JPS59193893A - 新規セフアロスポリン類 - Google Patents
新規セフアロスポリン類Info
- Publication number
- JPS59193893A JPS59193893A JP58067871A JP6787183A JPS59193893A JP S59193893 A JPS59193893 A JP S59193893A JP 58067871 A JP58067871 A JP 58067871A JP 6787183 A JP6787183 A JP 6787183A JP S59193893 A JPS59193893 A JP S59193893A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- methyl
- acid
- salts
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規7よセファロスポリン類、具体的には、
一般式
で衣わされるセファロスポリンおよびその塩類に関する
。
。
而して、本発明の目的とするところは、広範囲な抗菌ス
ペクトルを有し、ダラム陽性菌、ダラム陰性ωに対し優
れた抗菌油性を示し、かつバクテリアが産生ずるβ−ラ
クタマーゼに対しても安定な性質を有し、人ならびに動
物の疾病に対し優れた治療効果を発揮する新規なセファ
ロスポリン番−を提供することにある。
ペクトルを有し、ダラム陽性菌、ダラム陰性ωに対し優
れた抗菌油性を示し、かつバクテリアが産生ずるβ−ラ
クタマーゼに対しても安定な性質を有し、人ならびに動
物の疾病に対し優れた治療効果を発揮する新規なセファ
ロスポリン番−を提供することにある。
本発明のセファロスポリン類は、セフェム環C)
中、RG 、 B7およびR8は前記したλき味を有す
る。
る。
)で表わされる3、6−シオキソー1.2,3.6−テ
9 (式中、RQ 、 RIOおよびRI I i、ま前記
した意味を有すろ。)で喝”X(わされる6−オキソ−
1,6−ジヒド蓼13 R12、R+3およびR14はrtiJ S己した意味
を侑する。)で表わさねる2−オキソ−1,2−ジヒド
ロピラジニル基か示占合しているところにその9も、値
が、bる。
9 (式中、RQ 、 RIOおよびRI I i、ま前記
した意味を有すろ。)で喝”X(わされる6−オキソ−
1,6−ジヒド蓼13 R12、R+3およびR14はrtiJ S己した意味
を侑する。)で表わさねる2−オキソ−1,2−ジヒド
ロピラジニル基か示占合しているところにその9も、値
が、bる。
以下、さらに本兆明を詳細に説明する。1本明ポ(1書
にお(・て、特しこことわらない限り、アルキルとは、
C3〜14アルキル、たとえば、メチル、エチル、n−
プロピル、 iso、−フロビル、n−ブチル、is
o、−ブチル、sec、−ブチル、tert 、 −〕
fル、ペンナル、ヘキシル、l\ブチル、オクチル、ド
アシルまたはラウリルなどを、アルコキシとは、上で定
義したアルキル基を有する一〇−アルキルを、低級アル
キルとは、01〜5アルギル、たとえば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、iso、−プロピル、n−ブチル、
iso、−ブチル、sec、−ブチル、tert、−ブ
チルまたはペンチルなどを、また、低級アルコキシとに
、上で走者した低級アルギル基を有する一〇−貼級アル
キルン、アシルとは、CIへ51□アシル、たとえば、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンソイル、ナフ
トイル、ペンタンカルボニル、シクロヘキザン力ルホニ
ル、フロイルまたはテノ・アルなどを、さらに1、アシ
ルオ千シとは、」二で定r毛したアシル基を有する一O
−アシルを、また、アルキルチオとは、上で定在したア
ルキ7t。
にお(・て、特しこことわらない限り、アルキルとは、
C3〜14アルキル、たとえば、メチル、エチル、n−
プロピル、 iso、−フロビル、n−ブチル、is
o、−ブチル、sec、−ブチル、tert 、 −〕
fル、ペンナル、ヘキシル、l\ブチル、オクチル、ド
アシルまたはラウリルなどを、アルコキシとは、上で定
義したアルキル基を有する一〇−アルキルを、低級アル
キルとは、01〜5アルギル、たとえば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、iso、−プロピル、n−ブチル、
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チルまたはペンチルなどを、また、低級アルコキシとに
、上で走者した低級アルギル基を有する一〇−貼級アル
キルン、アシルとは、CIへ51□アシル、たとえば、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンソイル、ナフ
トイル、ペンタンカルボニル、シクロヘキザン力ルホニ
ル、フロイルまたはテノ・アルなどを、さらに1、アシ
ルオ千シとは、」二で定r毛したアシル基を有する一O
−アシルを、また、アルキルチオとは、上で定在したア
ルキ7t。
22、髪を有するーS−アルキルを、アルケニルとは、
C2〜、。アルケニル、たとえは、ビニル、アリル、i
so、−7’ロベニル、2−ペンテニルマタハフ゛テニ
ルなどを、つぎに、アルキニルとは、C2〜、0アルキ
ニル、たとえば、エチニルまたは2−プロピニルなどを
、シクロアルキルとは、03〜7シクロアルキル、たと
えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘキシルまたばシクロヘプチルなどを、また、
アリールとは、たとえ(填:、フェニル、1フチル梵た
はインダニルなどを、アルアルキルとは、たとえハ、ベ
ンジル、フェネチル、4−メチルベンジルまたはナフチ
ルメチルな、どを、また、複索14式基と(′τ、酸素
、窒;ηおよび儲黄から、也l(゛きれた少t(、くと
も111′・10)複繁原子を含む酸素環式基、たとえ
ば、フリル、チェニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダ
ゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、オキサシリル、
インチアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、
チアトリ”アゾリル、オキサトリアゾリル、トリアゾリ
ル、ン゛トラゾリル、ピリジル、3−(2−メチル−4
−ビ1コ噸Iニル)、3−(4−ピロリニル)、N−(
メチルビ−CIJ シニル)、キノリル、フエナシニル
、1.3−ペンソシオヤサラニル、ベン:/’ 71)
#、ベンゾチェニル、ベンゾオキサシリル、ベンゾチ
アゾリルまたはクマリニル7よどを、さら(・C,珈素
焦アルキルとQ工、上で氷膜1.た:γ素環式某および
アルキル基から成る基を、複た、・・aゲン原子とは、
たとえば、フッ素、環系、臭素また(エヨウ素原子をそ
れぞれ意味する。
C2〜、。アルケニル、たとえは、ビニル、アリル、i
so、−7’ロベニル、2−ペンテニルマタハフ゛テニ
ルなどを、つぎに、アルキニルとは、C2〜、0アルキ
ニル、たとえば、エチニルまたは2−プロピニルなどを
、シクロアルキルとは、03〜7シクロアルキル、たと
えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘキシルまたばシクロヘプチルなどを、また、
アリールとは、たとえ(填:、フェニル、1フチル梵た
はインダニルなどを、アルアルキルとは、たとえハ、ベ
ンジル、フェネチル、4−メチルベンジルまたはナフチ
ルメチルな、どを、また、複索14式基と(′τ、酸素
、窒;ηおよび儲黄から、也l(゛きれた少t(、くと
も111′・10)複繁原子を含む酸素環式基、たとえ
ば、フリル、チェニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダ
ゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、オキサシリル、
インチアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、
チアトリ”アゾリル、オキサトリアゾリル、トリアゾリ
ル、ン゛トラゾリル、ピリジル、3−(2−メチル−4
−ビ1コ噸Iニル)、3−(4−ピロリニル)、N−(
メチルビ−CIJ シニル)、キノリル、フエナシニル
、1.3−ペンソシオヤサラニル、ベン:/’ 71)
#、ベンゾチェニル、ベンゾオキサシリル、ベンゾチ
アゾリルまたはクマリニル7よどを、さら(・C,珈素
焦アルキルとQ工、上で氷膜1.た:γ素環式某および
アルキル基から成る基を、複た、・・aゲン原子とは、
たとえば、フッ素、環系、臭素また(エヨウ素原子をそ
れぞれ意味する。
不明i刈書中の谷一般式におけるR1は、水夛原子また
も:lカルホキシル卑瀘〕)・:呆岐基であり、カルボ
キシルシ− およびセファロスポリン系化合物の分野で通常使用さス
1、て(・るものが挙げられる。これらのカル7バキシ
ル基の保護基としては接触4”、゛廷元、化学的還元ま
たはその他の緩オ[1な末件下で処理すれば脱離する性
質を有するエステル形成基、または生体内において容易
に脱離ずΦニスデル形J戊、L(、または水もしくはア
ルコールで処理すれば6易にI悦ト、1t′東る性質な
イ1すΦ有収毛7リル基、右折すン華もしくC14丁づ
,髪スズジよなと、その他の4止々り公知ニスデル形成
基がイげられる1、この独の保護基のう゛e好通な保護
基としては、具体的に次のものがφげられる。
も:lカルホキシル卑瀘〕)・:呆岐基であり、カルボ
キシルシ− およびセファロスポリン系化合物の分野で通常使用さス
1、て(・るものが挙げられる。これらのカル7バキシ
ル基の保護基としては接触4”、゛廷元、化学的還元ま
たはその他の緩オ[1な末件下で処理すれば脱離する性
質を有するエステル形成基、または生体内において容易
に脱離ずΦニスデル形J戊、L(、または水もしくはア
ルコールで処理すれば6易にI悦ト、1t′東る性質な
イ1すΦ有収毛7リル基、右折すン華もしくC14丁づ
,髪スズジよなと、その他の4止々り公知ニスデル形成
基がイげられる1、この独の保護基のう゛e好通な保護
基としては、具体的に次のものがφげられる。
げ) アルキル基。
←) 置換基の少なくとも1つがノ・ロゲン、ニトロ、
カルボアルコキシ、アシル、アルコキ7、オキソ、シア
ン、シクロアルキル、アリール、アルキルチオ、アルキ
ルスルフィニル キルスルホニル、アルキルスルホニル、5−アルキル−
2−オキソ−1,3−ジオキソールー4−4ル、L−イ
ンダニル 2 、、ンダニル、フリル、ピリジル、4
−イミダゾリル、フタルイミド、スクシンイミド、アセ
チジノ、アジリジン、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホ
リノ、チオモル小リノ、N−IJ&級アル七ルピベフ7
ノ、ピロリル、ピラゾリル、チっ′ゾリル、イミダゾリ
ル、オキヅゾリル、・fンオキ11ゾリル、ナアジアゾ
リル、オキブジアゾリル、チ)′トリアゾリル、Aキヅ
トリアゾリル、トリアゾリル、グトンゾリル、ピリジル
、ギノリル、ノエナジニル、ベンゾフリル、ペンゾナエ
ニル、ペンシナアゾリル、ペンシナアゾリル、クマリニ
ル、2,5−ジメチルピロリジノ、1,4,5.6−’
I−トラヒドロピリミ/ニル、4−メチルどベリジノ、
2.o−ジメチルピペリジノ、3−(2−メチル−4−
ピロリニル)、j−(4−ピロリニル)、■(−(メチ
ルピペリジニル)、1.3−ベンゾジオ七−リ゛シニル
、°アルギルアミノ、ジアルキルアミン、アルアキル、
アシルチオ、アシルアキジカルボニルアミノ、アルケニ
ルオキシ、γリールオキシ、アルアルキルオキシ、シク
ロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、移素環オ
キシ、アルコキシノJルボニルオキ7、アルケニルオキ
シカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ
、アルアルキルオキシカルボニルオキシ、伊素堀オキシ
カルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボニル、アリ
ールオキシカルボニル、アルアルキルオキシカルボニル
、シクロアルキルオキシカルホニル、シクロアルケニル
オキシカルボニル、複素環オキシカルボニル、アルキル
アニリノマタ(ハハロゲン、低級アルキルもしくは低級
アルコキシで置換されたアルキルアニリノである置換低
級アルキル基。
カルボアルコキシ、アシル、アルコキ7、オキソ、シア
ン、シクロアルキル、アリール、アルキルチオ、アルキ
ルスルフィニル キルスルホニル、アルキルスルホニル、5−アルキル−
2−オキソ−1,3−ジオキソールー4−4ル、L−イ
ンダニル 2 、、ンダニル、フリル、ピリジル、4
−イミダゾリル、フタルイミド、スクシンイミド、アセ
チジノ、アジリジン、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホ
リノ、チオモル小リノ、N−IJ&級アル七ルピベフ7
ノ、ピロリル、ピラゾリル、チっ′ゾリル、イミダゾリ
ル、オキヅゾリル、・fンオキ11ゾリル、ナアジアゾ
リル、オキブジアゾリル、チ)′トリアゾリル、Aキヅ
トリアゾリル、トリアゾリル、グトンゾリル、ピリジル
、ギノリル、ノエナジニル、ベンゾフリル、ペンゾナエ
ニル、ペンシナアゾリル、ペンシナアゾリル、クマリニ
ル、2,5−ジメチルピロリジノ、1,4,5.6−’
I−トラヒドロピリミ/ニル、4−メチルどベリジノ、
2.o−ジメチルピペリジノ、3−(2−メチル−4−
ピロリニル)、j−(4−ピロリニル)、■(−(メチ
ルピペリジニル)、1.3−ベンゾジオ七−リ゛シニル
、°アルギルアミノ、ジアルキルアミン、アルアキル、
アシルチオ、アシルアキジカルボニルアミノ、アルケニ
ルオキシ、γリールオキシ、アルアルキルオキシ、シク
ロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、移素環オ
キシ、アルコキシノJルボニルオキ7、アルケニルオキ
シカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ
、アルアルキルオキシカルボニルオキシ、伊素堀オキシ
カルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボニル、アリ
ールオキシカルボニル、アルアルキルオキシカルボニル
、シクロアルキルオキシカルホニル、シクロアルケニル
オキシカルボニル、複素環オキシカルボニル、アルキル
アニリノマタ(ハハロゲン、低級アルキルもしくは低級
アルコキシで置換されたアルキルアニリノである置換低
級アルキル基。
(ハ) シクロアルキル基;低級アルキルfし換シクロ
アルキルまたは[: 2.2−ジ低級アルキル−1,3
−ジオキソ−ルー4−イル]メチル基。
アルキルまたは[: 2.2−ジ低級アルキル−1,3
−ジオキソ−ルー4−イル]メチル基。
に) アルケニル基。
什9 アルギニル吉。
(へ) フェニル基または置換基が少なくとも1つの前
記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた11.−
f換基である置換フェニル、または式で示される基もし
くはその置換誘導体(置換基は前記轡で例示したものよ
り任意(で進ばれる)、または式 で示さA”+、 Zj基もしくはそのしく換誘線体(慟
:換基(・1前記幹)で例示したものより任意に選ばれ
る)のようなアリール基。
記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた11.−
f換基である置換フェニル、または式で示される基もし
くはその置換誘導体(置換基は前記轡で例示したものよ
り任意(で進ばれる)、または式 で示さA”+、 Zj基もしくはそのしく換誘線体(慟
:換基(・1前記幹)で例示したものより任意に選ばれ
る)のようなアリール基。
(ト) ベンジルまたは置1条卑が少なくとも1つの
前記(ロ)で1シ11示した置換基より任バに選ばれた
置換基である置憾ベンジルのようなアルアルキル基。
前記(ロ)で1シ11示した置換基より任バに選ばれた
置換基である置憾ベンジルのようなアルアルキル基。
(イ)棲工環式基よたは置換基が少なくとも1つのq1
■記(ロ)で例示した11テ換基より任意に選ばれた置
換ス(−である置換された複岨環式基。
■記(ロ)で例示した11テ換基より任意に選ばれた置
換ス(−である置換された複岨環式基。
(す) 月〆ま漿インダニルまたGよフタリジルおよび
置換基がメチルもしくはハロゲンであるそれらの俟乍譲
導体、Jim k’tテトラヒドロナフチルおよびI&
!挟基がメチルもしくはハロゲンであるその置侠砺導体
、トリチル、コレステリル、ビシクロC4,4,0]デ
シルなと。
置換基がメチルもしくはハロゲンであるそれらの俟乍譲
導体、Jim k’tテトラヒドロナフチルおよびI&
!挟基がメチルもしくはハロゲンであるその置侠砺導体
、トリチル、コレステリル、ビシクロC4,4,0]デ
シルなと。
Gノ 脂環フタリジリデン低級アルキル基または置換
基がハロゲンもしくは低級アルキル基であるそれらのi
7換誘導体。
基がハロゲンもしくは低級アルキル基であるそれらのi
7換誘導体。
上で−(’ili示したカルボキンル基σ)保護基+、
コ代表例であり、これら以外にも、つぎの文献に記載さ
れて(・る保護基を任麓に選択することができる。
コ代表例であり、これら以外にも、つぎの文献に記載さ
れて(・る保護基を任麓に選択することができる。
米国特許3,499,909号、3 、573 、29
6号および3.641,018号;西独特許公開公報2
,301,014号、2,253,287号および2,
337,105号。
6号および3.641,018号;西独特許公開公報2
,301,014号、2,253,287号および2,
337,105号。
これらの中で好ましt・カルボキシル基の保す基として
は、たとえば、5−低級アルキルー2−オキソ−1,3
−ジオキンールー4−イルー低級アルキル基、アシルオ
キシアルキル基、アシルチオアルキル基、フタリジル基
、インダニル基、フェニル基、置換基を有するかもしく
は有しなし・フタリジリデン低級アルキル基または次の
式で炙わされる基のように生体内で容易に脱離する基が
挙げられろ。
は、たとえば、5−低級アルキルー2−オキソ−1,3
−ジオキンールー4−イルー低級アルキル基、アシルオ
キシアルキル基、アシルチオアルキル基、フタリジル基
、インダニル基、フェニル基、置換基を有するかもしく
は有しなし・フタリジリデン低級アルキル基または次の
式で炙わされる基のように生体内で容易に脱離する基が
挙げられろ。
さらに、具体的には、たとえば、5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル、5−エ
チル−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル−
メチル、5−プロピル−2−オキソ−1,3−ジオキソ
−ルー4−イル−メチル基などの5−低級アルキル−2
−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル基
;アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、プロピ
オニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、インブチ
リルオキシメチル、ノ(レリルオキシメチル、1−アセ
トキシエチル、1−アセトキシ−〇−プロピル、1−ピ
ノくロイルオキシエチル、1−ピバロイルオキシ−n−
プロピル基ナトのアシルオキシアルキル基;アセチルチ
オメチル、ヒバロイルチオメチル、ベンゾイルチオメチ
ル、p−クロロベンゾイルチオメチル、1−アセチルチ
オエチル、1−ピバロイルチオエチル、1−ベンゾイル
チオエチル、1−(p−クロロベンゾイルチオ)エチル
基などのアシルチオアルキル基;メトキシメチル、エト
キシメチル、プロポキシメチル、インプロポキシメチル
、n−ブチルオキシメチル基などのアルコキシメチル基
;メトキシカルボニルオキシメチル、エトキシカルボニ
ルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシメチル、
イソプロポキシカルボニルオキシメチル、ローブチルオ
キシカルボニルオキシメチル、tert、−ブチルオキ
シカルボニルオキシメチル、1−メトキシカルボニルオ
キシメチル、1−エトキシカルボニルオキシ−エチル、
1−プロポキシカルボニルオキ’/−エチル、1−イソ
プロポキシカルボニルオキシ−エチル、1−ブチルオキ
シカルボニルオキシ−エチル基などのアルコキシカルボ
ニルオギシーアルキル基;メトキシカルボニルメチル、
エトキシカルボニルメチル基などのアルコギシカルボニ
ルメチル基;フタリジル基;インダニル基;フェニル基
;2−(フタリシリテン)−エチル、2−(s−フルオ
ロフタリシリテン)−エチル、2−(6−クロロフタリ
ジリデン)−エチル、2−(6−メドキシフタリジリデ
ン)−エチル基などのフタリジリデンアルキル基などが
挙げられる。
ソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル、5−エ
チル−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル−
メチル、5−プロピル−2−オキソ−1,3−ジオキソ
−ルー4−イル−メチル基などの5−低級アルキル−2
−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル基
;アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、プロピ
オニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、インブチ
リルオキシメチル、ノ(レリルオキシメチル、1−アセ
トキシエチル、1−アセトキシ−〇−プロピル、1−ピ
ノくロイルオキシエチル、1−ピバロイルオキシ−n−
プロピル基ナトのアシルオキシアルキル基;アセチルチ
オメチル、ヒバロイルチオメチル、ベンゾイルチオメチ
ル、p−クロロベンゾイルチオメチル、1−アセチルチ
オエチル、1−ピバロイルチオエチル、1−ベンゾイル
チオエチル、1−(p−クロロベンゾイルチオ)エチル
基などのアシルチオアルキル基;メトキシメチル、エト
キシメチル、プロポキシメチル、インプロポキシメチル
、n−ブチルオキシメチル基などのアルコキシメチル基
;メトキシカルボニルオキシメチル、エトキシカルボニ
ルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシメチル、
イソプロポキシカルボニルオキシメチル、ローブチルオ
キシカルボニルオキシメチル、tert、−ブチルオキ
シカルボニルオキシメチル、1−メトキシカルボニルオ
キシメチル、1−エトキシカルボニルオキシ−エチル、
1−プロポキシカルボニルオキ’/−エチル、1−イソ
プロポキシカルボニルオキシ−エチル、1−ブチルオキ
シカルボニルオキシ−エチル基などのアルコキシカルボ
ニルオギシーアルキル基;メトキシカルボニルメチル、
エトキシカルボニルメチル基などのアルコギシカルボニ
ルメチル基;フタリジル基;インダニル基;フェニル基
;2−(フタリシリテン)−エチル、2−(s−フルオ
ロフタリシリテン)−エチル、2−(6−クロロフタリ
ジリデン)−エチル、2−(6−メドキシフタリジリデ
ン)−エチル基などのフタリジリデンアルキル基などが
挙げられる。
υ
RIBおよびR14は同一または異なって、水素原子、
ハロゲン原子または置換されて(・てもよいアルキル、
アルアルキルまたはアリール基を BQは水素原子、ハ
ロゲン原子または置換されていてもよいアルキル、アル
アルキル、アリール、アルコキシ、アルキルチオ、アシ
ル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、シクロアル
キルオキシカルボニル、アシルオキシカルボニル、アル
アルキルオキシカルボニル、スルホ、アルキルスルホニ
ル、シクロアルキルスルボニル、アリールスルホニル、
?[環スルボニル、カルバモイル、アルキルカルバモイ
ル、ジアルキルカルバモイル、チオカルバモイル、アル
キルチオカルバモイル、ジアルキルチオカルバモイル、
アシルカルバモイル、アシルチオカルバモイル、アルキ
ルスルホニルカルバモイル、アリールスルホニルカルバ
モイル、アルキルスルボニルチオカルバモイルまたはア
リールスルホニルチオカルバモイル基を示す。)で表わ
される暴を意味するが、上述したR9の各基の中で、ア
ルコキシカルボニルとは、−C−O−アルキルを、シク
ロ占 アルキルオキシカルボニルとは、−C−O−シフロアル
キルヲ、アシルオキシカルボニルとは、−C−0−アシ
ルヲ、アルアルキルオキシカルボ1 ニルとは、−C−O−アルアルキルを、アルキル八 ルギルスルホニルと42、−802−シクロアルキルを
、アリールスルホニルとは、−8o2−アリールを、複
素環スルホニルとは、−SO,、−複素環を、アルキル
カルバモイルとは、−C−NH−アルキルを、ジアルキ
ルカルバモイルとは、 とは、−C−NH−アルキルを、ジアルキルチオ力カル
バモイルとは、−C−NH−アシルヲ、アシルチオカル
バモイルとは、−C−NH−アシルを、アルキルスルホ
ニルカルバモイルとは、 −C−NH−3o2−7 ル#ルヲ、アリールスルホニ
ル1 カルバモイルと&11、−C−NH−3o2−7リール
を、アルキルスルボニルチオカルバモイルとは、−〇−
NH−8O2−アルキルを、アリールスルホニル1 チオカルバモイルとは、−C−NH−8o2−アリール
1 をそれぞれ意味する。
ハロゲン原子または置換されて(・てもよいアルキル、
アルアルキルまたはアリール基を BQは水素原子、ハ
ロゲン原子または置換されていてもよいアルキル、アル
アルキル、アリール、アルコキシ、アルキルチオ、アシ
ル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、シクロアル
キルオキシカルボニル、アシルオキシカルボニル、アル
アルキルオキシカルボニル、スルホ、アルキルスルホニ
ル、シクロアルキルスルボニル、アリールスルホニル、
?[環スルボニル、カルバモイル、アルキルカルバモイ
ル、ジアルキルカルバモイル、チオカルバモイル、アル
キルチオカルバモイル、ジアルキルチオカルバモイル、
アシルカルバモイル、アシルチオカルバモイル、アルキ
ルスルホニルカルバモイル、アリールスルホニルカルバ
モイル、アルキルスルボニルチオカルバモイルまたはア
リールスルホニルチオカルバモイル基を示す。)で表わ
される暴を意味するが、上述したR9の各基の中で、ア
ルコキシカルボニルとは、−C−O−アルキルを、シク
ロ占 アルキルオキシカルボニルとは、−C−O−シフロアル
キルヲ、アシルオキシカルボニルとは、−C−0−アシ
ルヲ、アルアルキルオキシカルボ1 ニルとは、−C−O−アルアルキルを、アルキル八 ルギルスルホニルと42、−802−シクロアルキルを
、アリールスルホニルとは、−8o2−アリールを、複
素環スルホニルとは、−SO,、−複素環を、アルキル
カルバモイルとは、−C−NH−アルキルを、ジアルキ
ルカルバモイルとは、 とは、−C−NH−アルキルを、ジアルキルチオ力カル
バモイルとは、−C−NH−アシルヲ、アシルチオカル
バモイルとは、−C−NH−アシルを、アルキルスルホ
ニルカルバモイルとは、 −C−NH−3o2−7 ル#ルヲ、アリールスルホニ
ル1 カルバモイルと&11、−C−NH−3o2−7リール
を、アルキルスルボニルチオカルバモイルとは、−〇−
NH−8O2−アルキルを、アリールスルホニル1 チオカルバモイルとは、−C−NH−8o2−アリール
1 をそれぞれ意味する。
さらに、上で述べた種々の基の置換基としては、ハロケ
ン原子、アルキル基、アルアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、ヒドロキシル基、オキソ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、ニド「I基、シアノ基、アミノ基、
アシル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、カルバモ
イル基、スルホ基、スルファモイル基、 −NH−アル
キルで示されるジアルキルアミノ基、−N−アシルで表
わされるアシルアミノ基、−C−O−アルキルで示され
ろアルコキシカルボニル基、アセチルメチル、プロピオ
ニルメチルなどのアシルオキルバ、アミノメチル、アミ
ンエチルなどのアミノアルキル基、N−メチルアミノメ
チル、N−メチルアミンエチルなどのN−アルキルアミ
ノアルキル基、N、N−ジメチルアミンメチル、N、N
−ジメチルアミノエチルなどのN、N−ジアルキルアミ
ノアルキル基、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルな
どのヒドロキシアルキル基、ヒドロキシイミノメチル、
ヒドロキシイミノエチルなどのヒドロキシイミノアルキ
ル基、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチ
ル、エトキシエチルなどのアルコキシアルキル基、カル
ボキシメチル、カルボキシエチルなどのカルボキシアル
キル基、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニ
ルエチル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルエチルナトのアルコキシカルボニルアルキル基、ベ
ンジルオキシカルボニルメチル、ベンジルオキシカルボ
ニルエチルなどのアルアルキルオキシカルボニルアルキ
ル基、スルホメチル、スルホエチルなどのスルホアルキ
ル基、スルファモイルメチル、スルファモイルエチルな
どのスルファモイルアルキル基、カルバモイルメチル、
カルバモイルエチルなどのカルバモイルアルキル基、カ
ルバモイルアリルなどのカルバモイルアルケニル基、N
−ヒドロキシカルバモイルメチル、N−ヒドロキシカル
バモイルエチルなどのN−ヒドロキシカルバモイルアル
キル基すどが挙げられ、種々の基はこれら一種以上の置
換基で置換されて(・てもよ(・。また、これらの置換
基のうち、ヒドロキシル基、アミン基、カルボキシル基
などは通常当該分野で用いられて(・る適当な保画基で
保護されて(・てもよ(・。ここにお(・てヒドロキシ
ル基の保護基としては、通常ヒドロキシル基の保護基と
して使用し得るすべての基を含み、たとえば、テトラヒ
ドロピラニル、テトラヒドロフラニル、ベンジルオキシ
カルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、4
−ブロモベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベン
ジルオキシカルボニル、3.4−ジメトキシベンジルオ
キシカルボニル、4−(フェニルアゾ)ベンジルオキシ
カルボニル、4−(4−メトキシフェニルアゾ)ベンジ
ルオキシカルボニル、tert、−ブトキシカルボニル
、1゜1−ジメチルプロポキシカルボニル、イングロボ
キシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、2,
2.2− ) IJ クロロエトキシカルボニル、2.
