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JPS585319A - 安定化された合成樹脂組成物 - Google Patents

安定化された合成樹脂組成物

Info

Publication number
JPS585319A
JPS585319A JP56104069A JP10406981A JPS585319A JP S585319 A JPS585319 A JP S585319A JP 56104069 A JP56104069 A JP 56104069A JP 10406981 A JP10406981 A JP 10406981A JP S585319 A JPS585319 A JP S585319A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copolymer
group
synthetic resin
butyl
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56104069A
Other languages
English (en)
Inventor
Motonobu Minagawa
源信 皆川
Naohiro Kubota
直宏 久保田
Toshihiro Shibata
俊博 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Original Assignee
Adeka Argus Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Adeka Argus Chemical Co Ltd filed Critical Adeka Argus Chemical Co Ltd
Priority to JP56104069A priority Critical patent/JPS585319A/ja
Priority to US06/379,847 priority patent/US4499220A/en
Priority to EP82105307A priority patent/EP0069871A3/en
Publication of JPS585319A publication Critical patent/JPS585319A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/12Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F222/22Esters containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は耐光性の改善された合成樹脂組成物に関し、詳
しくはポリアルキルピペリジル基を有するマレイン酸(
又は7mル酸)エステル/特定の不飽和単量体共重合体
を含有せしめてなる光安定性の改善され九合成樹脂組成
物に関する。
ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、ポリ塩化
ビニル等の重合体は一般に光の効果に対し敏感であp、
その作用によp劣化し、変色あるいは強度の低下等を引
き起こし、長期の使用に耐えないことが知られている。
そこでこの光による重合体の劣化を防止するために1従
来から種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられ
てきた光安定剤はその安定化効果が不充分であり、また
安定剤自体が熱あるいは酸化に対して不安定であったり
、水等の溶剤によって重合体から抽出されやすいものが
多く、さらに重合体に着色を与える−のが多い等0欠点
を持っており、重合体を長期にわたって安定化すること
ができなかった。
これら従来用いられてき九九安定剤の中でもヒンダード
ピペリジン系の化合物はそれ自体が非着色性でありまた
紫外線吸収剤としてではなく、消光剤として作用するな
どの特徴を有しており、近部特に注目されている。
しかしなかも従来知られているピペリジン系の化合物は
光安定化能が不充分であり、また揮発性が大きかったり
、水によって重合体から容易に抽出されてしまったり、
あるいは重合体との相容性に劣りプルーム等の原因とな
るなどの欠点もあった。
これらの欠点を解消するために、鰍近高分子量のヒンダ
ードピペリジン化合物を用いることが提案されている。
例えば特開昭52−141,885号公報にはヒンダー
ドピペリジル基を有するポリエステル等の重合体が提案
され、特開昭54−21489号公報及び特開昭54−
71185号公報にはヒンダードピペリジル基を有する
(メタ)アクリレート重合体が提案され、又、特開昭5
5−157612号公報にはヒンダードピペリジル基を
有する!レイン酸エステルーオレフィン共重合体が開示
されている。
しかしながら、これらの重合体を用いる場合は、安定剤
の揮発性は低減されるもののその安定化効果は充分では
なく、また安定化される高分子物質との相溶性に劣り、
プル・・ム尋の原因  □となる欠点があり、さらに改
良することが必要であった。
本発明者尋はかかる現状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、
ポリアルキルピペリジル基を有する特定の不飽和カルボ
ン酸エステル共重合体を用いることにより、上記の欠点
が全て解消し得ることを見い出し本発明に到達した。
即ち、本発明は合成樹脂100重量部に対し、(a)次
の一般式(1)で表わされる単量体と伽)炭素原子数2
〜8の脂肪族カルボン酸のビニルエステル、炭素原子数
1〜18のアルキル−ビニルエーテル、トリアリルイソ
シアヌレート、ピネン及びトリシクロ(5,2,1,0
?  )デセン−3から選ばれる少なくとも一種の単量
体との分子量1,000〜20,000の共重合体0.
