[go: up one dir, main page]

JPS59136734A - Processor of photosensitive material - Google Patents

Processor of photosensitive material

Info

Publication number
JPS59136734A
JPS59136734A JP1023883A JP1023883A JPS59136734A JP S59136734 A JPS59136734 A JP S59136734A JP 1023883 A JP1023883 A JP 1023883A JP 1023883 A JP1023883 A JP 1023883A JP S59136734 A JPS59136734 A JP S59136734A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cartridge
processing
liquid
processor
washing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1023883A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0216907B2 (en
Inventor
Koji Shiga
志賀 康二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP1023883A priority Critical patent/JPS59136734A/en
Priority to DE19843402506 priority patent/DE3402506A1/en
Priority to US06/573,756 priority patent/US4533225A/en
Publication of JPS59136734A publication Critical patent/JPS59136734A/en
Publication of JPH0216907B2 publication Critical patent/JPH0216907B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/02Details of liquid circulation
    • G03D3/06Liquid supply; Liquid circulation outside tanks

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an automated processor which eliminates the need for feed piping by providing each processing tank for a photosensitive material with a means which injects processing solution or washing water detachably. CONSTITUTION:A feed water pump 41 and a cap 31C are lifted to set a cartridge 31 filled with the developing solution and returned to their original positions, and then the liquid feed pump 41 is put in operation. The developing solution in the inner bag 31B in the cartridge 31 is sent to a processing tank 11 through a hose connected to an U-type tube 11C. An overflowing solution is recovered in the space outside of the inner bag 31B in the cartridge 31F from a liquid receiving pipe 31F through a hose connected to an overflow pipe 11E. The washing processing system circulates the washing water by liquid feed pumps 44 and 45 in the order of the cartridge 34, the pump 44, a washing processing part 14, and the cartridge 34 and then circulates it in the cartridge 35 similarly. Thus, the processor which eliminates the need for feed piping is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光材料処理装置に関し、特に複写用等のカメ
ラと組合わされた、いわゆるカメラ・プロセッサに好堰
な給排液用配管不要1感光材料処理装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus, and more particularly to a photosensitive material processing apparatus that does not require liquid supply/drain piping and is suitable for so-called camera processors that are combined with cameras for copying and the like.

例えば、各槙書頑、伝票等をマイクロ化するためのマイ
クロフィッシュ−カメラプロセッサにおいては、これが
44■務機と同様に取扱われることから、その設置およ
び日常の取扱いは、できるだけ簡便であることが要求さ
れる。このため、この種の装置に内蔵される感光材料処
理装置(以下、「プロセッサ」という)は、給排液用配
管不要のクローズドシステムを採用するほか、各種処理
液の補充、交換等の操作も、できるだけ自動化すること
が望ましい。
For example, a microfiche camera processor for microfiring slips, etc., is handled in the same way as a 44-day office machine, so its installation and daily handling should be as simple as possible. required. For this reason, the photosensitive material processing equipment (hereinafter referred to as "processor") built into this type of equipment uses a closed system that does not require piping for supplying and draining liquids, and also allows operations such as replenishment and replacement of various processing liquids. , it is desirable to automate as much as possible.

本発明は上述の如き要求に適合する、篩度に自動化され
た給排液配管不要のプロセッサを提供することを目的と
するものである。
It is an object of the present invention to provide a processor that satisfies the above-mentioned requirements and is automated in sieving and does not require supply/drainage piping.

本発明の要点は、感光材料を、現像、定着、水洗等の各
処理槽内を順次移送しつつ処理するプロセッサにおいて
、前記各処理槽IC用いる処理液または水洗水を充填し
たカートリッジを受容するカートリッジ受容部と、該カ
ートリッジ内の処理液または水洗水を前記各処理槽に注
入する手段とを設けるとともに1該注入手段を前記カー
トリッジから離脱可能に構成した点にある。
The gist of the present invention is that, in a processor that processes a photosensitive material while sequentially transporting it through processing tanks such as developing, fixing, and washing, a cartridge receives a cartridge filled with processing solution or washing water used in each processing tank IC. The present invention is characterized in that a receiving portion and a means for injecting the processing liquid or washing water in the cartridge into each of the processing tanks are provided, and the injecting means is configured to be removable from the cartridge.