2.2− ) ’) ブロモエトキシカルボニル、2−
フルフリルオキシカルボニル、1−アダマンチルオキシ
カルボニル、1−シクロプロピルエトキシカルボニル、
8−キノリルオキシカルボニル、ホルミル、アセチル、
クロロアセチル、ベンゾイル、またはトリフルオロアセ
チルなどの脱離しやず〜・アシル基、メタンスルホニル
、エタンスルホニルなどのアルキルスルホニル基、フェ
ニルスルホニル、トルエンスルホニル基などのアリール
スルホニル基およびベンジル、トリチル、メトキシメチ
ル、2−ニトロフェニルチオ、2,4−ジニトロフェニ
ルチオ基などが挙げられる。
ン原子、アルキル基、アルアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、ヒドロキシル基、オキソ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、ニド「I基、シアノ基、アミノ基、
アシル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、カルバモ
イル基、スルホ基、スルファモイル基、 −NH−アル
キルで示されるジアルキルアミノ基、−N−アシルで表
わされるアシルアミノ基、−C−O−アルキルで示され
ろアルコキシカルボニル基、アセチルメチル、プロピオ
ニルメチルなどのアシルオキルバ、アミノメチル、アミ
ンエチルなどのアミノアルキル基、N−メチルアミノメ
チル、N−メチルアミンエチルなどのN−アルキルアミ
ノアルキル基、N、N−ジメチルアミンメチル、N、N
−ジメチルアミノエチルなどのN、N−ジアルキルアミ
ノアルキル基、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルな
どのヒドロキシアルキル基、ヒドロキシイミノメチル、
ヒドロキシイミノエチルなどのヒドロキシイミノアルキ
ル基、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチ
ル、エトキシエチルなどのアルコキシアルキル基、カル
ボキシメチル、カルボキシエチルなどのカルボキシアル
キル基、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニ
ルエチル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルエチルナトのアルコキシカルボニルアルキル基、ベ
ンジルオキシカルボニルメチル、ベンジルオキシカルボ
ニルエチルなどのアルアルキルオキシカルボニルアルキ
ル基、スルホメチル、スルホエチルなどのスルホアルキ
ル基、スルファモイルメチル、スルファモイルエチルな
どのスルファモイルアルキル基、カルバモイルメチル、
カルバモイルエチルなどのカルバモイルアルキル基、カ
ルバモイルアリルなどのカルバモイルアルケニル基、N
−ヒドロキシカルバモイルメチル、N−ヒドロキシカル
バモイルエチルなどのN−ヒドロキシカルバモイルアル
キル基すどが挙げられ、種々の基はこれら一種以上の置
換基で置換されて(・てもよ(・。また、これらの置換
基のうち、ヒドロキシル基、アミン基、カルボキシル基
などは通常当該分野で用いられて(・る適当な保画基で
保護されて(・てもよ(・。ここにお(・てヒドロキシ
ル基の保護基としては、通常ヒドロキシル基の保護基と
して使用し得るすべての基を含み、たとえば、テトラヒ
ドロピラニル、テトラヒドロフラニル、ベンジルオキシ
カルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、4
−ブロモベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベン
ジルオキシカルボニル、3.4−ジメトキシベンジルオ
キシカルボニル、4−(フェニルアゾ)ベンジルオキシ
カルボニル、4−(4−メトキシフェニルアゾ)ベンジ
ルオキシカルボニル、tert、−ブトキシカルボニル
、1゜1−ジメチルプロポキシカルボニル、イングロボ
キシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、2,
2.2− ) IJ クロロエトキシカルボニル、2.
2.2− ) ’) ブロモエトキシカルボニル、2−
フルフリルオキシカルボニル、1−アダマンチルオキシ
カルボニル、1−シクロプロピルエトキシカルボニル、
8−キノリルオキシカルボニル、ホルミル、アセチル、
クロロアセチル、ベンゾイル、またはトリフルオロアセ
チルなどの脱離しやず〜・アシル基、メタンスルホニル
、エタンスルホニルなどのアルキルスルホニル基、フェ
ニルスルホニル、トルエンスルホニル基などのアリール
スルホニル基およびベンジル、トリチル、メトキシメチ
ル、2−ニトロフェニルチオ、2,4−ジニトロフェニ
ルチオ基などが挙げられる。
さらに、アミノ基の保護基としては、通常アミノ基の保
護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、ト
リクロロエトキシカルボニル、トリクロロエトキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、p−トルエンスル
ホニル、p−ニトロベンジルジキシカルボニル、o−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、0−ニトロフェニルス
ルフェニル、(モノ−# シl ”J−)クロロア
セチル、トリフルオロアセチル、ホルミル、tcrt、
−アミルオキシカルボニル、tert、−ブトキシカル
ボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,
4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、4−(フェ
ニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、4−(4−メト
キシフェニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、ピリジ
ン−1−オキサイド−2−イル−メトキシカルボニル、
2−フリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカル
ボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イン
グロボキシカルボニル、1−シクロプロピルエトキシカ
ルボニル、フタロイル、スクシニル、1−アダマンチル
オキシカルボニル、8−キノリルオキシカルボニルなど
の脱離しやす(・アシル基が挙げられ、さらK、)IJ
チル、2−二10フェニルチオ、2.4−ジニトロフェ
ニルチオ、2−ヒドロキシヘンシリテン、2−ヒドロキ
シ−5−クロロベンジリデン、2−ヒドロキシ−1−ナ
フチルメチレン、3−ヒドロキシ−4−ピリジルメチレ
ン、1−メトキシカルボニル−2−グロピリテン、1−
xl−キシカルホ゛ニルー2−プロピリチン、3−エト
キシカルボニル−2−ブチリテン、1−アセチル−2−
グロピリデン、1−ベンゾイル−2−グロピリデン、1
−(N−(2−メトキシフェニル)カルバモイルシー2
−グロピリテン、1−CN−(4−メトキシフェニル)
カルバモイルシー2−グロビリテン、2−エトキシカル
ボニルシクロへキシリデン、2−エトキシカルボニルシ
クロべブチリテン、2−アセチルシクロへキシリデン、
3.3−ジメチル−5=オキソシクロヘキシリデンなど
の脱離しやすい基またげジー、もしくlLニトリ−アル
キルシリルなどのアミノ基の保護基が挙げられる。つぎ
に、カルボキシル基の保護基としては、通常のカルボキ
シル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、た
とえば、メチノペエチル、n−プロピル、iso、−プ
ロピル、tert、−ブチル、n −メチル、ベンジル
、ジフェニルメチル、トリチル、p−二トロベンジル、
p−メトキシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメ
チル、p−ニトロベンゾイルメチル、p−ブロモベンツ
イルメチル、p−メタンスルボニルベンゾイルメチル、
フタルイミドメチル、トリクロロエチル、1,1−ジメ
チル−2−プロペニル、1,1−ジメチルプロピル、ア
セトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ピパロイ
ルオキシメチル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、
3−メチル−3−ブチニル、スクシンイミドメチル、1
−シクロプロピルエチル、メチルスルフェニルメチル、
フェニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、キノリン
−1−オキサイド−2−イル−メチル、ピリジン−1−
オキサイド−2−イル−メチル、ビス(p−メトキシフ
ェニル)メチルなどの基で保護されて(・る場合、また
は四塩化チタンの如き、非金属化合物で保護されて(・
る場合、更に、髄開昭46−7073号およびオランダ
国公開公報7105259号に記載されて(・るたとえ
ばジメチルクロロシランの如きシリル化合物で保護され
ている場合などが挙げられる。
護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、ト
リクロロエトキシカルボニル、トリクロロエトキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、p−トルエンスル
ホニル、p−ニトロベンジルジキシカルボニル、o−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、0−ニトロフェニルス
ルフェニル、(モノ−# シl ”J−)クロロア
セチル、トリフルオロアセチル、ホルミル、tcrt、
−アミルオキシカルボニル、tert、−ブトキシカル
ボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,
4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、4−(フェ
ニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、4−(4−メト
キシフェニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、ピリジ
ン−1−オキサイド−2−イル−メトキシカルボニル、
2−フリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカル
ボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イン
グロボキシカルボニル、1−シクロプロピルエトキシカ
ルボニル、フタロイル、スクシニル、1−アダマンチル
オキシカルボニル、8−キノリルオキシカルボニルなど
の脱離しやす(・アシル基が挙げられ、さらK、)IJ
チル、2−二10フェニルチオ、2.4−ジニトロフェ
ニルチオ、2−ヒドロキシヘンシリテン、2−ヒドロキ
シ−5−クロロベンジリデン、2−ヒドロキシ−1−ナ
フチルメチレン、3−ヒドロキシ−4−ピリジルメチレ
ン、1−メトキシカルボニル−2−グロピリテン、1−
xl−キシカルホ゛ニルー2−プロピリチン、3−エト
キシカルボニル−2−ブチリテン、1−アセチル−2−
グロピリデン、1−ベンゾイル−2−グロピリデン、1
−(N−(2−メトキシフェニル)カルバモイルシー2
−グロピリテン、1−CN−(4−メトキシフェニル)
カルバモイルシー2−グロビリテン、2−エトキシカル
ボニルシクロへキシリデン、2−エトキシカルボニルシ
クロべブチリテン、2−アセチルシクロへキシリデン、
3.3−ジメチル−5=オキソシクロヘキシリデンなど
の脱離しやすい基またげジー、もしくlLニトリ−アル
キルシリルなどのアミノ基の保護基が挙げられる。つぎ
に、カルボキシル基の保護基としては、通常のカルボキ
シル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、た
とえば、メチノペエチル、n−プロピル、iso、−プ
ロピル、tert、−ブチル、n −メチル、ベンジル
、ジフェニルメチル、トリチル、p−二トロベンジル、
p−メトキシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメ
チル、p−ニトロベンゾイルメチル、p−ブロモベンツ
イルメチル、p−メタンスルボニルベンゾイルメチル、
フタルイミドメチル、トリクロロエチル、1,1−ジメ
チル−2−プロペニル、1,1−ジメチルプロピル、ア
セトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ピパロイ
ルオキシメチル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、
3−メチル−3−ブチニル、スクシンイミドメチル、1
−シクロプロピルエチル、メチルスルフェニルメチル、
フェニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、キノリン
−1−オキサイド−2−イル−メチル、ピリジン−1−
オキサイド−2−イル−メチル、ビス(p−メトキシフ
ェニル)メチルなどの基で保護されて(・る場合、また
は四塩化チタンの如き、非金属化合物で保護されて(・
る場合、更に、髄開昭46−7073号およびオランダ
国公開公報7105259号に記載されて(・るたとえ
ばジメチルクロロシランの如きシリル化合物で保護され
ている場合などが挙げられる。
また、R″は水素原子または保護されてt・てもよ℃・
アミノ基を意味し、そのようなアミノ基の保護基として
は、通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用(・
られる多くの基が挙げられ、具体的には、R2について
説明したアミン基のすべての保護基が挙げられる。
アミノ基を意味し、そのようなアミノ基の保護基として
は、通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用(・
られる多くの基が挙げられ、具体的には、R2について
説明したアミン基のすべての保護基が挙げられる。
また、Aは式−CH2−または式−〇−基(式中、R1
5 R15は水素原子または置換されていてもよいアルキル
、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロア
ルケニル、アルアルキル、7!j−ル、複素環式基また
はヒドロキシル保護基もしは異なって、ヒドロキシル、
アルキル、アルアルキル、アリール、アルコキシ、アル
アルキルオキシまたはアリールオキシ基を示す。)で表
わされる基を意味するが、ここ(Cお(・てヒドロキシ
ル基の保護基としては、R2にっ(・て説明したヒドロ
キシル基の保護基が挙げられる。さ、らに、上で示した
種々の基の16:換基としては、ハロゲンha子、オキ
ソ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、複素環
式基または記した意味を有し、R21、R22およびR
23は同一または異なって、水素原子、アルキル、アル
アルキルまたはアリール基を示す。)で表わされる各々
の基の一棟以上の置換基で置換されていてもよ(・。こ
れらの置換基のうち、ヒドロキシル基、アミノ基および
カルボキシル基などはそれぞれR2について居間したヒ
ドロキシル基およびアミン基の保護基ならびにR’ K
ついて説明したカルボキシル基の保護基で保護されて(
・てもよ(゛。
5 R15は水素原子または置換されていてもよいアルキル
、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロア
ルケニル、アルアルキル、7!j−ル、複素環式基また
はヒドロキシル保護基もしは異なって、ヒドロキシル、
アルキル、アルアルキル、アリール、アルコキシ、アル
アルキルオキシまたはアリールオキシ基を示す。)で表
わされる基を意味するが、ここ(Cお(・てヒドロキシ
ル基の保護基としては、R2にっ(・て説明したヒドロ
キシル基の保護基が挙げられる。さ、らに、上で示した
種々の基の16:換基としては、ハロゲンha子、オキ
ソ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、複素環
式基または記した意味を有し、R21、R22およびR
23は同一または異なって、水素原子、アルキル、アル
アルキルまたはアリール基を示す。)で表わされる各々
の基の一棟以上の置換基で置換されていてもよ(・。こ
れらの置換基のうち、ヒドロキシル基、アミノ基および
カルボキシル基などはそれぞれR2について居間したヒ
ドロキシル基およびアミン基の保護基ならびにR’ K
ついて説明したカルボキシル基の保護基で保護されて(
・てもよ(゛。
つぎに、−〇−で表わされるオキシム体には、(
QR+5
シンおよびアンチ異性体、並びにそれらの混合物が包含
される。
される。
R5が保護されていてもよ(・アミン基の場合は、つぎ
の平衡式で示すように互変異性体が存在するが、その互
変異性体も包含される。
の平衡式で示すように互変異性体が存在するが、その互
変異性体も包含される。
そして、上の式に2けるR5’のイミノ基の保護基とし
ては、通常ペニシリン、セファロスボリンの分野で用−
・る基が挙げられ、具体的には、R2について説明した
アミン基の保護基のうち1価基と同様の基が挙げられる
。
ては、通常ペニシリン、セファロスボリンの分野で用−
・る基が挙げられ、具体的には、R2について説明した
アミン基の保護基のうち1価基と同様の基が挙げられる
。
また、一般戊〔■〕の式−C1(2R”が、式た意味を
有する。)で表わされる基のうちR6が水素原子の場合
は、下の平11N式で示されるような互変異性体が存在
し、そしてその互変異性体も包含される。
有する。)で表わされる基のうちR6が水素原子の場合
は、下の平11N式で示されるような互変異性体が存在
し、そしてその互変異性体も包含される。
一般式〔■〕の化合物の塩類としては、ペニシリン及び
セファロスポリンの分野で周知の塩基性基、または酸性
基における塩を挙げることができる。そのような塩基性
基における塩として(よ、たとえば、塩酸、硝酸または
研ぎなとの鉱酸との塩;シュウ酸、コノ1り醒、ギ酸、
トリクロロ酢酔またはトリフルオロ酢酸などの有機カル
ボン酸との塩:メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸、トルエン−2=スルホン酸、トル
エン−4−スルホン管、メシチレンスルボン酸(2,4
,6−)リメチルスルホン!2 ) 、ナフタリン−1
−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホン酸、フェニル
メタンスルホン酸、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸、
トルエン−3,5−ジスルホン酸、ナフタリン−1,5
−ジスルホン酸、ナフタリン−2,6−ジスルホン酸、
ナフタリン−2,7−ジスルホン酸、ベンゼン−1,3
,5−)ジスルホン酸、ベンゼン−1゜2.4− )ジ
スルホン酸、ナフタリン−1,3,5−トリスルホン酸
なとのスルホン酸との塩を、また曖性基における塩とし
ては、たとえば、ナトリウムまたはカリウムなどのアル
カリ金属との塩;カルシウムまたはマグネシウムなどの
アルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;プロカイン
、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチルア
ミン、1−エフエナミン、N、N−ジベンジルエチレン
ジアミン、 I−!Jエチルアミン、トリメチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
N−メチルビベリノン、N−メチルモルホリン、ジェナ
ルアミン、7シクロヘキシルアミンなどの含g −Z
壱’ 43塩基との塩をネトげることかできる。
セファロスポリンの分野で周知の塩基性基、または酸性
基における塩を挙げることができる。そのような塩基性
基における塩として(よ、たとえば、塩酸、硝酸または
研ぎなとの鉱酸との塩;シュウ酸、コノ1り醒、ギ酸、
トリクロロ酢酔またはトリフルオロ酢酸などの有機カル
ボン酸との塩:メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸、トルエン−2=スルホン酸、トル
エン−4−スルホン管、メシチレンスルボン酸(2,4
,6−)リメチルスルホン!2 ) 、ナフタリン−1
−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホン酸、フェニル
メタンスルホン酸、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸、
トルエン−3,5−ジスルホン酸、ナフタリン−1,5
−ジスルホン酸、ナフタリン−2,6−ジスルホン酸、
ナフタリン−2,7−ジスルホン酸、ベンゼン−1,3
,5−)ジスルホン酸、ベンゼン−1゜2.4− )ジ
スルホン酸、ナフタリン−1,3,5−トリスルホン酸
なとのスルホン酸との塩を、また曖性基における塩とし
ては、たとえば、ナトリウムまたはカリウムなどのアル
カリ金属との塩;カルシウムまたはマグネシウムなどの
アルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;プロカイン
、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチルア
ミン、1−エフエナミン、N、N−ジベンジルエチレン
ジアミン、 I−!Jエチルアミン、トリメチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
N−メチルビベリノン、N−メチルモルホリン、ジェナ
ルアミン、7シクロヘキシルアミンなどの含g −Z
壱’ 43塩基との塩をネトげることかできる。
また、不発明は、一般式1■〕のセファロスポリン、そ
の塩類のすべての光学異性体、およびラセミ体lよらび
にすべての結晶形および水オlJ物を包含するものであ
る。さらに具体的に述べれば、一般式[I]で表わされ
る化合物中、好ましく・例としては、Aが式−C−で表
わされるオキシム八R・・ 体が、その中でも、シン異性体が、さらにばR15が水
素原子またはアルキル基、特に、メチル基、エナル基も
しくはR”が置換されて(・るアルキル基、式−CH2
COOR+ (式中、R1は前記した意味を有する。)
で表わされる各々の基が挙げられる。
の塩類のすべての光学異性体、およびラセミ体lよらび
にすべての結晶形および水オlJ物を包含するものであ
る。さらに具体的に述べれば、一般式[I]で表わされ
る化合物中、好ましく・例としては、Aが式−C−で表
わされるオキシム八R・・ 体が、その中でも、シン異性体が、さらにばR15が水
素原子またはアルキル基、特に、メチル基、エナル基も
しくはR”が置換されて(・るアルキル基、式−CH2
COOR+ (式中、R1は前記した意味を有する。)
で表わされる各々の基が挙げられる。
つぎに、R2の好ましく・ものの例としては、式びR8
は同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子または
低級アルキル基が、また、式よび)jllは同一または
異なって、水素原子又は低される基の場合、R12,R
’3およびR,+4は同一または異なって、水垢原子ま
たは低級アルキル基が4けられる。
は同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子または
低級アルキル基が、また、式よび)jllは同一または
異なって、水素原子又は低される基の場合、R12,R
’3およびR,+4は同一または異なって、水垢原子ま
たは低級アルキル基が4けられる。
次に一版式l■〕で表わされる化合物の中から、t・く
つかの代衣的化合物につし・てイLトられた4理作用を
示す。
つかの代衣的化合物につし・てイLトられた4理作用を
示す。
1)抗菌作用(表−1)
日本化学療法学会標準法((CHEMOTHERAPY
)第23巻第1〜2頁(1975年)〕に従し・、He
art Infusion broth (栄研化
学社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を含む
Heart Infusion agar 培地(
栄研化学社製)に接種し、37℃、20時間培養後、菌
の発育の有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度
をもってMIC(μt /−)とした。ただし、接種酌
量は10’個/プレート(10°個/−)とした。
)第23巻第1〜2頁(1975年)〕に従し・、He
art Infusion broth (栄研化
学社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を含む
Heart Infusion agar 培地(
栄研化学社製)に接種し、37℃、20時間培養後、菌
の発育の有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度
をもってMIC(μt /−)とした。ただし、接種酌
量は10’個/プレート(10°個/−)とした。
試験化合物は以下のとおりである。
囚 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(
(1−(3,6−シオキソー1.2,3.6−チトラヒ
ドロビリダジニル)〕エステル−Δ3−セフェムー4−
カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩 CB) 7− (2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)
−3−((1−(3−メチル−6−オキソ−1,6−シ
ヒドロピリダジニル)〕エステル−Δ3−セフェムー4
−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩 (C) ?−(2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)−
3−((1−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピラジニ
ル)〕エステル−Δ3−セフェムー4−カルボン酸のト
リフルオロ酢酸塩 Q)) 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−(
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノアセト
アミド)−3−((1−(3,6−シオキソー1.2,
3.6−チトラヒドロビリダジニル)〕エステル−Δ3
−セフェムー4−カルボン酸 ■ 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(シン)−カルボキシメ。
2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(