001〜5重量部を含有せしめてなる安定化された合成
樹脂組成物を提供するものである。
R2はアルキル基tたはRoで表わされる基を示を示す
。R3は水素原子またはアルキル基を示す。
R5は水素原子またはメチル基を示す。R2はアルす。
〕 以下、本発明において用いられる共重合体について詳述
する。
炭素原子数2〜8の脂肪族カルメン酸のビニルエステル
としてd1酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニ
ル、カプロン酸ビニル、カフリル酸ビニル、2−エチル
ヘキサン酸ビニルなどがあげられる。
また炭素原子数1〜18のアルキル−ビニルエーテルと
しては、メチル−ビニルエーテル、エチル−ビニルエー
テル、フロピルービニルエ−チル、イソプロピル−ビニ
ルエーテル、ブチル−ビニルエーテル、インブチル−ビ
ニルエーテル、アミル−ビニルエーテル、ヘヤシルービ
ニルエーテル、2−エチルへキシル−ビニルエーテルな
どがあげられる。
一般式(1)において、R2で表わされるアルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ヘキシル、オクチル、イソオクチル、2−エチル
ヘキシル、デシル、ドデシル、トリデシル、ナト2デシ
ル、ヘキサデシル、オクタデシル等があげられる。馬で
表わされるアルキル基としては上記のアルキル基に加工
、ベンジル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプ
ロピル、2−ヒドロキシブチル、2゜3−エポキシプロ
ビル等があげられる。−で表わされるアルキレン基とし
ては、エチレン、1゜2−プロピレン、1,2−ブチレ
ン等があげられる。穐で表わされる低級アルキル基とし
ては、メチル、ヒドロキシメチル、エチル、プロピル、
ブチル等があげられる。R7で表わされるアルキレン基
としては、エチレン、1,2−プロピレン、1.s−プ
ロピレン、2.2−P)メチルプロピレン、1,2−ブ
チレン、1,2−ヘキシレン、1,2−オクチレン、1
,2−デシレ/、1.2−ドデシレン、1,2−テトラ
デシレン、1.2−一、キサデシレ/、1,2−オクタ
デシルン 2−メチル−2−ヒドロキシメチル−1゜3
−プロピ・レン、2−エチル−2−ヒドロキシメチル−
1,5−プロピレン等があげられる。
本発明において用いられる(&)マレイン酸(又d;F
rル酸)エステル/ (b) Ifl定の不飽和単量体
共重合体は、例えばポリアルキルピペリジル基を有する
マレイン酸(又はフマル酸)エステルと特定の不飽和単
量体とを有橋過酸化物あるいはアゾニトリル化合物等の
通常の重合開始剤を用いて重合させるか、あるいはマレ
イン酸(又はフマル酸)ジアルキルエステル/特定の不
飽和単量体共重合体とポリアルキルピペリジル基を有す
るアルコールとのエステル交換反応等によって容易に製
造することができる。
この場合、マレイン酸エステルと特定の不飽和単量体の
モル比は1:10〜10:1の範囲から選択され得るが
、好ましくは1:5〜5:1である。
また、本発明で用いられる共重合体は(a)マレイン酸
(又はフマル酸)エステルとrb)*定の不飽和単量体
の共重合体であるが、さらにこれに少割合の他の共重合
可能なモノマーを共重合させた共重合体であってもよい
。該他のモノマーとしてはスチレン、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル等があげられる。
以下、具体的な合成例によって本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって制限を受け
るものではない。
合成例1 フマル酸ビス(1,2,2,6,6−ベンタメチルー4
−ピペリジル)エステル/酢酸ビニル共重合体の製造 フマル酸ビス(1,2,2,6,6−ベンタメチルー4
−ピペリジル)エステル2.1t、酢酸ビ=ル1.7F
及びジクミルパーオキサイド0.03fをトルエン5−
に溶解し、窒素ガス気流下120℃で5時間加熱攪拌し
喪。減圧下に溶媒及び未反応酢酸ビニルを溜去し、分子
量1.Son、軟化点68〜75℃、N含率5.2−の
ガラス状固体の生成物(安定剤罵1)を得た。
合成例2 フマル酸ビス(3−エチル−8,8,9,10゜10−
ペンタメチル−9−アザ−1,5−ジオキサスピロ[S
、S]−S−ウンデシルメチル)エステル/酢酸ビニル
共重合体の製造 フマル酸ビス(5−エチル−8,8,9,10゜10−
ペンタメチル−?−アザー1,5−ジオキナスピロ[:
5.5]−s−ウンデシルメチル)エステル2.8F、
酢酸ビニル1.4f1アゾビスイソブチロニトリル0.
