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JPS5853695Y2 - 磁気ヘツド - Google Patents

磁気ヘツド

Info

Publication number
JPS5853695Y2
JPS5853695Y2 JP12099278U JP12099278U JPS5853695Y2 JP S5853695 Y2 JPS5853695 Y2 JP S5853695Y2 JP 12099278 U JP12099278 U JP 12099278U JP 12099278 U JP12099278 U JP 12099278U JP S5853695 Y2 JPS5853695 Y2 JP S5853695Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
thin film
magnetic head
winding
track width
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP12099278U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5539535U (ja
Inventor
進 伊東
薫 土岐
Original Assignee
日本電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気株式会社 filed Critical 日本電気株式会社
Priority to JP12099278U priority Critical patent/JPS5853695Y2/ja
Publication of JPS5539535U publication Critical patent/JPS5539535U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS5853695Y2 publication Critical patent/JPS5853695Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、薄膜作製技術を用いて形成される、誘導型薄
膜磁気ヘッドに関する。
薄膜磁気ヘッドは微細な形状に容易に作製できるので、
磁気記録の高密度記録再生用ヘッドとして注目されてお
り、特に高トラツク密度記録再生用の狭トラツク磁気ヘ
ッドを得るのに有効である。
しかし、非常にトラック巾が狭い狭トラツク磁気ヘッド
を得るために磁極を形成する磁性膜のトラック巾をヨー
ク長に比べて小さくすると、形状異方性により上記磁性
膜内の磁化がトラック巾と直角方向に向き易くなる。
このため磁気記憶媒体からの再生信号磁界又は、書き込
み電流から生じる書き込み信号磁界に応答する時の前記
磁性膜内の磁化機構は、磁壁の移動によるものが主とな
り、その結果、再生及び書き込み時における前記磁性膜
の磁化の応答速度は低下する。
又、前記トラック巾と直角方向の磁化成分により、磁極
を形成する前記磁性膜の磁気記憶媒体対向面に磁荷が現
われ、この磁荷から生じる磁界で前記媒体上の信号磁化
を減磁する、いわゆる再生減磁の問題が生じる。
このように従来のままでは、高性能の狭トラツク薄膜磁
気ヘッドを形成するのは困難であった。
本考案の目的は、高性能な狭トラツク薄膜磁気ヘッドを
提供することであり、その特徴とするところは、一端に
ギャップを有する高透磁率磁性体から成るコアに巻線を
設け、その巻線に流す直流バイアス電流により、前記ギ
ャップ近傍に生じる直流磁界をバイアス磁界として、狭
トラツク薄膜磁気ヘッドのトラック巾方向に加えること
によって、薄膜ヘッドの磁極を形成する磁性膜内の磁化
をトラック巾方向に向かせることにある。
すなわち、本考案による磁気ヘッドの基本構成は、一端
にギャップと一部に巻線を有する高透磁率磁性体からな
るコアと、このギャップ近傍に設けられた、磁極を形成
する高透磁率磁性体の一部が薄膜により形成された薄膜
磁気ヘッドとより成る。
次に、本考案を図面を用いて説明する。
第1図aは、本考案の実施例を模式的に示したものであ
り、第1図すは特に狭トラツク薄膜磁気ヘッドの部分を
解り易い様に拡大して示したものである。
基板2上に形成されたトラック巾Wが、磁極を形成する
高透磁率磁性体磁性膜3,4の磁路長即ちヨーク長りよ
りも短い狭トラツク薄膜磁気ヘッド1が高透磁率磁性体
から成るコア12の一端に設けたギャップ15の中に設
置され、さらにこれらが磁気記憶媒体11に垂直に近接
して置かれる。
ここで前記磁性膜3,4はトラック巾方向が容易軸方向
となる様に、トラック巾方向に一定磁界を印加した状態
で形成される。
しかし、このままでは磁性膜3,4内の磁化は、形状異
方性による分散を生じ易い。
そこで、巻線14に流す直流バイアス電流I B Kよ
って、ギャップ15に生じる適当な大きさの直流バイア
ス磁界9が、トラック巾方向に加えられることにより、
異方性分散がおさえられその結果、無信号時における磁
性膜3,4内の磁化はトラック巾方向10に向けられる
(以下この状態をバイアスされると呼ぶ。
)この直流バイアス磁界9の大きさは前記磁性膜3,4
内の磁化方向をトラック巾方向にバイアスするに十分で
媒体11の磁化に彩管を与えない程度(数〜数十エルス
テッド程度)であり、巻線14に流す電流I9によって
調節され、ギャップ15の大きさg、磁性膜3,4の形
