているが、活性アルミナの充填
割合と精製ガス中のCO2濃度との関係を示した第4図
から明らかのように、これは空気中からのCO2除去の
点では最も優れた充填割合である。
本発明者等の検討によれば、空気からCO2を除去する
際、精製カス中のCO2濃度f20 ppm以下に抑え
るには活性アルミナの充填割合を25%から80%&こ
することが望ましい。
際、精製カス中のCO2濃度f20 ppm以下に抑え
るには活性アルミナの充填割合を25%から80%&こ
することが望ましい。
更に本実施例では一旦吸着処略で得らnた精製ガスの一
部を脱着用ガスとして使用しているので、別途脱着用ガ
スの使用量を無くし得るという効果もある。
部を脱着用ガスとして使用しているので、別途脱着用ガ
スの使用量を無くし得るという効果もある。
尚、本実施例では空気からCO2及びN20を分離除去
するガス精製を対象にしたが、本発明は勿論これに限定
されるものではない。
するガス精製を対象にしたが、本発明は勿論これに限定
されるものではない。
以下に、吸着塔内の吸着層を除き、上記実施例と同一の
装置を使用して、空気若しくは窒素富化ガスを精製する
具体類を示す。
装置を使用して、空気若しくは窒素富化ガスを精製する
具体類を示す。
各吸着塔共、内径は200朋、高さは1000mmであ
る。
る。
具体例1;N20及びCO2の除去による空気の鞘部1
) 吸着層15,17には細孔径50ckの製法調製活性ア
ルミナを、吸着層14.16には細孔径10Xの合成ゼ
オライトを充填した。
) 吸着層15,17には細孔径50ckの製法調製活性ア
ルミナを、吸着層14.16には細孔径10Xの合成ゼ
オライトを充填した。
活性アルミナの充填割合は60%にした。
運転条件は吸着圧力8 kg/crA Q、脱着圧力大
気圧、空気流量100Ni/h−Fl)主用の、精製ガ
ス流量4ONd/hとした。
気圧、空気流量100Ni/h−Fl)主用の、精製ガ
ス流量4ONd/hとした。
加圧空気中のN20及びCO2濃度はそれぞれ1600
及び330 ppmであった。
及び330 ppmであった。
吸着塔の切替時間は半サイクルで15而ぽある。
その結果、精製ガス中のN20及びC02濃度はいずれ
も1 ppm以下となつ1こ。
も1 ppm以下となつ1こ。
具体例2 N20及びC02の除去による空気の精R2
) 活性アルミナの充填割合を30%とし1こ他は、具体例
1と同一装置、同一条件で操作しf島その結果、精製ガ
ス中のN20及びCO2濃度はそれぞれ2 ppm及び
5 pI)mとなつfこ。
) 活性アルミナの充填割合を30%とし1こ他は、具体例
1と同一装置、同一条件で操作しf島その結果、精製ガ
ス中のN20及びCO2濃度はそれぞれ2 ppm及び
5 pI)mとなつfこ。
比較例1:N20及びCO2の除去による空気の精製(
1) 吸着塔内に上記合成ゼオライ1−+単独で充填し、他は
具体例1と同一装置、同一条件で運転し1こ結果、精製
ガス中のN20及びCO□濃度はそれぞれ5及び30
ppmとなつ1こ。
1) 吸着塔内に上記合成ゼオライ1−+単独で充填し、他は
具体例1と同一装置、同一条件で運転し1こ結果、精製
ガス中のN20及びCO□濃度はそれぞれ5及び30
ppmとなつ1こ。
比較fI12:H20及びCO2の除去による空気の精
製(2) 吸着塔内に上記活性アルミナを単独で充填し、他は具体
例1と同一装置、同一条件で運転し1こ結果、精製ガス
中のN20及びCO2濃度はそれぞれ4及び25 pp
mとなつ1こ。
製(2) 吸着塔内に上記活性アルミナを単独で充填し、他は具体
例1と同一装置、同一条件で運転し1こ結果、精製ガス
中のN20及びCO2濃度はそれぞれ4及び25 pp
mとなつ1こ。
具体例3;N20及びCO2の除去によるN2 ガスの
精製 N20及びCO2濃度がそれぞれ1600 ppm及び
1200叩ハ圧力8kg/crA GのN2富化カスを
原料ガスとして使用し、N20及びco2evがそれぞ
れ10 ppm及び0.lppmのN2 ガスを脱着用
ガスとして使用し、他は具体例1と同一装置、同一条件
で運転したところ、精製N2富化ガス中のN20及びC
O2濃度はそnぞれ3 pI)m及び5 ppmとなっ
た。
精製 N20及びCO2濃度がそれぞれ1600 ppm及び
1200叩ハ圧力8kg/crA GのN2富化カスを
原料ガスとして使用し、N20及びco2evがそれぞ
れ10 ppm及び0.lppmのN2 ガスを脱着用
ガスとして使用し、他は具体例1と同一装置、同一条件
で運転したところ、精製N2富化ガス中のN20及びC
O2濃度はそnぞれ3 pI)m及び5 ppmとなっ
た。
具体例4;NH3の除去によるN2ガスの精製吸着層1
5.17には細孔径50Xの活性アルミナを、吸着層1
4,16には細孔径10′Aの合成上オライドを充填し
1こ。
5.17には細孔径50Xの活性アルミナを、吸着層1
4,16には細孔径10′Aの合成上オライドを充填し
1こ。
活性アルミナの充填割合は50%にし1こ。
運転条件は吸着圧力5 kg/cat G、脱着圧力大
気圧、原料ガス流量15ON靜/h、再生用の精製ガス
流量3ON扉/hとした。
気圧、原料ガス流量15ON靜/h、再生用の精製ガス
流量3ON扉/hとした。
原料ガスはNH3f 1000 ppm含有するN2富
化ガスであった。
化ガスであった。
吸着塔の切替時間は半サイクルで15mmである。
その結果、精製ガス中のNH3濃度は5 ppm、以下
となった。
となった。
比較例3;NH3の除去によるN2ガスの精製吸着塔内
に上記合成ゼオライトを単独で充填し、他は具体例4と
同一装置、同一条件で運転した結果、精製ガス中のNH
3濃度は45 ppmとなつ1こ。