042F及びベンゼン5mgをとり、窒素ガス気流下7
5℃で5.5時間加熱攪拌した。減圧下に脱溶媒し、分
子量2,800、軟化点8B〜89℃、N含率5.4*
O淡黄色ガラス状固体の生成物(安定剤42)を得た。
合成例3 フマル酸ビス(1,2,2,16,6−ベンタメチルー
4−ピペリジル)エステル/ブチル−ビニルエーテル共
重合体の製造 フマル酸ビス(112,2,6,6−ベンタメチルー4
−ピペリジル)エステル2.1?、ブチル−ビニルエー
テル0.47t、 ジクミルパーオキサイド0.026
9及びトルエン5rnlをとり、窒素気流下110℃で
10時間加熱攪拌した。溶媒を溜去し、分子量2.Go
o、軟化点約80℃、N含率5.8チのガラス状固体の
生成物(安定剤ム5)を得た。
合成例4 フマル酸ビス(1,2,2,6,6−ベンタメチルー4
−ピペリジル)エステル/トリシクロ〔5,2,1,0
−:lデセン−5共重合体の製造フマル酸ビス(1,2
,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)エステ
ル2.1F、)!jシクロ(5,2,1,Ot :lデ
セン−50,66f。
ジクミルパーオキサイド0.05 f及びトルエン5m
をとり窒素気流下110℃で9時間加熱攪拌した。その
後ジクミルパーオキサイド0.052を加え、さらに1
10℃で10時間加熱攪拌を行なった。減圧下に脱溶媒
し、分子量1800、軟化点78〜79℃、N含率5.
4%のガラス状固体の生成物(安定剤/l64)を得た
合成例5 フマル酸ビス(1,2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)エステル/トリアリルイソシアヌレート
共重合体の製造 フマル酸ビス(1,2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)エステル2.1F、)リアリルイソシア
ヌレート1.7を及びジクミルパーオキサイド0.02
4fをとり130℃で1時間加熱攪拌した。軟化点約1
70℃のガラス状固体の生成物(安定剤層5)を得た。
合成例1〜5と同様にして次の表に示す共重合体を製造
した。
本発明は前記特定の不飽和カルボン酸エステル共重合体
を合成樹脂に添加してその耐光性を改善させるものであ
り、その添加量は、通常台も成樹脂100重量部に対し
0.001〜5重量部、好ましくは0.01〜5重量部
である。
本発明における耐光性改善の対象となる合成樹8旨とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−3−メチルブテン、などのα−オレツイン
重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン
−プロピレン共重合体などのポリオレフィンおよびこれ
らの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリ
フッ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、臭
素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル
−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体
、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マ
レイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体
、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素
化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−
酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エス
テル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合
体、塩化ビニルーメタタリル酸エステル共重合体、塩化
ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩
化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロ
ン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂
、スチレンと他の単量体(例えば無水マレイン酸、ブタ
ジェン、アクリロニトリルなど)との共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリル
酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、メタクリ
ル酸エステルーブタジエンースチレン共重合体、ポリメ
チルメタクリレートなどのメタクリレージ樹脂、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブ
チラール、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド
