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JPS5857729B2 - カンコウセイソセイブツ - Google Patents

カンコウセイソセイブツ

Info

Publication number
JPS5857729B2
JPS5857729B2 JP6616475A JP6616475A JPS5857729B2 JP S5857729 B2 JPS5857729 B2 JP S5857729B2 JP 6616475 A JP6616475 A JP 6616475A JP 6616475 A JP6616475 A JP 6616475A JP S5857729 B2 JPS5857729 B2 JP S5857729B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
present
parts
ketosulfoxide
photopolymerization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP6616475A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS51141622A (en
Inventor
俊康 伊藤
一仁 高縁
和彦 山下
譲二 長岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Wako Pure Chemical Corp
Original Assignee
Wako Pure Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wako Pure Chemical Industries Ltd filed Critical Wako Pure Chemical Industries Ltd
Priority to JP6616475A priority Critical patent/JPS5857729B2/ja
Publication of JPS51141622A publication Critical patent/JPS51141622A/ja
Publication of JPS5857729B2 publication Critical patent/JPS5857729B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はケトスルホキサイド系化合物を光重合触媒とす
る事を特徴とする感光性組成物に関する。
光重合触媒は光エネルギー、主に、200mμ乃至50
0mμの波長からなる光照射により、共存する不飽和化
合物を重合させる際に用いられる。
光重合触媒として各種のものが知られている。
即チアシロインエーテル系のベンゾインエチルエーテル
、ベンゾインイソプロピルエーテル、多核キノン系のア
ントラキノン、2−メチルアントラキノン、ベンゾフェ
ノン、オルトベンゾイル安息香酸メチルエステル、ジア
セチル、ジベンジルトリフェニルホスフィン、アゾ系の
アゾビスイソブチロニトリル、フェニルアゾワレロニト
リル等である。
工業的規模の光重合触媒利用は近年無公害化との関連に
て種々検討および実用化されている。
多種類の光重合触媒は存在するが、光硬化活性、貯蔵安
定性および着色性の点を十分に満足させるものはなかっ
た。
光硬化活性が良好とは、光照射した際の重合開始能が良
好である事をいい、貯蔵安定性にすぐれているとは感光
性組成物の暗所における経口劣化の少ない事を云い、ま
た着色性良好とは光重合触媒添加にて光硬化させた際の
硬化樹脂において着色の無い事をいう。
本発明者うは、フェナシルフェニルスルホキサイドが光
硬化性組成物を着色させない点に着目し、良好な光硬化
性能を有するケトスルホキサイド系化合物の研究を行な
い、本発明を完成させた。
即ち、本発明は式 (R1はアルキル基、フェニル基または置換フェニル基
を表わし、R2およびR3は水素、アルキル基またはア
ルコキシル基を示す。
但しR2およびR3が同時に水素を示さない。
)にて表わされるケトスルホキサイド系化合物を光重合
触媒として使用する事を特徴とする感光性組成物である
従来例えば透明なる不飽和ポリエステルにベンジインイ
ソプロピルエーテルを添加し、光照射にて硬化した重合
物は、光硬化進行に伴ない黄色に着色し、常法による熱
硬化製品と比較し商品価値面から高い評価が得られなか
った。
フェナシルフェニルスルホキサイド添加による光硬化組
成物は着色無く、着色性の点からは非常に好ましい光重
合触媒である。
しがし汎用の光重合触媒例えばベンゾインエチルエーテ
ルと比較する場合、明らかに光硬化性能面にて劣ってい
た。
本発明者等はケトスルホキサイド類の光分解機構が下記
に基く事を推定した。
そして(I])における該置換基に電子供与性基、例え
ばアルキル基、アルコキシル基等を付与し、(I)にお
いてはラジカルの安定性を損わない程度において合成上
有利な置換基を選択した。
これら光重合触媒は、光硬化性樹脂に添加し光照射する
事により、光硬化性および着色性の面にて目的とした樹
脂が得られた。
本発明におげろケトスルフォキサイド系化合物とは、例
えばフェナシルp −) ’Jルスルホキサイド、p−
メトキシ、フェニルフェナシルスルホキサイド、アセト
ニルp−トリルスルホキサイド等をいう。
ケトスルホキサイド系化合物の製造は、例えばα−クロ
ルアセトフェノン、モノクロルアセトンの様なα−ハロ
ゲンケトンと対応するメルカプタンのナトリウム塩との
反応で、ケトスルフィドを得て、次にアセトン若しくは
酢酸中で30%過酸化水素で酸化するか、他の公知な酸
化方法で好収量で合成し得る。
本発明ケトスルホキサイド系光重合触媒は光硬化に際し
て、光硬化性樹脂、架橋性単量体等の全組成物に対して
0.1乃至5重量%、好ましくは0.5乃至3重量%で
単独または2種以上の混合物として、あるいは他の公知
もしくは汎用の光重合触媒と組み合わせて使用できる。
本発明において用いられる光硬化性樹脂としては、従来
の感光性組成物に用いられているものであればいずれの
ものでもよい。
例えば不飽和ポリエステル樹脂、重合性不飽和基を導入
したアクリル樹脂およびアルキド樹脂、ジイソシアネー
ト化合物と水酸基を有するビニル単量体との付加物と水
酸基を有する化合物とウレタン化反応によって付加させ
た多ビニル化合物、2個以上のエポキシ基を有する化合
物にカルボキシル基を有するビニル単量体をエステル化
反応によって付加させた多ビニル化合物などがあり、こ