状及び磁気特性、媒体11の磁気特性等により適宜選定
される。
この様に狭トラツク薄膜磁気ヘッドのトラック巾方向に
直流磁界を印加することを特徴とする公知技術として特
公昭53−11452号公報に記載の磁気記録再生装置
があるが、本考案は、これとは本質的に異なるものであ
る。
すなわち特公昭53−11452号の装置では磁極を形
成する磁性膜は、トラック巾と直角方向が容易軸となる
様に形成されており、これにトラック巾方向の直流磁界
を印加して容易軸方向の交流信号磁界の検出を行ってい
る。
この装置は確かに高速応答という特徴を有する。
しかし無信号時には、磁極を構成する磁性膜内の磁化は
トラック巾方向に向いていないためトラック巾と直角方
向の磁化成分が存在し、これにより磁極を形成する前記
磁性膜の磁気記録媒体対向面に磁荷が現われ、この磁荷
から生じる磁界で磁気記録媒体上の信号磁化を減磁する
、いわゆる再生減磁の問題が生じる。
また前記磁性膜は容易軸と再生時の磁力線の経路とが一
致するため磁壁移動型で磁化するためバルクハウゼンノ
イズが多いという欠点がある。
一方、本考案では、磁極を形成する磁性膜はトラック巾
方向が容易軸となる様に形成されてかり、この時生じる
形状異方性による分散をトラック巾方向の直流磁界印加
によりなくし、その結果無信号時には磁極を構成する磁
性膜内の磁化はトラック巾方向に向けられ、ている。
従って、本考案では無信号時には磁極を構成する磁性膜
内にトラック巾と直角方向の磁化成分がないため、上述
のような再生減磁の問題は生じない。
又困難軸方向に信号磁界が加わることにより、前記磁性
膜は磁壁の移動型ではなく、磁化の回転モードで動作す
るため、高速応答でありかつバルクハウゼンノイズは少
くなる。
このように本考案と上記特公昭53−11452号公報
に記載の磁気記録再生装置との相違は明らかである。
トラック巾方向を容易軸方向とする磁気ヘッドはアイ・
イー・イー・イー・トランザクションズ・オン・マグネ
ティックス(IEEE Transactionson
Magnetics)MAG−6巻、601頁(19
70年)に記載されているが、形状異方性による分散を
少くするため、磁性膜と非磁性膜を交互に多数積み重ね
た配置をとる必要があり、極めて高度の技術を要する上
に良品率が悪いという欠点がある。
本考案ではそれを外部からトラック巾方向に直流磁界を
加える手段で実現しており、極めて容易にしかも良品率
も高く製作できる利点がある。
本考案をさらに具体的にするために材料、形状及び構成
についての1例を示す。
狭トラツク薄膜磁気ヘッド1の磁極を形成する高透磁率
磁性体である磁性膜3,4としては、厚さ数□クロン、
トラック巾W数+□クロン、ヨーク長数十〜数百ミクロ
ンのパーマロイ等の高透磁率強磁性薄膜が、書き込み信
号電流を流したり再生時の誘導出力検出用のコイルを形
成する導電体層6としては厚さ数千オングストローム−
数ミクロンの金、銅、アルミニウム等が、上記磁性膜3
,4と導電体6との電気的絶縁体5としては厚さ数千オ
ングストロームのSiOや5i02あるいはAl2O3
等が、基板2としては、シリコン単結晶やガラス或はフ
エライとブロック等が適する。
直流バイアス磁界9発生用の磁路を形成するコア12と
しては、パーマロイやフェライト等の高透磁率磁性体を
適当な大きさに加工したものが適する。
ギャップgの大きさとしては基板2の大きさに応じて数
十□クロンないし数ミリメートルが選ばれ、数〜数十エ
ルステッドの直流バイアス磁界9が前記狭トラツク磁気
ヘッド1のトラック巾方向に発生する様にバイアス電流
IBが調節される。
第2図は、本考案の第2の実施例を示したもので、狭ト
ラツク薄膜磁気ヘッド1及び直流バイアス磁界9発生用
のコア12及び直流バイアス電流を流す巻線14が薄膜
作製技術により、同一基板2上に形成されている。
第2図における直流バイアス磁界発生用のコア12とし
ては厚さ数〜数十ミクロンのパーマロイ等の高透磁率磁
性体、導電体層14としては厚さ数ミクロン−数十ミク
ロンの金・銅・アルミニウム等が、前記コア12と導電
体層14との電気的絶縁をする絶縁体5としては厚さ数
千オングストロームのSiOや5i02あるいはAI
203等の薄膜が適する。
基板2としては第1図の時と同様にシリコン単結晶やガ
ラス又はフェライトブロックが適するが、本構成では特
に、基板2はセラミックやフェライトブロックで形成さ
れるスライダを兼ねても良い。
又、狭トラツク薄膜磁気ヘッド1の下部ポール4をフェ
ライトブロックで構成し、これで基板2あるいはスライ
ダを兼ねる様にしても良い。
第3図は、本考案の第3の実施例を示したもので、狭ト
ラツク薄膜磁気ヘッド1が直流バイアス磁界発生用のコ
ア12のギャップ15の側面に配置されている。
この場合は、直流バイアス電流IBにより、ギャップ1
5の側面に生じる直流バイアス磁界9が、前記狭トラツ
ク薄膜磁気ヘッド1のトラック巾方向に加えられる。
本構成は、第1図及び第2図で示した実施例と比べて、
ギャップgの大きさの選択が自由であるという特長を有
する。
第4図は、本考案の第4の実施例を示したもので、狭ト
ラツク薄膜磁気ヘッド1が直流バイアス磁界発生用のコ
ア12のギャップ15の側面に配置されて、巻線14に
流す直流バイアス電流IBにより、磁性膜3,4内の磁
化をトラック巾方向にバイアスするのは第3図の場合と
同じであるが、狭トラツク薄膜磁気ヘッドのコイル6に