、ボリアイド、ポリカーボネート、ポリアセタータ、ポ
リウレタン、繊維素系樹脂、あるいはフェノール樹脂、
エリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリ
エステル樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができ
る。更に、インプレンゴム、ブタジェンゴム、アクリロ
ニFリルーブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジェ
ン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂のブレンド品
であってもよい。
また、過酸化物あるいは放射線等によって架橋させた架
橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡
させた発泡ポリスチレン勢の発泡重合体も包含される。
本発明の組成物にさらにフェノール系の抗酸化剤を添加
するととKよって酸化安定性を改善することができる。
これらのフェノール系抗酸化剤として社たとえば、2,
6−ジー第5ブチル−p−クレゾール、ステアリル−(
s、s−ジ−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオグ
リコレート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−3,
5−ジー第5ブチルフエニル)グロピオネート、ジステ
アリル−5,5−ジー第5ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、2.4.4−トリス(g、?−ジー
第3ブチルー4′−ヒドロキシベンジルチオ)−1,5
,5−)リアジン、ジステアリル(4−ヒドロキシ−墨
−メチル−5−第Sプfル)ペンジルマジネート、2,
2′−メチレンビス(4−メチル−6−第3ブチルフエ
ノール)、a、!−メチレンビス(2,6−ジー第5ブ
チルフエノール)、2゜2′−メチレンビス(6−(1
−メチルンクロヘキシル)p−クレゾール〕、ビス〔3
,5−ビス(4−ヒドロキV−5−1148ブチルフェ
ニル)ブチリックアシドコグリコールエステル、4゜4
′−ブチリデンビス(6−第5ブチル−m−クレゾール
)、1,1.5−)リス(2−メチル−゛4−ヒドロ中
シー5−第5ブチルフェニル)ブタン、ビス〔2−第5
ブチル−4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−5−第3
ブチル−5−メチルベンジル)フェニルコテレフタレ−
)、1t5.5−トリス(2,6−シメチルー5−ヒド
ロ中シー4−第3ブチル)ベンジルイソシアヌレート、
1,3.5−トリス(3,5−ジー第5ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン
、テトラキス〔メチレン−5−(5,5−ジー第5ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)グロピオネート〕メタン
、1.!5゜5−トリス(5,5−ジー第3ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ−)、1,5゜5
−トリス[(5,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシ
フエエル)プロピオニルオキシエチルコインシアヌレー
ト、2−オクチルチオ−4゜6−ジ(4−ヒドロ中シー
3,5−ジー第3ブチル)フェノキシ−1,5,5−ト
リアジン、4゜4′−チオビス(6−第5ブチル−m−
クレゾール)などのフェノール類及び4.!−ブチリデ
ンビス(2−第5ブチル−5−メチルフェノール)の炭
酸オリゴエステル(例えば重合度2゜s、4,5,6,
7,8,9.10など)などの多価フェノール炭酸オリ
ゴエステル類があげられる。
本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加えてその
酸化安定性の改善をはかることもできる。これらの硫黄
系抗酸化剤としてはたとえばジラウリル−、ジぐリスチ
ル−、ジステアリル−などのジアルキルチオジプロビオ
ネー)及びブチル−、オクチル−12ウリル−、ステア
リル−などのアルキルチオプロピオン酸の多価アルロー
ル(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリメ
チロールプロ/(ン、ペンタエリスリシール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレート)のエステル(例エハ
ヘンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネー
))があげられる。
本発明の組成物に、さらにホスファイト勢の含リン化合
物を添加することによりで、耐光性及び耐熱性を改善す
ることができる。この含リン化合物としては例えば、ト
リオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、
トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホスフ
ァイト、トリス(2,4−ジー第3ブチルフエニル)ホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ブト
午ジエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホ
スファイト、テトラ(トリデシル)−’51t5− )
リス(2−メチル−5−第5ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタンジホスファイト、テト2 (C12〜1
5混合アルキル>−a、!−イソプロビリデンジフエエ
ルジホスファイト、テトラ(トリデシル>−a、4′−
ブチリデンビスCs−メチルー6−フ トリス(5.5−ジー#g5ブチルー4ーヒドロキシフ
ェニル)ホスファイト、トリス(七)・ジ混合ノニルフ
ェニル)ホスファイト、水素化−4.4’−イソプロピ
リデンジフェノールポリホスファイト、ビス(オクチル
フェニル)・ビス[ a 、 4’−ブチリデンビス(
S−メチル−6−第5ブチルフエノール)〕・1,6−
へキサンジオールジホスファイト、フェニル・4,!ー
イソプロピリデンジフェノール・ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ビス(Z,4−5)−第S”エチルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(
2.6−ジ−第3ブチル−4−1fルフエニル)ペンタ
エリスリ)−ルジホスファイF1 トリス[4,4’−
イソプロピリデンビス(2−第3ブチルフエノール)〕
ホスファイト、フェニル・ジイソデシルホスファイト、
c)(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、トリス(1,!!ージーステアーイルオキシイ
ソプロビル)ホスファイト、a,t−イソプロピリデン
ビス(2−第5ブチルフエノール)・シ(ノニルフェニ
ル)ホスファイト、9.10−シーツ1イドロー9−オ
會すー10ーフオスファフエナンスレン−10−オキサ
イド、テトラキス(2.4−ジ−第5プチルフ工具ル)
−4.4−ビフエニレンジホスホナイトなどがあげられ
る。
本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができる。これらの光
安定剤としてはたとえば、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキ
シベンゾフェノン、2,i−ジ−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン、2.4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン等のヒドロキシベンゾフェノy類、2− (l−ヒ
ドロキシ−f−t−ブチル−イーメチルフェニル)−5
−クロロベン/)!77:/−ル、2−(2’−ヒドロ
キシ−t,rt−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、2−((−ヒドロキシ−g−メ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒド
ロdFシーt,t−’)−t−7々ルフエニル)ベンゾ
トリアゾール等のベンゾトリアゾール類、フェニルサリ
シレー)、p=t−プチルフェニルサリシレー)、2.
4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロ中ジベンゾエート、へΦサブシル−5.5
ージーtーブチル−4−ヒドロΦジベンゾエート勢ノペ
ンゾエート類、2.2′−チオビス(4 − t −オ
クチルフェノール)N1塩、[2.2′−チオビス(4
−1−オクチルフェノ2−ト’)]−]mm−ブチルア
電量N13,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ホスホン酸モノエチルエステルN1塩等のニッケ
ル化合物類、α−シアノ−β−メチル−β−(p−メト
キシフェニル)アクリル類メチル等の置換アクリ四ニト
リルII及ヒN−2−エチルフェニル−付−2−エトキ
シ−5−第5プチルフエニルシエウ酸ジアミ)、N−2
−エチルフェニル−付−2−二ドキンフェニルシュウ酸
ジアンド等のシュウ酸ジアニリド類があげられる。
その他必要に応じて、本発明組成物は重金属不活性化剤
、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑削、エポキ
シ化合物、顔料、充填剤、発泡側、帯電防止剤、―燃剤
、滑削、加工助削等を包含させることができる。
次に本発明を実施例によって具体的に説明する。しかし
ながら本発明はこれらの実施例によつて限定されるもの
で社ない。
実施例1 ポリ塩化ビニル          100 重量部ジ
オクチルフタレート         48エポキシ化
大豆油           2トリスノニルフエニル
ホスフアイト0.2Ca−ステアレート1.0 Zn−ステアレート1,0.1 試  料(表−1)            0.3上