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は本発明の=実施例であるプロセッサの概要を示
す正面図である。図において、10は現像処理部11.
停止処理部12.定着処理部13および水洗処理部14
.15から構成される処理部、20はスクイズ部21お
よび温風乾燥部22から構成される乾燥部、30は処理
液または水洗水のカートリッジ31〜35を収容するカ
ートリッジ収容部、そして40は該カートリッジ内の処
理液または水洗水を対応する処理部に注入するための自
吸式ポンプ41〜45を備えた給液部であ゛る。またF
は感光材料(以下、「フィルム」という)の移送経路を
示す。
FIG. 1 is a front view showing an outline of a processor that is an embodiment of the present invention. In the figure, 10 is a development processing section 11.
Stop processing unit 12. Fixing processing section 13 and washing processing section 14
.. 15, a processing section, 20, a drying section, consisting of a squeeze section 21 and a hot air drying section 22, 30, a cartridge accommodating section for accommodating cartridges 31 to 35 of processing liquid or washing water, and 40, the cartridges. This is a liquid supply section equipped with self-priming pumps 41 to 45 for injecting the processing liquid or washing water in the processing section into the corresponding processing section. Also F
indicates the transport path of the photosensitive material (hereinafter referred to as "film").

前記各処理部のうち、現像処理部11.定着処理部13
および水洗処理部14.15の各処理部は、処理槽中に
多数のローラを配してフィルムをV字状に移送しつつ処
理する如く構成されている。
Among the processing sections, the development processing section 11. Fixing processing section 13
Each of the washing processing sections 14 and 15 is constructed such that a large number of rollers are disposed in a processing tank and the film is processed while being transported in a V-shape.

また、停止処理部12は、現像処理部11と定着処理部
13との間の渡り(クロスオーバー)部分を利用して、
ここに2対の小径ローラ、停止液供給管”および防滴板
から成る停止液貯留部を設けて、フィルムが該停止液貯
留部を通過する間に停止処理を行うようにして、停止処
理の効率向上、スペースの節約および処理時間の短縮を
実現している。
Further, the stop processing section 12 utilizes a crossover section between the development processing section 11 and the fixing processing section 13 to
A stop liquid reservoir consisting of two pairs of small-diameter rollers, a stop liquid supply pipe, and a drip-proof plate is provided here, and the stop process is performed while the film passes through the stop liquid reservoir. It increases efficiency, saves space and reduces processing time.

スクイズ部21は多数のローラRを千鳥状に配列して構
成されており、温風乾燥部22は前記スクイズ部21と
同様の千鳥状に配列された移送ローラRと該ローラRに
対向して設げられた転傾風吹出しノズルNとから構成さ
れている。
The squeeze section 21 is constructed by arranging a large number of rollers R in a staggered manner, and the hot air drying section 22 is configured with transfer rollers R arranged in a staggered manner similar to the squeeze section 21 and facing the rollers R. It consists of a tilting wind blowing nozzle N provided.

現像処理系は第2図にその詳細を示す如<、現像処理部
11.現像液用カー)IJツジ31.現像液給液ポンプ
41.現像液循環ポンプ51.現像液補充ポンプ61お
よびフィルター71から構成されている。現像処理槽に
は前記循環ポンプ51゜フィルター71から成る循環系
の液出入口11A;11B 、前記給液ポンプ41およ
び補充ポンプ61に接続される注液用のU字管11c 
、コックを備えた排液管81.が接続される排液口11
Dおよびオーバー70−パイプIIE等が設けられてい
る。
The developing processing system is shown in detail in FIG. 2, and includes a developing processing section 11. Developer solution car) IJ Tsuji 31. Developer liquid supply pump 41. Developer circulation pump 51. It consists of a developer replenishment pump 61 and a filter 71. The development processing tank has a liquid inlet/outlet 11A; 11B for a circulation system consisting of the circulation pump 51 and filter 71, and a U-shaped pipe 11c for liquid injection connected to the liquid supply pump 41 and replenishment pump 61.
, a drain pipe 81 with a cock. Drain port 11 to which is connected
D and over 70-pipe IIE etc. are provided.

