JPS59164762A - 第２アミンからニトロンを合成する方法 - Google Patents
第２アミンからニトロンを合成する方法Info
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- JPS59164762A JPS59164762A JP58038436A JP3843683A JPS59164762A JP S59164762 A JPS59164762 A JP S59164762A JP 58038436 A JP58038436 A JP 58038436A JP 3843683 A JP3843683 A JP 3843683A JP S59164762 A JPS59164762 A JP S59164762A
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- JP
- Japan
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- nitron
- secondary amine
- synthesis
- solvent
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D217/00—Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems
- C07D217/02—Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems with only hydrogen atoms or radicals containing only carbon and hydrogen atoms, directly attached to carbon atoms of the nitrogen-containing ring; Alkylene-bis-isoquinolines
- C07D217/08—Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems with only hydrogen atoms or radicals containing only carbon and hydrogen atoms, directly attached to carbon atoms of the nitrogen-containing ring; Alkylene-bis-isoquinolines with a hetero atom directly attached to the ring nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C291/00—Compounds containing carbon and nitrogen and having functional groups not covered by groups C07C201/00 - C07C281/00
- C07C291/02—Compounds containing carbon and nitrogen and having functional groups not covered by groups C07C201/00 - C07C281/00 containing nitrogen-oxide bonds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、第２アミンからニトロンを合成するための方
法に関する。
法に関する。
従来、第２アミンの酸化により一段階でニトロンを１−
合成する方法は開発されていない。
金属触媒の存在下で第２アミンを酸化すると、ニトロン
の前駆体であるＮ、Ｎ−１２置換ヒドロキシアミンが得
られることは知られているが、一般に収率も低く、多く
の副生成物を生成するという問題点がある。
の前駆体であるＮ、Ｎ−１２置換ヒドロキシアミンが得
られることは知られているが、一般に収率も低く、多く
の副生成物を生成するという問題点がある。
そこで、本発明は、第２アミンから、金属錯体触媒を用
いて、有機合成上有用な中間体であるニトロンを、一段