(1−(3,6−シオキソー1.2,3.6−チトラヒ
ドロビリダジニル)〕エステル−Δ3−セフェムー4−
カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩 CB) 7− (2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)
−3−((1−(3−メチル−6−オキソ−1,6−シ
ヒドロピリダジニル)〕エステル−Δ3−セフェムー4
−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩 (C) ?−(2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)−
3−((1−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピラジニ
ル)〕エステル−Δ3−セフェムー4−カルボン酸のト
リフルオロ酢酸塩 Q)) 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−(
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノアセト
アミド)−3−((1−(3,6−シオキソー1.2,
3.6−チトラヒドロビリダジニル)〕エステル−Δ3
−セフェムー4−カルボン酸 ■ 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(シン)−カルボキシメ。
キシイミノアセトアミド]−3−((1−3−メチル−
6−オキノー1,6−シヒドロピリダジニル)〕エステ
ル−Δ3−セフェムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢
酸塩−2−(以下余白) 一/− 一ゝへ、 一ユイ′− 2尿中回収率 供試化合物をマウス(NCR,♂、4週合)1匹当り、
1〜、経口投与し、尿中回収率を求め、その結果を表−
2に示す。
6−オキノー1,6−シヒドロピリダジニル)〕エステ
ル−Δ3−セフェムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢
酸塩−2−(以下余白) 一/− 一ゝへ、 一ユイ′− 2尿中回収率 供試化合物をマウス(NCR,♂、4週合)1匹当り、
1〜、経口投与し、尿中回収率を求め、その結果を表−
2に示す。
なお、供試化合物はいずれも吸収後生体内でエステル基
が容易に脱離し、対応する遊離のカルボン酸となるので
、尿中に排泄される遊離のカルボン酸を定量し、尿中回
収率とした。
が容易に脱離し、対応する遊離のカルボン酸となるので
、尿中に排泄される遊離のカルボン酸を定量し、尿中回
収率とした。
投与方法
供試化合物を0.5%CMCに懸濁した後、経口投与し
た。
た。
定量方法
表−2に記載の検定菌にて、ペーパーディスク法で定量
した。
した。
表 −2
* 0〜6時間、5例平均
6、急性毒性試験
下の試j験化合物のマウス(ICR,♂2体重20〜2
4))静脈内投与におけるL D s。値は59/に9
以上であった。
4))静脈内投与におけるL D s。値は59/に9
以上であった。
試験化合物は以下のとおりである。
07−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(〔
1−(3,6−シオキンー1、2.3.6 −テトラヒ
ドロピリダジニル)〕メチル)−ム5−セフェムー4−
カルボン酸のナトリウム塩。
−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(〔
1−(3,6−シオキンー1、2.3.6 −テトラヒ
ドロピリダジニル)〕メチル)−ム5−セフェムー4−
カルボン酸のナトリウム塩。
07−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−1[
1−(3−メチル−6−オキソ−1,6−シヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボン
酸のナト リ ウ ム塩。
−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−1[
1−(3−メチル−6−オキソ−1,6−シヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボン
酸のナト リ ウ ム塩。
つぎに、製造法について説明する。
不発明の化合物は、たとえば、下に示す方法によって製
造することかできる。
造することかできる。
される。そしてB10 、 Fx7 、 E(xM 、
RzvおよびB2Oにおける反応に関与しない有機残
基としては、当該分野で知られている有機残基、具体的
には、置換基を有する力・もしくは有しない)j旨肋族
残基、脂環式%式% アシル基などが挙げられ、具体的には次のような基か例
示できる。
RzvおよびB2Oにおける反応に関与しない有機残
基としては、当該分野で知られている有機残基、具体的
には、置換基を有する力・もしくは有しない)j旨肋族
残基、脂環式%式% アシル基などが挙げられ、具体的には次のような基か例
示できる。
(1111&肪族残基:たとえば、メチル、エチル、)
。
。
ロビル、ブチル、インブチル、ペンチルなどのアルキル
基】ビニル、グロペニル、フチニルなどのアルケニル基
。
基】ビニル、グロペニル、フチニルなどのアルケニル基
。
+21 脂環式残基:たとえは、シクロペンチル、シ
タロヘキフル、シクロペンチルなどのシクロアルギル基
ニジクロペンテニル、シクロヘキセニルナトノシクロア
ルケニル基。
タロヘキフル、シクロペンチルなどのシクロアルギル基
ニジクロペンテニル、シクロヘキセニルナトノシクロア
ルケニル基。
(,3) 芳香族残基:たとえば、フェニル、ナフチ
ルブエどのアリール基。
ルブエどのアリール基。
(4)芳香脂肪族残基:たとえは、ベンジル、フェオチ
ルなどのアルアルキル基。
ルなどのアルアルキル基。
(5)複素環残基:たとえば、ピロIJジニル、ビヘラ
シニル、フリル、チェニル、ピロリル、ピラゾリル、オ
キサシリル、チアゾリル、ピリジル、イミダゾリル、キ
ノリル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリルなどの分子中に
ベテロ原子(酸素、窒素丘たは(llf黄原子)を任意
に貧有する複素環式基。
シニル、フリル、チェニル、ピロリル、ピラゾリル、オ
キサシリル、チアゾリル、ピリジル、イミダゾリル、キ
ノリル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリルなどの分子中に
ベテロ原子(酸素、窒素丘たは(llf黄原子)を任意
に貧有する複素環式基。
((i) アシル基:イー1機カルボン酸から誘導さ
t得るアシル基であり、このような有機カルボン1食と
しては、たとえば、脂肪族カルボン酸、脂猿)=(カル
ボン1我、または脂環脂肪族カルボン酸あるいは)前肋
族カルボン酸に酸素または硫黄原子を介してまたは介さ
ずに芳香族残基、もしくは複素環残基が結合した芳香置
換脂肪族カルボン酸、芳香族オキシ脂肪族カルボン酸、
芳香族チオ脂肪族カルボン酸、複素環置換脂肪族カルボ
ン酸、複素環オキ/脂肪族カルボン酸、複素環チオ脂肪
族カルボン酸あるいはカルボニル基に酸素、窒素または
硫黄原子を介して芳香環、脂肪族基、脂環式基が結合す
る有機カルボン酸類あるいは芳香族カルボン酸および複
素環カルボン酸などの有機カルボン酸が挙げられる。
t得るアシル基であり、このような有機カルボン1食と
しては、たとえば、脂肪族カルボン酸、脂猿)=(カル
ボン1我、または脂環脂肪族カルボン酸あるいは)前肋
族カルボン酸に酸素または硫黄原子を介してまたは介さ
ずに芳香族残基、もしくは複素環残基が結合した芳香置
換脂肪族カルボン酸、芳香族オキシ脂肪族カルボン酸、
芳香族チオ脂肪族カルボン酸、複素環置換脂肪族カルボ
ン酸、複素環オキ/脂肪族カルボン酸、複素環チオ脂肪
族カルボン酸あるいはカルボニル基に酸素、窒素または
硫黄原子を介して芳香環、脂肪族基、脂環式基が結合す
る有機カルボン酸類あるいは芳香族カルボン酸および複
素環カルボン酸などの有機カルボン酸が挙げられる。
ここで脂肪族カルボン酸としては、ギ酸、1!rl二f
m、フ゛ロビオン酸、フ゛タン酸、インフ゛タン酸、ペ
ンタン酸、メトキンIζ[酸、メチルチオ酢酸、アクリ
ル酸、クロトン酸などが挙げられ、また脂環式カルボン
酸としては、シクロヘキサン市などが挙げられ、月旨堀
式脂肪族カルボン酸としては、シクロベンタン酢酸、シ
クロヘキサンビイに酸、ンクロヘキサンブロビオン酸、
シクロへキサジヱン9ト酸などが誉げられる。
m、フ゛ロビオン酸、フ゛タン酸、インフ゛タン酸、ペ
ンタン酸、メトキンIζ[酸、メチルチオ酢酸、アクリ
ル酸、クロトン酸などが挙げられ、また脂環式カルボン
酸としては、シクロヘキサン市などが挙げられ、月旨堀
式脂肪族カルボン酸としては、シクロベンタン酢酸、シ
クロヘキサンビイに酸、ンクロヘキサンブロビオン酸、
シクロへキサジヱン9ト酸などが誉げられる。
また、上述の有機カルボン酸における芳香族残基として
は、フェニル、ナフチルなどが挙げられ、さらに上述の
複素環式基としては、フラン、チオフェン、ビロール、
ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、チアゾール
、インチアゾール、オキサゾール、インオキサゾール、
チアジアゾール、オキサジアゾール、チアトリアゾール
、オキサトリアゾール、テトラゾール、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾフランなどのへテロ原子を環中に1個以上
含む傾累環化合物の残基が挙げられる。
は、フェニル、ナフチルなどが挙げられ、さらに上述の
複素環式基としては、フラン、チオフェン、ビロール、
ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、チアゾール
、インチアゾール、オキサゾール、インオキサゾール、
チアジアゾール、オキサジアゾール、チアトリアゾール
、オキサトリアゾール、テトラゾール、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾフランなどのへテロ原子を環中に1個以上
含む傾累環化合物の残基が挙げられる。
そして、これらの儒−機カルボン酸な構成する各基は、
たとえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、保護された
ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基
、ニトロ基、アミノ基、保巡されたアミノ基、カルボキ
シル基、保護されたカルボキシル基などの置換基でさら
に置換されていてもよい。
たとえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、保護された
ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基
、ニトロ基、アミノ基、保巡されたアミノ基、カルボキ
シル基、保護されたカルボキシル基などの置換基でさら
に置換されていてもよい。
また、Ie5のアシルオキシおよびカルバモイルオキシ
基としては、たとえば、アセトキシ、プロピオニルオキ
シまたはブチリルオキシなどのアルカノイルオキシ基ニ
アクリロイルオキシなどのアルケノイルオキシ基:ベン
ゾイルオキシまたはナフトイルオキシなどのアロイルオ
キシ基:およびカルバモイルオキシ基が挙げられ、これ
らはハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基
、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルファモイル基
、カルバモイル基、カルボアルコセシ力ルバモイル基、
アロイルカルバモイル基、カルボアルコキシスルファモ
イル基、7!j−ル基、カルバモイルオキシ基などの一
種以上の置換基で置換されていてもよい。
基としては、たとえば、アセトキシ、プロピオニルオキ
シまたはブチリルオキシなどのアルカノイルオキシ基ニ
アクリロイルオキシなどのアルケノイルオキシ基:ベン
ゾイルオキシまたはナフトイルオキシなどのアロイルオ
キシ基:およびカルバモイルオキシ基が挙げられ、これ
らはハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基
、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルファモイル基
、カルバモイル基、カルボアルコセシ力ルバモイル基、
アロイルカルバモイル基、カルボアルコキシスルファモ
イル基、7!j−ル基、カルバモイルオキシ基などの一
種以上の置換基で置換されていてもよい。
上述したR15の置換基において、ヒドロキシル基、ア
ミノ基およびカルボキシル基などは通常用いられる保護
基で保護されていてもよく、その保趨基としては具体的
にはR゛について説明したヒドロキシル基、アミノ基だ
よひカルボキシル基の保護基などが挙げられる。
ミノ基およびカルボキシル基などは通常用いられる保護
基で保護されていてもよく、その保趨基としては具体的
にはR゛について説明したヒドロキシル基、アミノ基だ
よひカルボキシル基の保護基などが挙げられる。
(イ)正位変換反応
一般式〔InのセファロスポランtnNMiif、ニー
はそれらの塩類に、酸または酸の錯化合物の存在下、一
般式[1−−]の]6,6−シオキンー12.5.6−
チトラヒドロビリダジン類、一般式Ell−b〕の6−
オキソ−1゜6−シヒドロビリダジン類または一般式%
式% ロビラジン類もしくはそγしらの塩類を反応させ、所望
によりついで保護基の脱離またはカルボキシル基を保護
または場とすることにより一般式〔1v〕の7−置換ま
たは非置換アミノ−6−置換メチルセフェムラ1ルボン
酸類またはそれらのjA類を工業的に容易な操作で、好
収率かつ高純度に製造することができる。
はそれらの塩類に、酸または酸の錯化合物の存在下、一
般式[1−−]の]6,6−シオキンー12.5.6−
チトラヒドロビリダジン類、一般式Ell−b〕の6−
オキソ−1゜6−シヒドロビリダジン類または一般式%
式% ロビラジン類もしくはそγしらの塩類を反応させ、所望
によりついで保護基の脱離またはカルボキシル基を保護
または場とすることにより一般式〔1v〕の7−置換ま
たは非置換アミノ−6−置換メチルセフェムラ1ルボン
酸類またはそれらのjA類を工業的に容易な操作で、好
収率かつ高純度に製造することができる。
さらに、所望により、7位アミノ基の置換基は常法によ
り除去し、7−非置換アミノ困とすることができる。ご
の方法にょれば、Δ3−セフェム化合物の入ならず△2
−セフェム化合物も用いることができ、パーセフェム化
合物を用いた場合、反応後得られたΔ2−セフェム化合
物なΔ3−セフェム化合物に変換することができる。
り除去し、7−非置換アミノ困とすることができる。ご
の方法にょれば、Δ3−セフェム化合物の入ならず△2
−セフェム化合物も用いることができ、パーセフェム化
合物を用いた場合、反応後得られたΔ2−セフェム化合
物なΔ3−セフェム化合物に変換することができる。
また〉ZがンSである化合物のみならず、)が>−〇で
ある化合物も出発原料として用いることができ、その場
合、反応中または後処理の段階で>8−0を〉とするこ
とができる。
ある化合物も出発原料として用いることができ、その場
合、反応中または後処理の段階で>8−0を〉とするこ
とができる。
また、この反応における反応試薬として用いろ一般式C
I−=lの6,6−シオキンー1236−チトラヒドロ
ビリダジン類、一般式〔勇−b〕の6−オキソ−1,6
−シヒドロビリダジン類および一般式[&−C]の2−
オキソ−12−ジヒドロピラジン類において、それらの
置換基に塩基性基または酸性基を■する場合は、必要に
応じ、それぞれの塩の形で反応に供してもよく、その場
合の塩基性基における塩および酸性基における塩として
は、一般式〔1〕のセファロスポリンの塩類のところで
説明した塩基性基および酸性基における塩と同様のもの
が羊げられる。
I−=lの6,6−シオキンー1236−チトラヒドロ
ビリダジン類、一般式〔勇−b〕の6−オキソ−1,6
−シヒドロビリダジン類および一般式[&−C]の2−
オキソ−12−ジヒドロピラジン類において、それらの
置換基に塩基性基または酸性基を■する場合は、必要に
応じ、それぞれの塩の形で反応に供してもよく、その場
合の塩基性基における塩および酸性基における塩として
は、一般式〔1〕のセファロスポリンの塩類のところで
説明した塩基性基および酸性基における塩と同様のもの
が羊げられる。
また、一般式〔IDおよび〔1v〕の化合物の塩類とし
ては、塩基性基または酸性基における塩が挙げられ、そ
れらの塩類は一般式薯〕の化合物の塩類について説明し
たのと同様のものが挙げられる。なお、一般式〔11〕
の化合物の塩類は予め単離して用いてもよく、あるいは
系内で調整してもよい。
ては、塩基性基または酸性基における塩が挙げられ、そ
れらの塩類は一般式薯〕の化合物の塩類について説明し
たのと同様のものが挙げられる。なお、一般式〔11〕
の化合物の塩類は予め単離して用いてもよく、あるいは
系内で調整してもよい。
この反応において使用される酸または酸の錯化合物とし
ては、たとえば、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸
の錯化合物が挙げられる。プロトン酸としては、たとえ
ば、硫酸類、スルホン酸類または超強酸類(超強度とは
100%硫酸より強い酸を意味し、b1■述の硫酸類お
よびスルホン酸類の一部も@まれる)が挙げられ、さら
に具体的には、硫酸、クロロ硫酸またはフルオロ硫酸な
どの硫酸類iメタンスルホン酸またはトリフルオロメタ
ンスルホン酸などのアルキル(モノ−まタハシ−)ス/
l/ ホ7 酸、またはp−トルエンスルホン酸などの
アリール(七ノー、ジーまタハトリー)スルホン酸など
のスルホン酸類;過塩素酸、マジック酸(FSOs H
8bFs )、FSOs HAsF5 。
ては、たとえば、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸
の錯化合物が挙げられる。プロトン酸としては、たとえ
ば、硫酸類、スルホン酸類または超強酸類(超強度とは
100%硫酸より強い酸を意味し、b1■述の硫酸類お
よびスルホン酸類の一部も@まれる)が挙げられ、さら
に具体的には、硫酸、クロロ硫酸またはフルオロ硫酸な
どの硫酸類iメタンスルホン酸またはトリフルオロメタ
ンスルホン酸などのアルキル(モノ−まタハシ−)ス/
l/ ホ7 酸、またはp−トルエンスルホン酸などの
アリール(七ノー、ジーまタハトリー)スルホン酸など
のスルホン酸類;過塩素酸、マジック酸(FSOs H
8bFs )、FSOs HAsF5 。
CFx SOs H8bF8− HF−BP++ 、
H! 804SOaなどの超強酸が挙げられる。
H! 804SOaなどの超強酸が挙げられる。
また、ルイス酸とし又は、たとえば、三弗化硼素などが
挙げられる。また、ルイス酸の錯化合物としては、たと
えば、三弗化硼素とジエチルエーテル、ジ−n−プロピ
ルエーテル、 シー n −7”チルエーテルナトとの
ジアルキルエーテル錯塩;エチルアミン、n−プロピル
アミン、ロープチルアミン、トリエタノールアミンなど
とのアミン錯塩iギ酸エチル、酢酸エテルなどとのカル
ボン酸エステル錯塩;酢酸、プロピオン酸などとの脂肪
酸鉛基;またはアセトニトリル、ズロビオニトリルなど
とのニトリル錯塩などが挙げられる。
挙げられる。また、ルイス酸の錯化合物としては、たと
えば、三弗化硼素とジエチルエーテル、ジ−n−プロピ
ルエーテル、 シー n −7”チルエーテルナトとの
ジアルキルエーテル錯塩;エチルアミン、n−プロピル
アミン、ロープチルアミン、トリエタノールアミンなど
とのアミン錯塩iギ酸エチル、酢酸エテルなどとのカル
ボン酸エステル錯塩;酢酸、プロピオン酸などとの脂肪
酸鉛基;またはアセトニトリル、ズロビオニトリルなど
とのニトリル錯塩などが挙げられる。
また、この反応においては写機浴媒を用いた場合が好チ
しく、用いられる@機溶媒としては、反応に不活性の全
ての有機票媒、たとえば、ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロプロパンなどのニトロアルカン類:ギ酸、l¥
1=酸、トリフルオロH[酸、ジクロロ酢酸、プロピオ
ン酸などの有機カルボン酸類;アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類ニジニ
ーl−ルエ−チル、ジインプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、エチレンクリコールジメチル
エーテル、アニソール、ジメチルセルンルプなど1のエ
ーテル類:ギ酸エテル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢
酸エチル、クロO酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル類;アセトニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル
類:またはスルホランなどのスルホラン類が挙げられ、
こ7Lらの6媒を二種以」二混合して用いてもよい。ま
た、これらの胸機溶媒とルイス酸とで形成される錯化合
物を溶娯として使用することもできる。酸または酸の錯
化合物の使用量ば、一般式〔11〕の化合物またはその
琳類に対し当モル以上であれはよく、個々の場合に応じ
適宜増減させることができる。特に、2〜10倍モル量
の使用が好ましい。酸の錯化合物を用いる場合には、そ
牡自体な耐奴として用いることができ、二4’Hli以
上の錯化合物を混合して用いてもよい。
しく、用いられる@機溶媒としては、反応に不活性の全
ての有機票媒、たとえば、ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロプロパンなどのニトロアルカン類:ギ酸、l¥
1=酸、トリフルオロH[酸、ジクロロ酢酸、プロピオ
ン酸などの有機カルボン酸類;アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類ニジニ
ーl−ルエ−チル、ジインプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、エチレンクリコールジメチル
エーテル、アニソール、ジメチルセルンルプなど1のエ
ーテル類:ギ酸エテル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢
酸エチル、クロO酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル類;アセトニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル
類:またはスルホランなどのスルホラン類が挙げられ、
こ7Lらの6媒を二種以」二混合して用いてもよい。ま
た、これらの胸機溶媒とルイス酸とで形成される錯化合
物を溶娯として使用することもできる。酸または酸の錯
化合物の使用量ば、一般式〔11〕の化合物またはその
琳類に対し当モル以上であれはよく、個々の場合に応じ
適宜増減させることができる。特に、2〜10倍モル量
の使用が好ましい。酸の錯化合物を用いる場合には、そ
牡自体な耐奴として用いることができ、二4’Hli以
上の錯化合物を混合して用いてもよい。
また、この反応の反応試薬として用いる一般式〔庸−a
〕の)6−シオキンー1.2,5.6−テ トラヒドロピリダジン の]6ーオキソー1,6−シヒドロビリダジンおよび一
般式〔箇−〇〕の2−オキノー1,2ージヒドロピラジ
ン類もしくは七れらの塩類の使用量は、一般式シ11〕
の化合物またはその塩類に対し、当モル以上であればよ
いが、特に10〜5.0倍モル量の便゛用゛が好ましい
。
〕の)6−シオキンー1.2,5.6−テ トラヒドロピリダジン の]6ーオキソー1,6−シヒドロビリダジンおよび一
般式〔箇−〇〕の2−オキノー1,2ージヒドロピラジ
ン類もしくは七れらの塩類の使用量は、一般式シ11〕
の化合物またはその塩類に対し、当モル以上であればよ
いが、特に10〜5.0倍モル量の便゛用゛が好ましい
。
この反応は、通常0〜80℃で行われ、数分〜数十時間
で完了する。この反応の系内に水分があると原料または
生成物のラクトン化およびβ−ラクタム壌の開裂など好
ましくない副反応を惹起することがあるので、反応系内
を無水の状態に保つことが望ましい。この条件を満たす
ために、反応系内に適半な脱水剤、たとえば、五酸化リ
ン、ポリリン酸、五塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化
リンなどのリン化合物;N、0−ビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、ト
リメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシランなどの
有機シリル化剤;アセチルクロリド、p−トルエンスル
ホニ〃り口IJ )”7.c と(1) 有機酸クロリ
ドi無水酢酸、シ無水トリフルオo vr+:酸などの
酸無水物】無水硫酸マグネシウム、無水塩化カルシウム
、モレキュラーシーブ、カルシウムカーバイドなどの無
機乾燥剤などを添加してもよい。
で完了する。この反応の系内に水分があると原料または
生成物のラクトン化およびβ−ラクタム壌の開裂など好
ましくない副反応を惹起することがあるので、反応系内
を無水の状態に保つことが望ましい。この条件を満たす
ために、反応系内に適半な脱水剤、たとえば、五酸化リ
ン、ポリリン酸、五塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化
リンなどのリン化合物;N、0−ビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、ト
リメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシランなどの
有機シリル化剤;アセチルクロリド、p−トルエンスル
ホニ〃り口IJ )”7.c と(1) 有機酸クロリ
ドi無水酢酸、シ無水トリフルオo vr+:酸などの
酸無水物】無水硫酸マグネシウム、無水塩化カルシウム
、モレキュラーシーブ、カルシウムカーバイドなどの無
機乾燥剤などを添加してもよい。
it’がカルボキシル保獲基を示す一般式〔旧の化合物
を原料として使用した場合、反応後の処理によりR“が
水素原子である対応する一般式〔1v〕の化合物が得ら
れることもあるが、所望により保獲基を常法で脱離させ
、R1が水素原子である一般式〔1ν〕の化合物を得る
こともできる。
を原料として使用した場合、反応後の処理によりR“が
水素原子である対応する一般式〔1v〕の化合物が得ら
れることもあるが、所望により保獲基を常法で脱離させ
、R1が水素原子である一般式〔1ν〕の化合物を得る
こともできる。
この反応における反応試薬として用いる一般式〔攪−a
〕の6,6−シオキンー1,2゜6.6−チトラヒドロ
ビリダジン類、一般式〔紺−b〕の6−オキソ−1,6
−ジヒドロピリダジン類および一般式(1−c )の2
−オキノー1,2−ジヒドロピラジン類もしくはそれら
の塩類において、それらの置換基カルホキシル基、アミ