現像液用カートリッジ31は、硬質プラスチック製のを
器31A ffi Ic &質プラスチック製の袋をf
p′大した2°重構造となっており、現像液は当初上記
内挿袋31B内に充填されている。上記容器31Aと内
挿袋3113との間の空間は、フィルムの処理に伴なっ
て行われる補充により、オーバーフローしてくる現像液
の回収用に用いられる。前記現像用カートリッジ31の
キャップ31Cには前記給液ポンプ4−1および補充ポ
ンプ61の吸液用パイプ31D。
The developer cartridge 31 consists of a container 31A made of hard plastic and a bag made of quality plastic.
It has a 2° layered structure in which p' is larger, and the developer is initially filled in the inner bag 31B. The space between the container 31A and the inner bag 3113 is used to collect developer that overflows due to replenishment that occurs during film processing. The cap 31C of the developer cartridge 31 is provided with a liquid suction pipe 31D for the liquid supply pump 4-1 and the replenishment pump 61.

31Eおよび前記現像処理部110オーバーフローパイ
プLIEに接続される受液パイプ311”が設けられて
いる。上記吸敢用パイプ31D 、 31Eは前記内挿
袋31B内に挿入されており、受液パイプ31Fは前記
内挿袋31Bの外側に開口しているものである。
31E and a liquid receiving pipe 311'' connected to the overflow pipe LIE of the developing processing section 110.The suction pipes 31D and 31E are inserted into the inner bag 31B, and the liquid receiving pipe 31F is connected to the overflow pipe LIE of the developing processing section 110. is open to the outside of the inner bag 31B.

また、前記カートリッジのキャップ31Cは、給液ポン
プ41とともに、第2図に示す如くカートリッジ31に
嵌合する位置から、吸液用パイプ31D 、 31Eが
カートリッジ3.1から完全に引抜かれる位置まで移動
可能に構成されている。
Further, the cap 31C of the cartridge moves together with the liquid supply pump 41 from the position where it fits into the cartridge 31 as shown in FIG. 2 to the position where the liquid suction pipes 31D and 31E are completely pulled out from the cartridge 3.1. configured to be possible.

上述の如く構成された本実施例の現像処理系の動作につ
き以下説明する。
The operation of the developing processing system of this embodiment configured as described above will be explained below.

(1)処理槽への給液 、給液ポンプ41およびキャップ31Cを引上げ、現像
液の充填された第1のカートリッジ31を麹ットし、給
液ポンプ41およびキャップCを第2図に示す位置に戻
し、給メポング41を作動させる。これによりカートリ
ッジ310内挿袋3113内の現像液がU字管11Cに
接続されるホースを介し゛て処理槽に送られる。カート
リッジ31の答量と処理槽の容量とを略同等にしておけ
ば、この操作で処理槽に現像液が満たされる。オーバー
フロー分はオーバーフロ上パイプLIEに接続されるホ
ースを介して、受液パイプ31Fから、カートリッジ3
1の内挿袋31Bの外側の空間に′回収される。
(1) Supplying liquid to the processing tank, pulling up the liquid supply pump 41 and cap 31C, and heating the first cartridge 31 filled with the developer.The liquid supply pump 41 and cap C are shown in FIG. Return it to the position and operate the feeding mepong 41. As a result, the developer in the inner bag 3113 of the cartridge 310 is sent to the processing tank via the hose connected to the U-shaped tube 11C. If the volume of the cartridge 31 and the capacity of the processing tank are made substantially equal, the processing tank will be filled with the developer through this operation. The overflow is transferred from the liquid receiving pipe 31F to the cartridge 3 via a hose connected to the overflow upper pipe LIE.
1 is collected in the outer space of the inner bag 31B.