階で、しかも効率良く得るようにした方法を提供するこ
とを目的とするものである。
いて、有機合成上有用な中間体であるニトロンを、一段
階で、しかも効率良く得るようにした方法を提供するこ
とを目的とするものである。
このため本発明の方法は、タングステン化合物、モリブ
デン化合物、バナジウム化合物、チタニウム化合物。
デン化合物、バナジウム化合物、チタニウム化合物。
パラジウム化合物、ロジウム化合物、ルテニウム化合物
またはニッケル化合物の存在下で、水素原子、アルキル
基またはアリール基であるＲ ｌ 、 Ｒ２およびアル
キル基またはアリール基であるＲ３を含んだ一般式で表
わされる化合物を、過酸化物と反応させて、ニトロンを
合成する４とを特徴としている。
またはニッケル化合物の存在下で、水素原子、アルキル
基またはアリール基であるＲ ｌ 、 Ｒ２およびアル
キル基またはアリール基であるＲ３を含んだ一般式で表
わされる化合物を、過酸化物と反応させて、ニトロンを
合成する４とを特徴としている。
＝２−
なお、上述のアルキル基としてのＲ，ｌ 、 Ｒ２、Ｒ
３は、飽和もしくは不飽和のアルキル基、シクロアルキ
ル基。
３は、飽和もしくは不飽和のアルキル基、シクロアルキ
ル基。
アラルキル基、ヘテロ環残基または置換基を有するアル
キル基を示す。
キル基を示す。
また、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は、これらが結合する炭素原子
と共にヘテロ原子を介し、または介することなく互いに
結合して飽和もしくは不飽和の環を形成してもよく、該
環」二には置換基が結合してもよい。
と共にヘテロ原子を介し、または介することなく互いに
結合して飽和もしくは不飽和の環を形成してもよく、該
環」二には置換基が結合してもよい。
本発明の方法における反応は、溶媒を用いても用いなく
てもよいが、極性溶媒や非極性溶媒を用いることがでト
る。反応温度は、−１０’Ｃから１５０°Ｃで可能であ
る。この反応系にニトロンの授容体を共存させてもよく
、特にオレフィンを共存させると、ニトロンの付加物が
効率良く得られる。
てもよいが、極性溶媒や非極性溶媒を用いることがでト
る。反応温度は、−１０’Ｃから１５０°Ｃで可能であ
る。この反応系にニトロンの授容体を共存させてもよく
、特にオレフィンを共存させると、ニトロンの付加物が
効率良く得られる。
後述の実施例では窒素下で反応が行なわれているが、必
ずしもその必要はない。
ずしもその必要はない。
本発明の方法により得られるニトロンのオレフィンへの
付加物はアルカロイド等の生理活性物質の前駆体であり
、有用な物質である。
付加物はアルカロイド等の生理活性物質の前駆体であり
、有用な物質である。
３−
またオレフィンの共存下でアミンを酸化すると、ニトロ
ンの付加物が直接合成できるので、工業的にも非常に有
効であると期待される。
ンの付加物が直接合成できるので、工業的にも非常に有
効であると期待される。
本発明の方法では、第２アミンを金属錯体触媒存在下で
過酸化物と反応させることにより、相当するニトロンが
高収率で得られるのであるが、酸化剤としては過酸化水
素９ｍ−クロロ過安息香酸、し一ブチルヒドロパーオキ
シド等の過酸化物が良く、触媒としてはパランラム黒、
塩化パラシ゛ウム、五酸化バナノウム、酸化バナノウム
アセチルアセトナート、酸化モリブデンアセチルアセト
ナート、チタンテトラブトキシド、モノマー。
過酸化物と反応させることにより、相当するニトロンが
高収率で得られるのであるが、酸化剤としては過酸化水
素９ｍ−クロロ過安息香酸、し一ブチルヒドロパーオキ
シド等の過酸化物が良く、触媒としてはパランラム黒、
塩化パラシ゛ウム、五酸化バナノウム、酸化バナノウム
アセチルアセトナート、酸化モリブデンアセチルアセト
ナート、チタンテトラブトキシド、モノマー。
無水タングステン酸、タングステン酸ナトリウム等を用
いることができるが、過酸化水素−タングステン酸ナト
リヴム系が最も良い結果を与える。溶媒としてはジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒を
用いることかで＞ｇが、水、メタノール、水−アルコー
ル混合溶媒等も良い結果を４えた。
いることができるが、過酸化水素−タングステン酸ナト