ノ基、カルホキシル基などで置換されている場合、この
反応を実施する前に、これらの基を前述の保訛基で保穫
し、反応終了後、従来の脱離反応に付すことにより、所
望の化合物を得ることができる。
〕の6,6−シオキンー1,2゜6.6−チトラヒドロ
ビリダジン類、一般式〔紺−b〕の6−オキソ−1,6
−ジヒドロピリダジン類および一般式(1−c )の2
−オキノー1,2−ジヒドロピラジン類もしくはそれら
の塩類において、それらの置換基カルホキシル基、アミ
ノ基、カルホキシル基などで置換されている場合、この
反応を実施する前に、これらの基を前述の保訛基で保穫
し、反応終了後、従来の脱離反応に付すことにより、所
望の化合物を得ることができる。
また、一般式〔1v〕の化合物は、所望によ一す、常法
に従ってカルボキシル基を保護〜または塩とすることが
でき、目的の化合物を得ることもできる。また、B′4
かアミン基である一般式〔1v〕の化合物は、常法によ
り、後述のよりなアミノ基における反応性誘導体とする
ことができる。
に従ってカルボキシル基を保護〜または塩とすることが
でき、目的の化合物を得ることもできる。また、B′4
かアミン基である一般式〔1v〕の化合物は、常法によ
り、後述のよりなアミノ基における反応性誘導体とする
ことができる。
(ロ) アシル化反応
蒸上の方法で得られた一般式〔1v〕の化合物またはそ
の塩類もしくはそれらのアミン基における反応性誘導体
に、一般式シv〕、〔v1〕、DD、011] f:
f、ニー ハ(Xi8] (1)化合物マタはその塩類
もしくはその反応性誘導体を反応させれば、一般式〔1
〕、[lX1)、〔X〕、CXI:]また1 タ、一般
式〔v〕、(VIIJ、[VD、〔■〕マた(1、CX
IIIIJの化合物の塩類としては、塩基性基または酸
性基におけろ塩が企げられ、それらの塩類は一般式〔1
〕の化合物の@力1について説明したのと同様のものが
挙げられる。
の塩類もしくはそれらのアミン基における反応性誘導体
に、一般式シv〕、〔v1〕、DD、011] f:
f、ニー ハ(Xi8] (1)化合物マタはその塩類
もしくはその反応性誘導体を反応させれば、一般式〔1
〕、[lX1)、〔X〕、CXI:]また1 タ、一般
式〔v〕、(VIIJ、[VD、〔■〕マた(1、CX
IIIIJの化合物の塩類としては、塩基性基または酸
性基におけろ塩が企げられ、それらの塩類は一般式〔1
〕の化合物の@力1について説明したのと同様のものが
挙げられる。
一般式し1〜!〕の化合物のアミン基における反応性誘
導体としては、たとえば、インシアネート、一般式El
v]の化合物またはその塩類とアルデヒド、ケトンなど
のカルボニル化合物との反応により生成するシッフの塩
基(イミノ型もしくはそのエナミン型の異性体)、一般
式〔IV〕の化合物またはその塩類とビス(トリメチル
シリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド
、トリメチルシリルクロライドなどのシリル化PCIな
どのリン化合物、または(Ca He )*8nC17
J:どのスズ化合物との反応により生成するシリル61
8体、リン誘げト体またはスズ訪2#体などのアシル化
反応において繁用されるものはすべて包含される。
導体としては、たとえば、インシアネート、一般式El
v]の化合物またはその塩類とアルデヒド、ケトンなど
のカルボニル化合物との反応により生成するシッフの塩
基(イミノ型もしくはそのエナミン型の異性体)、一般
式〔IV〕の化合物またはその塩類とビス(トリメチル
シリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド
、トリメチルシリルクロライドなどのシリル化PCIな
どのリン化合物、または(Ca He )*8nC17
J:どのスズ化合物との反応により生成するシリル61
8体、リン誘げト体またはスズ訪2#体などのアシル化
反応において繁用されるものはすべて包含される。
一般式〔v〕、〔v1〕、〔■〕、〔■〕または〔■〕
の化合物の反応性誘導体としては、具体的には、酸ハロ
ゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸アミド、活
性エステルならび−に一般式〔v〕、[W]、(1’D
、[111−t t、: ハ[、Xl〕ノ化合物のビル
スマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。そ
の混合酸す水物としては、たとえば、炭酸モノエチルエ
ステル、炭酸モノイソブチルエステルなどの炭酸モノア
ルキルエステルとのa 含酸M’i水物、ピバリン酸や
トリクロロイ[酸などの)・ロゲンで置換されていても
よい低級アルカン酸との混合酸無水物などが用いられろ
。
の化合物の反応性誘導体としては、具体的には、酸ハロ
ゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸アミド、活
性エステルならび−に一般式〔v〕、[W]、(1’D
、[111−t t、: ハ[、Xl〕ノ化合物のビル
スマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。そ
の混合酸す水物としては、たとえば、炭酸モノエチルエ
ステル、炭酸モノイソブチルエステルなどの炭酸モノア
ルキルエステルとのa 含酸M’i水物、ピバリン酸や
トリクロロイ[酸などの)・ロゲンで置換されていても
よい低級アルカン酸との混合酸無水物などが用いられろ
。
活性酸アミドとしては、たとえは、N−アシルサッカリ
ン、ヘーアシルイミダゾール、麹−アシルベンゾイルア
ミド、へ、N′−ジシクロへギンルーN−アシル尿X、
N−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つぎにt
占性エステルとしては、たとえは、シアノメチルエステ
)v 、 置換フェニルエステル、置換ヘンシルエステ
ル、i&L ’IA ’fH:エニルエステルなどが用
いられる。
ン、ヘーアシルイミダゾール、麹−アシルベンゾイルア
ミド、へ、N′−ジシクロへギンルーN−アシル尿X、
N−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つぎにt
占性エステルとしては、たとえは、シアノメチルエステ
)v 、 置換フェニルエステル、置換ヘンシルエステ
ル、i&L ’IA ’fH:エニルエステルなどが用
いられる。
また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体としてば、
N、 N−ジメチルボルムアミド、N、 N−ジメチル
アセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニ
ル、三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化
リン、トリクロロメチル−クロロホルメート、塙化オキ
サ゛リルなどのノ・ロゲン化剤を作用させて得られるビ
ルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。
N、 N−ジメチルボルムアミド、N、 N−ジメチル
アセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニ
ル、三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化
リン、トリクロロメチル−クロロホルメート、塙化オキ
サ゛リルなどのノ・ロゲン化剤を作用させて得られるビ
ルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。
一般式〔ν〕、い1〕、〔■〕、〔■〕またはしX祷〕
の各々の化合物を遊離酸またはj忌の状態で使用ずろ場
合は、適当な縮合剤を用いる。
の各々の化合物を遊離酸またはj忌の状態で使用ずろ場
合は、適当な縮合剤を用いる。
このような縮合剤としては、たとえば、N。
N′−・ジシクロヘキシルンンルボジイミドのようなN
、 N’−ジ置換カルボジイミド、N、N’−チオニル
ジイミダゾールのようなアゾライト化合物、N−エトキ
シカルボニル−2−工)−キシ−1,2−ヒドロキシキ
ノリン、オ″キシ垣化燐、アルコキシアセチレンナトの
脱水井1.2−ハロゲノピリジニウム塩(たとえば、2
−クロロピリジニウムメチルヨーシト、2−フルオロヒ
リシニウムメーチルヨージド)などが用いられる。
、 N’−ジ置換カルボジイミド、N、N’−チオニル
ジイミダゾールのようなアゾライト化合物、N−エトキ
シカルボニル−2−工)−キシ−1,2−ヒドロキシキ
ノリン、オ″キシ垣化燐、アルコキシアセチレンナトの
脱水井1.2−ハロゲノピリジニウム塩(たとえば、2
−クロロピリジニウムメチルヨーシト、2−フルオロヒ
リシニウムメーチルヨージド)などが用いられる。
このアシル化反応は、一般に適当な溶奸中、塩基の存在
または不存在下で実施される。溶媒として、たとえば、
クロロホルム、五塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水
累、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルア
セトアミド、アセトン、水またはこれらの混合物などが
使用できる。
または不存在下で実施される。溶媒として、たとえば、
クロロホルム、五塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水
累、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルア
セトアミド、アセトン、水またはこれらの混合物などが
使用できる。
ここで用いられる塩基としては、水酸化アルカリ、炭酸
水素アルカリ、炭酸アルカリまたはにト酸アルカリなど
の無機塩基またはトリメチルアミン、トリエチルアミン
、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジン
、N−メチルモルホリン、ルチジン、コリジンなどの第
3級アばンあるいはジシクロヘキシルアミン、ジエチル
アミンなどの第2級アミンが挙げられる。
水素アルカリ、炭酸アルカリまたはにト酸アルカリなど
の無機塩基またはトリメチルアミン、トリエチルアミン
、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジン
、N−メチルモルホリン、ルチジン、コリジンなどの第
3級アばンあるいはジシクロヘキシルアミン、ジエチル
アミンなどの第2級アミンが挙げられる。
なお、本発明の一般式[1a]および〔Ih〕の化合物
およびそれらの塩類に誘?j4することができる一般式
[IX〕の化合物およびその塩類は、次の」:うにして
製造することもできる。
およびそれらの塩類に誘?j4することができる一般式
[IX〕の化合物およびその塩類は、次の」:うにして
製造することもできる。
一般式〔]V〕の化合物またはその塩類を使って一般式
〔■〕の化合物またはその塩類を得るには、ジケテンと
塩累、もしくは臭素などのハロゲンとの反応しジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ンザイエテイ 9719 a
7(1,、’q 1o ) ’]により得られる4−
ハロゲノ−6−オキツーブチリルハライドと、一般式〔
1v〕の化合物またはその塩類とを常法に従って反応さ
せおばよい。この反応条件及び操作は、当該分野で知ら
れた条(Z+−および操作が適用できる。また、一般式
[IX]の化合物の塩類は、常法に従って容易に得るこ
とができ、その塩類としては、前述の一般式〔1〕の化
合物の虐のところで読切したと同様のものが挙げられる
。得ろれる一般式(iX]の化合物およびその塩類は、
常法によって単離精製してもよいが、単離することなく
、次の反応に用いることもできる。
〔■〕の化合物またはその塩類を得るには、ジケテンと
塩累、もしくは臭素などのハロゲンとの反応しジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ンザイエテイ 9719 a
7(1,、’q 1o ) ’]により得られる4−
ハロゲノ−6−オキツーブチリルハライドと、一般式〔
1v〕の化合物またはその塩類とを常法に従って反応さ
せおばよい。この反応条件及び操作は、当該分野で知ら
れた条(Z+−および操作が適用できる。また、一般式
[IX]の化合物の塩類は、常法に従って容易に得るこ
とができ、その塩類としては、前述の一般式〔1〕の化
合物の虐のところで読切したと同様のものが挙げられる
。得ろれる一般式(iX]の化合物およびその塩類は、
常法によって単離精製してもよいが、単離することなく
、次の反応に用いることもできる。
なお、一般式〔v〕、[VD、〔ll]、〔冑〕または
[X11]の化合物もしくはその反応性誘導体の使用量
は一般式〔1v〕の化合物またはその塩類もしくはそれ
らのアミノ基における反応性誘導体1モルに対し、それ
ぞれ通常約1〜数モル程度が好ましい。反応温度は、通
常−50〜40℃の範囲で行われる。反応時間は、通常
10分〜48時間である。
[X11]の化合物もしくはその反応性誘導体の使用量
は一般式〔1v〕の化合物またはその塩類もしくはそれ
らのアミノ基における反応性誘導体1モルに対し、それ
ぞれ通常約1〜数モル程度が好ましい。反応温度は、通
常−50〜40℃の範囲で行われる。反応時間は、通常
10分〜48時間である。
さらに、it’がカルボキシル保護基である一般式し1
〕、[IX]、〔X〕、〔λ1〕および(XIVIの化
合物の場合は、R′が水素原子である一般式〔1〕、(
IX]、〔X〕、(XI オヨび〔XIv〕ノ化合物−
またはそれらの塩類に;R′が水素原子である一般式〔
1〕、[)、(X〕、(XIおよび〔矩〕の化合物の場
合は、B゛がカルボキシル保護基である一般式〔1〕、
(IX]、EXE、〔刈〕2よびL XIV:1の化合
物またはそれらの塩類に:また一般式〔1〕、CIXI
、〔X)、(Xi オfび〔X1v〕ノ化合物の塩類で
ある場合には、対応する遊離の化合物にそれぞれ常法に
従って変換することができる。
〕、[IX]、〔X〕、〔λ1〕および(XIVIの化
合物の場合は、R′が水素原子である一般式〔1〕、(
IX]、〔X〕、(XI オヨび〔XIv〕ノ化合物−
またはそれらの塩類に;R′が水素原子である一般式〔
1〕、[)、(X〕、(XIおよび〔矩〕の化合物の場
合は、B゛がカルボキシル保護基である一般式〔1〕、
(IX]、EXE、〔刈〕2よびL XIV:1の化合
物またはそれらの塩類に:また一般式〔1〕、CIXI
、〔X)、(Xi オfび〔X1v〕ノ化合物の塩類で
ある場合には、対応する遊離の化合物にそれぞれ常法に
従って変換することができる。
また、このアシル化反応において、R1、n! 、nH
の基中に反応に活性な基が存在するときは、反応に際し
、通常の保護基で任意に保みしておくこともでき、反応
後常法によりその保護基を脱離させることもできる。
の基中に反応に活性な基が存在するときは、反応に際し
、通常の保護基で任意に保みしておくこともでき、反応
後常法によりその保護基を脱離させることもできる。
以上のようにして得らrした本発明の一般式〔1〕の化
合物、ならびにその塩類は、常法によって単離すること
ができる。
合物、ならびにその塩類は、常法によって単離すること
ができる。
(ハ) ニトロソ化反応
つぎに一般式〔■〕の化合物またはその塩類から一般式
〔X〕の化合物またはその塩類を得るには、一般式〔I
X〕の化合物またはその塩類に、ニトロン化剤を反応さ
せる。
〔X〕の化合物またはその塩類を得るには、一般式〔I
X〕の化合物またはその塩類に、ニトロン化剤を反応さ
せる。
この反応は、通常溶媒中で行われ、溶媒としては、水、
酢酸、ベンゼン、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、その他の反応に不活性な溶媒が使用できる。
酢酸、ベンゼン、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、その他の反応に不活性な溶媒が使用できる。
ニトロン化剤の好ましい例としては、硝酸およびその誘
導体、たとえば、塩化ニトロシル、臭化ニトロシルなど
のハロゲン化ニトロシル、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カ
リウムなどの亜硝酸アルカリ金属塩、亜硝酸ブチルエス
テル、亜硝酸ペンチルエステルナトの亜硝酸アルキルエ
ステルなどが挙げられる。
導体、たとえば、塩化ニトロシル、臭化ニトロシルなど
のハロゲン化ニトロシル、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カ
リウムなどの亜硝酸アルカリ金属塩、亜硝酸ブチルエス
テル、亜硝酸ペンチルエステルナトの亜硝酸アルキルエ
ステルなどが挙げられる。
ニトロン化剤として亜硝酸の塩を使用ずろときには、塩
酸、硫酸、ギ酸、1¥ト酸1.(どの無機もしくは有機
の酸の存在下に反応を行うのが好ヱしい。亜硝酸エステ
ルをニトロン化剤として使用する場合には、アルカリ金
属アルコキシドのような強塩基の存在下に行うのが好複
しい。反応は一般に一15〜50℃の範囲で行われ、反
応時間は通常10分から10時間である。また、一般式
CODの化合物の塩類は常法に従って容易に得ろことが
でき、その塩類としては、一般式〔1〕の化合物の堪の
ところで説明したと同様のものが挙げられる。このよう
にして得られるー゛般式X]の化合物およびその塩類は
、公知の手段により単離精製できるが、単離することな
く次の反応の原料として用いることもできる。
酸、硫酸、ギ酸、1¥ト酸1.(どの無機もしくは有機
の酸の存在下に反応を行うのが好ヱしい。亜硝酸エステ
ルをニトロン化剤として使用する場合には、アルカリ金
属アルコキシドのような強塩基の存在下に行うのが好複
しい。反応は一般に一15〜50℃の範囲で行われ、反
応時間は通常10分から10時間である。また、一般式
CODの化合物の塩類は常法に従って容易に得ろことが
でき、その塩類としては、一般式〔1〕の化合物の堪の
ところで説明したと同様のものが挙げられる。このよう
にして得られるー゛般式X]の化合物およびその塩類は
、公知の手段により単離精製できるが、単離することな
く次の反応の原料として用いることもできる。
に) アルキル化反応
つぎに、一般式EX]の化合物またはその塩類から一般
式〔×1〕の化合物またはその塩類を得るには、一般式
〔X〕の化合物またはその塩類をアルキル化反応に付す
。
式〔×1〕の化合物またはその塩類を得るには、一般式
〔X〕の化合物またはその塩類をアルキル化反応に付す
。
このアルキル化反応は常法に従って行うことかできる。
反応は一般に一20〜
60’Cの範囲で行われ、反応時間は、通常5分から1
0時間である。溶媒としては本反応を阻害しない限りい
かなるものでもよく、たとえは、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、メタノール、エタノール、クロロホルム、
二塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、N、 N
−ジメチルホルムアミド、NN−ジメチルアセトアミド
、水などまたはこれらの混合物などが用いら、lする。
0時間である。溶媒としては本反応を阻害しない限りい
かなるものでもよく、たとえは、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、メタノール、エタノール、クロロホルム、
二塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、N、 N
−ジメチルホルムアミド、NN−ジメチルアセトアミド
、水などまたはこれらの混合物などが用いら、lする。
アルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メチル、臭化
メチル、ヨウ化エチル、臭化エチルなどのハロゲン化低
級アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ジアゾメタ
ン、ジアゾエタンiた&’:Lp−トルエンスルホン酸
メチルなどが用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタン
の場合以外のアルキル化剤を用いるときは、炭酸すIl
lラム炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭PtM、水
酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金
属の水酸化物、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチル
ホルム/゛なとの塩基の存在下に一般に行う。
メチル、ヨウ化エチル、臭化エチルなどのハロゲン化低
級アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ジアゾメタ
ン、ジアゾエタンiた&’:Lp−トルエンスルホン酸
メチルなどが用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタン
の場合以外のアルキル化剤を用いるときは、炭酸すIl
lラム炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭PtM、水
酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金
属の水酸化物、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチル
ホルム/゛なとの塩基の存在下に一般に行う。
また、一般式り足〕の化合物の塩類は常法に従って容易
に得ることができ、その51類としては、一般式〔1〕
の化合物の塩のところで認可したと同様のものが挙げら
れる。
に得ることができ、その51類としては、一般式〔1〕
の化合物の塩のところで認可したと同様のものが挙げら
れる。
物オ6よびその塩類は、公知の手段により単シlI精製
丁うこともできるが、単離することなく次の反応の原料
として用いることもできる。
丁うこともできるが、単離することなく次の反応の原料
として用いることもできる。
(ホ)閉環反応
つぎに一般式〔■〕、〔X〕または[XDの各化合物ま
たはその塩類に、一般式〔刈〕のチオホルムアミドまた
はチオ尿素類を反応させれば、71′発明の一般式(I
a″lまたは[I b]の化合物もしくはそれらの塩類
が得られる。
たはその塩類に、一般式〔刈〕のチオホルムアミドまた
はチオ尿素類を反応させれば、71′発明の一般式(I
a″lまたは[I b]の化合物もしくはそれらの塩類
が得られる。
この反応は、通常、溶媒中で行われる。鹸媒としては、
本反応を阻害しない限りいかt(ろものでもよいが、た
とえば、水、メタノーノペエタノール、アセトン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、N、 N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、〜−メチ
ルピリドンのような一種または二綽以上の混合6媒が用
いられる。
本反応を阻害しない限りいかt(ろものでもよいが、た
とえば、水、メタノーノペエタノール、アセトン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、N、 N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、〜−メチ
ルピリドンのような一種または二綽以上の混合6媒が用
いられる。
脱酸剤の添7JL1 &工、特に必要としないが、セン
アロスポリン骨格に変化を与えない範囲で脱6を剤乞添
加すると円滑に反応か進行することもある。この反応に
用いらnるものとしては、水酸化アルカリ金属塩、炭酸
水浴アルカリ金属塩、トリエチルアミン、ピリジンおよ
びN、N−ジメチルアニリンなどの無機または材機塩基
が挙けら2”Lる。反応は一般に0〜100℃の範囲で
行わnる。
アロスポリン骨格に変化を与えない範囲で脱6を剤乞添
加すると円滑に反応か進行することもある。この反応に
用いらnるものとしては、水酸化アルカリ金属塩、炭酸
水浴アルカリ金属塩、トリエチルアミン、ピリジンおよ
びN、N−ジメチルアニリンなどの無機または材機塩基
が挙けら2”Lる。反応は一般に0〜100℃の範囲で
行わnる。
通常一般式[IX] 、 tX] または[Xl、Jの
化合物もしくはそれらの塩類1当量に対しそイ′しそれ
1〜数白量のチオホルムアミドまたはチオ尿素類が用い
られる。反応時間は、1〜481寺曲、好ましくは1〜
10時間である。
化合物もしくはそれらの塩類1当量に対しそイ′しそれ
1〜数白量のチオホルムアミドまたはチオ尿素類が用い
られる。反応時間は、1〜481寺曲、好ましくは1〜
10時間である。
さらに、一般式[1a:よた(A二[Ib]の各化合物
においても、カルボキシル基の・保護、保護基の脱離、
さらには塩類への変換は常法に従って行い、対応する目
的化合物に変換できろ。また、式中の11’ 、 i、
i” 、 11’の基に本反しに、古1庄な基が17征
するときは、反応に・、15−シ、通常の保護基で任意
に保護して:lOいて、反応後、常法によりその保設基
を脱離させることもできる。以上のようにして得らtた
本発明の一般式[a:) fたは[Ib]の目的化合物
またはその塩類は、常法によって−1−1Iillする
ことができる。
においても、カルボキシル基の・保護、保護基の脱離、
さらには塩類への変換は常法に従って行い、対応する目
的化合物に変換できろ。また、式中の11’ 、 i、
i” 、 11’の基に本反しに、古1庄な基が17征
するときは、反応に・、15−シ、通常の保護基で任意
に保護して:lOいて、反応後、常法によりその保設基
を脱離させることもできる。以上のようにして得らtた
本発明の一般式[a:) fたは[Ib]の目的化合物
またはその塩類は、常法によって−1−1Iillする
ことができる。
(へ)オキシム化反応
一般式[XIV)の化合物またはその塩類に、一般式[
、XVIまたはその塩類を反応させることによって、一
般式IIb〕の化合物またはその場:prtが得ら肚る
。一般式[XVIの化合物の塩類としては、たとえば、
塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが嬶げられる。そし
て、この反応は、通常、水、アルコールなどの峰媒の外
に、反応に不活性な溶媒、またはこ2tらの混合溶媒中
で行わし、反応はO〜ioo℃、好ましくは10〜50
℃の範囲で行わγしる。反応時間は通常10分〜48時
間である。一般式シXIVIの化合物またはその堰団1
当量に対して1〜畝当量の一戒式(XVIの化合物また
はその塩類が用いらわる、尚、一般式CX V :]の
化合物の塩類はそσ〕まま本反応に用いることができる
が、たとえば水酸化アルカリ金属(たとえは、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなど)、水酸化アルカリ土類
金属(Tニとえは、水酸化マグネシウム、水酸化カルシ
ウムなど)、炭酸アルカリ金属(たとえば、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムなど)、炭酸アルカリ土類金属(た
とえば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど)、炭