(2)カートリッジの変換 上記操作の終了後、再び給液ポンプ41およびキャップ
31Cを?1上げ、空になった前記第1のカートリッジ
31を取出し、現像液の充填された第2のカートリッジ
31をセットする。次いで給液ポンプ41およびキャッ
プ3ICを第2図に示す′位置に戻すことにより、給液
が光子する。
(2) Cartridge conversion After completing the above operations, reconnect the liquid supply pump 41 and cap 31C. 1, take out the empty first cartridge 31, and set the second cartridge 31 filled with developer. Next, by returning the liquid supply pump 41 and the cap 3IC to the 'positions shown in FIG. 2, the liquid supply is photonized.

(3)処理準備および処理 現像液の循環、温度調節、処理に伴なう補充の実施等は
通常のプロセッサと同様に行う。補充によりオーバーフ
ローした現像液がカートリッジ31に回収されることは
前述の通りである。なお、何等かの原因で処理槽内の液
面が低下した場合には、これを電極スイッチIIFで検
出し、液面が回復するまで給液ポンプ41を作動させる
ことができるように構成されている。
(3) Preparation for processing, circulation of processing developer, temperature adjustment, replenishment accompanying processing, etc. are carried out in the same manner as in a normal processor. As described above, the overflowing developer due to replenishment is collected in the cartridge 31. In addition, if the liquid level in the processing tank drops for some reason, this is detected by the electrode switch IIF, and the liquid supply pump 41 can be operated until the liquid level recovers. There is.

フィルム処理厨が規定量を越えた場合、または、プロセ
ッサ内での時間が規定時間を越えた場合、現像液の゛交
換を行う。交換の際は、前記排液管81のコックを開い
て、処理槽内の現像液を他の容器に受ける。新しい現像
液を給液する前には、必要により処理槽内を清掃する。
If the amount of film processing liquid exceeds the specified amount, or if the time in the processor exceeds the specified time, the developer is replaced. When replacing the drain pipe 81, the cock of the drain pipe 81 is opened to receive the developer in the processing tank into another container. Before supplying a new developer, clean the inside of the processing tank if necessary.

新しい現像液の給液手順は前述の通りである。The procedure for supplying a new developer is as described above.

次に停止処理系について説明する。本実施例の停止処理
系は、前述の如く、小容量の停止液貯留部を有するもの
である。停止液を充填しているカートリッジ32は、現
像液用のカートリッジ31とは異なり、内挿袋を有しな
い単純な容器であり、キャップは各1本の吸液パイプと
受液パイプとを有するものである。
Next, the stop processing system will be explained. As described above, the stop processing system of this embodiment has a small capacity stop liquid storage section. The cartridge 32 filled with the stop solution is a simple container that does not have an inner bag, unlike the cartridge 31 for the developer, and each cap has one liquid suction pipe and one liquid receiving pipe. It is.

停止処理系には給液動作はなく、処理開始と同時に給液
ポンプ42により、停止液が、カートリッジ32→ポン
プ42→停止液貯留部→カートリッジ32と循環する如
く構成されている。停止液貯留部の受は皿部には液回収
用の小水が設けてあり、給液ポンプ42を停止するとす
べての停止液はカートリッジ32内に回収される。
The stop processing system does not have a liquid supply operation, and is configured such that the stop liquid is circulated from the cartridge 32 to the pump 42 to the stop liquid storage section to the cartridge 32 by the liquid supply pump 42 at the same time as the process starts. A small amount of water for liquid recovery is provided in the tray of the stop liquid reservoir, and when the liquid supply pump 42 is stopped, all the stop liquid is collected into the cartridge 32.

定着処理系は現像処理系と全く同様に構成されており、
動作も同じである。
The fixing processing system is configured exactly the same as the developing processing system.
The operation is also the same.

