JPS585269B2 - 電解槽の磁気的障害減少方法 - Google Patents
電解槽の磁気的障害減少方法Info
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- JPS585269B2 JPS585269B2 JP54013181A JP1318179A JPS585269B2 JP S585269 B2 JPS585269 B2 JP S585269B2 JP 54013181 A JP54013181 A JP 54013181A JP 1318179 A JP1318179 A JP 1318179A JP S585269 B2 JPS585269 B2 JP S585269B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アルミナを液状氷晶石に溶かした電解質から
アルミニウムを生産するため、電解槽を長手方向へ直列
に配置した構成において、大容量の動作電流によって生
じる磁気的障害を減少せしめるための新規な方法に関す
るものである。
アルミニウムを生産するため、電解槽を長手方向へ直列
に配置した構成において、大容量の動作電流によって生
じる磁気的障害を減少せしめるための新規な方法に関す
るものである。
本発明は個々の電解槽から発生する磁界や同列の隣接槽
からの磁界、比較的短い距離を隔てて隣接する他の列の
電解槽からの磁界による障害を減少させるために利用す
ることができる。
からの磁界、比較的短い距離を隔てて隣接する他の列の
電解槽からの磁界による障害を減少させるために利用す
ることができる。
設備投資を減らし、かつ生産を増やすため、 、20
年前には100,000アンペアであった電解摺電流を
現在では200,000アンペアにまで増やす傾向があ
ることは周知の通りである。
年前には100,000アンペアであった電解摺電流を
現在では200,000アンペアにまで増やす傾向があ
ることは周知の通りである。
また、槽列の軸方向に対して横向きに電解槽を並べた場
合には、長手方向に電解槽を並べた場合よりも磁気的影
響が少なく、そして寸法的には同等であるが、操作上の
条件が複雑になり、また、その構成に起因して操作性、
作業性が劣るということもよく知られている。
合には、長手方向に電解槽を並べた場合よりも磁気的影
響が少なく、そして寸法的には同等であるが、操作上の
条件が複雑になり、また、その構成に起因して操作性、
作業性が劣るということもよく知られている。
この点において、長手方向配列は上述欠点を持たないの
で有利である。
で有利である。
本発明は、長手方向へ配列した電解槽の場合の磁気的影
響を横方向配列した電解槽配列の場合よりも低レベルに
減らすと同時に、長手方向配列で得られる操作上の利点
をも維持し得るような方法を提供することを目的とする
。
響を横方向配列した電解槽配列の場合よりも低レベルに
減らすと同時に、長手方向配列で得られる操作上の利点
をも維持し得るような方法を提供することを目的とする
。
以下の説明においては従来の慣例に従って、電解槽の陰
極面中心を中心Oとする直交3面体における各軸Ox、
Oy、Ozに沿った磁界成分を、それぞれBx、By、
Bz で表わす。
極面中心を中心Oとする直交3面体における各軸Ox、
Oy、Ozに沿った磁界成分を、それぞれBx、By、
Bz で表わす。
ただし、Oxは列方向の長手軸、Oyは横軸、Ozは上
向きの垂直軸とする。
向きの垂直軸とする。
また、位置に関する上流、下流という表現も従来の慣例
に従って、電解槽列の電流方向を基準として表わすもの
とする。
に従って、電解槽列の電流方向を基準として表わすもの
とする。
電解槽の長手方向配列において磁気的影響を減少せしめ
るための所要条件は、1956年2月28日付でペシニ
ー(PECHINEY)社によって出願されたフランス
特許第1,143,879号で開示され、それ以後、世
界各国で設備された多くの電解槽には上記特許記載の導
体構成が採用されている。
るための所要条件は、1956年2月28日付でペシニ
ー(PECHINEY)社によって出願されたフランス
特許第1,143,879号で開示され、それ以後、世
界各国で設備された多くの電解槽には上記特許記載の導
体構成が採用されている。
この導体構成を用いることにより、重鐘槽中心で
という2重条件を満足することができる。
ただし、Byoは軸Oy(槽列の軸に直角な水平軸)に
そつた磁界の水平成分を表わし、(dBy°)/(dz
)は電解槽中心における垂直軸方向の電位勾配を表わす
。
そつた磁界の水平成分を表わし、(dBy°)/(dz
)は電解槽中心における垂直軸方向の電位勾配を表わす
。
以下の記述は、第1図に横方向断面で示される電解槽の
略図を基にして行なう。
略図を基にして行なう。
なお、上記フランス特許第1,143,879号に記載
の条件は単に水平磁界に関するものであって、電解槽内
の電流強度に実質的に比例して磁界強度の変化する垂直
磁界に対しては全く効果を示さない。
の条件は単に水平磁界に関するものであって、電解槽内
の電流強度に実質的に比例して磁界強度の変化する垂直
磁界に対しては全く効果を示さない。
最近の研究によれば、垂直磁界の重要性が認識され始め
ている。
ている。
垂直磁界は特に、液体アルミニウム層に生じるドーム状
変形の誘因となるものである。
変形の誘因となるものである。
このドーム形状は非対称なものであって、その頂上は電
解槽の下流方向端部の方へ片寄った形のものとなる。
解槽の下流方向端部の方へ片寄った形のものとなる。
このドーム状変形は基準面から4cm以上も隆起するも
のとなる。
のとなる。
金属内にこ生じるラプラス力呼ばれる力は、槽内の金属
界面を変形せしめるものである。
界面を変形せしめるものである。
Ox軸方向の力f(x)=jyBz−jzByOy軸方
向の力f(y)=jzBx−jxBzただし、Bx、B
y、Bz はそれぞれOx軸、Oy軸、Oz軸方向の磁
界成分、そして、jx。
向の力f(y)=jzBx−jxBzただし、Bx、B
y、Bz はそれぞれOx軸、Oy軸、Oz軸方向の磁
界成分、そして、jx。
jy、jzは金属内電流密度の3成分である。
本発明による磁気的影響の問題解決法を述べるに当って
、説明を容易にするため、上記ラプラス力の成分別解析
を行なう。
、説明を容易にするため、上記ラプラス力の成分別解析
を行なう。
まず、軸Ox、Oyによって4分割された第2図の長手
方向配列電解槽の水平部の中心点Oについて考察し、O
xに平行な線にそつた縦方向力を求める。
方向配列電解槽の水平部の中心点Oについて考察し、O
xに平行な線にそつた縦方向力を求める。
第1四半分においては、Ox(横軸y)に対する平行線
上の一連の力f1(x)は これは、横方向に出力端を備えた従来の陰極棒構成によ
ればjyおよびjzが定数6になることに基づいている
。
上の一連の力f1(x)は これは、横方向に出力端を備えた従来の陰極棒構成によ
ればjyおよびjzが定数6になることに基づいている
。
同様に、第2四半分においては
となる。
もしFl(x)=F2(x)ならば、Oxに平行な各線
上の力は、互に方向が逆で大きさの等しい力となる。
上の力は、互に方向が逆で大きさの等しい力となる。
その場合および
が成り立つ。
これら2つの条件は、次に場合を分けて示すようにBz
の曲線Byの曲線が軸Oyに関して逆対称であるときに
成り立つ。
の曲線Byの曲線が軸Oyに関して逆対称であるときに
成り立つ。
垂直磁界Bzの場合:長手方向配列の電界槽内において
、Oxに平行な各線上のBzの曲線は第3図に示される
