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JPS59224372A - プリントヘツドの製造方法 - Google Patents

プリントヘツドの製造方法

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JPS59224372A
JPS59224372A JP9380484A JP9380484A JPS59224372A JP S59224372 A JPS59224372 A JP S59224372A JP 9380484 A JP9380484 A JP 9380484A JP 9380484 A JP9380484 A JP 9380484A JP S59224372 A JPS59224372 A JP S59224372A
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JP
Japan
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layer
resistive
mesa
heater element
aluminum oxide
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JP9380484A
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Ura Furanku
フランク・ウラ
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Hewlett Packard Japan Inc
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Yokogawa Hewlett Packard Ltd
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Publication of JPS59224372A publication Critical patent/JPS59224372A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプリンタに使用さ」するプリントヘッドの製造
方法に関する。
抵抗性ヒータ素子を何する薄膜熱プリントヘッドとして
は１例えば米国特許第３，６０９．２９４号の明細書に
も詳述されている。このプリントヘッドにおいで、プレ
ーナ形の抵抗性ヒータ素子は熱的には伝導、性で電気的
には抵抗性の保護膜によって覆われている。この保護膜
は各ヒータ素子上に盛上った領域として形成さｔｔてい
る。これらの盛上ったメサ状領域は、基板全体を保護す
る被覆のうち厚くなっている部分にすぎない。前記メサ
状領域に熱が集中し、そして該領域に接近配置された感
熱性記録媒体に熱が与えられる。しかしながら、その記
録媒体は高い熱伝導性をもつものが選択されるので、抵
抗性ヒータ素子によって発生されそして前記記録媒体の
表面へ伝導さｊする熱の一部は前記複重のより薄い部分
に伝導され、浪費されてしまう。従ってこのンステムの
熱効率は必然的に低くなる。
本発明においてはガラスグレーズ層で形成されるメサ状
領域上に抵抗性素子が形成される。このメサ状領域は感
熱性記録媒体に極めて接近し゛Ｃ熱源自体を配置せしめ
、保護膜を介して消失される熱を減じている。そのため
本発明の熱効率は極めてよくなる。
イオンの移動に対する障壁については米国特許第３．５
９８，９５６号に紹介されている。このイオンの移動を
防止する障壁は、導′亀注り−ルドより成り、これはイ
オンが抵抗性ヒータ素子に侵入するのを阻止し、ヒータ
素子の寿命が短かくなるのを防止している。このイオン
の移動を防止するための障壁はガラス層によって、抵抗
性ヒータ素子および感熱即記録媒体から隔離されており
、そして電気的にバイアスされろう・又は接地されると
きに最も効果的である。
本発明によるイオンの移動を防止するための障壁は電気
的にバイアス又は接地しなくても機能μそし゛Ｃ該障壁
と抵抗性ヒータ素子との間にガラスの分離１−を必要と
しない。更に、本発明による障壁は抵抗性ヒータ素子と
摩滅防止層との接着性を高める。
上述の障壁は、抵抗性ヒータ素子の抵抗値を副部するた
めに行う熱処理工程の期間中に形成される。熱処理の温
度および時間を制御することにより、抵抗値はヒータ素
子が使用される電子回路に適合する抵抗値にまで増加さ
れる。薄膜技術な使用すると、他のプロセスを使用する
場合よりも、抵抗材料を均一に沈積形成できるので、外
部のトリミング抵抗器は不磨！である。熱処理は全ての
ヒータ素子の抵抗値に均一に影響を及ぼすので、該ヒー
タ素子の抵抗値を電子回路に適合するように増大方向１
ｃ調整が可能である。
第１図は、本発明によりプリントヘッドを製造するため
に使用されるガラスグレーズ層をもつ基板の断面図であ
り、製造の初期段階のものを示している。ガラスグレー
ズ層は各ヒータ素子に対し形成されたメサ状領域を有す
る。図において、基板１０は高温ガラスグレーズ層１２
の厚い層で被覆される。そして前記ガラスグレーズ層１
２は、フォトレジストで被覆され、焼付け、露光および
現像が行なわれる。その結果、メサ状領域を作ることを
望む場所に７オトレジストのパターンが残される。そし
て露出されたグレーズ層が、メサ状領域１４より薄い厚
さの層に弗化水素酸でエツチングされる。ここで基板ｌ
Ｏは、例えば９４％〜９９％酸化アルミニウム又はその
同等物である。
第１図に示すようにメサ状領域が各抵抗性ヒータ素子に
対して形成された後、抵抗性材料の被覆が蒸着あるいは
スパッタリングのような薄膜技術により全体のガラスグ
レーズ層上に形成される。
その後、同様な薄膜技術により、導電性材料の層がその
同じ領域上に形成される。本発明の実施例において前記
抵抗性材料は窒化タンタルあるいはタンタルとアルミニ
ウムの合金のいずれかであるか又はその同等物である。
そして前記導電性材料は金あるいはアルミニウムのいず