リヴム系が最も良い結果を与える。溶媒としてはジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒を
用いることかで＞ｇが、水、メタノール、水−アルコー
ル混合溶媒等も良い結果を４えた。
次に、メタノールあるいは水を溶媒として、触媒である
タングステン酸ナトリウムの存在下、基質に対し４− ３倍当量の過酸化水素を用いて反応した例を示しておく
。
タングステン酸ナトリウムの存在下、基質に対し４− ３倍当量の過酸化水素を用いて反応した例を示しておく
。
表１の実験例を行なった条件としては、第２アミン（５
ｍｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム（０，２ｍｍｏ
ｌ）、過酸化水素（１５ｍｍｏｌ）、溶媒（メタ７−ル
を使用する場合。
ｍｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム（０，２ｍｍｏ
ｌ）、過酸化水素（１５ｍｍｏｌ）、溶媒（メタ７−ル
を使用する場合。
１０ｍρ；水を使用する場合、２ｍ＋２）が用いられ、
反応温度は０°Ｃ１反応時間は３時間である。一般的操
作は次の実施例と同様である。
反応温度は０°Ｃ１反応時間は３時間である。一般的操
作は次の実施例と同様である。
（１）２−メチル−３，４，５，６−テトラヒドロピリ
ジノイソオキサゾールの合成 ２０ｍＱのナス型フラスコに磁気撹拌子を入れ、ここに
タングステン酸ナトリウム（６６ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ
）を加え、窒素置換する。ここに水（２ｍｆｆ）、つづ
いて２−メチルピペリジン（４９５ｍｇ、５．０ｍｍｏ
ｌ）を加え、水冷下に０℃で３０％の過酸化水素水（１
，７Ｆｉ、ｉ、 ５ 、０ｍｍｏ ！ ）を撹拌しなが
ら１０分間で加える。滴下終了後、室温にて６時間撹拌
を行なう。反応混合物を塩化メチレン（５０Ｊ）で２回
抽出する。有機層を飽和食塩水（２０ｍρ）で洗い、硫
酸マグネシウムで乾５− 表 １ 第２アミノ 溶 媒 生 成 物
単離収率（イ）＋ （Ｃ４Ｈ９）２ＮＨＣＨ３０Ｈ−ＣｔＴ（＊Ｎ（０）＝
ＣＴ＋Ｃ３Ｈ７８９＋ （ｉ−Ｃ３Ｈ？）２ＮＨＣＨ３０Ｈ１−ｃ３ＨｙＮ（０
）＝Ｃ（ｃＴ（３）２７４＋ （ＣｓＨｓＣＨ２）＋＋ＮＨＣＨ３０ＨＣ６Ｈ３ＣＨ２
Ｎ（０）＝ＣＨＣ６Ｔ（ｓ ８５Ｃ６Ｈ５ＣＴ（
＝Ｎ ＯＨ３３ 燥する。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより単離精製し、２−メチル−３，４，
５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシド（４２９
ｍｇ、７６％）を得た。
ジノイソオキサゾールの合成 ２０ｍＱのナス型フラスコに磁気撹拌子を入れ、ここに
タングステン酸ナトリウム（６６ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ
）を加え、窒素置換する。ここに水（２ｍｆｆ）、つづ
いて２−メチルピペリジン（４９５ｍｇ、５．０ｍｍｏ
ｌ）を加え、水冷下に０℃で３０％の過酸化水素水（１
，７Ｆｉ、ｉ、 ５ 、０ｍｍｏ ！ ）を撹拌しなが
ら１０分間で加える。滴下終了後、室温にて６時間撹拌
を行なう。反応混合物を塩化メチレン（５０Ｊ）で２回
抽出する。有機層を飽和食塩水（２０ｍρ）で洗い、硫
酸マグネシウムで乾５− 表 １ 第２アミノ 溶 媒 生 成 物
単離収率（イ）＋ （Ｃ４Ｈ９）２ＮＨＣＨ３０Ｈ−ＣｔＴ（＊Ｎ（０）＝
ＣＴ＋Ｃ３Ｈ７８９＋ （ｉ−Ｃ３Ｈ？）２ＮＨＣＨ３０Ｈ１−ｃ３ＨｙＮ（０
）＝Ｃ（ｃＴ（３）２７４＋ （ＣｓＨｓＣＨ２）＋＋ＮＨＣＨ３０ＨＣ６Ｈ３ＣＨ２
Ｎ（０）＝ＣＨＣ６Ｔ（ｓ ８５Ｃ６Ｈ５ＣＴ（
＝Ｎ ＯＨ３３ 燥する。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより単離精製し、２−メチル−３，４，
５，６−テトラヒドロピリジン−１−オキシド（４２９
ｍｇ、７６％）を得た。
（２）３．４−ジヒドロイソキノリン−２−オキシドの
合成 ３００ｍｇのナス型フラスコに磁気撹拌子を入れ、ここ
にタングステン酸ナトリウム（０，３３ｇ、１．０ ｍ