ように、中心点での値に関して逆対称になる。
、Oxに平行な各線上のBzの曲線は第3図に示される
ように、中心点での値に関して逆対称になる。
したがって、Bz全全体Oyに関して逆対称となり、B
zは軸Oy上でゼロになる。
zは軸Oy上でゼロになる。
そして、電解槽の中心OにおけるBz(o)は鈎合いに
よってゼロになる。
よってゼロになる。
陽極装置の外側端縁を通るOxに平行な線上においてB
zは最大値をとり、もし点MでBzがゼロになるならば
、Bzの最大値曲線もまた逆対称形になる。
zは最大値をとり、もし点MでBzがゼロになるならば
、Bzの最大値曲線もまた逆対称形になる。
Bz(M)およびBz(o)がゼロならば、100,0
00アンペア電解槽の場合、軸Oy上のBzの値は2〜
3×10−4テスラを越えることなく、これは無視する
ことができる。
00アンペア電解槽の場合、軸Oy上のBzの値は2〜
3×10−4テスラを越えることなく、これは無視する
ことができる。
以上のように、Oyに関するいかなる対称点においても
Bzの値は逆符号同値であり、Oxに平行な各線上のB
z曲線は逆対称(anti−symmet−ric)に
こなる。
Bzの値は逆符号同値であり、Oxに平行な各線上のB
z曲線は逆対称(anti−symmet−ric)に
こなる。
水平磁界Byの場合:フランス特許第
1.143,879号記載の前述条件すなわち中心点O
においてBy=0という条件は維持される。
においてBy=0という条件は維持される。
By(o)=0のとき、Oyに平行な各軸上のByの値
は最大値をとるが、非常に小さい値である。
は最大値をとるが、非常に小さい値である。
そして、各軸上のByの曲線もまた逆対称になる。
以上全体的に考えて、2つの条件Bz(M)=0および
By(o)=0が得られたとき、Oxに平行な各軸上に
おいて Fl(x)=−F2(x) 従って ΣF1(x) (電解槽の第1四半分内の合計)=−Σ
F2(x) (電解槽の第2四半分内の合計)が成り立
つ。
By(o)=0が得られたとき、Oxに平行な各軸上に
おいて Fl(x)=−F2(x) 従って ΣF1(x) (電解槽の第1四半分内の合計)=−Σ
F2(x) (電解槽の第2四半分内の合計)が成り立
つ。
力の大きさが等しい結果、槽内金属界面は最小の盛り上
り(camber)で且つ対称ドーム形状となる。
り(camber)で且つ対称ドーム形状となる。
第4図は第3図と対応するもので従来の
115000アンペア電解槽の場合を示している。
この図には、非対称(dissymmetric)曲線
Bz(実線)の場合における盛り上りの大きい(4cm
まで)非対称ドーム形状と、BzがOy軸に関して逆対
称である場合、すなわち本発明を実施した場合における
盛り上りの小さい(約1cm)対称ドーム形状とが示さ
れている。
Bz(実線)の場合における盛り上りの大きい(4cm
まで)非対称ドーム形状と、BzがOy軸に関して逆対
称である場合、すなわち本発明を実施した場合における
盛り上りの小さい(約1cm)対称ドーム形状とが示さ
れている。
最初に述べた場合では非対称力発生の原因は、RからP
までの一連の正の力F1(x)がPからSまでの一連の
負のカーF1(x)の約3倍にもなっていることに基づ
いている。
までの一連の正の力F1(x)がPからSまでの一連の
負のカーF1(x)の約3倍にもなっていることに基づ
いている。
F(x)の場合と同様にして次に、Oyとの平行線にそ
った横方向力を求めると、 が得られる。
った横方向力を求めると、 が得られる。
これら横方向力は比較的短い長さく電解槽の幅に加えら
れるので、縦方向力F(x)に比べて著しく小さい。
れるので、縦方向力F(x)に比べて著しく小さい。
ここで、適切に構成された電解槽におけるjxはゼロ、
そしてjzは定数である。
そしてjzは定数である。
長手方向配列の電解槽では通常、導体が平面xOzに関
して対称的に配置されており、BxはOxに関して逆対
称になっている。
して対称的に配置されており、BxはOxに関して逆対
称になっている。
これは下記の式が成り立つことを意味している。
ΣF1(y)(電解槽の第1四半分における力の和)=
−ΣF4(y)(電解槽の第4四半分における力の和以
上のことから下記のような結論が得られる。
−ΣF4(y)(電解槽の第4四半分における力の和以
上のことから下記のような結論が得られる。
すなわち、電解槽がBy(o)=Bz(M)=0を満足
するように構成されていれば (1)電解槽の周縁における磁界Bz、Byの最大値は
小さくなる。
するように構成されていれば (1)電解槽の周縁における磁界Bz、Byの最大値は
小さくなる。
(2)ラプラス力は最小になり、その値は軸Ox。
Oyを対称軸とする両側の点で逆符号同値となる。
(3)その結果、電解質と液状アルミニウムの界面が安
定し、実質的に水平になる。
定し、実質的に水平になる。
槽中心での成分Byに関して、下記の付加条件を設ける
と有利である。
と有利である。
この勾配は一般にかなり小さいが、平均レベルから数セ
ンチしか上下に変化しない薄い液状金属層全体にわたっ
てByがゼロになるように上記勾配を可能な限りゼロに
近づけるため、相異なる条件が両立する範囲を求めるこ
とが可能である。
ンチしか上下に変化しない薄い液状金属層全体にわたっ
てByがゼロになるように上記勾配を可能な限りゼロに
近づけるため、相異なる条件が両立する範囲を求めるこ
とが可能である。
解決すべき問題は上述の通りであり、本発明の目的は、
電解槽をその長手方向に向けて接続導体で互に直列接続
した構成において、2つの列が相互の磁場影響を無視で
きない程度に狭い間隔で配置されている場合に2つの条
件By(O)=0゜Bz(M)=0に加えて可能ならば
もう1つの第三の条件(dBy°)/(dZ)=0を満
足させることによって近接列間相互の磁場的影響を減少
せしめるための方法を提供することである。
電解槽をその長手方向に向けて接続導体で互に直列接続
した構成において、2つの列が相互の磁場影響を無視で
きない程度に狭い間隔で配置されている場合に2つの条
件By(O)=0゜Bz(M)=0に加えて可能ならば
もう1つの第三の条件(dBy°)/(dZ)=0を満
足させることによって近接列間相互の磁場的影響を減少
せしめるための方法を提供することである。
本発明は電解槽の両端から電力供給を受けるか、あるい
は上流端と両側面にある横側面入力部材の一方とから電
力供給を受けるようにした長手方向直列電解槽に適用さ
れるものである。
は上流端と両側面にある横側面入力部材の一方とから電
力供給を受けるようにした長手方向直列電解槽に適用さ
れるものである。
一般に、陰極導体(種間接続導体)は中央面xOzに関
して対称的に配置される。
して対称的に配置される。
第1図の参照符号Y、Zは面xOz上における陰極導体
の座標を表わしている。
の座標を表わしている。
本発明方法の特徴は、陰極導体が軸Oxと平行に配置さ
れていて、第1の等式を満足する座標が、2つの式By
(O)=0と、Bz(M)=0(これは換言すれば軸O
yに関して逆対象形となる)とを成立させるような点を
実質的に通ることにある。
れていて、第1の等式を満足する座標が、2つの式By
(O)=0と、Bz(M)=0(これは換言すれば軸O
yに関して逆対象形となる)とを成立させるような点を
実質的に通ることにある。
また、座標Y、Zが第3の等式を少なくとも近似的に満
足するようにして付加条件(dBy°)/(dZ)=0
を成立可能にするか、あるいは、それぞれの解が両立す
る範囲で可能な限り上記付加条件に近づけるようにした
ことも本発明の特徴である。
