JPS59127847U - タ−ボチヤ−ジヤ付エンジン - Google Patents
タ−ボチヤ−ジヤ付エンジンInfo
- Publication number
- JPS59127847U JPS59127847U JP2001583U JP2001583U JPS59127847U JP S59127847 U JPS59127847 U JP S59127847U JP 2001583 U JP2001583 U JP 2001583U JP 2001583 U JP2001583 U JP 2001583U JP S59127847 U JPS59127847 U JP S59127847U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- throttle valve
- engine
- predetermined value
- turbocharged engine
- turbo gear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Supercharger (AREA)
- Control Of Throttle Valves Provided In The Intake System Or In The Exhaust System (AREA)
- Output Control And Ontrol Of Special Type Engine (AREA)
- Control Of Vehicle Engines Or Engines For Specific Uses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は本考案に係るターボチャージャ付エンジンの全
体構成を図解的に示す図、第2図は第1図に示す出力制
御バルブの作動フロ」チャートの一例を示す図。 3・・・インテークマニホルド、5・・・スロットルバ
ルブ、6・・・出力制御バルブ、7・・・アクチュエー
タ、8・・・過給圧センサ、9・・・スロットル開度セ
ンサ、2Q・・・ターボチャージャ。
体構成を図解的に示す図、第2図は第1図に示す出力制
御バルブの作動フロ」チャートの一例を示す図。 3・・・インテークマニホルド、5・・・スロットルバ
ルブ、6・・・出力制御バルブ、7・・・アクチュエー
タ、8・・・過給圧センサ、9・・・スロットル開度セ
ンサ、2Q・・・ターボチャージャ。
Claims (1)
- ターボチャージャの下流の吸気系にスロットルバルブを
有するターボチャージャ付エンジンにおいて、上記スロ
ットルバルブの下流に該スロットルバルブの開度が所定
値以下でかつ吸気過給圧が、 所定値以上のときに作
動するアクチュエータにより閉動せしめられる出力制御
バルブを設けたことを特徴とするターボチャージャ付エ
ンジン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001583U JPS59127847U (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | タ−ボチヤ−ジヤ付エンジン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001583U JPS59127847U (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | タ−ボチヤ−ジヤ付エンジン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59127847U true JPS59127847U (ja) | 1984-08-28 |
Family
ID=30151150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001583U Pending JPS59127847U (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | タ−ボチヤ−ジヤ付エンジン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59127847U (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
US11557474B2 (en) | 2019-07-29 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition utilizing n-type dopants and/or alternative dopants to achieve high dopant incorporation |
US11594450B2 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming a structure with a hole |
US11594600B2 (en) | 2019-11-05 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Structures with doped semiconductor layers and methods and systems for forming same |
USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
US11848200B2 (en) | 2017-05-08 | 2023-12-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US11851755B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-12-26 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
US12040184B2 (en) | 2017-10-30 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
US12272527B2 (en) | 2018-05-09 | 2025-04-08 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for use with hydrogen radicals and method of using same |
US12278129B2 (en) | 2021-03-03 | 2025-04-15 | Asm Ip Holding B.V. | Alignment fixture for a reactor system |
-
1983
- 1983-02-16 JP JP2001583U patent/JPS59127847U/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11851755B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-12-26 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
US11848200B2 (en) | 2017-05-08 | 2023-12-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
US12040184B2 (en) | 2017-10-30 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
US12272527B2 (en) | 2018-05-09 | 2025-04-08 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for use with hydrogen radicals and method of using same |
US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
US11557474B2 (en) | 2019-07-29 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition utilizing n-type dopants and/or alternative dopants to achieve high dopant incorporation |
US11594450B2 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming a structure with a hole |
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US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
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