ｍｏｌ ）を加え、窒素置換する。ここにメタノール（
２００ｍｇ）つづいて１，２，３．４−テトラヒドロイ
ソキノリン（６，６５ｇ、５０．Ｏｍｍｏｌ）を加える
。この混合溶液に３０％過酸化水素水（１７，Ｏｇ、１
５０．Ｏｍｍｏｌ）を撹拌しながら０℃にて３０分間で
滴下する。室温で３時間撹拌後、減圧下で溶媒を留去す
る。残渣を塩化メチレン（１００ｍＱ）に溶かし、飽和
食塩水（３０ｍρ）で２回洗う。有機層を分離し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下に溶媒を留去し、黄色
の油状物を得る。この油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにかけ、アセトンで留去させて、ニトロン
の７− ３．４−ジヒドロイソキノリン−２−オキシド（６，５
４ｇ、８９％）を得る。
合成 ３００ｍｇのナス型フラスコに磁気撹拌子を入れ、ここ
にタングステン酸ナトリウム（０，３３ｇ、１．０ ｍ
ｍｏｌ ）を加え、窒素置換する。ここにメタノール（
２００ｍｇ）つづいて１，２，３．４−テトラヒドロイ
ソキノリン（６，６５ｇ、５０．Ｏｍｍｏｌ）を加える
。この混合溶液に３０％過酸化水素水（１７，Ｏｇ、１
５０．Ｏｍｍｏｌ）を撹拌しながら０℃にて３０分間で
滴下する。室温で３時間撹拌後、減圧下で溶媒を留去す
る。残渣を塩化メチレン（１００ｍＱ）に溶かし、飽和
食塩水（３０ｍρ）で２回洗う。有機層を分離し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下に溶媒を留去し、黄色
の油状物を得る。この油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにかけ、アセトンで留去させて、ニトロン
の７− ３．４−ジヒドロイソキノリン−２−オキシド（６，５
４ｇ、８９％）を得る。
（３）２−ブトキシ−１、２、４、５、６−１０ｂ−へ
キサヒドロイソキノリノイソオキサゾールの合成（アル
ケン存在下での第２アミンの酸化の一般操作）冷却管を
つけた２ ０ＩＩｌ、、９の板つきフラスコに磁気撹拌
子を入れ、これにタングステン酸ナトリウム（６６Ｂ、
０．２ ｍｍｏｌ ）を加え窒素置換する。
キサヒドロイソキノリノイソオキサゾールの合成（アル
ケン存在下での第２アミンの酸化の一般操作）冷却管を
つけた２ ０ＩＩｌ、、９の板つきフラスコに磁気撹拌
子を入れ、これにタングステン酸ナトリウム（６６Ｂ、
０．２ ｍｍｏｌ ）を加え窒素置換する。
ここに水（Ｍ）、ブチルビニルエーテル（１，０ｇ＋１
０．０１０１）、ついでテトラヒドロイソキノリン（６
６５ｍｇ＋５、Ｏｍｍｏｌ）を加え、９０℃に加熱する
。ここに３０％過酸化水素水（１、２４，１０，６ｍｍ
ｏｌ）を３０分間で滴下する。同温度で１時間撹拌後、
反応混合物を室温にもどし、クロロホルム（１００ｎ＋
Ｑ）を加える。
０．０１０１）、ついでテトラヒドロイソキノリン（６
６５ｍｇ＋５、Ｏｍｍｏｌ）を加え、９０℃に加熱する
。ここに３０％過酸化水素水（１、２４，１０，６ｍｍ
ｏｌ）を３０分間で滴下する。同温度で１時間撹拌後、
反応混合物を室温にもどし、クロロホルム（１００ｎ＋
Ｑ）を加える。
有機層を飽和食塩水（１０ｍ、９）で洗い、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ溶媒を留去した後、黄色油状物を
得る。この油状物を薄層クロマトグラフィー（シリカゲ
ル、ヘキサン／酢酸エチル＝３７１）により、２−ブト
キシ−１，２，４，５，６，１０ｂ−ヘキサヒト８− 表２ Ｂｕ ９− 表３ １ Ｐｄｂｌａｃｋ ＨｗＯｘ １．ＯＣＨｓＯＨ
Ｏ−２Ｐｄ（ＯＡｃ）２ＨｘＯｘ １．ＯＣＩ（ｓｏ
ＨＯ−３ＰｄＣ１ｘ 、Ｈｇ０２１．ＯＣＨｓＯＨ５
９５４Ｐｄ−ｂｌａｃｋ ｔ（：ａＨｇＯＯＨ１，Ｏ
ＣｓＨｇ ０ −５ Ｐｄ（ＯＡｅ）ｔ ｔ−ｃ
４Ｈ＠ＯＯＨ１，ＯＣｅＨｓ Ｏ−６Ｐｄ−ｂｌａ
ｃｋ ｍｃＰＢＡ １．ＯＣａＨｓ １５５０７
Ｐｄ−ｂｌａｃｋ ｍｃＰＢＡ １．ＯＣ５Ｈｓ
１５７５８ ＶｚＯｓ １（２０２３，ＯＣＨａ
ＯＨ２０５０９ＶＯ（ａｃａｃ）２ＨｔＯｚ ３．Ｏ
ＣＨｓＯＨ１０９５１０Ｍｏｏｔ（ａｃａｃ）ｔ Ｈ２