足するようにして付加条件(dBy°)/(dZ)=0
を成立可能にするか、あるいは、それぞれの解が両立す
る範囲で可能な限り上記付加条件に近づけるようにした
ことも本発明の特徴である。
本発明のもう1つの特徴は、上記条件を成立させた上、
各電解槽列にそって少なくとも1個の補助導体を配置し
、各電解槽への磁気的影響を考慮した等式の解から得ら
れる大きさの電流値を持ち、かつ電解槽列の動作電流と
は逆方向の連続電流を上記補助導体に流すことによって
、近接列間の磁場的干渉を補償することである。
各電解槽列にそって少なくとも1個の補助導体を配置し
、各電解槽への磁気的影響を考慮した等式の解から得ら
れる大きさの電流値を持ち、かつ電解槽列の動作電流と
は逆方向の連続電流を上記補助導体に流すことによって
、近接列間の磁場的干渉を補償することである。
近接列間に相互の影響が現われない程度に間隔をおいて
2列に並べた電解槽構成と、相互の影響が生じる間隔で
2列に並べた電解槽構成の各場合について順次検討を進
める。
2列に並べた電解槽構成と、相互の影響が生じる間隔で
2列に並べた電解槽構成の各場合について順次検討を進
める。
上記いずれの場合においても、両端から電力供給を受け
る従来の電解槽と、上流端および中央入力部材から電力
供給を受ける型式の電解槽との間には明確な相違がある
。
る従来の電解槽と、上流端および中央入力部材から電力
供給を受ける型式の電解槽との間には明確な相違がある
。
なお、後者の電力供給型式は1977年1月19日付で
本出願人によって出願されたフランス特許出願第770
2213号記載と同様のもので、第5図に示されるよう
に槽の両側に中央入力部材を備えた構造になっている。
本出願人によって出願されたフランス特許出願第770
2213号記載と同様のもので、第5図に示されるよう
に槽の両側に中央入力部材を備えた構造になっている。
便宜上、上流端Aに供給される電流成分をαパーセント
、そして下流端Bまたは側辺中央入力部材に供給される
電流成分を(1−α)パーセントとして表わすことにす
る。
、そして下流端Bまたは側辺中央入力部材に供給される
電流成分を(1−α)パーセントとして表わすことにす
る。
なお、一方の電流供給端が下流端Bであるか側辺入力部
材であるかは、その電解槽構成(第5図、第6図)によ
って異なる。
材であるかは、その電解槽構成(第5図、第6図)によ
って異なる。
ここで、パラメータαに基づいて陰極導体の位置を求め
ることにする。
ることにする。
複雑な計算を単純化するためにまず、交差部材(cro
ss member)の位置にあり且つ各陰極導体の位
置に設けられた導体に流れる一定電流を、同じ磁界が形
成されるように決めてみよう。
ss member)の位置にあり且つ各陰極導体の位
置に設けられた導体に流れる一定電流を、同じ磁界が形
成されるように決めてみよう。
すると、下記の第1表にみられるような、中央面yOz
内の各点に対してのみ有効な所謂等価電流値が得られる
。
内の各点に対してのみ有効な所謂等価電流値が得られる
。
(A)1列構成または相互の磁気的干渉が生じない程度
に間隔をおいた2列構成の場合であって、事例1 一端
および中央入力部材から電流供給される電解槽(第5図
) (1)条件By°=0の実現 交差部材によるBy。
に間隔をおいた2列構成の場合であって、事例1 一端
および中央入力部材から電流供給される電解槽(第5図
) (1)条件By°=0の実現 交差部材によるBy。
(2×0.5αI・k1)/h=(αI・k1)/hこ
こにに1は実験的係数であって、この係数は、交差部材
が事実上2個のアームで形成されていることと、同列内
の各種の交差部材間の空間による不連続性とを考慮した
ものである。
こにに1は実験的係数であって、この係数は、交差部材
が事実上2個のアームで形成されていることと、同列内
の各種の交差部材間の空間による不連続性とを考慮した
ものである。
係数に1はほとんど定常的に0.9に近い値であり、以
下の記述にはこの値を用いることにする。
下の記述にはこの値を用いることにする。
またhは基準面xOy上からの交差部材の高さである。
陰極導体(1)によるby。
=陰極導体(2)によるby。
Byoは
byo〔交差部材〕+by°〔陰極導体1〕+by°〔
陰極導体2〕 に等しく、その値は0でなければならない。
陰極導体2〕 に等しく、その値は0でなければならない。
したがって
この式から
ここで
とおくと
Y2+Z2+μZ=0 ・・・・・(2)
となる。
となる。
(2)条件Bz(M)=0の実現
交差部材によるbz(M)
陰極導体(2)によるbz(M)
条件Bz(M)=0は次のように表わされる。
交差部材によるb2(M)+陰極導体(1)によるb2
(M)+陰極導体(2)によるbz(M)=0すなわち この式から下記の式(3)が得られる。
(M)+陰極導体(2)によるbz(M)=0すなわち この式から下記の式(3)が得られる。
上の式で1が消去されたが、これは解が電解槽内の電流
値に無関係であることを示している。
値に無関係であることを示している。
ここで
とおくと
が得られる。
式(2)から得られるY2の値を用いると、Zに関する
2次方程式 %式%) (5) が得られる。
2次方程式 %式%) (5) が得られる。
この式からZを解き、そのZの値を式(2)に代入する
ことによってYの値が得られる。
ことによってYの値が得られる。
交差部材によるByoに関しては
となり、陰極導体によるbyoは
そして
dby(交差部材)+2dby(陰極導体)=0である
から ここで とおくと、上記条件は次のように表わすことができる。
から ここで とおくと、上記条件は次のように表わすことができる。
以上から次のことが分かる。
(1)前述のようにμおよびγはパラメータαの関数で
ある。
ある。
したがって、最初に述べた条件を満たす解すなわちZお
よびYの値は陰極導体の位置の幾何学的軌跡を表わす曲
線の形で得られる。
よびYの値は陰極導体の位置の幾何学的軌跡を表わす曲
線の形で得られる。
(2)μおよびγに含まれるaおよびhが定数であれば
、式(5)および式(6)は電流値に依存しない。
、式(5)および式(6)は電流値に依存しない。
事実、hは交差部材の高さであって、電解槽の寸法とは
無関係であり、また、aは陽極装置の半幅であって、も
し陽極装置をOx方向に伸ばしただけのことによる電解
槽の寸法増加が生じても、aの値は多分変化しないだろ
う。
無関係であり、また、aは陽極装置の半幅であって、も
し陽極装置をOx方向に伸ばしただけのことによる電解
槽の寸法増加が生じても、aの値は多分変化しないだろ
う。
実際には、aはわずかに変化するが、例えば100,0
00アンペア電解槽で1.20メートル、200,00
0アンペア電解槽で1.50メートルであるから、技術
的見地から考えてaは増加しないものとみなすことがで
きる。
00アンペア電解槽で1.20メートル、200,00
0アンペア電解槽で1.50メートルであるから、技術
的見地から考えてaは増加しないものとみなすことがで
きる。
実施例 1
h(面xOy上からの交差部材の高さが1.77メート
ル、a(陽極装置の半幅)が1.175メートルで、中
央入力部材を備え、かつ長い方の側面に各11個の陰極
出力棒を備えた 100.000アンペア電解槽構成に、上記結果を適用
した。
ル、a(陽極装置の半幅)が1.175メートルで、中
央入力部材を備え、かつ長い方の側面に各11個の陰極
出力棒を備えた 100.000アンペア電解槽構成に、上記結果を適用
した。
接続用導体の電気抵抗を加減してαの値を連続的に変え
ることも可能である。
ることも可能である。