記配合物をロール上で混練し7厚さ1mのシー1を作成
した。このシートを用いウエザオフ−ター中での耐光性
試験を行なった。その結果を表−1に示す。
表         1 実施例2 ポリプロピレン            100 重量
部ステアリル−β−S、S−ジー第5ブチルー4−  
 0.2ヒドロキシフエニルプロピオネート 試   料(宍−2)             [1
,3上記配合にて厚さ0.5mのプレスシートを作成し
、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なった。また
80℃の熱水に15時間浸漬後のシートについても耐光
性試験を行なった。その結果t−表−2に示す。
表    −2 実施例3 エチレン−酢酸ビニルコポリマー    100 重量
部2.6−ジー第3グチル−p−クレゾール    0
.1Ca−ステアレートo、1 zn−ステアレート0.1 ジイソデシルフェニルホスファイト      0.2
試   料(表−5)           0.2上
記配合物をロール上130℃で混線後、140℃でプレ
スシート(厚さ0.4mm)を作成した。このシートを
ウェザオフ−ター中で5o。
時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果を表−3
に示す。
表         3 実施例4 ポリエチレン            100 重量部
Ca−ステアレート           1.0グロ
ピオネート〕メタン ジステアリルチオジプロピオネート0.5試  料(表
−4)           0.2上記配合物を混線
後プレスして厚さ0.5簡のシートを作成した。このシ
ートを用いてウエザオフ−ター中で耐光性を測定し、脆
化するまでの時間を測定した。その結果を表−4に示す
表         4 実施例5 ABS樹脂            100  重量部
4.4′−ブチリデンビス(2−第50.1ブチル−m
−クレゾール) 試   料(表−5)          o、s上記
配合物をロール上で混線後プレスして厚さ5■のシート
を作成した。仁のシートを用いウエザオメーターで80
0時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果を表−
5に示す。
表          5 実施例6 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著るしく失なわれることが知られている。
本実施例では押し出し加工を繰シ返し行なうことにより
高温加工による影響を確かめた。
次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで5分間混合し
た後、押し出し機でコンパウンドを作成した。(シリン
ダ一温度250℃、240℃、ヘッドダイス温度250
℃、回転数2orpm)押し出しを5回繰り返し行なつ
先後このコンパウンドを用いて試験片を射出成形機で作
成した。(シリンダ一温度240℃、ノズル温度250
℃、射出圧4754/aj) 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行なった。また、押し出し1回のものについても同様に
試験した。その結果を表−6に示す。
〈配 合〉 エチレン−プロピレン共重合樹@    100  重
量部ステアリン酸カルシウム          0.
2ステアリル−β−3,5−ジー第5ブチル−4−0,
1ヒドロΦシフエニルプロピオネート ジラウリルチオジブロビオネート0.2試   料(表
−6)             0.2表    −
6 実施例7 ポリウレタン樹脂(加電化製U−100)   100
  重量部Ba−ステアレート           
 0.7Zn−ステアレート0.3 2.6−ジー第5ブチル−p−クレゾール    0.
1試   料(表−7)           0.!
S上記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、12
0℃5分間プレスして厚さ0.5−のシートを作成した
。このシートをフェードメーターにて50時間照射後の
伸び残率を測定した。
その結果を表−7に示す。
表          7

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 合成樹脂100重量部に対し、(a)次の一般式(1)
    で表わされる単量体と(b)炭素原子数2〜8の脂肪族
    カルボン酸Oビニルエステル、炭素原子数1〜180フ
    ルΦルービニルエーテル、トリアリルイソシアヌレート
    、ピネン及びトリシクロ(5,2,1,0I )デセン
    −3から選ばれる少なくとも一種の単量体との分子量1
    .Goo〜20、Gooの共重合体0.、001〜5重
    量部を含有せしめてなる安定化され九合成樹脂組成物。 〔式中、R1は R2はアルキル基またはRoで表わされる基を示を示す
    、R5は水素原子またはアルキル基を示す。 R1は水素原子またはメチル基を示す。R1はアルを示
    す。〕
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