酸水素アルカリ金属(fことえは、炭酸水素ナトリウム
、炭酸水素カリウムなど)、燐酸アルカリ土類金属(た
とえは、燐酸マグネシウム、シ>1目(ンカルンウムな
ど)、燐酸水素アルカリ金属(たとえば、#酸水素2ナ
トリウム、燐酸4ぐ累2カリウムなど)の無機環基また
はvイト敞アルカリ金属(たとえば、l’l′l−kナ
トリウム、rg′+峻カリウムなど)、トリアルギルア
ミン(たとえは、トリメチルアミン、トリエチルアミン
など)、ピコリン、N−メチルピロ1jジン、〜−メチ
ルモルホリン、1.5−ジアザビシクロC4,3,O]
−]5−ノネン1μmμmジアザビシフ〔2,2,2
]オクタン、1,5−ジアザビシクロ[5,4,0,1
−7−ウンデセンなどの有機塩基などの墳墓の存在下に
反応をさせることもできる。このようにして得ら、lt
た本発明の一般式[Iblの化合物またはその堪カミは
、アルキル化反応のところで説明した如く、r+’を変
換することができ、また常法によっても単離することが
できる。
、XVIまたはその塩類を反応させることによって、一
般式IIb〕の化合物またはその場:prtが得ら肚る
。一般式[XVIの化合物の塩類としては、たとえば、
塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが嬶げられる。そし
て、この反応は、通常、水、アルコールなどの峰媒の外
に、反応に不活性な溶媒、またはこ2tらの混合溶媒中
で行わし、反応はO〜ioo℃、好ましくは10〜50
℃の範囲で行わγしる。反応時間は通常10分〜48時
間である。一般式シXIVIの化合物またはその堰団1
当量に対して1〜畝当量の一戒式(XVIの化合物また
はその塩類が用いらわる、尚、一般式CX V :]の
化合物の塩類はそσ〕まま本反応に用いることができる
が、たとえば水酸化アルカリ金属(たとえは、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなど)、水酸化アルカリ土類
金属(Tニとえは、水酸化マグネシウム、水酸化カルシ
ウムなど)、炭酸アルカリ金属(たとえば、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムなど)、炭酸アルカリ土類金属(た
とえば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど)、炭
酸水素アルカリ金属(fことえは、炭酸水素ナトリウム
、炭酸水素カリウムなど)、燐酸アルカリ土類金属(た
とえは、燐酸マグネシウム、シ>1目(ンカルンウムな
ど)、燐酸水素アルカリ金属(たとえば、#酸水素2ナ
トリウム、燐酸4ぐ累2カリウムなど)の無機環基また
はvイト敞アルカリ金属(たとえば、l’l′l−kナ
トリウム、rg′+峻カリウムなど)、トリアルギルア
ミン(たとえは、トリメチルアミン、トリエチルアミン
など)、ピコリン、N−メチルピロ1jジン、〜−メチ
ルモルホリン、1.5−ジアザビシクロC4,3,O]
−]5−ノネン1μmμmジアザビシフ〔2,2,2
]オクタン、1,5−ジアザビシクロ[5,4,0,1
−7−ウンデセンなどの有機塩基などの墳墓の存在下に
反応をさせることもできる。このようにして得ら、lt
た本発明の一般式[Iblの化合物またはその堪カミは
、アルキル化反応のところで説明した如く、r+’を変
換することができ、また常法によっても単離することが
できる。
削 アルキル化反応
R”がアルコキシである一般式%式%の化合物は、自体
公知の方法、たとえは、有機合成協会誌65巻7号、5
63〜574頁(1977年)の記載の方法に基づいて
R゛が水系原子である一般式〔1v」の化合物を使って
合1戊することができる。
公知の方法、たとえは、有機合成協会誌65巻7号、5
63〜574頁(1977年)の記載の方法に基づいて
R゛が水系原子である一般式〔1v」の化合物を使って
合1戊することができる。
さらにB゛がアルコキシである一般式
%式%
L XIV]の化合物は、自体公知方法、たとえは、’
に+開lイ54−24888号および藷i:’A If
f″54−105889号に記載の方法に基づいて、H
”が水素j6’子である一般式〔1〕、〔Ia〕、〔I
b〕〔1×〕、LXI、〔刈〕および[X、IV]の符
化合物ケ使用(〜で合成することができる。
に+開lイ54−24888号および藷i:’A If
f″54−105889号に記載の方法に基づいて、H
”が水素j6’子である一般式〔1〕、〔Ia〕、〔I
b〕〔1×〕、LXI、〔刈〕および[X、IV]の符
化合物ケ使用(〜で合成することができる。
以」二の」:うにして得られた一般式[1]の化合物お
よびその坦類は、遊離酸の形、外爪1ツ1ユ場もしくは
生理的に許容されるニスデルの形で細菌感染症の治療お
よび予防σ〉ために人および動物に投与することができ
、遊離酸σ)J1ネまたは非毒性塩の形で非Mロ的投与
−刀絶、または生理的1fこ胎−bつさ−ぜるエステル
の形で経口的投゛与方法を1国用することか好ましい。
よびその坦類は、遊離酸の形、外爪1ツ1ユ場もしくは
生理的に許容されるニスデルの形で細菌感染症の治療お
よび予防σ〉ために人および動物に投与することができ
、遊離酸σ)J1ネまたは非毒性塩の形で非Mロ的投与
−刀絶、または生理的1fこ胎−bつさ−ぜるエステル
の形で経口的投゛与方法を1国用することか好ましい。
その」間合、通常セファロスホリン糸ゼμイ11に適用
され一〇いる態形、たとえは、て1足斤11、カプセル
斤1」、散剤1、顆オイを斤l、糸III粒剤」、シミ
ラグ剤、注射剤(点滴剤も含む)、座1イ1」なとの形
に調整ずしはよい。上の薬剤な1i141製する際、必
要に応じ、たとえは、デンプン、乳0.!i、砂糖、リ
ン1々カルソワム、炭酸カルシウムなどの賦形剤:アラ
ビアゴム、デンプン B5品セルロース、カルボキシメ
チルセルロ−ス ス 酸マグネシウムなどの汁?/R斉1]、およびカルボキ
シメチルカルシウム、タルクナトの崩壊剤などの希釈剤
および/または添加剤を用いてもよい。
され一〇いる態形、たとえは、て1足斤11、カプセル
斤1」、散剤1、顆オイを斤l、糸III粒剤」、シミ
ラグ剤、注射剤(点滴剤も含む)、座1イ1」なとの形
に調整ずしはよい。上の薬剤な1i141製する際、必
要に応じ、たとえは、デンプン、乳0.!i、砂糖、リ
ン1々カルソワム、炭酸カルシウムなどの賦形剤:アラ
ビアゴム、デンプン B5品セルロース、カルボキシメ
チルセルロ−ス ス 酸マグネシウムなどの汁?/R斉1]、およびカルボキ
シメチルカルシウム、タルクナトの崩壊剤などの希釈剤
および/または添加剤を用いてもよい。
また、一般式〔11の化合物,;、るいはその堪9,L
1を投射する場合、症状によって投与量および投与回数
ならびに投与方法は適宜選D<できるが、一般に成人1
人当り、1回針+1rl 5 Ll〜5000#Iyを
1日1〜4回程度経1]ま1こ(ま非経口投与すlしば
よい。
1を投射する場合、症状によって投与量および投与回数
ならびに投与方法は適宜選D<できるが、一般に成人1
人当り、1回針+1rl 5 Ll〜5000#Iyを
1日1〜4回程度経1]ま1こ(ま非経口投与すlしば
よい。
つぎに、本発明を参考例′t6よび実施例を挙げて説明
するが、本発明シ1これらに限定さねるものではない。
するが、本発明シ1これらに限定さねるものではない。
参考例1
(11三弗化硼素27.139を含むH11酸エチル溶
教1O0Mjに、7−アミノセファロスポラン酸(以下
、7−ACAと略記する。)27.2gおよびマレイン
ヒドラジド12.32νを加え、室温で16時間反応さ
せる。反応終了後、反応dを氷水15 G at中に投
入し、水冷下、28%アンモニア水でpH5,5に調整
する。析出晶を1取し、水10Q#Ij、およびアセト
ン100mAで順次洗浄した後、乾祿すれば、融点20
0℃以上を示す7−アミノ−3−(〔1−(3,6−シ
オキン〜i、 2. 3. 6−チトラヒドロビリダ
ジニル)〕メチル)−△3−セフェムー4−カルボン酸
28.75!7(収量88.7係)を得る。
教1O0Mjに、7−アミノセファロスポラン酸(以下
、7−ACAと略記する。)27.2gおよびマレイン
ヒドラジド12.32νを加え、室温で16時間反応さ
せる。反応終了後、反応dを氷水15 G at中に投
入し、水冷下、28%アンモニア水でpH5,5に調整
する。析出晶を1取し、水10Q#Ij、およびアセト
ン100mAで順次洗浄した後、乾祿すれば、融点20
0℃以上を示す7−アミノ−3−(〔1−(3,6−シ
オキン〜i、 2. 3. 6−チトラヒドロビリダ
ジニル)〕メチル)−△3−セフェムー4−カルボン酸
28.75!7(収量88.7係)を得る。
In(KBr)crn、vC=0 1790.1655
.1630゜60O NMR(cpscooD)δ値: 3、72 (2にbg、 C2−H)。
.1630゜60O NMR(cpscooD)δ値: 3、72 (2にbg、 C2−H)。
5.41.5.72(2H,ABq、 J=15H1,
”雇’。
”雇’。
5.47(,2H,s、 C@ −H,Cv H)。
+21 +11の三位変換反応を下記の条件にて行っ
た場合の結果は表−3の通りである。
た場合の結果は表−3の通りである。
表 −3
参;/j?1I2
(1) 三弗化硼素27.13 Slを含むスルホラ
ン溶液100Rtに、7−ACA27.2fおよび6−
メチル−6−オキソ−1,6−シヒドロビリダジン16
2ノを加え室温で6時間反応させる。反応終了後、反°
応赦を水冷下メタノール50CIILt中へ尋人し、つ
いでピリジン3167を滴下する。
ン溶液100Rtに、7−ACA27.2fおよび6−
メチル−6−オキソ−1,6−シヒドロビリダジン16
2ノを加え室温で6時間反応させる。反応終了後、反°
応赦を水冷下メタノール50CIILt中へ尋人し、つ
いでピリジン3167を滴下する。
析出晶をi′J取し、メタノールで十分洗浄した彼、乾
燥すれば、7−アミノ−3−1(1−(3−メチル−6
−オキノー1.6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)
−Δ3−セフェムー4−カルボン酸の結晶2957、(
収率916%)を得る。
燥すれば、7−アミノ−3−1(1−(3−メチル−6
−オキノー1.6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)
−Δ3−セフェムー4−カルボン酸の結晶2957、(
収率916%)を得る。
同様にして、衣−4の化合物を得た。
表 −4
注 才1 クロロが4,5位のうち、どの立置に惹孜↓
さJtているか不明である為、この様な表記法とし1こ
。(尚、以下の 表中においても、この表記法は同様 な意味を有する。) 才24位置換体と5位置換体の混合物である。(尚、以
下の表中においても、 この表記法はh様な意味を有する。) +21 il+で得ら7した7−アミ/−1−1[1
−(3−メチル−6−オキノー1,6−ジこドロピリダ
ジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酵
295ノをメタノール7ILl Omlに時l蜀さ→、
仁、こねに0−)ルエンスルホン酸・1水H13物15
7ノを加え浴解させた後、ジフェニルジアゾメタン56
6ノを徐々に加え、室温下15分間)’i−LEhさ七
:る。反応終了後、減圧下に浴媒を協去し、3ηらiし
た残笛物に鎖酸エチル200aおよび水200献を加え
、炭酸水累すトリウムでPJ(7,Ovc調整する。つ
い−C不沼物を1別し、41機層な分取し無水(シ1−
酸マグネンウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する
。残笛物をカラムクロマトグラフィー(7TIJ元シリ
カゲルC−20’O、展開溶媒;クロロホルム二メタノ
ール=100:1)で精製すれば、融点90〜93C(
分解)を示すジフェニルメチル−7−アミノ−3−1[
1−(s−メチル−6−オキンー1.6−シヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−カーセフェム−4−カルボキシ
レート105ノ(収率26.5%)を得る。
さJtているか不明である為、この様な表記法とし1こ
。(尚、以下の 表中においても、この表記法は同様 な意味を有する。) 才24位置換体と5位置換体の混合物である。(尚、以
下の表中においても、 この表記法はh様な意味を有する。) +21 il+で得ら7した7−アミ/−1−1[1
−(3−メチル−6−オキノー1,6−ジこドロピリダ
ジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酵
295ノをメタノール7ILl Omlに時l蜀さ→、
仁、こねに0−)ルエンスルホン酸・1水H13物15
7ノを加え浴解させた後、ジフェニルジアゾメタン56
6ノを徐々に加え、室温下15分間)’i−LEhさ七
:る。反応終了後、減圧下に浴媒を協去し、3ηらiし
た残笛物に鎖酸エチル200aおよび水200献を加え
、炭酸水累すトリウムでPJ(7,Ovc調整する。つ
い−C不沼物を1別し、41機層な分取し無水(シ1−
酸マグネンウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する
。残笛物をカラムクロマトグラフィー(7TIJ元シリ
カゲルC−20’O、展開溶媒;クロロホルム二メタノ
ール=100:1)で精製すれば、融点90〜93C(
分解)を示すジフェニルメチル−7−アミノ−3−1[
1−(s−メチル−6−オキンー1.6−シヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−カーセフェム−4−カルボキシ
レート105ノ(収率26.5%)を得る。
In(KBr)x 、vc=0 1770,172
(]、166ONMII(as−DMso)δ値: 2.25(3H,s、 CHs )。
(]、166ONMII(as−DMso)δ値: 2.25(3H,s、 CHs )。
5.45 (2H,b s、 C,7H)。
4.90(IH,d、、1=5Hz、C8I()。
4.92.5.28(2H,ABq、 J=15Hz、
シヨ、)15.10(IH,d、 j=5Hz、
C711)。
シヨ、)15.10(IH,d、 j=5Hz、
C711)。
7.20〜7.84(I DI(、m、 ヘDX 2)
同様にし℃、衣−15の化合物を得た。
同様にし℃、衣−15の化合物を得た。
i31 (1+で得られたジフェニルメチル−7・−
アミノ−6−([1−(S−メチ/l/−6オキンー1
,6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ1−セフ
ェムー4−カルボキシレート10ノをトリフルオロ酸@
5 (1mtおよびアニソール10Mの混合溶媒に溶
解させ、室温で2時間反応させる。
アミノ−6−([1−(S−メチ/l/−6オキンー1
,6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ1−セフ
ェムー4−カルボキシレート10ノをトリフルオロ酸@
5 (1mtおよびアニソール10Mの混合溶媒に溶
解させ、室温で2時間反応させる。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物に水5 Q
trlを加え、水冷下28%アンモニア水でpH5,
5に調整する。析出晶を沢取し、水10dおよびアセト
ン10−で順次洗浄した後、乾燥すtは、融点241−
243c(分wf)を示す7−アミノ−5−1(1−(
s−メチル−6−オキンー1.6−シヒドロビリダジニ
ル)〕メチル)−Δ5−でフエムー4−カルボン酸6.
029 (収391.2%)ヲ得る。
trlを加え、水冷下28%アンモニア水でpH5,
5に調整する。析出晶を沢取し、水10dおよびアセト
ン10−で順次洗浄した後、乾燥すtは、融点241−
243c(分wf)を示す7−アミノ−5−1(1−(
s−メチル−6−オキンー1.6−シヒドロビリダジニ
ル)〕メチル)−Δ5−でフエムー4−カルボン酸6.
029 (収391.2%)ヲ得る。
In(KBr) rs :yC=0 1800.16
60.160ONJ141((CFs C00D)δ値
:2.58(3H,a、 −CHm )。
60.160ONJ141((CFs C00D)δ値
:2.58(3H,a、 −CHm )。
5.73 (2H,b a、 Ct H)。
(41t21で得ら7tたジフェニルメチル=7−アミ
ノ−3−1(1−(2−チキン−1,2−ジヒドロピラ
ジニル)〕ジメチル−Δ1−セフェムー4−カルボキシ
レート010ノをトリフルオロ酢酸0、50 m6およ
びアニソールD、 23 Mの混合溶媒に#解させ、室
温で1.5時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、残留物にジエチルエーテルを児えて結晶をf
取する。ジエチルエーテルで十分洗浄した後乾燥すれは
、融点119〜122℃(分解)を示す7−アミノ−3
−1(1−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピラジニル
)〕ジメチル−♂−セフェムー4−カルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸堪り、DB9(収率89.9%)を得る。
ノ−3−1(1−(2−チキン−1,2−ジヒドロピラ
ジニル)〕ジメチル−Δ1−セフェムー4−カルボキシ
レート010ノをトリフルオロ酢酸0、50 m6およ
びアニソールD、 23 Mの混合溶媒に#解させ、室
温で1.5時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、残留物にジエチルエーテルを児えて結晶をf
取する。ジエチルエーテルで十分洗浄した後乾燥すれは
、融点119〜122℃(分解)を示す7−アミノ−3
−1(1−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピラジニル
)〕ジメチル−♂−セフェムー4−カルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸堪り、DB9(収率89.9%)を得る。
11((KBr)c+n 、 νC=0 1780
.1675〜164ONMB(CF畠GOOD) δ
イ直;5.89(2鴇b s、 Ct −H)。
.1675〜164ONMB(CF畠GOOD) δ
イ直;5.89(2鴇b s、 Ct −H)。
5.26..5.62(2H,AB(1,J=15Hz
、 S、、−’、、、 )。
、 S、、−’、、、 )。
5.52(2H,a、 C@ H,Gy−H)。
7.95.869(2H,ABq、 J=5H・、工H
)。
)。
参考例6
ツーアミノ−5−([1−(3−メチル−6−オキソ−
1,6−シヒドロビリダジニル)〕ジメチル−Δ1−セ
フェムー4−カルボン酸5.09 ヲアセトン15IL
tK懸濁させ、10〜15℃で1.8−ジアザピシクロ
(540)−7−ウンデセン2、369およびビバロイ
ルオキシメチルヨージド451yを加え30分間反応さ
せる。反応終了後、反応液を水5Qa/および酢酸エチ
ル501の混合浴媒中へ導入し有機層を分取し、水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。ついで蓚酸1
40gを宮むl!r+酸エチル浴液1Qmを加えて、析
出晶をP取し、酢酸エチルで洗浄ずrば、融点145〜
147℃(分解)を示すビバロイルオキンメチル−7−
アミノー6一([1−(3−メチル−6−オキノー1,
6−シヒドロピリダジニル)〕ジメチル−Δ1−セフェ
ムー4−カルボキシレートの蓚酸塩4.s9g(収率5
62%)を得る。
1,6−シヒドロビリダジニル)〕ジメチル−Δ1−セ
フェムー4−カルボン酸5.09 ヲアセトン15IL
tK懸濁させ、10〜15℃で1.8−ジアザピシクロ
(540)−7−ウンデセン2、369およびビバロイ
ルオキシメチルヨージド451yを加え30分間反応さ
せる。反応終了後、反応液を水5Qa/および酢酸エチ
ル501の混合浴媒中へ導入し有機層を分取し、水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。ついで蓚酸1
40gを宮むl!r+酸エチル浴液1Qmを加えて、析
出晶をP取し、酢酸エチルで洗浄ずrば、融点145〜
147℃(分解)を示すビバロイルオキンメチル−7−
アミノー6一([1−(3−メチル−6−オキノー1,
6−シヒドロピリダジニル)〕ジメチル−Δ1−セフェ
ムー4−カルボキシレートの蓚酸塩4.s9g(収率5
62%)を得る。
In(+cnr)cm ニジC−01790,175
0,16<S。
0,16<S。
N M R(da −DM 80 )δ値:1.21
(9H,s、 CHiX3)。
(9H,s、 CHiX3)。
2.29(3H,a、 >−CH,)。
3.52(2H,bs、 C!H)。
5.14 (IH,d、 J=5Hz、 C6−H)。
5.76〜6.23(3H,m、 Cy H,OCH*
O−)。
O−)。
101、753 (2H,ABq、 J=10Hy、、
工H)。
工H)。
7.44(3H,ba、 NHsω)実施例1
。
。
+112−(2−ホルムアミドチアゾ−)L/) −2
−(シン)−ノドキシイミノh′「酸2.299をN、
N−ジメチルアセトアミド2.29 dおよびアセトニ
トリル458νに醗酵させ、−10℃でオキノ塩化j4
1.629を滴下し、−5〜OCで1時間反応させる。
−(シン)−ノドキシイミノh′「酸2.299をN、
N−ジメチルアセトアミド2.29 dおよびアセトニ
トリル458νに醗酵させ、−10℃でオキノ塩化j4
1.629を滴下し、−5〜OCで1時間反応させる。
ついでジフェニルメチル−7−アタノー3−((1−(
5,6−シオキソー1,2゜6.6−チトラヒドロビリ
ダジニル)〕ジメチル−Δ1−セフェムー4−カルボキ
シレート4.90ノを刃口え、−5〜0℃で1時間反応
させる。反応終了後、反応液を水8017および酢酸エ
チル80μの混合溶媒中へ導入し、炭酸水素す) IJ
ウムでpH6,5に調整する。ついで、有機層を分取し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶をf取
すわば、融点171〜176℃(分解)を示すジフェニ
ルメチル=7− [2−(2−ホルムアミドチアゾール
−4−イル)−2−(シン)−メトキシイξノアセトア
ばド)−3−1[1−(3,6−シオキンー1,2゜4
6−チトラヒドロビリダジニル)〕〕メチルl−Δ3−
セフェムー4−カルボキシレート611ノ収率87.2
%)を得る。
5,6−シオキソー1,2゜6.6−チトラヒドロビリ
ダジニル)〕ジメチル−Δ1−セフェムー4−カルボキ
シレート4.90ノを刃口え、−5〜0℃で1時間反応
させる。反応終了後、反応液を水8017および酢酸エ
チル80μの混合溶媒中へ導入し、炭酸水素す) IJ
ウムでpH6,5に調整する。ついで、有機層を分取し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶をf取
すわば、融点171〜176℃(分解)を示すジフェニ
ルメチル=7− [2−(2−ホルムアミドチアゾール
−4−イル)−2−(シン)−メトキシイξノアセトア
ばド)−3−1[1−(3,6−シオキンー1,2゜4
6−チトラヒドロビリダジニル)〕〕メチルl−Δ3−
セフェムー4−カルボキシレート611ノ収率87.2
%)を得る。
III(KBr)a++ 、 νC=0 178
0,1720゜1690〜165O NMB(ds DM80)δ値: 3.52 (2!H,b s、 Ca H)。
0,1720゜1690〜165O NMB(ds DM80)δ値: 3.52 (2!H,b s、 Ca H)。
4.01 (3I(、s、 −〇CHI )。
5.16(21(、bs、 ソ −)。
9馬
539 (11(、d、 、T−5Hz、 c@ H
)。
)。
6.14 (I I−(、d d、 、T =5 Hz
、 J=8Hz、 c7−II)。
、 J=8Hz、 c7−II)。
7.0B、 7.30(2H,A、Bq、 J=10H
z、工H)。
z、工H)。
)I
7、11!+ (I I(、!1.−cH,)。
7.32〜7.98(11い’ :]Ti(、’D X
2 )。
2 )。
8.81 (I H,s、 HCO)。
10.07 (I H,d、 J =8Hz、 −CO
NH−)。
NH−)。
12.79 (I H,b s、 HCONJ(−)同
様にして、表−7の化合物を得た。
様にして、表−7の化合物を得た。
+21 +11で得うれたジフェニルメチル=7−(
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−
(シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−5−(〔1
−(3,6−シオキソー1.2.3.6−テトラヒドロ
ピリダジニル)〕メチル)−Δ1−セフエムー4−カル
ボキシレート6、ilyをメタノール30MK溶解させ
、濃塩酸2.2彪を加え65℃で2時間反応させる。反
応終了後、減圧下に高媒を留去し、残留物に酢酸エチ)
L/11) 0μおよび水100μを加え、炭酸水素ナ
トリウムでpH6,0に調整する。ついで有機層を分取
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒
を留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶をj
コ取すわば、融点175〜178C(分解)を示すジフ
ェニルメチル−7−42−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド
〕−6−1(1−(6,6−シオキンー1.2.3.6
−テトラヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δ゛−セフ
エムー4−カルボキンレート505ノ(収率86.2%
)を得る。
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−
(シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−5−(〔1
−(3,6−シオキソー1.2.3.6−テトラヒドロ
ピリダジニル)〕メチル)−Δ1−セフエムー4−カル
ボキシレート6、ilyをメタノール30MK溶解させ
、濃塩酸2.2彪を加え65℃で2時間反応させる。反
応終了後、減圧下に高媒を留去し、残留物に酢酸エチ)
L/11) 0μおよび水100μを加え、炭酸水素ナ
トリウムでpH6,0に調整する。ついで有機層を分取
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒
を留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶をj
コ取すわば、融点175〜178C(分解)を示すジフ
ェニルメチル−7−42−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド
〕−6−1(1−(6,6−シオキンー1.2.3.6
−テトラヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δ゛−セフ
エムー4−カルボキンレート505ノ(収率86.2%
)を得る。
目1(KBr) c+++ νC=0 1780..