6種類のα値には、2/11(0,182)。
3/11(0,273)、4/11(0,364)。
5/11(0,455)、6/11(0,546)。
7/11(0,636)を採用し、これらのα値を式(
1)〜式(5)に代入して得られた結果を下記の表に示
す。
1)〜式(5)に代入して得られた結果を下記の表に示
す。
これらの値は第7図のグラフに表示されている。
なお、このグラフは実は長手配列の電解槽の中央点Oを
通る横側半分に関するものである。
通る横側半分に関するものである。
斜線領域との境界線は電解槽本体の外形寸法を示してい
る。
る。
ここで留意すべき点は、α値が0.55以上の場合には
導体が電解槽内部に配置されていなければならないとい
うことである。
導体が電解槽内部に配置されていなければならないとい
うことである。
したがって、経済上および寸法上の観点から、αの値を
0.35〜0.55にすることができる。
0.35〜0.55にすることができる。
次に、下記2つの条件
の実現を試み、そして、その各群が少なくとも近似的に
両立するか否か、また、3つの条件の同時成立が可能か
否かを検討してみる。
両立するか否か、また、3つの条件の同時成立が可能か
否かを検討してみる。
条件By=0は次の意味を持っている。
Z2+Y2+μ2=0またはY2=−μZ−Z2・・・
・・・(6A) このY2の値を式(6)に代入すると となり、この方程式を解くと が得られる。
・・・(6A) このY2の値を式(6)に代入すると となり、この方程式を解くと が得られる。
このZ値を式(6A)に代入すればYの値が得られる。
したがって、(dBy°)/dz=0およびBy°=0
を満足する曲線(Y、Z)=f(α)とBz(M)=0
およびBy°=0を満足する曲線(Y、Z)=f(α)
とをグラフ上で追跡し、導体の位置に対して曲線の交点
が妥当な値を与えるものか否かを調べることが可能であ
る。
を満足する曲線(Y、Z)=f(α)とBz(M)=0
およびBy°=0を満足する曲線(Y、Z)=f(α)
とをグラフ上で追跡し、導体の位置に対して曲線の交点
が妥当な値を与えるものか否かを調べることが可能であ
る。
実施例 2
下記の3条件
の同時実現を試みる。
Bz(M)=0およびBy°≠0を満足する曲線(Y、
Z)=f(α)の追跡を容易にするため、表1にα=0
.6を付は加える。
Z)=f(α)の追跡を容易にするため、表1にα=0
.6を付は加える。
このα値によってY=1.86およびZ=−1,98が
得られる。
得られる。
そして、2つの条件(dBy°)/(dz)=0.By
°=0を満足する曲線(Y、Z)=f(α)の追跡を行
ない、下記の表を得る。
°=0を満足する曲線(Y、Z)=f(α)の追跡を行
ない、下記の表を得る。
2つの曲線、すなわち第7図と第8図の曲線は座標Y=
1.96.Z=−1,01の点で交差する。
1.96.Z=−1,01の点で交差する。
この点は電解槽本体内における導体位置に相当する。
しかし、実際には電解槽外における近接点を利用するこ
とが可能である。
とが可能である。
つまり、2つの曲線がわずかに離れた位置においても、
その解の有効性は維持される。
その解の有効性は維持される。
実施例 3
h=1.77メートル、a=1.50メートルで長い側
面に各11個の陰極棒を備えた 200.000アンペア電解槽構成に上記結果を適用し
、下記の表を得た。
面に各11個の陰極棒を備えた 200.000アンペア電解槽構成に上記結果を適用し
、下記の表を得た。
第9図のグラフにおいて、100,000アンペア構成
と200000アンペア構成のそれぞれの曲線(Y、Z
)=f(α)は互に非常に近接しているが、幾何学的に
はα=0.546というα値は不可能である。
と200000アンペア構成のそれぞれの曲線(Y、Z
)=f(α)は互に非常に近接しているが、幾何学的に
はα=0.546というα値は不可能である。
もし、単に陰極を延長するだけで電流値が増加するなら
ば、これら2本の曲線はさらに近接するだろう。
ば、これら2本の曲線はさらに近接するだろう。
実際には陽極の拡張(これは係数aに関連する)も行な
われたが、aおよびhは定数であり、μおよびγもまた
同様であるから、式(5)は電流値とは無関係であり、
曲線Y、Z=f(α)の形は変らない。
われたが、aおよびhは定数であり、μおよびγもまた
同様であるから、式(5)は電流値とは無関係であり、
曲線Y、Z=f(α)の形は変らない。
事例2 交差部材の両端から電力供給を受ける従来型電
解槽(第6図)。
解槽(第6図)。
近接列なし。槽端A(上流端)から電流αI、
槽端B(下流端)から電流(1−α)I
がそれぞれ供給される。
交差部材および陰極導体の各等価電流(第1表参照)は
前と異なるが、計算方法は同じである。
前と異なるが、計算方法は同じである。
この場合のμ´、γ´の値は次の通りである。(ただし
、k1=0.9) (ただし、k1=0.9) したがって、式(2)、式(5)と同様の方程式Y2+
Z2+μ′Z=0 ・・・・・・(10)(μ
´2γ´+4a2γ´−2)Z2−μ´(1−2a2γ
´)Z+a2(γ´2−1)=0 ・
・・・(11)が得られる。
、k1=0.9) (ただし、k1=0.9) したがって、式(2)、式(5)と同様の方程式Y2+
Z2+μ′Z=0 ・・・・・・(10)(μ
´2γ´+4a2γ´−2)Z2−μ´(1−2a2γ
´)Z+a2(γ´2−1)=0 ・
・・・(11)が得られる。
実施例 4
前述の結果から独立して、従来型の
100.000アンペア電解槽の陰極導体の位置決定を
試みた。
試みた。
ただし、本実施例では、電解槽はその長側面に各11個
の陰極出力棒を備え、交差部材への電力供給は両端から
行なうものとし、また1、h=1.77メートル、a=
1,175メートルとした。
の陰極出力棒を備え、交差部材への電力供給は両端から
行なうものとし、また1、h=1.77メートル、a=
1,175メートルとした。
これらの値は第10図のグラフに表示されており、α=
0.8は不可能であって、経済上の理由からはαの値を
0.65〜0.75とすべきであることがグラフから分
かる。
0.8は不可能であって、経済上の理由からはαの値を
0.65〜0.75とすべきであることがグラフから分
かる。
(B) 同−建屋内における2列構成の場合経済上の
理由から通常は同−建屋内に2列構成の電解槽が設置さ
れる。
理由から通常は同−建屋内に2列構成の電解槽が設置さ
れる。
その場合、同符号で比較的均等値の垂直磁界が隣接列間
で影響し合う。
で影響し合う。
一方の列の電解槽からの垂直磁界をbz〔電解槽〕、隣
接列からの垂直磁界をbz〔隣接列〕で表わすと、第1
1図のグラフから次のことが分かる。
接列からの垂直磁界をbz〔隣接列〕で表わすと、第1
1図のグラフから次のことが分かる。
すなわち、b2はOvに関して逆対称であるからbzM
〔電解槽〕=−bz(N)〔電解槽〕そして、bz(M
)〔隣接列〕とbz(N)〔隣接列〕は実質的に相等し
く、同符号である。
〔電解槽〕=−bz(N)〔電解槽〕そして、bz(M
)〔隣接列〕とbz(N)〔隣接列〕は実質的に相等し
く、同符号である。
したがって、
Bz(M)=bz(M)〔電解槽〕+bz(M)〔隣接
列〕=0Bz(N)=−bz(N)〔電解槽〕+bz(
N)〔隣接列〕=0第11図において、曲線(1)はM
ON軸上におけるbz〔電解槽〕の単独変化を示し、曲
線(2)はMON軸上のbz〔隣接列〕の変化を示し、
曲線(3)はMON軸上のb2〔電解槽+隣接列〕の変
化を示している。
列〕=0Bz(N)=−bz(N)〔電解槽〕+bz(