次に水洗処理系について説明する。水洗処理系の構成は
前記停止処理系に類似している。すなわち、水洗水を供
給するカートリッジ34.35は、停止液用と同じく、
内挿袋を有しないものであり、キャップの構成も停止液
用のものと同じである。
Next, the water washing treatment system will be explained. The configuration of the water washing treatment system is similar to the shutdown treatment system described above. That is, the cartridges 34 and 35 for supplying washing water, as well as for the stop liquid,
It does not have an inner bag, and the structure of the cap is the same as that for stop liquid.

動作についても、給液動作はなく、処理開始と同時に給
液ポンプ44,45により、水洗水が、カートリッジ3
4→ボ〉′プ44→水洗処理部14→カートリッジ34
.カートリッジ35→ボング45→水洗処理部15→カ
ートリッジ35と循環する如く構成されている。また、
処理槽底部には液回収用の小孔が設けてあり、給液ポン
プを停止すると、水洗水はそれぞれのカートリッジ内に
回収される。
Regarding the operation, there is no liquid supply operation, and the liquid supply pumps 44 and 45 supply washing water to the cartridge 3 at the same time as the process starts.
4 → Bottom 44 → Washing section 14 → Cartridge 34
.. It is configured to circulate in the order of cartridge 35 → bong 45 → water washing processing section 15 → cartridge 35. Also,
A small hole for liquid recovery is provided at the bottom of the processing tank, and when the liquid supply pump is stopped, the washing water is recovered into each cartridge.

なお、現像および定着の処理槽に設けられている、液面
監視用の前記電極スイッチには、1分間に数秒間程度低
電圧の電流が供給される如く構成されており、処理液の
電気分解および電極の腐蝕を抑止するようにしている。
The electrode switch for monitoring the liquid level, which is installed in the processing tank for development and fixing, is configured so that a low voltage current is supplied for several seconds per minute, and electrolysis of the processing liquid is performed. and prevents corrosion of the electrodes.

また、この電極スイッチの出力は、前述の如く給液ポン
プを作動させるほか、アラームを発生させるようにして
も良い。
Further, the output of this electrode switch may be used not only to operate the liquid supply pump as described above but also to generate an alarm.

また、前記処理液への給液操作の際に、給液を停止させ
るタイミング信号としても利用できる。
Furthermore, it can also be used as a timing signal to stop the liquid supply during the liquid supply operation to the processing liquid.

処理液の交換は、例えば、プリセットカウンターと2個
のタイマーにより次のように行うことができる。プリセ
ットカウンターは、処理液カートリッジ変換時にリセッ
トされるカウンターで、これに処理液カートリッジ当り
の許容フィルム処理枚数をセットしておく。2個のタイ
マーは、いずれも処理液カートリッジ交換時にリセット
されるものであり、第1のタイマーは1週間、第2のタ
イマーは1箇月にセットしておく。そして、前記カウン
ターと第1のりイマーのうち、いずれか早い方の出力に
より、処理液カートリッジの交換を行うよう表示j’−
CHANGECHEMICALSJを、また、第2のタ
イマーの出力があった後、前記カウンターと第1のタイ
マーのうち、いずれか早い方の出力があった時点で処i
!I!液カートリッジの父侯、現像および定着処理槽の
液父換のみならず、プロセッサの清掃をも行うよう表示
「CLEANPROCBSSORJ を表示してオペレ
ータに知らせる。これにより、プロセッサは機構、処理
液とも常−に良好な状態を維持することが可能になる。
The processing liquid can be replaced, for example, as follows using a preset counter and two timers. The preset counter is a counter that is reset when the processing liquid cartridge is replaced, and the allowable number of films to be processed per processing liquid cartridge is set therein. Both of the two timers are reset when the processing liquid cartridge is replaced, and the first timer is set for one week and the second timer is set for one month. Then, by the output of the counter or the first glue timer, whichever is earlier, a message indicating that the processing liquid cartridge should be replaced is displayed.
CHANGECHEMICALSJ, and after the output of the second timer, process i at the time of the output of the counter or the first timer, whichever is earlier.
! I! The display ``CLEANPROCBSSORJ'' is displayed to inform the operator that not only the liquid cartridges, developer and fixing tanks should be replaced, but also the processor should be cleaned. It becomes possible to maintain good conditions.