れかであるか又はその同等品である。
第２図は、第１図に示した基板に抵抗性材料および導ｔ
ｉｔ材料の層を形成した構造体の断面図であり、製造の
途中のものを示している。図において抵抗性材料２０は
メサ状領域１４を慢って形成さ」する。ヒータ素子への
給電のための導電体のパターンを形成するために、導電
性材料２２ヒにフォトレジストを印加し、焼付け、露光
そして現像する。その後導電材料２２が化学的にエツチ
ングされ、各抵抗性ヒータ素子へのそれぞれの導電体が
形成される。導電体相互間の部分の抵抗性材料２０は除
去されねばならないので、その部分の材料は適当なエツ
チング処理あるいはそれと同様な処理を施すことによっ
て除去される。しかる後、フォトレジストが再び全体の
領域上に、メサ状領域１４上に抵抗性ヒータ素子を形成
する場所を除いて形成される。これにより抵抗性ヒータ
素子の部分が画定される。焼付け、露光そして現像した
後、導電性材料２２はメサ状領域１４を覆っている抵抗
性材料２０の頂部からエツチング除去される。
ヒータ素子上に摩滅防止層を形成する前に、基板全体が
熱処理される。
第３図は、横軸に時間（分）、縦軸に抵抗値変化率（％
）をとり、温度をパラメータとした窒化タンタルの時間
−抵抗値変化率の特性を示す図である。同図に示すよう
に、熱処理の温度および時間を制御することにより、各
抵抗性ヒータ素子の抵抗値変化の量が制御される。抵抗
値変化は基板りの全ての抵抗性ヒータ素子にとって基本
的に−定であるので、この熱処理により、それが使用さ
れる特定の電子回路に適合するようにヒータ素子の抵抗
呟をそれが増大する方向に調整できる。
熱魁埋期間中に、保護酸化物層が各々の抵抗性ヒータ素
子上に形成さＪする。この保護酸化物層は、感熱性記録
媒体のような一般に知られているイオン源からのイオン
の移動に対する障壁として機能する。ヒータ素子まで移
動しそしてそれに侵入するイオンはこれらヒータ素子を
汚染する。その結果素子の信頼性を低下せしめ且つ寿命
を縮めることとなる。更にこの保護酸化物層により、熱
処理後各ヒータ素子への摩滅防止層のよりよい接着度が
得られる。
第４図は、保護酸化物層および摩滅防止層を具備する本
発明により製造されたプリントヘッドの断面図である。
図において、摩滅防止層３０が各ヒータ素子の上部に形
成される。摩滅防止層の材料は、酸化アルミニウムのよ
うな摩耗に強い熱伝導材料である。よって、ガラスグレ
ーズ層上に形成され、イオン移動に対する障壁を形成し
、且つが構成される。そしてこの抵抗性ヒータ素子によ
り感熱性記録媒体上に効果的な印字が実現できる。
抵抗性ヒータ素子のプリントを行う部分は第４図に示す
領域３４である。保護酸化物層３２を用いることにより
、イオンが生ずる環境下において、信頼性が約６倍向上
する。例えば実験によると、約９，０００　ｍ以上の紙
を印字したとき、保護酸化物層３２がない場合は該保護
酸化物がある場合に比べて６倍ものヒータ素子の動作ミ
スがみられた。
第５図は、本発明の一実施例によって構成された複数の
ヒータ素子を有するプリントヘッドの平面図である。図
において、薄膜熱プリントヘッド４０は、例えば７個の
抵抗性ヒータ素子４１、共通導電体４２および各別の導
電体４４を具備している。各抵抗性ヒータ素子４１およ
びそれに関連した導電体４４は上記に説明したように形
成される。プリントヘッド４０は、本出願人の出願によ
る特開昭５１年第５９６４１号の明細書にも詳述されて
いるプリンタにおける５×７マトリクスのアルファニュ
ーメリンクキャラクタを印字するためのプリンタヘッド
として使用されつる。
るために使用されるガラスグレーズ層をもつ基板の断面
図、第２図は第１図に示した基板に抵抗性材料および導
電性材料の層を形成した構造体の断面図、第３図は温度
をパラメータとした窒化タンタルの時間−抵抗１直変化
の関係を示した特性線図、第４図は本発明により製造さ
れたプリントヘッドの断面図、第５図は本発明により製
造さｉｔたプリントヘッドの平面図である。
１０：基板、１２ニガラスグレ一ズ層、１４：メサ状領
域、２０：抵抗は材料、２２：導電体、３０：摩滅防止
層、３２：保護酸化物層、４０：熱プリントヘッド、４
１：ヒータ素子、４２：共通導電体、４４：導電体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルミニウム酸化物基板上に、メサ状領域を部分的に有
    するｔＪガラスグレーズ層形成し１次に抵抗性ヒータ素
    子を形成するために少なく′も前記メサ状領域上に抵抗
    性材料層を形成し、次に前記抵抗性材料層を熱処理する
    ことにより、前記抵抗性材料層のうち前記メサ状領域上
    に存在する部分に抵抗性保護酸化物層を形成し、次に少
    なくとも前記抵抗性保Ｓ酸化物層を唖って摩滅防止層を
    形成するようにしたプリントヘッドの製造方法。
JP9380484A 1974-11-15 1984-05-10 プリントヘツドの製造方法 Expired JPS6046030B2 (ja)

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US52410874A 1974-11-15 1974-11-15
US524108 1974-11-15

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JPS59224372A true JPS59224372A (ja) 1984-12-17
JPS6046030B2 JPS6046030B2 (ja) 1985-10-14

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GB (1) GB1503969A (ja)
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IT (1) IT1052295B (ja)
NL (1) NL162014C (ja)

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