N)〔隣接列〕=0第11図において、曲線(1)はM
ON軸上におけるbz〔電解槽〕の単独変化を示し、曲
線(2)はMON軸上のbz〔隣接列〕の変化を示し、
曲線(3)はMON軸上のb2〔電解槽+隣接列〕の変
化を示している。
したがって、隣接列間の影響は補償されねばならない。
そのため、多くの解決法が従来から提案されている。
例えば、1953年4月7日出願の74ランス特許1,
079,131号(PECHINEY社)では電解槽周
囲における電気的ループの設置が提案され、1957年
10月29日出願のフランス特許第1,185,548
号(Electroke−misk社)では電解槽端A
、Bへの非対称電流供給が提案されている。
079,131号(PECHINEY社)では電解槽周
囲における電気的ループの設置が提案され、1957年
10月29日出願のフランス特許第1,185,548
号(Electroke−misk社)では電解槽端A
、Bへの非対称電流供給が提案されている。
これと同様のものに、1968年6月28日出願のフラ
ンス特許第1.586,867号(Vsesojuzn
y Nauchno−issledovatelsky
i Proektny In5ti−tut Alu
minievoi) があり、また、1975年11月
28日出願のフランス特許第 2.333,060号(Aluminium Pech
iney社)では電解槽の各側辺に陰極導体を段違いに
取り付けている。
ンス特許第1.586,867号(Vsesojuzn
y Nauchno−issledovatelsky
i Proektny In5ti−tut Alu
minievoi) があり、また、1975年11月
28日出願のフランス特許第 2.333,060号(Aluminium Pech
iney社)では電解槽の各側辺に陰極導体を段違いに
取り付けている。
上記特許のうち、最後の2つの方法によれば、隣接列間
の影響は実質的に減少するが、その効果は電解槽全体に
わたって得られるものではない。
の影響は実質的に減少するが、その効果は電解槽全体に
わたって得られるものではない。
また、by〔電解槽〕もbz〔電解槽〕もoxに関して
逆対称とはならず、したがって、Fyにおいてラプラス
力の非対称性が現われる。
逆対称とはならず、したがって、Fyにおいてラプラス
力の非対称性が現われる。
次に述べる方法では、電解槽構成の動作電流Iとは逆方
向に流れる電流iを通す補償導体を使用する。
向に流れる電流iを通す補償導体を使用する。
この補償導体は2つの電解槽列の外側で電解槽本体から
最小限の間隔をおいて設けられ、それによって電気的安
全性も維持されるようになっている。
最小限の間隔をおいて設けられ、それによって電気的安
全性も維持されるようになっている。
これに類似する方法が米国特許第
3.616,317号に記載されている。
しかし、その方法は前記条件、特にBy°=0およびB
z(M)=0の成立に適している。
z(M)=0の成立に適している。
第12図は2列隣接構成の電解槽を設置した電解工場1
の断面を示しており、この図には陽極装置2,3のみが
示されているが、電解槽は長手方向に配列されている。
の断面を示しており、この図には陽極装置2,3のみが
示されているが、電解槽は長手方向に配列されている。
補償導体は4および5の位置にある。
図を簡略化するため、種間接続導体は省略されている。
回線形矢印は各補償導体から発生する磁界の方向を示し
ている。
ている。
以下の記述に使用する記号は次の通りである。
a:陽極装置の半幅
d:陽極外側外壁から補償導体までの距離l:2つの電
解槽列の陽極装置の内側外壁間距離 E:補償導体から生じる位置M(内側)での磁界 F:補償導体から生じる位置へ(外側)での磁界 e:隣接列による位置Mでの磁界 f:隣接列による位置Nでの磁界 m:隣接列からの影響を考慮しない電解槽自体の磁界 2つの補償導体について考えると が得られ、これらの比には となる。
解槽列の陽極装置の内側外壁間距離 E:補償導体から生じる位置M(内側)での磁界 F:補償導体から生じる位置へ(外側)での磁界 e:隣接列による位置Mでの磁界 f:隣接列による位置Nでの磁界 m:隣接列からの影響を考慮しない電解槽自体の磁界 2つの補償導体について考えると が得られ、これらの比には となる。
ここに、lおよびdは設備時に定まる固定値であって、
電解槽寸法とは実質的に無関係である。
電解槽寸法とは実質的に無関係である。
そして、Kは式(12c)から分かるように、aの値に
従って変化するが、その変化はわずかなものである。
従って変化するが、その変化はわずかなものである。
陽極間距離をl=7.40メートル、補償導体から陽極
外側外壁までの距離をd=1.80メートルとする電解
槽列の場合、その電解槽が100.000アンペア用で
あればaは実施例1および3と同様にa=1.175、
そしてに=0.52となり、また、200,000アン
ペア用であればaは実施例2と同様にa=1.5、そし
てに=0.47となる。
外側外壁までの距離をd=1.80メートルとする電解
槽列の場合、その電解槽が100.000アンペア用で
あればaは実施例1および3と同様にa=1.175、
そしてに=0.52となり、また、200,000アン
ペア用であればaは実施例2と同様にa=1.5、そし
てに=0.47となる。
したがって、K=0.5と仮定し、それに基づいて検討
を進めることも可能である。
を進めることも可能である。
ここで隣接列からの影響を無視したときの点Mでの垂直
磁界b2の値がmになるような基本的電解槽構成につい
て検討する。
磁界b2の値がmになるような基本的電解槽構成につい
て検討する。
なお、この構成では点Nにおける垂直磁界の値は−mと
なる。
なる。
Mは下記の式から決定される。
m+e+KF=0
−m+f+F=0
したがって、各値は次のように表わすことができる。
eおよびfはiに正比例するから、各値m。
E、Fもまたiに比例する。
したがって、次の3つの特定を画定することができる。
これらは長手配列のすべての電解槽に適用され、そして
便宜上、いの単位はキロアンペアで表わす。
便宜上、いの単位はキロアンペアで表わす。
Kは近似的に0.5であるから、各式は実用上、次のよ
うに表わすことができる。
うに表わすことができる。
実施例 5
実施例1および2と同様の100,000アンペア電解
槽構成において、l=7.40メートル、d=1.80
メートルとすると、隣接列による点M、Nでの垂直磁界
の実測値は次のようになった。
槽構成において、l=7.40メートル、d=1.80
メートルとすると、隣接列による点M、Nでの垂直磁界
の実測値は次のようになった。
e=24.4×10−4 テスラ
f=18.9×10−4 テスラ
したがって、
式(12a)からに=0.522
式(13a)からm´=−0,0955×1O−4T/
1000A式(13b)からF´=−0,284×1O
−4T/1000A式(13c)からE´=−0,14
9×1O−4T/1000Aが得られる。
1000A式(13b)からF´=−0,284×1O
−4T/1000A式(13c)からE´=−0,14
9×1O−4T/1000Aが得られる。
また、式(12a)または式(12b)から、補償導体
電流i´=226A/1000Aとなり、この値はIの
22.6%に相当する。
電流i´=226A/1000Aとなり、この値はIの
22.6%に相当する。
そして、点Mにおける垂直磁界は
−9,6×1O−4T−15×1O−4T+24.4×
1O−4T=0 点Nにおける垂直磁界は +9.6×1O−4T−28,4×1O−4T+18.