に上記合成ゼオライトを単独で充填し、他は具体例4と
同一装置、同一条件で運転した結果、精製ガス中のNH
3濃度は45 ppmとなつ1こ。
具体例5;N20、CO2及びNOの除去によるN2ガ
スの精製 原料ガスkH201600ppm、 CO21200
ppm。
スの精製 原料ガスkH201600ppm、 CO21200
ppm。
NNO300pp含有するN2富化ガスとした他は具体
例1と同一装置、同一条件で運転したところ、精製N2
富化ガス中のN20、CO2及びNO濃度はそnぞれ3
ppm、 15 ppmとなった。
例1と同一装置、同一条件で運転したところ、精製N2
富化ガス中のN20、CO2及びNO濃度はそnぞれ3
ppm、 15 ppmとなった。
比較例4;N20、CO2及びNOが除去によるN2ガ
スの精製 吸着塔内に上記合成ゼオライトf単独で充填し、他は具
体例6と同一装置、同一条件で運転した結果、精製N2
富化ガス中のN20、CO2及びNO濃度はそれぞれ5
ppm、 41 ppm、 120 ppmとな
った。
スの精製 吸着塔内に上記合成ゼオライトf単独で充填し、他は具
体例6と同一装置、同一条件で運転した結果、精製N2
富化ガス中のN20、CO2及びNO濃度はそれぞれ5
ppm、 41 ppm、 120 ppmとな
った。
具体例6;空気の乾燥
吸着層15.17には細孔径100Xのアルカリ法調製
活性アルミナを、吸着層14,16には細孔径10X、
の合成ゼオライトを充填した。
活性アルミナを、吸着層14,16には細孔径10X、
の合成ゼオライトを充填した。
活性アルミナの充填割合は60%にした。
運転条件は吸着圧力8kg/crAG、脱着圧力大気圧
、空気流量100Ni/h、再生用乾燥空気量4ON靜
/hとした。
、空気流量100Ni/h、再生用乾燥空気量4ON靜
/hとした。
加圧空気中のN20濃2 0 5 0 ppmであつ1
こ。
こ。
吸着塔の切換時間は半サイクルで15mmである。
その結果、乾燥空気中のN20濃
以上説明したようζこ、本発明によれば、吸着・脱着を
交互に繰り返しても、本来吸着除去すべきであるにもか
かわらず精製ガス中に含すれる特定成分の未吸着量が増
加することを防止できるという効果がある。
交互に繰り返しても、本来吸着除去すべきであるにもか
かわらず精製ガス中に含すれる特定成分の未吸着量が増
加することを防止できるという効果がある。
従って本発明を採用すれは、吸着剤量が少量でも高度な
ガス精製が可能となる。
ガス精製が可能となる。
゛
第1図は本発明の一実施例に係るガス精製装置の説明図
、第2図は吸着剤の細孔径と加圧吸着時の吸着強度との
関係を示す特性図、第3図は吸着脱着切換時の吸着剤の
温度変化を示す特性図、第4図は第1図の実施例に関し
、活性アルミナの充填割合と精製ガス中のCO2濃度と
の関係を示す特性図である。 1・・・・・・圧縮機、2,4,6,18,19,21
。 23・・・・・・ガス流路系、3,5,7,9,20。 22 、24 、25,26 、27・・・・・・切換
弁、10。 11・・・・・・吸着塔、12,13・・・・・・切換
板、14。 15、15.17・・・・・・吸着層。
、第2図は吸着剤の細孔径と加圧吸着時の吸着強度との
関係を示す特性図、第3図は吸着脱着切換時の吸着剤の
温度変化を示す特性図、第4図は第1図の実施例に関し
、活性アルミナの充填割合と精製ガス中のCO2濃度と
の関係を示す特性図である。 1・・・・・・圧縮機、2,4,6,18,19,21
。 23・・・・・・ガス流路系、3,5,7,9,20。 22 、24 、25,26 、27・・・・・・切換
弁、10。 11・・・・・・吸着塔、12,13・・・・・・切換
板、14。 15、15.17・・・・・・吸着層。
Claims (1)
- 1 合成ゼオライトよりなる第1の吸着層と全吸着剤の
25〜80%の容量を占める活性アルミナよりなる第2
の吸着層とを直列に配置して前記第1の吸着層側から原
料カスを供給し窒素又は酸素富化カスを得る吸着工程と
、前記吸着工程時のガス圧力よりも低圧の脱着用ガスを
前記第2の吸着層側から流して吸着物を脱着する脱着工
程とを交互に行うことを特徴とする圧力差吸着式ガス精
製方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54155656A JPS5924654B2 (ja) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | 圧力差吸着ガス精製方法 |
DE3045451A DE3045451C2 (de) | 1979-12-03 | 1980-12-02 | Verfahren und Einrichtung zur Gasaufbereitung unter Anwendung der Druckswing-Adsorption |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54155656A JPS5924654B2 (ja) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | 圧力差吸着ガス精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5678615A JPS5678615A (en) | 1981-06-27 |
JPS5924654B2 true JPS5924654B2 (ja) | 1984-06-11 |
Family