れらの光硬化性不飽和基を有する樹脂および化合物を単
独または任意な混合物として使用できる。
また本発明において使用できる架橋性単量体としては従
来の感光性組成物に用いられるものはいずれのものでも
よい。
例えばスチレン、ビニルトルエン、ジクロルスチレン、
酢酸ビニル、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタアクリ
ル酸、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、
メタアクリル酸ラウリル、ジエチレングリコールメタア
クリレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフ
タレート、トリエチレンクリコールジメタアクリレート
、ジアリルエーテル、トリアリルインシアヌレ−I・、
グリシジルメタアクリレート、ジビニルエーテル、ジビ
ニルベンゼン、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ト
リアリルホスフェート、ジアリルベンゼンスルホネート
などがあり、これらは単独または適当な混合物として使
用できる。
さらに本発明感光性組成物は必要に応じて添加剤、充填
剤、着色剤を使用してもかまわない。
本発明によって得られた感光性粗性物を光硬化させるた
めに必要な光照射源としては200乃至500mμの波
長の光を出すものであればよい。
このような光源としては、太陽光線、低圧水銀灯、中圧
水銀火玉高圧水銀灯、超高圧水銀灯、螢光ランプ、クセ
ノンランプ、タングステンランプ等が挙げられる。
本発明によって得られた感光性組成物は、適当な線量に
よって定められた光照射によって硬化した組成物が、着
色の無いものであり、さらに光硬化性能がフェナシルフ
ェニルスルホキサイドを光重合触媒として使用する場合
に比して大巾に高くなり、工業的にも実施可能な感光性
組成物を提供するに至った。
特に着色性に無色を要求される分野、例えば凸部になる
べき部分に光重合触媒を加えることによって作製する光
硬化立体化粧板等において、その特性が太いに発揮され
斯界に貢献する新人であろう。
以下、実施例を述べ本発明を具体的に説明する。
樹脂の製造 (1)フマル酸81部、無水フタル酸44−5部、エチ
レングリコール31部、ブタン−1・3−ジオール54
部を従来法により縮合させて不飽和ポリエステル樹脂を
合或し、これにスチレンを用いて樹脂分が60%になる
ように希釈し、さらにこのようにして得られた樹脂溶液
に融点50〜60 °Cのパラフィンを0.1%添加し
た。
このようにして得られた樹脂溶液を「樹脂A」とする。
★★(2
)アクリル酸エチル40部、アクリル酸ブチル64部、
スチレン104部、メタアクリル酸2−ヒドロキシエチ
ル13部、かもなるアクリル樹脂にメタアクリル酸2−
ヒドロキシエチルと2・4−トリレンジインシアネート
付加物43.5部を反応させて得たウレタン変性アクリ
ル樹脂50部をアクリル酸エチル2.5部に溶解して、
不飽和アクリル樹脂溶液を得る。
このようにして得られた樹脂溶液を「樹脂B」とする。
実施例 1 本発明ケトスルホキサイド系光重合触媒を「樹脂AIに
対して2重量%添加、混合し、これらの感光性組成物を
ガラスプレート上で厚さ200μの塗膜として、この塗
膜に20C1nの距離より螢光ランプ(東芝製、FL−
20BL、20ワツト、2灯)の光を照射して、硬度が
鉛筆硬度6H以上になる時間、及び1時間連続的に光照
射した時の着色性を表−■に示す。
尚、比較例としてベンゾインエチルエーテル、フェナシ
ルフェニルスルホキサイトヲ添加した場合の結果を示す
実施例 2 本発明ケトスルホキサイド系光重合触媒と、ベンゾイン
エチルエーテルを「樹脂B」に対して種々の割合で添加
、混合し、これらの感光性組成物をガラスプレート上で
厚さ200μの塗膜として、この塗膜に20CrrLの
距離より螢光ランプ(東芝製、FL−20BL、20ワ
ツト、2灯)の光照射して、硬度が鉛筆硬度6H以上に
なる時間、及び1時間連続的に光照射した時の着色性を
表−■に示す。
尚、比較例としてベンゾインエチルエーテル単独を添加
した場合を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1式 (R1はアルキル基又はフェニル基を示し R2はア7
    ・′キル基又はアルコキシ基を示す。 )にて表わされるケトスルホキサイド系化合物を光重合
    触媒として使用する事を特徴とする感光性組成物。
JP6616475A 1975-06-02 1975-06-02 カンコウセイソセイブツ Expired JPS5857729B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6616475A JPS5857729B2 (ja) 1975-06-02 1975-06-02 カンコウセイソセイブツ

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JP6616475A JPS5857729B2 (ja) 1975-06-02 1975-06-02 カンコウセイソセイブツ

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Publication Number Publication Date
JPS51141622A JPS51141622A (en) 1976-12-06
JPS5857729B2 true JPS5857729B2 (ja) 1983-12-21

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ID=13307924

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JP6616475A Expired JPS5857729B2 (ja) 1975-06-02 1975-06-02 カンコウセイソセイブツ

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JPS55178818U (ja) * 1979-06-07 1980-12-22

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JPS51141622A (en) 1976-12-06

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