9×1O−4T=0 となり、点M、点Nにおいて確かにBz(M)=Bz(
N)=0となることが分かる。
1O−4T=0 点Nにおける垂直磁界は +9.6×1O−4T−28,4×1O−4T+18.
9×1O−4T=0 となり、点M、点Nにおいて確かにBz(M)=Bz(
N)=0となることが分かる。
実施例 6
実施例1および3と同様の電解槽を用い、距離dは1.
20メートルと短くする(この短縮は電解槽構成が許す
場合にのみ可能)。
20メートルと短くする(この短縮は電解槽構成が許す
場合にのみ可能)。
このようにすると補償導体の電流値iを大幅に削減する
ことができ、次の結果が得られた。
ことができ、次の結果が得られた。
K=0.41
m´=−0,1184×1O−4T/1000AF´=
−0,307×10−4 T/1000AE´=−0
,126×1O−4T/1000Ai′=169A/1
000Aすなわち16.9%したがって、点Mにおける
垂直磁界は −11,8−12,6+24.4=0 点Nにおける垂直磁界は +11.8−30.7+18.9=0 となり、点M、点Nにおいて確かに Bz(M)=Bz(N)=0となることが分かる。
−0,307×10−4 T/1000AE´=−0
,126×1O−4T/1000Ai′=169A/1
000Aすなわち16.9%したがって、点Mにおける
垂直磁界は −11,8−12,6+24.4=0 点Nにおける垂直磁界は +11.8−30.7+18.9=0 となり、点M、点Nにおいて確かに Bz(M)=Bz(N)=0となることが分かる。
以上要約すると、点Mにおける100,000アンペア
当りの磁界m′が (0,5f−e)/(1,51Ka)×10−4テスラ
となるような電解槽に関しては、補償導体を設けて、そ
の補償導体に陽極外壁までの距離に依存する電流iを流
すと、発生磁界の総和Bzはゼロになる。
当りの磁界m′が (0,5f−e)/(1,51Ka)×10−4テスラ
となるような電解槽に関しては、補償導体を設けて、そ
の補償導体に陽極外壁までの距離に依存する電流iを流
すと、発生磁界の総和Bzはゼロになる。
古い方の電解槽構成では、電気的安全性と占有空間の問
題で、dは1.8メートル近くになり、補償導体の電流
値は電解槽構成動作電流Iの22.6%になる。
題で、dは1.8メートル近くになり、補償導体の電流
値は電解槽構成動作電流Iの22.6%になる。
新しい方の電解槽構成では、構成から分離された独立管
路内に補償導体を収めることができるから、dの値を小
さくすることが可能である。
路内に補償導体を収めることができるから、dの値を小
さくすることが可能である。
d=1.20とすると、補償電流は電流Iの16.9%
にしかならない。
にしかならない。
したがって、この方法によって、投資費用と補償導体の
消耗を最小にすることが可能である。
消耗を最小にすることが可能である。
次に、この補償法と前述の方法の組合せによって、B2
(M)およびBz(o)をゼロにすることを検討する。
(M)およびBz(o)をゼロにすることを検討する。
例3 中央入力部材付き電解槽(第5図)。
交差部材へは槽端Aから電流αi、中
央入力部材から電流(1−α)Iが供
給される。
隣接列を考慮する。この場合、隣接列および補償導体は
実質的に金属の界面にあってByには影響を及ぼさない
ので、条件By°=0は不変である。
実質的に金属の界面にあってByには影響を及ぼさない
ので、条件By°=0は不変である。
したがって、例1の式(2)、式(5)と同様の下記方
程式が得られる。
程式が得られる。
Z2+Y2+μZ=0 ・・・・・・(
14)一方、条件Bz(M)は前と異なり、 bz(M)〔交差部材〕+bz(M)〔陰極導体1〕+
bz(M)〔陰極導体2〕=m となる。
14)一方、条件Bz(M)は前と異なり、 bz(M)〔交差部材〕+bz(M)〔陰極導体1〕+
bz(M)〔陰極導体2〕=m となる。
例1と同じ計算により、
が得られる。
ここでまたはに1=0.9として
とおくと、
が得られる。
式(14)からY2を消去すると、次の2次方程式が得
られる。
られる。
(μ21γ1+4a2γ1−2)Z2−μm(1−2a
2γ1)Z+a2(γ1a2−1)=0 ・・・・・・
(16)この方程式は新しい係数γ1を含んでいるが隣
接列なしの例1における式(5)と同様の式である。
2γ1)Z+a2(γ1a2−1)=0 ・・・・・・
(16)この方程式は新しい係数γ1を含んでいるが隣
接列なしの例1における式(5)と同様の式である。
この式からZを計算し、それを式(14)に入れるとY
を求めることができる。
を求めることができる。
実施例 7
実施例1および3と同様の100,000アンペア用電
解槽を1つの建屋内で2列に配列し、実施例4と同様に
、陽極間距離をl=7.40メートル、補償導体陽極間
距離をd=1.80メートルとした構成を検討する。
解槽を1つの建屋内で2列に配列し、実施例4と同様に
、陽極間距離をl=7.40メートル、補償導体陽極間
距離をd=1.80メートルとした構成を検討する。
前述と同じα値を用い、前と同じ計算を行なった結果、
次の表を得る。
次の表を得る。
第13図において、破線曲線(1)は例1の解を表わし
、実線曲線(2)は隣接列を考慮に入れた解を表わして
いる。
、実線曲線(2)は隣接列を考慮に入れた解を表わして
いる。
実用上、経済上の理由に基づいてα値は0.35〜0.