ID=15610728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54155656A Expired JPS5924654B2 (ja) | 1979-12-03 | 1979-12-03 | 圧力差吸着ガス精製方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5924654B2 (ja) |
DE (1) | DE3045451C2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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ZA912508B (en) * | 1990-04-20 | 1992-04-29 | Boc Group Inc | Pre-purification of air for separation |
GB9303844D0 (en) * | 1993-02-25 | 1993-04-14 | Boc Group Plc | Purification method and apparatus |
US5593475A (en) * | 1995-04-13 | 1997-01-14 | Liquid Air Engineering Corporation | Mixed bed adsorber |
US5614000A (en) * | 1995-10-04 | 1997-03-25 | Air Products And Chemicals, Inc. | Purification of gases using solid adsorbents |
US5769928A (en) * | 1996-12-12 | 1998-06-23 | Praxair Technology, Inc. | PSA gas purifier and purification process |
US5846295A (en) * | 1997-03-07 | 1998-12-08 | Air Products And Chemicals, Inc. | Temperature swing adsorption |
US5919286A (en) * | 1997-03-06 | 1999-07-06 | Air Products And Chemicals, Inc. | PSA process for removel of nitrogen oxides from gas |
US5779767A (en) * | 1997-03-07 | 1998-07-14 | Air Products And Chemicals, Inc. | Use of zeolites and alumina in adsorption processes |
US6638340B1 (en) | 2002-03-27 | 2003-10-28 | Uop Llc | Composite adsorbents for air purification |
WO2005035100A1 (en) * | 2003-09-24 | 2005-04-21 | Donaldson Company, Inc. | High purity air and gas fractionation system |
US8573831B2 (en) | 2007-05-01 | 2013-11-05 | Praxair Technology, Inc. | Methods and systems for mixing materials |
WO2018217713A1 (en) * | 2017-05-24 | 2018-11-29 | Basf Corporation | Gas dehydration with mixed adsorbent/desiccant beds |
US10765991B2 (en) | 2017-08-10 | 2020-09-08 | Air Products And Chemicals, Inc. | Rapid cycle pressure swing adsorption process and adsorbent laminates for use therein |
WO2024129983A1 (en) * | 2022-12-15 | 2024-06-20 | Basf Corporation | Adsorbent bed with increased stability for carbon dioxide dehydration |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2627327C2 (de) * | 1976-06-18 | 1983-02-17 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Trocknung von Gasen |
-
1979
- 1979-12-03 JP JP54155656A patent/JPS5924654B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-12-02 DE DE3045451A patent/DE3045451C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3045451A1 (de) | 1981-07-02 |
DE3045451C2 (de) | 1986-08-21 |
JPS5678615A (en) | 1981-06-27 |
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