1720゜1685〜166O NMR(dg −DMsO)δ値: 3.48 (2H,b s、 Cx H)。
1720゜1685〜166O NMR(dg −DMsO)δ値: 3.48 (2H,b s、 Cx H)。
3.94 (5H,s、 0CHs )。
5.08(2H,b s、 ’、l 。、、−)。
5.29(IH,d、J=5Hz、Cs H)。
6.05(pH,dd、、+1=5Hz+ J’8)I
z、Cy−H)。
z、Cy−H)。
7.16(1)I、 s、 −CHぐ )。
761〜7.92(10H,m、 ツX 2 )。
9.96(IH,d、J−8Hz、−CONH−)同様
にして、次の化合物を得た。
にして、次の化合物を得た。
Oジフェニルメチル=7−(2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセト
アミド:]−1−1(1−(6−メチル−6−オキソ−
1,6−シヒドロビリダジニノリ〕メチル)−Δ1−セ
フェムー4−カルボキシレート 融点:146〜148℃(分@−) I)+(KBr)am : pc=01780,1
720.166ONM、R,(as−DMsO)δ値: 2、34 (3H,8,>CHz )。
ル−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセト
アミド:]−1−1(1−(6−メチル−6−オキソ−
1,6−シヒドロビリダジニノリ〕メチル)−Δ1−セ
フェムー4−カルボキシレート 融点:146〜148℃(分@−) I)+(KBr)am : pc=01780,1
720.166ONM、R,(as−DMsO)δ値: 2、34 (3H,8,>CHz )。
5.46(2H,ba、 Cm H)。
5.89 (5H,s、 −0CH−)。
4.94.5.27(2I(、ABQ、 、]=15H
z、 8;’−CH,)。
z、 8;’−CH,)。
5.28(IH,d、J=5Hz、Cs H)。
5.97(IH,dd、 J=5Hz、 J’=8Hz
、 Cy−H)。
、 Cy−H)。
6.87(IH,s、 ン )。
6.96. z+3(2H,ABQ、 、1=1 oi
iz、]:’)。
iz、]:’)。
■
7.03(IH,a、 −CHぐ)。
7、14〜7.80(101(、m、 @ X2)。
9.78(IJ(、d、J=8HE、 −CONH−
)431 i21で得られたジンエニルメチル−7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シ
ン)−メトキシイミノアセトアミド]−6−l 〔1−
(3,6−シオキンー1.2.3.6−チトラヒドロピ
リダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボ
会シレート5.05S+ヲ、トIJフルオロ酢酸25威
およびアニソール10戯の混合面WK溶解させ、室温で
2時間反応させろ。
)431 i21で得られたジンエニルメチル−7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シ
ン)−メトキシイミノアセトアミド]−6−l 〔1−
(3,6−シオキンー1.2.3.6−チトラヒドロピ
リダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボ
会シレート5.05S+ヲ、トIJフルオロ酢酸25威
およびアニソール10戯の混合面WK溶解させ、室温で
2時間反応させろ。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、沈留物にジエナル
エーテルを加えて結晶なP取すれは、融点195〜19
8℃(分解)を示ず7−〔2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2〜(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−(〔1−(5,6−シオキンー1.2,3
,6−チトラヒドロビリダジニル)〕メチルl 、s
−セフェム−4−カルボン酸のトリフルオロg’rr
a tx4、249 (収率910%)を得る。
エーテルを加えて結晶なP取すれは、融点195〜19
8℃(分解)を示ず7−〔2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2〜(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−(〔1−(5,6−シオキンー1.2,3
,6−チトラヒドロビリダジニル)〕メチルl 、s
−セフェム−4−カルボン酸のトリフルオロg’rr
a tx4、249 (収率910%)を得る。
IR(KBr)c+* 、 uL:=0 1775
.1710゜1690〜163 O NMH(da−DMsO) δ1直 :5.54 (
2H,b s、 Cg H)。
.1710゜1690〜163 O NMH(da−DMsO) δ1直 :5.54 (
2H,b s、 Cg H)。
3.89 (31(、s、 OCHi )。
4.99 (2H,b s、 ’美−)。
5.12(IH,d、 J=5Hz、 c@ H)。
5.75(IH,dd、 J=5Hz、 J=8Hz、
Ct H)。
Ct H)。
9.70(IH,d、J=8Hz、 −CONH−)
同様にして、次の化合物を得た。
同様にして、次の化合物を得た。
07−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−5i [
1−(3−メチル−6−オキソ−1,6−シヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−Δゝ−セフェムー4ニカルボン
酸のトリフルオロH「酸塩 融点=188〜189℃(分解) In(KBr)CIll : 1770,1710
゜1680〜166O NMR(da DMSO) δ値:2.51 (6
H,a、 >−CHI )。
−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−5i [
1−(3−メチル−6−オキソ−1,6−シヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−Δゝ−セフェムー4ニカルボン
酸のトリフルオロH「酸塩 融点=188〜189℃(分解) In(KBr)CIll : 1770,1710
゜1680〜166O NMR(da DMSO) δ値:2.51 (6
H,a、 >−CHI )。
3.44 (2)1. b s、 Cm H)。
3.96 (3H,a、 0CHa )。
4.98. s、4o(2H,ABQ、 J=15H1
,’、、;)−C)。
,’、、;)−C)。
一
5.23(In、 d、 J=51(z、 Cg H
)。
)。
5.8.8(IH,dd、 、T=5Hz、 J=8H
z、 Cv H)。
z、 Cv H)。
6.17(3)1. bs、 NHS” )。
7.00.7.50(2H,ABQ、 J=10Hz、
)II” )。
)II” )。
9.87 (I I(、d、 、T=8Hz、 −C
ONI(−)実施例 Ill 2 (2tart、−アミルオキシカルボ
キサミトチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メト
キンイミノm:酸6.159をN、N−ジメチルアセト
アミド15.5 atに暇解させ、−10℃でオキシ塩
化溝1.629を滴下し、−5〜o’cで1時間反応さ
ゼる。ついでジフェニルメチル−7−アミノ−5−1(
1−(5−エチル−6−オギンー2,6−シヒドロピリ
ダジニル)〕メチル)−63−]]lフエムー4−カル
ボキンレート5 OV加え、−5〜0℃で1時間反応さ
せる。反応終了佼、反応液を水ioom%、]:び酢酸
エチル100 Illの混合浴媒中へ4人し、炭酸水素
ナトリウムでpH6,5に調整する。ついで有機層な分
取し、無水lll1C酸マグネシウムでvl、沫した後
、チルを加えて結晶を沢取すわば、融点118〜120
℃(分JφIりを示すジフェニルメチル=7− (2−
(2−tert、−アミルオキーシカルボキサばトチア
ゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノア
セトアミド]−3−1(1−(3−エチル−6−オキソ
−1,6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ1−
セフェムー4−カルポキシレー) 6.15 a y
(収峯836%)を得る。
ONI(−)実施例 Ill 2 (2tart、−アミルオキシカルボ
キサミトチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メト
キンイミノm:酸6.159をN、N−ジメチルアセト
アミド15.5 atに暇解させ、−10℃でオキシ塩
化溝1.629を滴下し、−5〜o’cで1時間反応さ
ゼる。ついでジフェニルメチル−7−アミノ−5−1(
1−(5−エチル−6−オギンー2,6−シヒドロピリ
ダジニル)〕メチル)−63−]]lフエムー4−カル
ボキンレート5 OV加え、−5〜0℃で1時間反応さ
せる。反応終了佼、反応液を水ioom%、]:び酢酸
エチル100 Illの混合浴媒中へ4人し、炭酸水素
ナトリウムでpH6,5に調整する。ついで有機層な分
取し、無水lll1C酸マグネシウムでvl、沫した後
、チルを加えて結晶を沢取すわば、融点118〜120
℃(分JφIりを示すジフェニルメチル=7− (2−
(2−tert、−アミルオキーシカルボキサばトチア
ゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノア
セトアミド]−3−1(1−(3−エチル−6−オキソ
−1,6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ1−
セフェムー4−カルポキシレー) 6.15 a y
(収峯836%)を得る。
IR(KBr)> : νc=0 1780,172
0.166ONM)l(CDCIll )δ値: 0.91(3H,t、 J=8Hz、 CHxCfIg
+)。
0.166ONM)l(CDCIll )δ値: 0.91(3H,t、 J=8Hz、 CHxCfIg
+)。
1、17 (511,t、 J=8Hz、 C当Clf
t 、)。
t 、)。
2.61 (2H,q、 J =81(z、 CH,C
Hl −)t5.41 (2H,b8. Cm H)。
Hl −)t5.41 (2H,b8. Cm H)。
4.11 (5H,s、 −OCH畠)。
5.20 (I H,d、 、T =5Hz、 Ca−
H)。
H)。
5.35(2H,bs、 ’>退’、)t6.11 (
I H,dd、 J=5Hz、 J=8Hz、 Cy−
1゜7.21 (IH,a、 −CHぐ)。
I H,dd、 J=5Hz、 J=8Hz、 Cy−
1゜7.21 (IH,a、 −CHぐ)。
7、り2〜778(11H,m、 :T、−、−@x2
)。
)。
7.91 (I I(、d、 J=8Hz、 −CO
NH−)同様にして、表−8の化合物を得た。
NH−)同様にして、表−8の化合物を得た。
i21 fi+で得られたジフェニルメチル−7−[
2−(2−tert、−アミルオキシカルボギサミドチ
アゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ
アセトアミド]−1−(〔1−(3−エチル−6−オギ
ンー1,6−シヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δ3
−セフェムー4−カルボキシレート6、68 ’iをト
リフルオロ酢酸33Rtおよびアニソール15111j
の混合溶媒に溶解させ、室温で2時間反応させる。反応
71イ了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチル
エーテルを加えて、結晶をf取し、ジエチルエーテルで
十分洗浄した後、乾燥すれば、融点156〜156℃(
分解)を示す7−(2−(2−アばフチアゾール−4−
イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−1−([1−1−エチル−6−オキソ−1,6−シヒ
ドロビリダジニル)〕メチル)−△5−セフェムー4−
カルボ、ン酸のトリフルオロH[酸塩4.74 ”i
(収率89;、“6%)を得る。
2−(2−tert、−アミルオキシカルボギサミドチ
アゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ
アセトアミド]−1−(〔1−(3−エチル−6−オギ
ンー1,6−シヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δ3
−セフェムー4−カルボキシレート6、68 ’iをト
リフルオロ酢酸33Rtおよびアニソール15111j
の混合溶媒に溶解させ、室温で2時間反応させる。反応
71イ了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチル
エーテルを加えて、結晶をf取し、ジエチルエーテルで
十分洗浄した後、乾燥すれば、融点156〜156℃(
分解)を示す7−(2−(2−アばフチアゾール−4−
イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−1−([1−1−エチル−6−オキソ−1,6−シヒ
ドロビリダジニル)〕メチル)−△5−セフェムー4−
カルボ、ン酸のトリフルオロH[酸塩4.74 ”i
(収率89;、“6%)を得る。
IR(KBr) c+++ 、 yc=0 17
80.1720゜1690〜166 O NMH(do −DMsO)δ値: 117 (J H+ t * J =7 Hz + ’
Ha cHz )*2.64(2H,q、 J=7
Hz、 CHs 9旦)。
80.1720゜1690〜166 O NMH(do −DMsO)δ値: 117 (J H+ t * J =7 Hz + ’
Ha cHz )*2.64(2H,q、 J=7
Hz、 CHs 9旦)。
3.46(2H,bs、 CI H)。
6−96 (3H,s、 0CI(a )。
4.96.5.40(2)f、 ABq、 J=15H
z、 8.)−c、 )。
z、 8.)−c、 )。
5.23(IH,d、J=5Hz、C6H)。
5.88(IH,dd、 J=5Hz、 J=8Hz、
Ct Hル6.97 (I H,s、 鍛q)。
Ct Hル6.97 (I H,s、 鍛q)。
7、59 (3H,b8. −Nf(、)。
9.90(I H,d、 J=8Hz、 −CONH
−)同様にして、衣−9の化合物を得た。
−)同様にして、衣−9の化合物を得た。
実施例6
(1)実施例1−1llで得られたジフェニルメチル=
7−[2−(2−ホルムアζトチアゾールー4−イル)
−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)i−(
[,1−(3−メチル−6−オキノー1,6−シヒドロ
ビリダジニル)〕メチル)−Δ8−セフェムー4−カル
ボキシレート5.09を、トリフルオロ酢酸25耐お工
びアニソール5μの混合溶媒に溶解させ、呈温で2時間
反応させる。反応終了後、減圧下に爵媒を留去し、残留
物にジエチルエーテルを卯えて、結晶ヲP堆シ、ジエチ
ルエーテルで十分洗浄した後、乾燥すれば、融点186
〜1esc(分解)を示−j7−[2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシ
イミノアセトアミド] −1−1〔1−(3−メチル−
6−オキノー1,6−シヒドロビリダジニル、)〕メチ
ル)−カーセフェム−4−カルボン酸3.47(収率8
9.2%)を得る。
7−[2−(2−ホルムアζトチアゾールー4−イル)
−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド)i−(
[,1−(3−メチル−6−オキノー1,6−シヒドロ
ビリダジニル)〕メチル)−Δ8−セフェムー4−カル
ボキシレート5.09を、トリフルオロ酢酸25耐お工
びアニソール5μの混合溶媒に溶解させ、呈温で2時間
反応させる。反応終了後、減圧下に爵媒を留去し、残留
物にジエチルエーテルを卯えて、結晶ヲP堆シ、ジエチ
ルエーテルで十分洗浄した後、乾燥すれば、融点186
〜1esc(分解)を示−j7−[2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシ
イミノアセトアミド] −1−1〔1−(3−メチル−
6−オキノー1,6−シヒドロビリダジニル、)〕メチ
ル)−カーセフェム−4−カルボン酸3.47(収率8
9.2%)を得る。
1R(KBr) ai 、 pc=01775.17
10.1690.165ONMu(as−pA4so)
δ値: 2.25(5H,is、 > CHi )。
10.1690.165ONMu(as−pA4so)
δ値: 2.25(5H,is、 > CHi )。
5.44 (2]1. l)S、 C,−1()。
5.94(511,s、 −0CRs )。
4.91.5.53(2](、ABq、 J=15Hz
、 ll/L、 )。
、 ll/L、 )。
5.17 (I H,d、 、T=511z、 0s
−H)。
−H)。
5.86CIH,dd、、T=5I(z、、T=8Hz
、Ct H)。
、Ct H)。
7.45(IH,、”、′:FC,()。
8.55(IH,s、 I−xco−)。
シフろ(1H,d、 、1 =8i(z、 −CO
NI(−)同様にして、仄の化合物を得た。
NI(−)同様にして、仄の化合物を得た。
0 7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール: −4
−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセI・アミ
ド]−3−(シ1−(23−ジメチル−6−オキソ−1
,6−シヒドロビラシ= # ) ]メチル)−Δ1−
セフェムー4−カルボッ酸 1;i!If点=218〜221−C(分解)■r(K
br)cm −νC=0 1775,1670.16
5ONMR(d6DMSO)δ値: 2.2(S(61(、s、 C)IRX2)。
−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセI・アミ
ド]−3−(シ1−(23−ジメチル−6−オキソ−1
,6−シヒドロビラシ= # ) ]メチル)−Δ1−
セフェムー4−カルボッ酸 1;i!If点=218〜221−C(分解)■r(K
br)cm −νC=0 1775,1670.16
5ONMR(d6DMSO)δ値: 2.2(S(61(、s、 C)IRX2)。
5.26(2H,b’s、 CニーI()。
3.95 (31(、s、 −0CRs )。
5.01,5.36(2i(、ABQ、 J=15)T
z、 ’)−CI& )。
z、 ’)−CI& )。
5.18 (I H,d、 J=5Hz、 C6H
)。
)。
5.84(’、H,dd、、T=5)1z、J=8Hz
、C1)1)。
、C1)1)。
7.50(IH,11,、U、 )。
a、o o (1)]、 B、 >−H)。
8゜61 (i H,s、 HCO−)。
9、85 (1)I、 d、 J =8Hz、 −C
ONM−)乾)(1)で得ろ壮た7−42−(2−ホル
ムアミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メト
キシイミノアセトアミド]−3−Ml−(2゜6−シメ
チルー6−オキンー1,6−シヒドロビラジニル)〕メ
チル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸10.5ノを
メタノール10aに鹸解させ、濃塩酸0.38 Rtを
7J[lえ35℃で2時間反応させる。反応終了後、減
圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルぞ塀え
て結晶をf取すtば、酸11点250℃以上を示す7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シ
ン)−メトキシイミノアセトアミド]−6−I C1−
(2,3−ジメチル−6−オキンー1゜6−シヒドロビ
ラジニル)〕メチル)−カーセフェム−4−カルボン酸
の塩酸130.439 (収率84.8%)を得る。
ONM−)乾)(1)で得ろ壮た7−42−(2−ホル
ムアミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メト
キシイミノアセトアミド]−3−Ml−(2゜6−シメ
チルー6−オキンー1,6−シヒドロビラジニル)〕メ
チル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸10.5ノを
メタノール10aに鹸解させ、濃塩酸0.38 Rtを
7J[lえ35℃で2時間反応させる。反応終了後、減
圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルぞ塀え
て結晶をf取すtば、酸11点250℃以上を示す7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シ
ン)−メトキシイミノアセトアミド]−6−I C1−
(2,3−ジメチル−6−オキンー1゜6−シヒドロビ
ラジニル)〕メチル)−カーセフェム−4−カルボン酸
の塩酸130.439 (収率84.8%)を得る。
I’R(KBr) on 、 pc=0 1765
.1660.162ONMB (ds−DIIO)δ値
: 2.20(6H,ba、 −CH+lX2)。
.1660.162ONMB (ds−DIIO)δ値
: 2.20(6H,ba、 −CH+lX2)。
3.18 (2H,be、 Cm H)。
3、90 (3H,s、 OCkl、)。
4.94.5.24(2H,ABQ、 −T=15Hz
、 ”、;l、、 )。
、 ”、;l、、 )。
5.10(IH,d、 J=5Hz、 Cs H)。
5.78(IH,dd、 J=5Hz、 、T=8Hz
、 C7H)。
、 C7H)。
6.89 (I n、 a、 、@、ρ。
7.82(IH,8,3−H)。
9.79(II(、dd、 、1=3)iz、 −CO
NH−)(31[11で得しれた7−[2−(2−ボル
ムアミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メト
キシイミノアセトアミド〕−仝−+[1−(3−メチル
−6−オキノー1,6−シヒドロビリダジニル)〕メチ
ル)−△3−セフェムー4−カルボン酸3.0&をN、
N−ジメチルアセトアミド15411+に俗解、させ、
水冷下1,8−ジアザビシクロ[5,4,O〕−7−ウ
ンデセン0,81ノおよびビバロイルオキシメチルヨー
ジド2.049 ヲ加え60分間反応させる。反応終了
後、反応液を水5 Q rneおよび酢酸エチル5Qa
/の混合浴媒中へ導入する。ついで有機層を分取し、水
洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶
を戸数すれば、融点168〜140℃(分%)を示すピ
バロイルオキシメチル−7−(2−(2−ホルムアミド
チアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミ
ノアセトアミド)l−([1−(3−メチル−6−オキ
ノー1,6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−ム1
−セフェムー4−カルボキシレート2.85g(収率7
7.7%)を得る。
NH−)(31[11で得しれた7−[2−(2−ボル
ムアミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メト
キシイミノアセトアミド〕−仝−+[1−(3−メチル
−6−オキノー1,6−シヒドロビリダジニル)〕メチ
ル)−△3−セフェムー4−カルボン酸3.0&をN、
N−ジメチルアセトアミド15411+に俗解、させ、
水冷下1,8−ジアザビシクロ[5,4,O〕−7−ウ
ンデセン0,81ノおよびビバロイルオキシメチルヨー
ジド2.049 ヲ加え60分間反応させる。反応終了
後、反応液を水5 Q rneおよび酢酸エチル5Qa
/の混合浴媒中へ導入する。ついで有機層を分取し、水
洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶
を戸数すれば、融点168〜140℃(分%)を示すピ
バロイルオキシメチル−7−(2−(2−ホルムアミド
チアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミ
ノアセトアミド)l−([1−(3−メチル−6−オキ
ノー1,6−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−ム1
−セフェムー4−カルボキシレート2.85g(収率7
7.7%)を得る。
I H(KrJr ) if’ : νe=0
1780.1750,1690゜ 660 potin(cDct寓)δ値: 1.26(9H,a、−CH5X3)。
1780.1750,1690゜ 660 potin(cDct寓)δ値: 1.26(9H,a、−CH5X3)。
2、53 (5JT、 s、 >−CH,)。
3.40 (2H,bs、 C2H)。
4.00 (3H,s、 −OCH,)。
5.08,5.43(2H,ABQ、 J=15Hz、
S入、 )。
S入、 )。
5.12(IH,d、 J=5Hz、 Cm H)
。
。
5.80〜6.22 (3H,m、 OCHt O、
C7H)。
C7H)。
728 (I H,s、 ”、EC,、)・8.08(
IH,d、、T=8Hz、−CONH−)t8.67(
IH,s、 HCO) 同様にして、次の化合物を得た、 0 ピバロイルオキシメチル=7−(2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキ
シイミノアセトアミド〕5−1c1−(2,3−ジメチ
ル−6−オキソ−1,6−シヒドロビラジニル)〕メチ
ル)−ム3−セフェムー4−カルボキシレート融点=1
58〜164℃(分解) IR(KBr) LM: νC=0 1780,174
0゜1680〜1640 (41C31−c 得られたビバロイルオキン)fk=
7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−
[1−(3−メチル−6−オキノー1,6−シヒドロビ
リダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボ
キシレー) 2.59をメタノール12,5酩に浴塀さ
せ、濃塩酸0.97紅を茄え35℃で2時間反応させる
。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物に酢酸エ
チル3Qa/および水60威を刃口え、炭酸水素ナトリ
ウムでp H6,0に調整する。ついで有機層をか取し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶をr取
すれば、融点141〜142℃(分解)を示すピバロイ
ルオキシメチル=7−[2−(2−アミノチアゾ−)v
−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド]5 1(1〜(3−メチル−6−オキンー1゜6
−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−が−セフェム−
4−カルボキシレート1.969 (ilX率820%
)を得る。
IH,d、、T=8Hz、−CONH−)t8.67(
IH,s、 HCO) 同様にして、次の化合物を得た、 0 ピバロイルオキシメチル=7−(2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキ
シイミノアセトアミド〕5−1c1−(2,3−ジメチ
ル−6−オキソ−1,6−シヒドロビラジニル)〕メチ
ル)−ム3−セフェムー4−カルボキシレート融点=1
58〜164℃(分解) IR(KBr) LM: νC=0 1780,174
0゜1680〜1640 (41C31−c 得られたビバロイルオキン)fk=
7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]−3−
[1−(3−メチル−6−オキノー1,6−シヒドロビ
リダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボ
キシレー) 2.59をメタノール12,5酩に浴塀さ
せ、濃塩酸0.97紅を茄え35℃で2時間反応させる
。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物に酢酸エ
チル3Qa/および水60威を刃口え、炭酸水素ナトリ
ウムでp H6,0に調整する。ついで有機層をか取し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶をr取
すれば、融点141〜142℃(分解)を示すピバロイ
ルオキシメチル=7−[2−(2−アミノチアゾ−)v
−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトア
ミド]5 1(1〜(3−メチル−6−オキンー1゜6