50になることが第13図から理解できる。
50になることが第13図から理解できる。
実施例 8
実施例1および3と同様の200,000アンペア用電
解槽を1つの建屋で2列に配列し、実施例5と同様に陽
極間距離をl=7.40メートル、補償導体陽極間距離
をd=1.80メートルとした構成を検討する。
解槽を1つの建屋で2列に配列し、実施例5と同様に陽
極間距離をl=7.40メートル、補償導体陽極間距離
をd=1.80メートルとした構成を検討する。
前述と同様にしてYおよびZの値を求め、それらは第1
4図のグラフに表示されている。
4図のグラフに表示されている。
事例4 交差部材を備え、上流端Aから電流αI、下流
端Bから電流(1−α)■ を供給される従来型電解槽(第6図)。
端Bから電流(1−α)■ を供給される従来型電解槽(第6図)。
この場合、隣接列も考慮に入れる。
計算方法は例1の場合と同様であるが、交差部材および
陰極導体の電流値は前と異なり、係数μ、γに新たな値
を用いる。
陰極導体の電流値は前と異なり、係数μ、γに新たな値
を用いる。
条件B y (o) =0を実現するためを導入する。
金属の面xOy上では、隣接列からも補償導体からも影
響を受けないから、 Y2+Z2+μ´1Z=0 ・・・・・(18)
となる。
響を受けないから、 Y2+Z2+μ´1Z=0 ・・・・・(18)
となる。
次に条件Bz(M)=0を実現するため、新たなγ′1
値 を導入する。
値 を導入する。
なお、k1=0.9とおくと、このγ′1は
となる。
その結果、μ´1.γ′1を含む式(16)と同じ方程
式が次のように得られ (μ´21γ´1+4a2γ´1−2)Z2−μ´1(
1−2α2γ´1)Z+a2(γ´1a2−1)=0・
・・・・・(19)この式(19)からZが与えられる
。
式が次のように得られ (μ´21γ´1+4a2γ´1−2)Z2−μ´1(
1−2α2γ´1)Z+a2(γ´1a2−1)=0・
・・・・・(19)この式(19)からZが与えられる
。
実施例 9
実施例4と同様の100000アンペア用電解槽を同−
建屋内で2列に配列し、陽極間距離をl=7.40メー
トル、補償導体陽極間距離をd=1.80メートル(実
施例5と同じ)とした従来型構成(第6図)を検討する
。
建屋内で2列に配列し、陽極間距離をl=7.40メー
トル、補償導体陽極間距離をd=1.80メートル(実
施例5と同じ)とした従来型構成(第6図)を検討する
。
YおよびZの値は前述と同様の方法で求められる。
そして、求めた各偶は次の表の通りであり、これらの値
は第15図のグラフに表示されている。
は第15図のグラフに表示されている。
結論
導体を電解槽から離れ過ぎた所に置くことも、電解槽に
密着することもできないという実用上および経済上の事
情を考慮して、本発明の実施に当っては、電解槽の一端
と両側面の中央入力部材の少なくとも一方とから電流供
給が行なわれる電解槽構成の場合には、その電流配分係
数αが0.55またはそれ以下の値、特に0.45〜0
.55の範囲の値が適当である。
密着することもできないという実用上および経済上の事
情を考慮して、本発明の実施に当っては、電解槽の一端
と両側面の中央入力部材の少なくとも一方とから電流供
給が行なわれる電解槽構成の場合には、その電流配分係
数αが0.55またはそれ以下の値、特に0.45〜0
.55の範囲の値が適当である。
また電解槽の両端から電流供給が行なわれる従来の電解
構成の場合には、αが0.75またはそれ以下の値、特
に0.65〜0.75の範囲の値が適当であることが、
上記様々の実施例から理解できる。
構成の場合には、αが0.75またはそれ以下の値、特
に0.65〜0.75の範囲の値が適当であることが、
上記様々の実施例から理解できる。
第1図は長手方向配列の電解槽の点0を通る垂直横断面
図、第2図は長手方向配列の電解槽の点Oを通る水平横
断面の略図、第3図は電解槽の長手方向にそった磁界B
zのグラフ、第4図は第3図の磁界Bzの分布に従って
形成される金属・電解質問界面形状を示す図、第5図は
電解槽の一端からと中央入力部材とから電流供給を行な
う形式の電解槽構成を示す略図、第6図は電解槽の両端
から電流供給を行なう形式の電解槽構成を示す略図、第
7図乃至第10図は総電流に対する上流端電流の比αに
対する、本発明による陰極導体の位置の依存関係を示す
グラフ、第11図は電解槽の短軸Oyによって与えられ
る電解槽総磁界に対する隣接列磁界の影響を示すグラフ
、第12図は比較的狭い間隔で2列の電解槽列を設置し
た電解工場内での隣接列磁界補償用導体の位置を示す図
、第13図〜第15図は隣接列の影響を考慮して、係数
αに対する陰極導体位置の依存関係を示すグラフである
。 (参照符号の説明)、2,3・・・・・・陽極、4,5
・・・・・・補償導体。
図、第2図は長手方向配列の電解槽の点Oを通る水平横
断面の略図、第3図は電解槽の長手方向にそった磁界B
zのグラフ、第4図は第3図の磁界Bzの分布に従って
形成される金属・電解質問界面形状を示す図、第5図は
電解槽の一端からと中央入力部材とから電流供給を行な
う形式の電解槽構成を示す略図、第6図は電解槽の両端
から電流供給を行なう形式の電解槽構成を示す略図、第
7図乃至第10図は総電流に対する上流端電流の比αに
対する、本発明による陰極導体の位置の依存関係を示す
グラフ、第11図は電解槽の短軸Oyによって与えられ
る電解槽総磁界に対する隣接列磁界の影響を示すグラフ
、第12図は比較的狭い間隔で2列の電解槽列を設置し
た電解工場内での隣接列磁界補償用導体の位置を示す図
、第13図〜第15図は隣接列の影響を考慮して、係数
αに対する陰極導体位置の依存関係を示すグラフである
。 (参照符号の説明)、2,3・・・・・・陽極、4,5
・・・・・・補償導体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 前方の電解槽から順々に各電解槽に電流供給が行な
われるように電解槽を長手方向に直列に配列し、上記各
電解槽にはその上流端から割合αの電流が、下流端、ま
たは上記上流端と下流端の間に設けられた少くとも1つ
の別の点から割合(1−α)の電流が供給されるように
構成されたアルミニウム生産用の大電流電解槽において
、陰極基準面xOyからの交差部材の高さをh、上記各
電解槽の上流端へ供給される電流の割合をαとし、そし
て、電流値には依存せずに陽極装置の半幅aにのみ依存
する係数μおよびγを用いたとき、下記の2つの関係式 %式% ) ) を満足する座標点(Y、Z)を実質的に通り、かつ軸O
xと平行になるように陰極導体を配置することによって
、磁界の垂直成分BZが軸Oyに関して逆対称形になる
ようにすると共に、上記電解槽の中心における磁界の長
手方向水平成分Byが零になるようにしたことを特徴と
する電解槽の磁気的障害減少方法。 2、特許請求の範囲第1項の方法において、上記陰極導
体の座標(Y、Z)を、下記の第3関係式が少なくとも
近似的に満足されるように決定することにより、上記電
解槽の中心における磁界の水平成分の垂直勾配(dBy
°)/(dZ)が零になるようにしたことを特徴とする
電解槽の磁気的障害減少方法。 3 特許請求の範囲第1項または第2項の方法において
、上記各電解槽の上流および下流の両端から電流供給が
行なわれ、上流端から供給される電流の総電流に対する
割合がαである場合、上記陰極導体の位置決定を可能に
する係数μおよびγが下記の式 によって与えられることを特徴とする電解槽の磁気的障
害減少方法。 4 特許請求の範囲第1項から第3項までのいづれかの
方法において、電解槽にはその上流端と、両側面にある
中央入力部材のうちの少なくとも一方とから電流供給が
行なわれ、上流端から供給される電流の総電流に対する
割合αである場合、上記陰極導体の位置決定を可能にす
る係数μおよびγが下記の式 によって与えられることを特徴とする電解槽の磁気的障
害減少方法。 5 特許請求の範囲第1項から第4項までのいずれかの
方法において、電解槽にその上流端と、両側面にある中
央入力部材のうちの少なくとも一方とから電流供給が行
れる場合には電流分配係数αを0.55またはそれ以下
とし、その好適値範囲を0.45から0.55と定め、
また、電解槽にその上流および下流の両端から電流供給
が行われる場合には上記電流分配係数αを0.75また
はそれ以下とし、その好適値範囲を0.75から0.6
5と定めることを特徴とする電解槽の磁気的障害減少方
法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7804193A FR2423554A1 (fr) | 1978-02-08 | 1978-02-08 | Procede de reduction des perturbations magnetiques dans les series de cuves d'electrolyse a haute intensite |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54116309A JPS54116309A (en) | 1979-09-10 |
JPS585269B2 true JPS585269B2 (ja) | 1983-01-29 |
Family
ID=9204598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54013181A Expired JPS585269B2 (ja) | 1978-02-08 | 1979-02-07 | 電解槽の磁気的障害減少方法 |
Country Status (22)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4210514A (ja) |
EP (1) | EP0003712B1 (ja) |
JP (1) | JPS585269B2 (ja) |
AT (1) | AT373631B (ja) |
AU (1) | AU526414B2 (ja) |
BR (1) | BR7900751A (ja) |
CA (1) | CA1120422A (ja) |
CH (1) | CH641842A5 (ja) |
DE (1) | DE2961926D1 (ja) |
ES (1) | ES477486A1 (ja) |
FR (1) | FR2423554A1 (ja) |
GR (1) | GR66432B (ja) |
IN (1) | IN151090B (ja) |
IS (1) | IS1298B6 (ja) |
IT (1) | IT1110960B (ja) |
NO (1) | NO152223C (ja) |
NZ (1) | NZ189577A (ja) |
OA (1) | OA06184A (ja) |