０ｚ ３．ＯＣＨ３０Ｈ３０９５１１Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ
＠）ｎ ＨｗＯｘ ３．ＯＣＩ（３０Ｈ３０９６１２
ＷＯ３ＨｘＯ２３，ＯＣＨｓＯＨ１０９０１３Ｉ（２Ｗ
Ｏ４Ｈ２（ｈ ３．ＯＣＨｓＯＨ２５９５１４Ｎａｔ
ＷＯ４”２ＨｈＯＨ２０２１，ｏ ＣＨｓＯＨ３５９８
１５Ｎａ２ＷＯ４”２Ｈ２０１ｈＯｘ ２．ＯＣＨｓ
ＯＨ４５９８１６Ｎａ２ＷＯ４”２Ｈ２０ＨｔＣｈ
３．ｏ’ ＣＨｍＯＨ１００９８（８９）１７ Ｎａ２
ＷＯ４”２ＨｘＯＨｘ（ｈ ３．ＯＨｔＯ８０９８（
６０）１８ ＮａｔＷＯ＜＠２ＨｓＯｔ−Ｃ４ＨｓＯＯ
Ｈ３，ＯＣａｂｓ Ｏ−１０− ロイツキ７リノイソオキサゾール（９５ｎｍｌ！、７７
％）を得る。
グネシウムで乾燥させ溶媒を留去した後、黄色油状物を
得る。この油状物を薄層クロマトグラフィー（シリカゲ
ル、ヘキサン／酢酸エチル＝３７１）により、２−ブト
キシ−１，２，４，５，６，１０ｂ−ヘキサヒト８− 表２ Ｂｕ ９− 表３ １ Ｐｄｂｌａｃｋ ＨｗＯｘ １．ＯＣＨｓＯＨ
Ｏ−２Ｐｄ（ＯＡｃ）２ＨｘＯｘ １．ＯＣＩ（ｓｏ
ＨＯ−３ＰｄＣ１ｘ 、Ｈｇ０２１．ＯＣＨｓＯＨ５
９５４Ｐｄ−ｂｌａｃｋ ｔ（：ａＨｇＯＯＨ１，Ｏ
ＣｓＨｇ ０ −５ Ｐｄ（ＯＡｅ）ｔ ｔ−ｃ
４Ｈ＠ＯＯＨ１，ＯＣｅＨｓ Ｏ−６Ｐｄ−ｂｌａ
ｃｋ ｍｃＰＢＡ １．ＯＣａＨｓ １５５０７
Ｐｄ−ｂｌａｃｋ ｍｃＰＢＡ １．ＯＣ５Ｈｓ
１５７５８ ＶｚＯｓ １（２０２３，ＯＣＨａ
ＯＨ２０５０９ＶＯ（ａｃａｃ）２ＨｔＯｚ ３．Ｏ
ＣＨｓＯＨ１０９５１０Ｍｏｏｔ（ａｃａｃ）ｔ Ｈ２
０ｚ ３．ＯＣＨ３０Ｈ３０９５１１Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ
＠）ｎ ＨｗＯｘ ３．ＯＣＩ（３０Ｈ３０９６１２
ＷＯ３ＨｘＯ２３，ＯＣＨｓＯＨ１０９０１３Ｉ（２Ｗ
Ｏ４Ｈ２（ｈ ３．ＯＣＨｓＯＨ２５９５１４Ｎａｔ
ＷＯ４”２ＨｈＯＨ２０２１，ｏ ＣＨｓＯＨ３５９８
１５Ｎａ２ＷＯ４”２Ｈ２０１ｈＯｘ ２．ＯＣＨｓ
ＯＨ４５９８１６Ｎａ２ＷＯ４”２Ｈ２０ＨｔＣｈ
３．ｏ’ ＣＨｍＯＨ１００９８（８９）１７ Ｎａ２
ＷＯ４”２ＨｘＯＨｘ（ｈ ３．ＯＨｔＯ８０９８（
６０）１８ ＮａｔＷＯ＜＠２ＨｓＯｔ−Ｃ４ＨｓＯＯ
Ｈ３，ＯＣａｂｓ Ｏ−１０− ロイツキ７リノイソオキサゾール（９５ｎｍｌ！、７７
％）を得る。
」１記の反応と同じ反応条件下で行なった実施例を表２
にまとめて示す。
にまとめて示す。
さらに表３には、ジブチルアミンの酸化について、酸化
剤および金属錯体触媒の例を示している。
剤および金属錯体触媒の例を示している。
以上詳述したように、本発明の方法によれば、有機合成
上有用な化合物であるニトロンを第２アミンから直接合
成することが可能となり、さらにアルケン共存下で第２
アミンを酸化すれば、アルカロイド等の生理活性物質の
前駆体である１、３−双極子付加物が一段階で得られる
のであって、工業」１外わめで有用な反応を実現しうる
のである。
上有用な化合物であるニトロンを第２アミンから直接合
成することが可能となり、さらにアルケン共存下で第２
アミンを酸化すれば、アルカロイド等の生理活性物質の
前駆体である１、３−双極子付加物が一段階で得られる
のであって、工業」１外わめで有用な反応を実現しうる
のである。
代理人 弁理士 飯沼義彦
１１−
Ｃ０７Ｄ ２１１／９４ ７１
３８＝４Ｃ２１７／１０ ６
７３８−４ Ｃ４９８１０４１０５７２５２−４Ｃ １１２７２５２−４Ｃ ＠発 明 者 三井均 豊中市旭丘１番１２−５０１ 手続補正書 １ 事件の表示 昭和５８年特 許 願 第３８４３６号２ 発明の名称 第２アミンからニトロンを合成する方法３ 補正をする
者 事件との関係 出願人 郵便番号 ５６５ 住所 大阪府吹田市１１１田筐１番１号名称
大阪大学長 山 村 雄 −４代理人 郵便番号 １６ （１ 住所 東京都新宿区南元町５番地３号６ 補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
３８＝４Ｃ２１７／１０ ６
７３８−４ Ｃ４９８１０４１０５７２５２−４Ｃ １１２７２５２−４Ｃ ＠発 明 者 三井均 豊中市旭丘１番１２−５０１ 手続補正書 １ 事件の表示 昭和５８年特 許 願 第３８４３６号２ 発明の名称 第２アミンからニトロンを合成する方法３ 補正をする