−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−が−セフェム−
4−カルボキシレート1.969 (ilX率820%
)を得る。
I)I(K、Dr)ffi 、pc=0 1775,
1740.165ONMB(da DMHO)δ値: 1.24(9H,a、 CH++X5)。
1740.165ONMB(da DMHO)δ値: 1.24(9H,a、 CH++X5)。
2.31 (3H,I!、 >−CH,l )。
3.40(2H,bs、 Cm−H)。
3.99 (−5H,s、 −0CIJsλ5.01
,536(2H9ABq9,1=15H2,\、)。
,536(2H9ABq9,1=15H2,\、)。
5、IJ 9 (I H,d、 、T =’51(z、
Cc−H)。
Cc−H)。
5.61〜6.14(3H,m、 −0CHsO−、
Cy kI)6.71 (2IL bs、’ −NHg
)。
Cy kI)6.71 (2IL bs、’ −NHg
)。
6.77(IH,s、 ”、入)。
6.86,7.24 (21(、人Bq、、j
=10Hz、 IH)。
=10Hz、 IH)。
9.54(In、d、、T=8Hz、 −CONH一
つ同様にして、次の化合物を得た。
つ同様にして、次の化合物を得た。
0 ビバロイルオキンメチル=7−[2−(2アミノチ
アゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ
アセトアミド]−3−1c1−(2,6−ジメチ1v−
6−オキンー1,6−シヒドロピラジニル)〕メチル)
−Δ5−セフェムー4−カルボキシレート 融点=156〜159’C(分解) In(KBr) > 、 pc=0 1775.1
740゜1670〜164O NMR(dg DMSO)δ値: 1、19 (9H,a、 CHiX 5 )。
アゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ
アセトアミド]−3−1c1−(2,6−ジメチ1v−
6−オキンー1,6−シヒドロピラジニル)〕メチル)
−Δ5−セフェムー4−カルボキシレート 融点=156〜159’C(分解) In(KBr) > 、 pc=0 1775.1
740゜1670〜164O NMR(dg DMSO)δ値: 1、19 (9H,a、 CHiX 5 )。
(C山
2.27(6I(、@、 )。
Cル
5.35(2i(、bs、 Cg H)。
5.86 (511,a、 −OCkLs )
。
。
5.02.5.40 (2■I、 ABQ、 J−15
Hz、 ’;’CH,−)。
Hz、 ’;’CH,−)。
b、2U(IH,d、J=5Hz、Us−H)。
5.7 o−6,i 4(5I(、m、 07 H,
0CHzO)。
0CHzO)。
6.81(1い、 ’、<()。
7、26 (2H,m、 −NHg )。
7.98(1鴇s、 )t−n’x
9.72(114,d、 J=811t、、 −C
ONH−)実施例4゜ 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(シン)−メトキンイミノアセトアミド]−3−1[1
−(3,6−シオキソー1.2.3゜6−チトラヒドロ
ピリダジニル)〕メチル)−Δ’−セフェムー4−カル
ボン酸のトリフルオロ酢酸塩2.09をへ、N−ジメチ
ルアセトアミド1omK@解させ、−10℃で1)8−
ジアザビシクロ(5,4,0’:l −7−ウンデセy
o、 s s !/およびビバロイルオキノメチルヨ
ージド1.17 LIを加え、−5〜0℃で30分間反
応させる。反L6終了後、反応液を水30111および
H「酸エチル60紅の混合溶媒中へ導入する。ついで打
機)曽を分取し水洗した猿、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を餡去し、残留物にジエチルエー
テルを加えて結晶をf取すねは、融点151〜156℃
(分解)を示すピバロイルオキシメチル−7−(2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メ
トキシイミノアセトアミド3−5−4(i−(s、s−
ジオキン−1,2,5,6−チトラヒドロビリダジニル
追メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレート1
.36ノ(収率68.0%)を得る。
ONH−)実施例4゜ 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(シン)−メトキンイミノアセトアミド]−3−1[1
−(3,6−シオキソー1.2.3゜6−チトラヒドロ
ピリダジニル)〕メチル)−Δ’−セフェムー4−カル
ボン酸のトリフルオロ酢酸塩2.09をへ、N−ジメチ
ルアセトアミド1omK@解させ、−10℃で1)8−
ジアザビシクロ(5,4,0’:l −7−ウンデセy
o、 s s !/およびビバロイルオキノメチルヨ
ージド1.17 LIを加え、−5〜0℃で30分間反
応させる。反L6終了後、反応液を水30111および
H「酸エチル60紅の混合溶媒中へ導入する。ついで打
機)曽を分取し水洗した猿、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を餡去し、残留物にジエチルエー
テルを加えて結晶をf取すねは、融点151〜156℃
(分解)を示すピバロイルオキシメチル−7−(2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メ
トキシイミノアセトアミド3−5−4(i−(s、s−
ジオキン−1,2,5,6−チトラヒドロビリダジニル
追メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレート1
.36ノ(収率68.0%)を得る。
11((KBr) on ニジC=0 1780.1
745.166ONMB (do −0M80 )δ値
:1、17 (9H,m、 −CI(i X 3 )。
745.166ONMB (do −0M80 )δ値
:1、17 (9H,m、 −CI(i X 3 )。
5.45(4H,ba、 Cg H,−NH+ )。
3.85 (5H,a、 −0CJIs )。
516(in、 a、 J=5Hz+ Cg−H)。
5.60〜6.08(3H,m、 C1−H,−OCH
! O−)。
! O−)。
6.77(1)I、s、zT:、H)。
6.89.7.12(2H,ABQ、 J=10)(z
、 X H)。
、 X H)。
9.62(1H,d、 J÷8Hz、 −CONIi
−)同様にして、表−10の化合物を得た。
−)同様にして、表−10の化合物を得た。
′ノロ・(クリ例 5
2−(2−ボルムアミドチアゾール)−2−(シン)−
メトキシイミノ酢酸1.92 gをN、N−ジメヂルア
セトアミド10dに溶解ヒせ、−10℃でオキン堪化燐
141ノを滴下し、−5〜0℃で1時間反応させる。つ
いでピバロイルオキキメフール=7−アミノ−3−1[
1−(3−メ tチル−6−オキノー1,6−シヒド
ロビリダジニ (ル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4
−カルボキシレートの蓚酸塩4.07を加え、O〜5
”Cで2時1141反りもさせる。反応終了後、反し故
を水50成および酢酸エチル10 Q rrUの混8府
碌甲へ4人1−ろ。ついで有機層を分取し、水洗した後
、無水1流酸マグネシクムで乾燥する。減圧下に浴好′
?:留去し、残留物にジエチル上−テルケ加えて結晶を
i):+取すオシば、融点168〜140℃(分#)を
示すビバロイルオキンメチル−7−C2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキ
ンイミノアセトアミド:]−3−(〔1−(3−メチル
−6−オキノー16−シヒドロピリタジニル)〕メチル
)−Δ3−セフェムー4〜カルボキシレート3.57ソ
(収率72.6%)を得る。尚、この化合物の物狂(J
R,Nrsn値)(工、実施例ろ−(3)で得られ。
メトキシイミノ酢酸1.92 gをN、N−ジメヂルア
セトアミド10dに溶解ヒせ、−10℃でオキン堪化燐
141ノを滴下し、−5〜0℃で1時間反応させる。つ
いでピバロイルオキキメフール=7−アミノ−3−1[
1−(3−メ tチル−6−オキノー1,6−シヒド
ロビリダジニ (ル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4
−カルボキシレートの蓚酸塩4.07を加え、O〜5
”Cで2時1141反りもさせる。反応終了後、反し故
を水50成および酢酸エチル10 Q rrUの混8府
碌甲へ4人1−ろ。ついで有機層を分取し、水洗した後
、無水1流酸マグネシクムで乾燥する。減圧下に浴好′
?:留去し、残留物にジエチル上−テルケ加えて結晶を
i):+取すオシば、融点168〜140℃(分#)を
示すビバロイルオキンメチル−7−C2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキ
ンイミノアセトアミド:]−3−(〔1−(3−メチル
−6−オキノー16−シヒドロピリタジニル)〕メチル
)−Δ3−セフェムー4〜カルボキシレート3.57ソ
(収率72.6%)を得る。尚、この化合物の物狂(J
R,Nrsn値)(工、実施例ろ−(3)で得られ。
たものと−双した。
処施伸16
1)ジケテン10ノを無水増化メチレフ10Mに浴解さ
セ、ツ゛・す拌しながら、臭素1.73ノを無水ちA化
メチレン5.0虹に溶解させた浴液を一60℃で滴下し
た後、−30〜−20℃で60分間反応させる。この反
応液を、ジフェニルメチル=7−アミノ−3−([−1
−(5,6−シオキンー1,2.ろ、6−チトラヒドロ
ビリダジニルン〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カル
ボキシレート490gおよびビス(トリメチルシリル)
アセトアミh4.06 Yを谷む無水堪化メチレン50
α浴液中へ一60℃以下で滴下する。滴下した候、−6
0〜−20℃で60分間、ついで、0〜10℃で1時1
b]反応させる。反応終了後、減圧」・に俗媒を留去し
、得ら7Lだ残留物にrイ1−酸エチル50 #ll:
丁6J、び水40威を刃口えて浴解させ、イ4(フォ一
層l′分散し、水40m=;よび掩!(・U食塩水40
紅で11は次洗浄した後、無水1.4.酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に俗媒を留去する。残留物をカラムタ
ロマドグラフィ=(和光シリカゲルc −200,展開
電媒;クロロホルム二ノタ、/−ル=50:1)で8製
1−オtは、融点124〜126℃(分子!I′j)を
示すジフェニルメチル−7−(4−ブIコモー〇−オキ
ンープチルアミド)−61[:1 (3,(S−ジ
オキソ−1,2,3,6−゛ テトラヒドロピリダジ
ニル)〕メチル)−カーセフェム−4−カルボキンレー
ト409ノ(収率62.6φ)を得る。
セ、ツ゛・す拌しながら、臭素1.73ノを無水ちA化
メチレン5.0虹に溶解させた浴液を一60℃で滴下し
た後、−30〜−20℃で60分間反応させる。この反
応液を、ジフェニルメチル=7−アミノ−3−([−1
−(5,6−シオキンー1,2.ろ、6−チトラヒドロ
ビリダジニルン〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カル
ボキシレート490gおよびビス(トリメチルシリル)
アセトアミh4.06 Yを谷む無水堪化メチレン50
α浴液中へ一60℃以下で滴下する。滴下した候、−6
0〜−20℃で60分間、ついで、0〜10℃で1時1
b]反応させる。反応終了後、減圧」・に俗媒を留去し
、得ら7Lだ残留物にrイ1−酸エチル50 #ll:
丁6J、び水40威を刃口えて浴解させ、イ4(フォ一
層l′分散し、水40m=;よび掩!(・U食塩水40
紅で11は次洗浄した後、無水1.4.酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に俗媒を留去する。残留物をカラムタ
ロマドグラフィ=(和光シリカゲルc −200,展開
電媒;クロロホルム二ノタ、/−ル=50:1)で8製
1−オtは、融点124〜126℃(分子!I′j)を
示すジフェニルメチル−7−(4−ブIコモー〇−オキ
ンープチルアミド)−61[:1 (3,(S−ジ
オキソ−1,2,3,6−゛ テトラヒドロピリダジ
ニル)〕メチル)−カーセフェム−4−カルボキンレー
ト409ノ(収率62.6φ)を得る。
IH(KI3r) cTn、 pc=0 1780.1
725.16604.52 (2H,a、 BrCH
,C−)t5.06(1)i、 b s+ ”;L−c
rb −”5.26(I H,d、 、7=5Hz、
Cm −H)。
725.16604.52 (2H,a、 BrCH
,C−)t5.06(1)i、 b s+ ”;L−c
rb −”5.26(I H,d、 、7=5Hz、
Cm −H)。
7.09(I H’、 s、 −CH’ )。
\
7.24−7.91 (10H,m、 猷DX 2)
。
。
9.34(IH,d、、T=10flz、 C0N
H−)(21filで得られたジフェニルメチル=7−
(4−プロ七−3−オキンープチルアミド) −3−1
(1−(3,(S−ジオキン−1,2,5,(S−テト
ラヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δゝ−セフェl、
−4−カルボキシレート600りを酢酸24mt jで
%解させ、こオtに水冷下亜硝酸ナトリウム0、699
を含む水浴液35aを加え、ついで室Y易で1時間反応
させる。反1.も終了後、反応欣を水30Oa中に導入
し、併1」j晶をil:I取し、水で十分洗浄した後乾
燥する。ついで少量のクロロホルムに俗解させ、カラム
クロマトグラフィー(相元シリカゲルC−200.展開
溶妊;クロロボルム:メタノール=SO:1)で精製す
れは、融点168〜141℃(分解)を示すジフェニル
メチル=7〜(4−ブロモ−2−ヒドロキ゛/イミノ−
6−オキンプチルアミド)−6−)い−(6,6−シオ
キンー1.2,3,6−チトラヒドロビリタシニル)〕
メチル)−Δ゛−セフエノー4−カルボキンレ〜 4.
71ノ(収率75.1%)を得る〜 xn(icor) 1M ニジc=o 17B0.1
720.166ONMB(ds−DMSO)δ値: 3.46 (2H,bs、 ClH)。
H−)(21filで得られたジフェニルメチル=7−
(4−プロ七−3−オキンープチルアミド) −3−1
(1−(3,(S−ジオキン−1,2,5,(S−テト
ラヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δゝ−セフェl、
−4−カルボキシレート600りを酢酸24mt jで
%解させ、こオtに水冷下亜硝酸ナトリウム0、699
を含む水浴液35aを加え、ついで室Y易で1時間反応
させる。反1.も終了後、反応欣を水30Oa中に導入
し、併1」j晶をil:I取し、水で十分洗浄した後乾
燥する。ついで少量のクロロホルムに俗解させ、カラム
クロマトグラフィー(相元シリカゲルC−200.展開
溶妊;クロロボルム:メタノール=SO:1)で精製す
れは、融点168〜141℃(分解)を示すジフェニル
メチル=7〜(4−ブロモ−2−ヒドロキ゛/イミノ−
6−オキンプチルアミド)−6−)い−(6,6−シオ
キンー1.2,3,6−チトラヒドロビリタシニル)〕
メチル)−Δ゛−セフエノー4−カルボキンレ〜 4.
71ノ(収率75.1%)を得る〜 xn(icor) 1M ニジc=o 17B0.1
720.166ONMB(ds−DMSO)δ値: 3.46 (2H,bs、 ClH)。
4.62 (2H,s、 BrClI2Co )。
4.96 (2TI、 b s、 咀、−)。
5.18(IH,d、 J=5H1,CM −Il)。
5.93(IH,dd、 J=5Hz、 、T=81f
z、 C? H)。
z、 C? H)。
6.96(1H,s、 −CH/)。
\
7.13−7.72(ill(、’rn、 −Q X
2)。
2)。
9.45 (I H、d、 、1 =8Hz、 −C
IJNH−)。
IJNH−)。
13.36 (I H,a、 =N−OH)+31
+21で得られたジフェニルメチル=7−(4−ブロ
モ−2−ヒドロキシイミノ−3−オキンブチルアミド)
−3−I CI −(596−ジオキソ’t’t %
6−テI・ラヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δ3−
セフェムー4−カルボキシレート6.87を酢酸エチル
170紅およびテトラヒドロフラン170成に俗解させ
、−5〜0℃でシアツメタンのジエチルエーテル浴液を
ゆっくり加え、同温度で60分間反応させる。反応終了
後、ジアゾメタンの消失を確認した後、減圧下にm0を
栢去する。ついで、得られた残留物を、カラムクロマト
グラフィー(Xu元シリカゲルC−200,力藝開溶媒
;タロロホルム:メタノール−150:1)で精製すれ
は、融点145〜148℃(分解)を示すジフェニルメ
チル−7−[4−フロモー2−(シン)−メトキシイミ
ノ−6−万キンブチルアミド]−3−[1−(3,6−
シオキンー1,2,3,6−テトラヒドロピリダジニル
)〕メチル)−ム4−セフェムー4−カルボキンレート
1.70ノ(収率24.5%)を得る。
+21で得られたジフェニルメチル=7−(4−ブロ
モ−2−ヒドロキシイミノ−3−オキンブチルアミド)
−3−I CI −(596−ジオキソ’t’t %
6−テI・ラヒドロピリダジニル)〕メチル)−Δ3−
セフェムー4−カルボキシレート6.87を酢酸エチル
170紅およびテトラヒドロフラン170成に俗解させ
、−5〜0℃でシアツメタンのジエチルエーテル浴液を
ゆっくり加え、同温度で60分間反応させる。反応終了
後、ジアゾメタンの消失を確認した後、減圧下にm0を
栢去する。ついで、得られた残留物を、カラムクロマト
グラフィー(Xu元シリカゲルC−200,力藝開溶媒
;タロロホルム:メタノール−150:1)で精製すれ
は、融点145〜148℃(分解)を示すジフェニルメ
チル−7−[4−フロモー2−(シン)−メトキシイミ
ノ−6−万キンブチルアミド]−3−[1−(3,6−
シオキンー1,2,3,6−テトラヒドロピリダジニル
)〕メチル)−ム4−セフェムー4−カルボキンレート
1.70ノ(収率24.5%)を得る。
II((Ksr) ctn ’ ニジc=o 1780
,173o、 166ONMR(da DMSO)δ
値: 5.49 (2H,ba、 Ct H)。
,173o、 166ONMR(da DMSO)δ
値: 5.49 (2H,ba、 Ct H)。
4.05(3鶏s、 −0CHs )。
−4,60(2H,s、 BrCH* Co )。
5、02 (2H,ba、 美止−)。
530(月(、d、、T=5Hz、CI H)。
6、o 2(1n、 dd、 J=5Hz、
、夏=8 Hz、 Cr H)。
、夏=8 Hz、 Cr H)。
6.92.7.16(2H,ABq、 、I=10H,
z、工H)。
z、工H)。
6、99 (I H,s、 −CH< )。
7.17〜7.78(101(、m、 @ X2)。
10.16(IH,d、J=8Hz、 −CONH−
)+41 (31で得らtたジフェニルメチル=7−
(4−ブロモ−2−(シン)−メトキシイミノ−6−オ
ギンブチルアξド)−s−((i−(36−シオキソー
1.2,3,6−チトラヒドロビリダジニル)〕メチル
)−ム3−→ニフェムー4−カルボキンレート1.09
およびナオ尿素0.169を、へ。
)+41 (31で得らtたジフェニルメチル=7−
(4−ブロモ−2−(シン)−メトキシイミノ−6−オ
ギンブチルアξド)−s−((i−(36−シオキソー
1.2,3,6−チトラヒドロビリダジニル)〕メチル
)−ム3−→ニフェムー4−カルボキンレート1.09
およびナオ尿素0.169を、へ。
〜−ジメチルアセドア好ド5.0紅に沼解させ、呈温で
1時間反応させる。反応、終了後、反>C−蔽を水2
C1tnlおよびHr酸エチル2 Q atの混合冷媒
中へ尋人し、炭酸水素す) +7クムでp H6,5に
調整する。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下に溶媒を留去する。ついで残留物に、
ジエチルエーテルを加えて結晶を1取すねは、融点17
5〜178℃(分解)を示すジフェニルメチル−7−〔
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン
)−メトキシイζノアセトア之゛ド]−1−([1−(
6,6−シオキンー1.2.5.6−チトラヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルポキ
シレー) 0.719 (収率755%)を得る。
1時間反応させる。反応、終了後、反>C−蔽を水2
C1tnlおよびHr酸エチル2 Q atの混合冷媒
中へ尋人し、炭酸水素す) +7クムでp H6,5に
調整する。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下に溶媒を留去する。ついで残留物に、
ジエチルエーテルを加えて結晶を1取すねは、融点17
5〜178℃(分解)を示すジフェニルメチル−7−〔
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン
)−メトキシイζノアセトア之゛ド]−1−([1−(
6,6−シオキンー1.2.5.6−チトラヒドロビリ
ダジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルポキ
シレー) 0.719 (収率755%)を得る。
尚、この化合物の物性(融点、 IRおよびINMR
値)は、実施例1−121で得ろnだものと一致した。
値)は、実施例1−121で得ろnだものと一致した。
実施例Z
(112−(2−ホルムア好トチアゾールー4−イル)
クリオキシル酸0.229をN、 N−ジメチルアセト
アミド1.1 UにS濁させ、−io℃でオキ7塩化i
、i、i 0.16 gをンiii下し、同湿度で2時
間iQ拌する。この浴液を7−アミノ−5−i[1−(
s、s−ジオキン−1,2,3,(S−テトラヒドロビ
リタシニル)〕メチル)−△1−セフェムー4−カルボ
ン酸0.3 OS’およびビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド0.56 gを甘む無水塩化メチレン3[l
” mW中へ−10〜−5℃で滴下する。滴下した後、
0〜5℃で30分間、10〜20℃で30分間反応させ
る。反応終了後、減圧下に塩化メチレンを留去し、残留
物をアセトニトリル6θ1および飽和費塩水6. Q
Mの混合浴媒中へ導入する。ついで有機層を分取し、飽
和食塩水6.0gで2回洗浄した後、減圧下に溶媒を留
去する。残留物k・テトラヒドロフラン3、 Oatに
溶解させ、5〜10℃でジンエニルジアゾメタ10.i
sgを茄え、同温度で60分間反応させる。反応終了後
、減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラ
フィー(/ii:+元ンリカゲルC〜200.展開浴媒
;クロロホルム:メタノール=75 : 1 )で精製
すれば、融点155〜154℃(分解)を示すジフェニ
ルメチル=7−(2−(2−i;ルムアミドチアゾール
ー4−イル)−グリオキシルアミド〕−6−((1−(
3,(S−ジオギン−1,2,3,6−チトラヒドロビ
リダジニル)〕〕メチJvl−Δ1−セフェムー4カル
ボキシレート0.099 (収率192%)を得る。
クリオキシル酸0.229をN、 N−ジメチルアセト
アミド1.1 UにS濁させ、−io℃でオキ7塩化i
、i、i 0.16 gをンiii下し、同湿度で2時
間iQ拌する。この浴液を7−アミノ−5−i[1−(
s、s−ジオキン−1,2,3,(S−テトラヒドロビ
リタシニル)〕メチル)−△1−セフェムー4−カルボ
ン酸0.3 OS’およびビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド0.56 gを甘む無水塩化メチレン3[l
” mW中へ−10〜−5℃で滴下する。滴下した後、
0〜5℃で30分間、10〜20℃で30分間反応させ
る。反応終了後、減圧下に塩化メチレンを留去し、残留
物をアセトニトリル6θ1および飽和費塩水6. Q
Mの混合浴媒中へ導入する。ついで有機層を分取し、飽
和食塩水6.0gで2回洗浄した後、減圧下に溶媒を留
去する。残留物k・テトラヒドロフラン3、 Oatに
溶解させ、5〜10℃でジンエニルジアゾメタ10.i
sgを茄え、同温度で60分間反応させる。反応終了後
、減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラ
フィー(/ii:+元ンリカゲルC〜200.展開浴媒
;クロロホルム:メタノール=75 : 1 )で精製
すれば、融点155〜154℃(分解)を示すジフェニ
ルメチル=7−(2−(2−i;ルムアミドチアゾール
ー4−イル)−グリオキシルアミド〕−6−((1−(
3,(S−ジオギン−1,2,3,6−チトラヒドロビ
リダジニル)〕〕メチJvl−Δ1−セフェムー4カル
ボキシレート0.099 (収率192%)を得る。
IH(kBr) l ニジC=(J 1780.1
725゜1690.1665 NMR(CD Clx + ds −DM80 ) 0
値:5.42(2H,bs、 Ct H)。
725゜1690.1665 NMR(CD Clx + ds −DM80 ) 0
値:5.42(2H,bs、 Ct H)。
4.96〜5.40(3H,m、 ”ンCHI−,C
I−H)。
I−H)。
5.95(IH,aa、 a=釘Iz、 J=8Hz、
Cy H)。
Cy H)。
7、20〜7.78(10H,m、 ス毀X2)t8
.66(I H,s、 ”、几)。
.66(I H,s、 ”、几)。
8.73 (I H,s、 HCO−)。
9B 6 (I H,d、 J=8Hz、 −CON
H−)f2+ [11で得らγしたジフェニルメチル
=7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル
)−グリオキンルアミド’J−1−1(1−(5,6−
シオギンー1.2,3.6−チトラヒドロビリダジニノ
0〕メチル)−ム3−セフェムー4−カルボキンレー)
0.099を、N、 N−ジメチルアセトアミド0、
45 tIgに俗解させ、水冷下、メトキシア(ン堪酸
す、Q0028S4をガロえ15〜20℃で15)爬r
間反応させる。反し終了後、反応液を水2. Q rn
lおよびff1i酸エチル20−の混合浴媒中へ尋人し
5、有機層を分取する。水、飽相良塩水でIl′fi、
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
に溶媒を留去する。残留物にジイングロビルエーテルな
加えて結晶をf取すれば、融点171〜176℃(分解
)を示すジフェニルメチル=7−[,2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキ
シイミノアセトアミド〕−3−1(1−(3,6−ジオ
キンー1、2.3.6−チトラヒドロピリダジニル)〕
メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレートo、
075 y (収車78.9%)を得る。尚、この化
合物の物性(IR,NMI値)は、実施例1−111で
侍へ−ものと一致した。
H−)f2+ [11で得らγしたジフェニルメチル
=7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル
)−グリオキンルアミド’J−1−1(1−(5,6−
シオギンー1.2,3.6−チトラヒドロビリダジニノ
0〕メチル)−ム3−セフェムー4−カルボキンレー)
0.099を、N、 N−ジメチルアセトアミド0、
45 tIgに俗解させ、水冷下、メトキシア(ン堪酸
す、Q0028S4をガロえ15〜20℃で15)爬r
間反応させる。反し終了後、反応液を水2. Q rn
lおよびff1i酸エチル20−の混合浴媒中へ尋人し
5、有機層を分取する。水、飽相良塩水でIl′fi、
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
に溶媒を留去する。残留物にジイングロビルエーテルな
加えて結晶をf取すれば、融点171〜176℃(分解
)を示すジフェニルメチル=7−[,2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(シン)−メトキ
シイミノアセトアミド〕−3−1(1−(3,6−ジオ
キンー1、2.3.6−チトラヒドロピリダジニル)〕
メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレートo、
075 y (収車78.9%)を得る。尚、この化
合物の物性(IR,NMI値)は、実施例1−111で
侍へ−ものと一致した。
実施例;8
il+ 2− (2−1−リチルアミノチアゾールー
4−イル)−2−(シン) −tart、−ブトキシカ
ルボニルメトキシイミノ酢酸5.44 S’をN、 N
−ジメチルアセトアミド27.2 a/に俗解させ、−
10℃でオキシ堪化燐260yを滴下し、−5〜0℃で
1時間反L6させる。ついでジフェニルメチル−7−ア
タノー3−((1−(3,6−シオキンー1.2.3.