連なる電極端子7に連なるコイル16が、前記コア12
に巻かれて一次コイルを成し、又コア12の一部にはこ
の一次コイルの数〜数十倍のターン数を持つ巻線17が
配置されて二次コイルを成し、さらにこの二次コイルに
電極端子18が設けられ、この端子18を介して情報の
書き込み及び再生が行われる点に特徴がある。
本構成ではコア12が、トランスの役目をするので、書
き込み時にコイル17に流す電流は第1図〜第3図に示
した実施例と比べて小さくて良いこと、及び再生時には
大きい出力が得られることが特長である。
以上の説明においては、本考案が有効な狭トラツク薄膜
磁気ヘッド1のコイル6として半ターンのものを挙げた
が、コイル6のターン数が2以上のいわゆるマルチター
ンヘッドにも全く同様に適用可能である。
本考案によれば、薄膜磁気ヘッドの磁極を構成する磁性
体3,4内の磁化がトラック巾方向に容易軸にし、しか
も形状異方性による分散を防ぐため、コアとコイルとい
う簡単な直流磁場発生体によって容易軸方向にバイアス
されるため、書き込み時及び再生時には、磁性体3,4
内の磁化がトラック巾方向とは直交する方向に回転を起
すことになり、この様な磁化の回転動作は応答速度が速
く又、再生時のバルクハウゼンノイズも少く、さらに磁
気記憶媒体110対向面には磁荷を生じないので、再生
減磁のない良好なる狭トラツク薄膜磁気ヘッドを構成す
ることができる。
第1図より第4図に挙げた実施例では、薄膜磁気ヘッド
の磁極を構成する高透磁率磁性体が全て薄膜で形成され
ている例を示したが、一部がフェライトブロック、他が
パーマロイ薄膜で形成されている様な場合にも、パーマ
ロイ薄膜に関しては同様のバイアス磁界を加えることに
より、本考案の効果が発揮される。
以上説明した如く、本考案によれば、高性能な狭トラツ
ク薄膜磁気ヘッドを提供することができる。
又本考案は比較的広いトラック巾の薄膜磁気ヘッドにも
有効に適用されることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の第1の実施例を示す図で、aは概略斜
視図、bはその薄膜磁気ヘッド部の拡大斜視図、第2図
は第2の実施例を示す概略斜視図、第3図は第3の実施
例を示す概略斜視図、第4図は第4の実施例を示す概略
斜視図である。 1・・・狭トラツク薄膜磁気ヘッド、2・・・基板、3
・・・上部磁極、4・・・下部磁極、5・・・絶縁層、
6・・・コイル、7・・・電極取出端子、8,10・・
・磁性膜内の磁化、9・・・直流バイアス磁界、11・
・・磁気記憶媒体:、12・・・高透磁率磁性体、13
・・・磁束、14・・・巻線、15・・・ギャップ、1
6・・・一次コイル、17・・・二次コイル、18・・
・電極端子。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 巻線を有する高透磁率磁性体から成るコアの一部に
    ギャップを設けそのギャップの中又は側面に磁極を形成
    する高透磁率磁性体の少くとも一部が薄膜で該高透磁率
    磁性薄膜の磁化容易軸がトラック巾方向になるように形
    成された薄膜磁気ヘッドが設置され、前記巻線に直流バ
    イアス電流を流すことにより前記高透磁率磁性薄膜のト
    ラック巾方向((直流磁界を印加されることを特徴とす
    る磁気ヘッド。 2 コアには、直流バイアス電流を流す巻線と、薄膜磁
    気ヘッドのコイルと連結された一次コイルとなる巻線と
    、情報の記録又は再生に用いられる増巾器に連結された
    二次コイルとなる巻線とを有する実用新案登録請求の範
    囲第1項記載の磁気ヘッド。
JP12099278U 1978-09-01 1978-09-01 磁気ヘツド Expired JPS5853695Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12099278U JPS5853695Y2 (ja) 1978-09-01 1978-09-01 磁気ヘツド

Applications Claiming Priority (1)

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JP12099278U JPS5853695Y2 (ja) 1978-09-01 1978-09-01 磁気ヘツド

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Publication Number Publication Date
JPS5539535U JPS5539535U (ja) 1980-03-13
JPS5853695Y2 true JPS5853695Y2 (ja) 1983-12-06

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ID=29077719

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12099278U Expired JPS5853695Y2 (ja) 1978-09-01 1978-09-01 磁気ヘツド

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JPS5539535U (ja) 1980-03-13

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