第3図はプロセッサの電気接続の歎要を示すものである
。図において、Klは給液ポンプスイッチ、K、は補充
ポンプスイッチ、K3は現像液温優先式の温度調節スイ
ッチ、l(4はエレベータモータ・スイッチ、またSI
はエレベータ昇降切換スイッチ、Stは給液部ドア開閉
検知スイッチ、LS、は工Vベータ上限スイッチ、LS
、はエレベータ下限スイッチ、TH,、TH2はサーモ
スタットである。また、D 、 S 、 F 、 W、
およびW2はそれぞれ現像液、停止液、定着液および水
洗水(2槽)の略である。
FIG. 3 shows the electrical connections of the processor. In the figure, Kl is the liquid supply pump switch, K is the replenishment pump switch, K3 is the developer temperature priority temperature control switch, l (4 is the elevator motor switch, and SI
is the elevator lift selector switch, St is the liquid supply door opening/closing detection switch, LS is the engineering V beta upper limit switch, LS
, is the elevator lower limit switch, and TH,, TH2 are the thermostats. Also, D, S, F, W,
and W2 are abbreviations for developing solution, stop solution, fixing solution, and washing water (2 tanks), respectively.

図から明らかな如く、現像液、定着液は常に同期して操
作されるものである。ここで、エレベータとは、前記処
理液カートリッジのキャップを該カートリッジに着脱(
給液ポンプも一諸で良いことは言うまでもない)させる
ための昇降機構であり、給液部ドアを開いた場合にのみ
操作し得る如く構成されている。
As is clear from the figure, the developer and fixer are always operated synchronously. Here, the elevator refers to attaching and detaching the cap of the processing liquid cartridge to the cartridge.
It goes without saying that the liquid supply pump may also be a single unit), and is configured to be operable only when the liquid supply section door is opened.

現像液温優先式の温度調節スイッチに3は、現像槽、の
ヒータがOFFのときのみ、乾燥部ヒータ側に切換可能
に構成されたスイッチで、このように構成することによ
り、プロセッサ全体の電気容量を低下させることが可能
になるという効果を有するものである。
The developer temperature priority type temperature control switch 3 is a switch configured so that it can be switched to the drying section heater side only when the developer tank heater is OFF.With this configuration, the electricity of the entire processor is reduced. This has the effect of making it possible to reduce the capacity.

上記実施例はいずれも一例を示したものにすぎず、本発
明はこれらの実施例に限定されるべきものではない。例
えば、処理液カートリッジ内の処理液または水洗水を処
理槽に給液する手段として給液ポンプを用いる場合に、
該給液手段を前記カートリッジと着脱可能にするという
ことは、前記給液ポンプの前記カートリッジ内に挿入さ
れる吸液パイプのみを着脱させるようにしても良いとい
うようなものである。また、上述の諸制御はマイクロコ
ンピュータによるプログラム処理により行うことが可能
であり、また、それが有効であることは言うまでもない
The above embodiments are merely examples, and the present invention should not be limited to these embodiments. For example, when using a liquid supply pump as a means for supplying the processing liquid or washing water in the processing liquid cartridge to the processing tank,
Making the liquid supply means detachable from the cartridge means that only the liquid suction pipe inserted into the cartridge of the liquid supply pump may be detachable. Further, the various controls described above can be performed by program processing by a microcomputer, and it goes without saying that this is effective.