者 事件との関係 出願人 郵便番号 ５６５ 住所 大阪府吹田市１１１田筐１番１号名称
大阪大学長 山 村 雄 −４代理人 郵便番号 １６ （１ 住所 東京都新宿区南元町５番地３号６ 補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
７ 補正の内容
（１）明細書第６頁の表１における第５行に記載された
ｒ Ｃ６Ｈ，、ＣＨ＝Ｎ” −ＣＨ５Ｊ をｒ Ｃ６Ｈ
３ＣＨ＝Ｎ＋（○−）−ＣＨ，Ｊ ＋：補正する。
ｒ Ｃ６Ｈ，、ＣＨ＝Ｎ” −ＣＨ５Ｊ をｒ Ｃ６Ｈ
３ＣＨ＝Ｎ＋（○−）−ＣＨ，Ｊ ＋：補正する。
（２）
手続補正書
昭和５９年 ３月１５日
特１庁長官 若 多 和 夫 殿 （］４
１ 事件の表示 昭和５８年 特 許 願 第３８４．３６号２ 発明の
名称 第２アミンからニトロンを合成する方法３ 補正をする
者 事件との関係 出願人 郵便番号 ５６５ 住所 大阪府吹田市山田丘１番１号名称
大阪大学長 山 村 雄 −４代理人 郵便番号 １６０ 住所 東京都新宿区南元町５番地３号６ 補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
１ 事件の表示 昭和５８年 特 許 願 第３８４．３６号２ 発明の
名称 第２アミンからニトロンを合成する方法３ 補正をする
者 事件との関係 出願人 郵便番号 ５６５ 住所 大阪府吹田市山田丘１番１号名称
大阪大学長 山 村 雄 −４代理人 郵便番号 １６０ 住所 東京都新宿区南元町５番地３号６ 補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
７ 補正の内容
（１）明細書第８頁第６行に記載された［板つきフラス
コ］を「枝つきフラスコ」に補正する。
コ］を「枝つきフラスコ」に補正する。
（２）明細書第４頁第１１行に記載された「チタンテト
ラブトキシド、モノマー」を「チタンテトラブトキシド
・モノマー」に補正する。
ラブトキシド、モノマー」を「チタンテトラブトキシド
・モノマー」に補正する。
（２）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 タングステン化合物、モリブデン化合物、バナジウム化
合物、チタニウム化合物、パラジウム化合物、ロジウム
化合物、ルテニウム化合物またはニッケル化合物の存在
下で、水素原子、アルキル基またはアリール基であるＲ
’、Ｒ２およびアルキル基またはアリール基であるＲ３
を含んだ一般式 で表わされる化合物を、過酸化物と反応させて、ニトロ
ンを合成することを特徴とする、第２アミンからニトロ
ンを合成する方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58038436A JPS59164762A (ja) | 1983-03-09 | 1983-03-09 | 第２アミンからニトロンを合成する方法 |
| GB08404099A GB2136422B (en) | 1983-03-09 | 1984-02-16 | Synthesis of nitrones and nitrone addition products from secondary amines |
| DE19843406805 DE3406805A1 (de) | 1983-03-09 | 1984-02-24 | Verfahren zur synthese eines nitrons sowie von dessen additionsprodukten |
| US06/587,383 US4596874A (en) | 1983-03-09 | 1984-03-08 | Synthesis of nitrone from secondary amine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58038436A JPS59164762A (ja) | 1983-03-09 | 1983-03-09 | 第２アミンからニトロンを合成する方法 |
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