PL (1) | PL117122B1 (ja) |
RO (1) | RO76940A (ja) |
YU (1) | YU42943B (ja) |
ZA (1) | ZA79537B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63183843U (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-25 |
Families Citing this family (6)
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---|---|---|---|---|
NO144675C (no) * | 1979-07-24 | 1981-10-14 | Ardal Og Sunndal Verk | Anordning for kompensering av skadelig magnetisk paavirkning mellom to eller flere rekker av langsstilte elektrolyseovner for smelte-elektrolytisk fremstilling av metall, for eksempel aluminium |
DE3009096A1 (de) * | 1980-02-01 | 1981-08-06 | Schweizerische Aluminium AG, 3965 Chippis | Asymmetrische schienenanordnung fuer elektrolysezellen |
DE3009158A1 (de) * | 1980-02-01 | 1981-08-06 | Schweizerische Aluminium AG, 3965 Chippis | Schienenanordnung fuer elektrolysezellen |
DE3276543D1 (en) * | 1982-01-18 | 1987-07-16 | Aluminia Spa | Method and apparatus for electric current supply of pots for electrolytic production of metals, particularly aluminium |
RU2316619C1 (ru) * | 2006-04-18 | 2008-02-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Русская инжиниринговая компания" | Устройство для компенсации магнитного поля, наведенного соседним рядом последовательно соединенных электролизеров большой мощности |
GB2563641A (en) * | 2017-06-22 | 2018-12-26 | Dubai Aluminium Pjsc | Electrolysis plant using the Hall-Héroult process, with vertical magnetic field compensation |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL186581B (nl) | 1954-02-09 | 1900-01-01 | Roquette Freres | Produkt dat gehydrogeneerd zetmeel-hydrolysaat bevat en werkwijze ter bereiding daarvan. |
FR1143879A (fr) | 1956-02-28 | 1957-10-07 | Pechiney | Procédé pour diminuer ou supprimer les dénivellations du métal fondu dans les cellules d'électrolyse à ampérage élevé |
FR1164362A (fr) * | 1957-01-05 | 1958-10-08 | Pechiney | Procédé pour supprimer les dénivellations du métal fondu et pour réduire les mouvements d'agitation du liquide dans les cellules d'électrolyse |
FR1185548A (fr) | 1957-10-29 | 1959-07-31 | Elektrokemisk As | Dispositif pour l'amenée de courant aux fours pour la production d'aluminium par fusion électrolytique |
FR1586867A (ja) * | 1968-06-28 | 1970-03-06 | ||
US3616317A (en) | 1969-09-29 | 1971-10-26 | Alcan Res & Dev | Aluminum pot line and method of operating same |
CH527909A (de) * | 1970-05-01 | 1972-09-15 | Alusuisse | Aluminium-Elektrolysezelle |
JPS5216843B2 (ja) * | 1973-10-26 | 1977-05-12 | ||
FR2333060A1 (fr) * | 1975-11-28 | 1977-06-24 | Pechiney Aluminium | Procede et dispositif pour la compensation des champs magnetiques des files voisines de cuves d'electrolyse ignee placees en travers |
PL115407B3 (en) * | 1976-03-08 | 1981-04-30 | Pechiney Aluminium | Method and apparatus for compensation of magnetic fields of adjoining rows of thermo-electrolyzer tanks |
FR2378107A1 (fr) * | 1977-01-19 | 1978-08-18 | Pechiney Aluminium | Procede pour ameliorer l'alimentation en courant de cuves d'electrolyse alignees en long |
-
1978
- 1978-02-08 FR FR7804193A patent/FR2423554A1/fr active Granted
-
1979
- 1979-01-26 US US06/006,674 patent/US4210514A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-02-01 IN IN077/DEL/79A patent/IN151090B/en unknown
- 1979-02-01 RO RO7996474A patent/RO76940A/ro unknown
- 1979-02-02 DE DE7979420008T patent/DE2961926D1/de not_active Expired
- 1979-02-02 EP EP79420008A patent/EP0003712B1/fr not_active Expired
- 1979-02-03 GR GR58254A patent/GR66432B/el unknown
- 1979-02-05 NZ NZ189577A patent/NZ189577A/xx unknown
- 1979-02-05 CH CH108279A patent/CH641842A5/fr not_active IP Right Cessation
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- 1979-02-06 IS IS2477A patent/IS1298B6/is unknown
- 1979-02-06 YU YU258/79A patent/YU42943B/xx unknown
- 1979-02-06 ES ES477486A patent/ES477486A1/es not_active Expired
- 1979-02-06 AU AU43982/79A patent/AU526414B2/en not_active Expired
- 1979-02-07 CA CA000321054A patent/CA1120422A/fr not_active Expired
- 1979-02-07 IT IT19974/79A patent/IT1110960B/it active
- 1979-02-07 ZA ZA79537A patent/ZA79537B/xx unknown
- 1979-02-07 JP JP54013181A patent/JPS585269B2/ja not_active Expired
- 1979-02-07 BR BR7900751A patent/BR7900751A/pt unknown
- 1979-02-07 NO NO790383A patent/NO152223C/no unknown
- 1979-02-08 AT AT0095879A patent/AT373631B/de not_active IP Right Cessation
- 1979-02-08 OA OA56733A patent/OA06184A/xx unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63183843U (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-25 |
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IS1298B6 (is) | 1987-11-25 |
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JPS54116309A (en) | 1979-09-10 |
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