以上述べた如く、本発明によれば高度に自動化されたプ
ロセッサを実現できるという顕著な効果を奏するもので
ある。
As described above, the present invention has the remarkable effect of realizing a highly automated processor.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であるプロセッサの概要を示
す正面図、第2図は現像処理系の構成を示す図、第3図
は電気接続の概要を示す図である。 10:処理部、20:乾燥部、30:カートリッジ収容
部、31−35ニカートリツジ、41〜45:給液ポン
プ。 第    1    図 、、51   32   33  34   35第2
図 第3図 −231−
FIG. 1 is a front view showing an outline of a processor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a developing processing system, and FIG. 3 is a diagram showing an outline of electrical connections. 10: Processing section, 20: Drying section, 30: Cartridge housing section, 31-35 Nicart cartridge, 41-45: Liquid supply pump. Figure 1, 51 32 33 34 35 2nd
Figure 3-231-

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 感光材料を、現像、定着、水洗等の各処理槽内を順次移
送しつつ処理する感光材料処理装置において、前記各処
理槽に用いる処理液または水洗水を充填したカートリッ
ジを受容するカートリッジ受容部と、該カートリッジ内
の処理液または水洗水を前記各処理槽に注入する手段と
を設けるとともに、該注入手段を前記カートリッジから
離脱可能に構成したことを++Bとする感光材料処理装
置。
In a photosensitive material processing apparatus that processes a photosensitive material while sequentially transferring it through processing tanks such as developing, fixing, and washing, a cartridge receiving part that receives a cartridge filled with a processing solution or washing water used in each processing tank; , a means for injecting the processing liquid or washing water in the cartridge into each of the processing tanks; and ++B, the injecting means is configured to be removable from the cartridge.
JP1023883A 1983-01-25 1983-01-25 Processor of photosensitive material Granted JPS59136734A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1023883A JPS59136734A (en) 1983-01-25 1983-01-25 Processor of photosensitive material
DE19843402506 DE3402506A1 (en) 1983-01-25 1984-01-25 METHOD AND DEVICE FOR TREATING RAY SENSITIVE MATERIAL
US06/573,756 US4533225A (en) 1983-01-25 1984-01-25 Sensitive material processing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1023883A JPS59136734A (en) 1983-01-25 1983-01-25 Processor of photosensitive material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59136734A true JPS59136734A (en) 1984-08-06
JPH0216907B2 JPH0216907B2 (en) 1990-04-18

Family

ID=11744715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1023883A Granted JPS59136734A (en) 1983-01-25 1983-01-25 Processor of photosensitive material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59136734A (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5141449U (en) * 1974-09-05 1976-03-27
JPS5652742U (en) * 1979-10-01 1981-05-09

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5363479A (en) * 1976-11-17 1978-06-06 Morikami Kagaku Kk Straight molding of accessories from casein resin

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5141449U (en) * 1974-09-05 1976-03-27
JPS5652742U (en) * 1979-10-01 1981-05-09

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0216907B2 (en) 1990-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4533225A (en) Sensitive material processing apparatus
EP0424820B1 (en) Processing solution replenishment
EP0250567A1 (en) Method and apparatus for automatically self-cleaning film processors.
US5579076A (en) Method and apparatus for processing photosensitive material
JPS59136734A (en) Processor of photosensitive material
EP0181967B1 (en) Photographic processing apparatus
GB2132635A (en) Regeneration of photographic fixing agents
JPH08171188A (en) Processing device of photosensitive material
US6488421B2 (en) Processing photographic material
JPH1050654A (en) Wafer-treating apparatus
JPH0437755A (en) Water feeding and discharging method for washing tank
JPH0228859B2 (en)
JPH02737Y2 (en)
JP2000105447A (en) Photosensitive material processing apparatus and processing liquid circulation method
JPS59164557A (en) Device for processing photosensitive material
JP3366954B2 (en) Liquid tank lid device in film processing machine
JP2977730B2 (en) Automatic film developing apparatus, image processing apparatus using the same, and cell structure used therein
JPH0437756A (en) Treating liquid supply device of photosensitive material treating device
JPS5937353B2 (en) Electrolytic silver recovery equipment
JPH06282057A (en) Chemical-substance supplying device of photographic processing apparatus
JP2001281829A (en) Photosensitive material processing apparatus and processing liquid circulation method
JPS59164556A (en) Device for processing photosensitive material
JPH063794A (en) Portable automatic film developing device
JPH07319137A (en) Photosensitive material processor
JP2000112100A (en) Water feeder for automatic developing machine