6−チトラヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ3−セ
フェムー4−カルボキンレート490νおよび無水塩化
メチレン10dを加え、−5〜0℃で1時間反応させる
。反応終了後、反応液を水100紅およびU[酸エチル
100Nの混合浴媒中へ尋人し、炭酸水素ナトリウムで
PH7,OK調整する。ついで有機層を分取し、無水(
流酸マグネンワムで乾燥した後、減圧下に蔭媒を留去し
、残留物をカラムクロマトグラフィー (:1−L1元
7リカゲルc−200,展1刑酊奴pりロロポルム:メ
タノール=200 : 1 )テFit製すれif、融
点126〜13oc(分M)をボずジフェニルメチル−
7−C2−(2−トIJ チルアごフチアゾール−4−
イル)−2−(ン/)−tert、 −ブトキシカル
ボニルメトキシイミノアセトアミド:]−3−(〔1−
(3,s−ジオキン1、2.5.6−テI・ラヒドロビ
リダジニル)〕メチル)−ム3−セノエムー4−カルボ
キ7レート7、20 y (収?j470.9%)を得
る。
4−イル)−2−(シン) −tart、−ブトキシカ
ルボニルメトキシイミノ酢酸5.44 S’をN、 N
−ジメチルアセトアミド27.2 a/に俗解させ、−
10℃でオキシ堪化燐260yを滴下し、−5〜0℃で
1時間反L6させる。ついでジフェニルメチル−7−ア
タノー3−((1−(3,6−シオキンー1.2.3.
6−チトラヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ3−セ
フェムー4−カルボキンレート490νおよび無水塩化
メチレン10dを加え、−5〜0℃で1時間反応させる
。反応終了後、反応液を水100紅およびU[酸エチル
100Nの混合浴媒中へ尋人し、炭酸水素ナトリウムで
PH7,OK調整する。ついで有機層を分取し、無水(
流酸マグネンワムで乾燥した後、減圧下に蔭媒を留去し
、残留物をカラムクロマトグラフィー (:1−L1元
7リカゲルc−200,展1刑酊奴pりロロポルム:メ
タノール=200 : 1 )テFit製すれif、融
点126〜13oc(分M)をボずジフェニルメチル−
7−C2−(2−トIJ チルアごフチアゾール−4−
イル)−2−(ン/)−tert、 −ブトキシカル
ボニルメトキシイミノアセトアミド:]−3−(〔1−
(3,s−ジオキン1、2.5.6−テI・ラヒドロビ
リダジニル)〕メチル)−ム3−セノエムー4−カルボ
キ7レート7、20 y (収?j470.9%)を得
る。
l1l(KBr) crn−1: νc=0 1780
.1725゜1690〜166O NMR(d6DMSO)δ値: 1.41 (9H,s、 −C11xX3)。
.1725゜1690〜166O NMR(d6DMSO)δ値: 1.41 (9H,s、 −C11xX3)。
562 (211+ b s* L HH)+4.50
(2f(、a、 −OCHw co )。
(2f(、a、 −OCHw co )。
494(2it、 bs+、 ”>。、、 >。
b、 12 (I H,d、 J =5Hz、 Cm−
H)。
H)。
575ぐ11(、dd、J=5Hz、J=8)1z、0
7 H)。
7 H)。
6.74 (I JI、s、 −C1(ぐ )。
6.88 (I H,a、 二I□)。
7.01〜Z61(251(、m、 ヘ◇x5)。
8、78 (I H,b s、 (恢c NH−)。
9.45(1H,d、 J=8Hz、 −CONH)
同様にして、次の化合物を得た。
同様にして、次の化合物を得た。
0 ジフェニルメチル−7−1:2−(2−トリチルア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(シン) −tar
t、−ブトキシカルボニルメトキシイミノアセトアミド
〕−5−(C1−<5−メチル−6−オキソ−1,6−
シヒドロビリダジニル)〕メチル)−が−セフェムー4
−カルボキシレート 開!点:118〜12o℃(分解) IR(KBr) cm−’ : vc=0 1780
.1720゜66O NMI((da DMSO)δ値: 1、41 (9H,a、 −CH1X3 )。
ミノチアゾール−4−イル)−2−(シン) −tar
t、−ブトキシカルボニルメトキシイミノアセトアミド
〕−5−(C1−<5−メチル−6−オキソ−1,6−
シヒドロビリダジニル)〕メチル)−が−セフェムー4
−カルボキシレート 開!点:118〜12o℃(分解) IR(KBr) cm−’ : vc=0 1780
.1720゜66O NMI((da DMSO)δ値: 1、41 (9H,a、 −CH1X3 )。
2.15(3H,a、 >−cHl)。
’−5,55(2I(、bi、 Cm −1O。
4りろ(2H,8,−ocx−6co−)。
4.89.5.21 (2H,ABQ、 J=151(
z、 ”Q。、 )。
z、 ”Q。、 )。
5.15(I H,d、 、1=5Hz、 C61
゜5.8 0 (I H,dd、 J=51(
z、 J=8Hz、 Ct −H)。
゜5.8 0 (I H,dd、 J=51(
z、 J=8Hz、 Ct −H)。
6、76 (I H,s、 CH< ) 。
6、B 1.7.02(2H,AHq、 J=10Hz
、 ■iρ。
、 ■iρ。
6、q4(iH,s、 ’、J[、、)。
7、I15〜7.79(25H,m、 −@X5)。
877(月(、118,(@か、い旦−)。
9.48(IH,d、、1=8Hz、 PONK−)
+2) IJlテ得られたジフェニルメチル−7−(
2−トリメチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(
シン) −tert*−ブトキシカルボニルノトキシイ
ミノアセトアξに]−3−([1−(6,6−シオキン
ー1. 2, 3, 6−チトラヒドロビリダジニル)
]メチル)−カーセフェム−4−カルボキシレート5.
0 Pを、トリフルオロり口li(25都およびアニ
ソール5μの混合溶媒に泊)1即させ、室温で1時間反
応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物
にジエγルエーテルを加え又結晶を2取する。ついでこ
の結晶を50%ギ酸水溶液50μに俗解させ、40〜5
0℃で2時曲反1;さゼる。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、残留物に酢酸エチルを270えて結晶をP取
する。酢酸エチルで十分洗浄した後乾燥ずれば、融点1
90〜193℃(分解)を示す7−(2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(シン)−力ルボキシメ
トキシイミノアセトアミド)−3−( ( 1−( 3
.6−シオキンー1, 2, 5, 6−チトラヒドロ
ビリダジニル)〕メチル)−Δ3ーセフェムー4ーカル
ボン酸のギ酸塩1. 9 7 9 (収率72.7%)
を得る。
+2) IJlテ得られたジフェニルメチル−7−(
2−トリメチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(
シン) −tert*−ブトキシカルボニルノトキシイ
ミノアセトアξに]−3−([1−(6,6−シオキン
ー1. 2, 3, 6−チトラヒドロビリダジニル)
]メチル)−カーセフェム−4−カルボキシレート5.
0 Pを、トリフルオロり口li(25都およびアニ
ソール5μの混合溶媒に泊)1即させ、室温で1時間反
応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物
にジエγルエーテルを加え又結晶を2取する。ついでこ
の結晶を50%ギ酸水溶液50μに俗解させ、40〜5
0℃で2時曲反1;さゼる。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、残留物に酢酸エチルを270えて結晶をP取
する。酢酸エチルで十分洗浄した後乾燥ずれば、融点1
90〜193℃(分解)を示す7−(2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(シン)−力ルボキシメ
トキシイミノアセトアミド)−3−( ( 1−( 3
.6−シオキンー1, 2, 5, 6−チトラヒドロ
ビリダジニル)〕メチル)−Δ3ーセフェムー4ーカル
ボン酸のギ酸塩1. 9 7 9 (収率72.7%)
を得る。
IR(KBr) aml: vc=0 1770,
1710。
1710。
1660、163O
NMB ( da −DMSO )δ値:3J4( 2
H, bs, C, −H)。
H, bs, C, −H)。
4、6 3 ( 2H, g, OCHx CO )
。
。
4、98 ( 2H, bs, )鳳)。
5、1 0 ( I H, d, J=5Hz, Cg
H)。
H)。
5、77( IH, dd, J−5Hz, J=8H
z, Ct −Ii)。
z, Ct −Ii)。
9、 5 1 ( I H, d, 、T =8Hz
, −CONH − )同行にして、次の化合物を得
た。
, −CONH − )同行にして、次の化合物を得
た。
0 7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−(シン)−力ルボキゾメトキシイミノアセトアミ
ド] − 3−( [ 1−( 3−メチル−6−オキ
ソ−16−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−ム3ー
セフェムー4ーカルボン酸のギ酸塩 融点:194〜197℃(分解) 11((Kf3r) cm 、 νc=0 17
70, 1710。
−2−(シン)−力ルボキゾメトキシイミノアセトアミ
ド] − 3−( [ 1−( 3−メチル−6−オキ
ソ−16−シヒドロビリダジニル)〕メチル)−ム3ー
セフェムー4ーカルボン酸のギ酸塩 融点:194〜197℃(分解) 11((Kf3r) cm 、 νc=0 17
70, 1710。
1 6 9 0〜1 6 6 O
NMi+( ds −1)M2O )δ値:2、2 8
( 3 H, s, +:)−C H3)。
( 3 H, s, +:)−C H3)。
3、43(2鵬bs, C2 H)。
4、7 5 ( 21(、 s, OCH2Co−)
。
。
5、1 4( IH, d, J=5Hz, Ca H
)。
)。
5、23( 2H, bB, 8美−一)95、88
( IH, dd, J=5nz, J=8)lx,
Ct H)。
( IH, dd, J=5nz, J=8)lx,
Ct H)。
6、9 6, 7.4 6 ( 2H, ABQ.J=
10Hz, 耳)。
10Hz, 耳)。
7、01(IH, s, 誹H)。
7、 8 0 ( 3H, bs, NHs )。
9、 7 6 ( i H, d, J=81(z,
−CONH−)実施例9。
−CONH−)実施例9。
Ill 2 (2 tert.−アミルオキシカ
ルボキサミトチアゾール−4−イル)酢酸2. 7 2
9を無水塩化メナVン4QJI7に耐解させ、N−メ
チルモルホリン1. 1 1 9を刃口え、反応液を一
60℃に冷却する。ついでクロロ炭酸エチル114ノを
加え、−30〜−20℃で1時間反応させた後、ジフェ
ニルメチル−7−アミノ−3−(CI−(6ロージオキ
ンー126ローテトラヒドロビリタシニル)〕メチル)
−△1ーセフェムー4ーカルボキンレート490gを刃
口えて−60〜−20℃で1時回、さらに−10〜0℃
で2時間反応させる。反応終了後、減圧ドに溶媒を留去
し、残留物に酢酸エチル50mおよび水5Qst/を加
え、炭酸A<累す) IIウムでpH7,0に調繋する
。ついで有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、減圧下にf?#W:を留去し、残留物に7エチ
ルエーテルを加えて結晶をP取すわば、融点166〜1
69℃(分解)を示−4ジフェニルメチル−7C2−(
2−tert、 −アミルオキシカルボキサミトチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−5−([1−(36
−シオキンー1.2.5.6−チトラヒトロビリダジニ
ル)〕メチル)−Δ5−セフェムー4−カルホキシレー
トロ、 159 (収率82.7%)を得る。
ルボキサミトチアゾール−4−イル)酢酸2. 7 2
9を無水塩化メナVン4QJI7に耐解させ、N−メ
チルモルホリン1. 1 1 9を刃口え、反応液を一
60℃に冷却する。ついでクロロ炭酸エチル114ノを
加え、−30〜−20℃で1時間反応させた後、ジフェ
ニルメチル−7−アミノ−3−(CI−(6ロージオキ
ンー126ローテトラヒドロビリタシニル)〕メチル)
−△1ーセフェムー4ーカルボキンレート490gを刃
口えて−60〜−20℃で1時回、さらに−10〜0℃
で2時間反応させる。反応終了後、減圧ドに溶媒を留去
し、残留物に酢酸エチル50mおよび水5Qst/を加
え、炭酸A<累す) IIウムでpH7,0に調繋する
。ついで有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、減圧下にf?#W:を留去し、残留物に7エチ
ルエーテルを加えて結晶をP取すわば、融点166〜1
69℃(分解)を示−4ジフェニルメチル−7C2−(
2−tert、 −アミルオキシカルボキサミトチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−5−([1−(36
−シオキンー1.2.5.6−チトラヒトロビリダジニ
ル)〕メチル)−Δ5−セフェムー4−カルホキシレー
トロ、 159 (収率82.7%)を得る。
■ R(+ぐBr) cw 、 νC=
0 1780. 1720.1 665NMn(d
6−DMSO)δ値: 1.85(2)1. Q、 J=7Hz、 CH++
CH2−C−)。
0 1780. 1720.1 665NMn(d
6−DMSO)δ値: 1.85(2)1. Q、 J=7Hz、 CH++
CH2−C−)。
3.47(2,F’、 ha、 Ct H)。
3.67(2)1. s、 NT虫00− )
。
。
5.07 (21(、b誌、>3)。
5.91 (I I(、dd、 J=5Hz、 J =
8 Hz、 C7−H)。
8 Hz、 C7−H)。
6.99.7.14(2H,ABq、 J=10Hz、
XH)。
XH)。
7.09(1H,a、 C1(ぐ )。
7.24〜7.87(IOH,m、 ヘ◇x2)。
9、17 (I H,d、 J=8Hz、 −CON
H−)。
H−)。
11.37(11(、ba、 CONM )(2
+ +11で得られたジフェニルメチル−7−[2−
(2−tert、−アミルオキシカルボキサミトチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド]−3−(111−(3
,6−シオキンー1.2.3.6−チトラヒドロビリダ
ジニル)L%チル1−Δ1−セ、フエムー4−カルボキ
シレー1−6.09を、トリフルオロ酢酸30社および
アニソール61の混合温媒に溶解させ、室温で2時間反
応させる。反応終了後、減圧下に俗媒を留去し、残留物
にジエチルエーテルτ加えて結晶を1取し、ジエチルエ
ーテルで十分洗浄した後、乾燥すれば、融点200 ’
C以上を示す7−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−6−((−1−(5,6−シオ
キンー1,2,3.6−チトラヒド胛ピリダジニル)〕
メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸のトリフ、
ルオロ酢酸垣4.20g(収率901%)を得る。
+ +11で得られたジフェニルメチル−7−[2−
(2−tert、−アミルオキシカルボキサミトチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド]−3−(111−(3
,6−シオキンー1.2.3.6−チトラヒドロビリダ
ジニル)L%チル1−Δ1−セ、フエムー4−カルボキ
シレー1−6.09を、トリフルオロ酢酸30社および
アニソール61の混合温媒に溶解させ、室温で2時間反
応させる。反応終了後、減圧下に俗媒を留去し、残留物
にジエチルエーテルτ加えて結晶を1取し、ジエチルエ
ーテルで十分洗浄した後、乾燥すれば、融点200 ’
C以上を示す7−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−6−((−1−(5,6−シオ
キンー1,2,3.6−チトラヒド胛ピリダジニル)〕
メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸のトリフ、
ルオロ酢酸垣4.20g(収率901%)を得る。
IR(KBr) cm 、 ν(’:=Q 177
0.1710゜1670.163O NMB (da DMSO)δ値: ろ43(211,ba、 CI−H)。
0.1710゜1670.163O NMB (da DMSO)δ値: ろ43(211,ba、 CI−H)。
367(2H,s、 ;、T−””’−)。
508(21(、bs、s年。−)。
5.16(111,d、 J=5Hz、 Ce ji
)。
)。
5、78 (1H,d d、 J−5H2+ J□BH
4cr−H)#6.76(IH,a、 、’支1□)
。
4cr−H)#6.76(IH,a、 、’支1□)
。
7.01.7.14(2H,ABq、 J=101iz
、 z、”、)。
、 z、”、)。
9.29(LFI、 d、 J=8Hz、 −CONH
−)実施例10 (11ジフェニルメチル−7−(4−ブロモ−3−オキ
ソブチルアミド)−3−t C,1−(3,6−ジオご
そンー1.2.5.6〜テトラヒドロピリダジニル)〕
メチルi −、s−セフェム−4−カルボキシレート0
.59 :j6 、J:ひf 第14 J’= 0.0
87 WをN。
−)実施例10 (11ジフェニルメチル−7−(4−ブロモ−3−オキ
ソブチルアミド)−3−t C,1−(3,6−ジオご
そンー1.2.5.6〜テトラヒドロピリダジニル)〕
メチルi −、s−セフェム−4−カルボキシレート0
.59 :j6 、J:ひf 第14 J’= 0.0
87 WをN。
N−ジメナ゛レアセトアばド25−に訂解させ、室7品
で1時間反応させる。反る終了後、反応液7水50紅お
よび酢酸エテル50Mの混合浴媒中へ4人し、炭酸水素
すトリウムでp H6,5に調整する。有機層を分取し
無水硫酸マグ坏シウムで乾燥1.た後、減圧下に旧麻を
留去する。ついで残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をP取し、ジエチルエーテルで+が洗浄した後乾燥7
4− 、n、ば、A(!II点182〜185℃(/I
f解)を示すジフェニルメチル=7−(2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−6−((1
−3,6−シオキノー1.2.5.6−チトラヒドロビ
リダジニル)〕メチル)−△8−セフェムー4−カルボ
シゾレート0.3 s y (収率72,9%)を得る
。
で1時間反応させる。反る終了後、反応液7水50紅お
よび酢酸エテル50Mの混合浴媒中へ4人し、炭酸水素
すトリウムでp H6,5に調整する。有機層を分取し
無水硫酸マグ坏シウムで乾燥1.た後、減圧下に旧麻を
留去する。ついで残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をP取し、ジエチルエーテルで+が洗浄した後乾燥7
4− 、n、ば、A(!II点182〜185℃(/I
f解)を示すジフェニルメチル=7−(2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−6−((1
−3,6−シオキノー1.2.5.6−チトラヒドロビ
リダジニル)〕メチル)−△8−セフェムー4−カルボ
シゾレート0.3 s y (収率72,9%)を得る
。
I 11 (KB r ) 傭−シC−0 1780p
1720p 1665NMH(da DhlSO+
Ll! O) 611[L :5.58(4H,bs、
CI−)L ”[””0−)。
1720p 1665NMH(da DhlSO+
Ll! O) 611[L :5.58(4H,bs、
CI−)L ”[””0−)。
5.14(2H,ba、 8>。、、−)。
−5,27(if(、d、J=5Hz、Cm H)。
5.95(IH,dd、J=5Hz、J=8Hz、C?
−H)。
−H)。
656(1H2B、:XI″H)・
z16(1xx、 B、 −CH< )。
7.11.7.36(2H,ABQ、 J=10Hz、
][”)。
][”)。
7、55〜7.94(10H,m、 べ◇x2)+2
1 [11で得られたジフェニルメチル−7−42−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−(〔1−(5,6−シオキンー1.2゜36−チト
ラヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ1−セフェムー
4−カルボキシレート0.39をトリフルオロ酢酸t
51tおよびアニソールQ、 5 mlの混合溶媒に俗
解させ、室温で2時間反応させる。反応終了後、減圧下
に俗媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを〃目えて
結晶を1取すれは、融点200℃以上を示す7−[2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−
6〜((1−(5,6−シオキンー1.2.3.6−チ
トラヒドロビリダジニル)〕メチ/I/’J−Δ”−セ
7エムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩0.24
y (収率85.7%)を得ろ。尚、この化合物の物
性(I)l、 NMR値)は、実施例9−+21で得た
ものと一致した。
1 [11で得られたジフェニルメチル−7−42−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−(〔1−(5,6−シオキンー1.2゜36−チト
ラヒドロビリダジニル)〕メチル)−Δ1−セフェムー
4−カルボキシレート0.39をトリフルオロ酢酸t
51tおよびアニソールQ、 5 mlの混合溶媒に俗
解させ、室温で2時間反応させる。反応終了後、減圧下
に俗媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを〃目えて
結晶を1取すれは、融点200℃以上を示す7−[2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−
6〜((1−(5,6−シオキンー1.2.3.6−チ
トラヒドロビリダジニル)〕メチ/I/’J−Δ”−セ
7エムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩0.24
y (収率85.7%)を得ろ。尚、この化合物の物
性(I)l、 NMR値)は、実施例9−+21で得た
ものと一致した。
%計量願人 富山化学工業株式会社
富山市大泉中町7−52
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 一般式 %式% シル、アルコキシカルボニル、シクロアルキルオキシカ
ルボニル、アシルオキシカルボニル、アルアルキルオキ
シカルボニル、スルホ、アルキルスルホニル、シクロア
ルキルスルホニル、アリールスルホニル、複素環スルホ
ニル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ジアルキ
ルカルバモイル、チオカルバモイル、アルキルチオカル
バモイル、ジアルキルチオカルバモイル、アシルカルバ
モイル、アシルチオカルバモイル、。 アルキルスルホニルカルバモイル、アリールスルホニル
カルバモイル、アルキルスルホニルチオカルバモイルま
たはアリールスルホニルチオカルバモイル基を示す。)
で表わされる7■仝を、R3は水素原子またはアルコキ
シ基を、R4は水素原子またはハロゲン原子を、R5は
水素原子または保獲されていてもよいアミン基を、Aは
式−C15−またはで表わされるセファロスポリンおよ
びその塩類。 (21R”が水素原子である特許請求の範囲第(1)項
記載のセファロスポリンおよびその塩類。 (3)R4が水素原子である特許請求の範囲第(1)ま
た(4J R’がアミノ基である特許請求の範囲第(
1)〜(3)項℃・ずれかの項記載のセファロスポリン
およびその塩類。 意味を有する。)で表わされる基である特許請求の範囲
第(1)〜(4)項(・ずれかの項記載のセファロスポ
リンおよびその塩類。 (6) B10が置換されてし・てもよいアルキル基
である特許請求の範囲第(1)〜(5)項(・ずれかの
項記載のセファロスポリンおよびその塩類。 で表わされる基である特許請求の範囲第(IJ〜(6)
項いずれかの項記載のセファロスポリンおよびその塩類
。 R1は前記した意味を有する。)で表わされる基である
特許請求の範囲第(1)〜(6)項(・ずれかの項記載
のセファロスポリンおよびその塩類。 前記した意味を有する。)で表わされる基である特許請
求の範囲第(1)〜(6)項いずれかの項記載のセファ
ロスポリンおよびその塩類。 前記した意味を有する。)で表わされる基である特許請
求の範囲第(1)〜℃G)項(・ずれかの項記載のセフ
ァロスポリ/およびその塩類。 葛ン1為 はi1J記した意味を有する。)で表わされる基である
特許請求の範囲第(1)〜(6)項いずれかの項記載の
セファロスポリンおよびその塩類。 (12+ 7− [2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド
:) −3−((1−(316−シオキソー1゜2.3
.6−チトラヒドロピリダジニル)〕エステル−Δ3−
セフェムー4−カルボン勲、ソのエステルまたはそれら
の塩である牛〒「l請求の範囲第(9)項記載の化合物
。 (13;I 7− C2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド)−3−((1−(346−シオキソー1
.2,3.6〜テトラヒドロピリダジニル)〕エステル
−Δ染フエムー4−カルボン酸、ソのエステルまたはそ
れらの塩である特許請求の範囲第(9)項記載の化合物
。 (14) 7− [2−(2−アミノチアゾール−4
−イル) −2−(シン)−メトキシイミノアセトアミ
ド)−3−([1−(3−メチル−6−オキソ−1,6
−シヒドロビリダジニル)〕エステル−Δ3−セフェム
ー4−カルボン酸、ソのエステルまたはそれらの塩であ
る特許請求の範囲第00)項1j12載の化合物。 (i51 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル’) −2−(シン)−カルポキシメトキシイミノア
セトアミド)−3i[1−(3−メチル−6−オキソ−
1,6−シヒドロピリグジニル)〕メチル)−Δ3−セ
フェムー4−カルボン酸、そのエステルまたはそれらの
塩である特許請求の範囲第四項記載の化合物。 (16) 7− (2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド
)−3−(〔x−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピラ
ジニル)〕メチル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸
、てのエステルまたはそれらの垣である特許請求の範囲
第01)項記載の化合物。
Priority Applications (22)
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---|---|---|---|
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DK521883A DK521883A (da) | 1982-11-17 | 1983-11-15 | Cephalosporinderivater, fremgangsmaade til fremstilling heraf og fremgangsmaade til fremstilling af mellemprodukter herfor |
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DE19833341591 DE3341591A1 (de) | 1982-11-17 | 1983-11-17 | Neue cephalosporine, verfahren zur herstellung derselben und antibakterielle mittel mit einem gehalt derselben |
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Cited By (1)
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-
1983
- 1983-04-19 JP JP58067871A patent/JPS59193893A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6190395A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0542758B2 (ja) * | 1984-10-09 | 1993-06-29 | Fujitsu Ltd |
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