JPS5850635A - スタンパとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光ディスク、ビデオディスク等の製造に使用す
るスタンパとその製造方法に関するものである。

従来、光ディスク、ビデオディスクの製造に使用するス
タンパは、第１図（ａｌ〜Ｔｅｌに示す方法により製造
されていた。すなわち、第１図（ａｔのようにガラス原
盤１にホトレジストを塗布してホトレジスト膜２とし、
第１図（ｂｌのように通常のホトプロセスによシ所定形
状のパターン３を形成する０次に第１図（Ｑｌのように
蒸着法等の手段によってニッケル等の金属薄膜４を形成
する。ついでＪＩＥＩ図Ｆｄｌに示すようにこの金属薄
Ｍ４を導電膜として、通常の電気めっき法によってニッ
ケルめっき膜等のめっきＭＩｓを形成する。めっき後第
１図（ｅ＋に示すように金属薄膜４とホトレジスト２の
界面で剥離することによシ、ホトレジストに形成したノ
くターンを反転したパターンを有するスタンパが得られ
る。

金柑薄膜４は、スタンパのスタンピング面として使用さ
れるため、硬度および耐磨耗性を要求される。そのため
金属薄膜４には、ニッケル、クロム、タンタル等の金属
が用いられるが、これらの金属薄膜はその表面が極めて
酸化されやすい性質を有している。その次め、蒸着等の
気相成長装置から取出したとき、金属薄膜の表面が空気
中の酸素により容墨に酸化され酸化膜で被れてしまう。

上記金属の酸化膜は強固かつ緻密である念め、通常の酸
洗等の手段では溶解除去することはできない、このため
酸化膜の形成され次金属薄膜上にめっき膜を形成すると
、めっき膜は金属薄膜と十分接着せず、接着力は数Ｋｇ
／ｃｍ’　＋Ｎａ度にすぎない。

このようにめっき膜と金属薄膜との接着力が小さいと、
金属薄ｊｌ［Ｆｉ一般に数１０００λ程度の薄い膜であ
るため、スタンピング時に容異にめっき膜から剥離して
しまいスタンパの寿命は著しく短いものとなる。　ｔｔ
、接着力が極端に小さいときけ、金属薄膜とホトレジス
トの界面での剥離を行なう工程で金属薄膜がめつき膜か
ら剥れてし甘い、スタンパを製造できなくなってしオう
。

本発明の目的は、上記（２次従来技術の欠点をな。

くし、寿命の長いスタンパとその製造方法を提供するに
ある。

本発明によるスタンパは、蒸着等の気相成長法で形成し
次所定形状のパターンを有する第１の金属薄膜とめっき
膜との間に、第１の金属薄膜と同一の気相成長装置で形
成した接着層となる第２の金属薄膜を設けることによシ
スタンパを構成する金属膜間の接着力を向上せしめ、寿
命の長い本のとし次ことに特徴がある。

接着層となる第２の金属薄膜としては、空気中で酸化膜
の形成されにくい金属もしくけ酸化族が形成されても酸
洗等の手段で容易に除去できる金属であれば特に制限は
なく、例えば金、銀、鋼、亜鉛、スズ、鉛などがある。

ま次第２の金属薄膜の厚さは０．０１〜１０μｍがよい
。０．０１）ｔｒｎ以下では第２の金属薄膜が完全な膜
として形成されずま皮めっき前の酸洗工程でその大部分
が溶解除去されてしまい接着層としての効果を失ってし
まう。

また１０μｍ以上の厚さでは、上記の第２の金属薄膜は
歌い金属である之め、＃！１の金属薄膜に形成したパタ
ーンを変形させ、′！逢スタンバ面に微小なうねりを生
じ好ましくない。

本発明のスタンパを製造する方法を以下実施例（ユ従い
詳述する。

実施例 第２図ｆａｌ〜（ｆｌは、本発明のスタンパの製造方法
を示すスタンパの断面図である。厚さ５　ｍｍ、直径３
００ｍｍのガラス原盤１にホトレジスト膜２を形成した
。ホトレジストは例えばＡＺ１３５０　（シップレイ社
）で、厚さは０．１〜１．０μｍである。つぎに寓光、
現像によりホトレジスト膜２にノくターンを形成する。

ついでパターン３を形成し急ホトレジスト膜２上に蒸着
によりニッケルによる第１の金属薄膜６を形成する。ニ
ッケルによる第１の金属薄膜の厚さは０．０５〜１．０
μｍが適しておシ、さらに好ましくは０．１〜０．３μ
ｍがよい。蒸着時には蒸着膜内の内部応力を減少させる
ため、ガラス原盤１を蒸着装置内で８０〜１５０’Ｃに
予め加熱することは効果的である。オ友蒸着後８０〜１
５０＠Ｃでアニールすることも効果がある。第１の金属
薄膜としてはニッケルに限ることはなくクロム、タンタ
ル、チタン、コバルト等の硬い金属であれば制限はない
。

゛つぎに、ニッケル蒸着を行なった同一の蒸着装置内で
、引続いて銅蒸着を行ない、第１の金属薄膜６上に鋼に
よる第２の金属薄膜７を形成する。

銅膜の厚さは０．０１〜１０μｍがよく、さらに好オし
く　／ｄ　ｏ、ｏ　５〜０．５μｍである。このように
二ｙケル蒸着に続けて、同一の蒸着装置内で銅蒸着を行
なえばニッケル蒸着膜表面には酸化ニッケルの膜が形成
されずに銅膜が形成されるため、両者の接着力は１ＱＯ
Ｋｇ１０Ｉｌ、２程度と大きい。

つぎに硝酸水溶液で酸洗を行ない銅膜表面上に形成され
皮酸化Ｊ［を溶解除去する。酸洗液は、例えば硫酸、塩
酸水溶液がよ＜ａ度は１〜１０チがよい、液温は１５〜
３０＠Ｃが適している。つぎに接着層である第２の金属
薄１［７の銅膜と第１の金属薄膜６であるニッケル膜を
導電膜として電気めっきを行ないめっき膜８を形成する
。めっき膜８はニッケル、銅、真ちゅう等の膜が適して
お夛、またそれらの２種類以上被合した複合膜としても
よい。

めっきＭをニッケル膜としたときのめっき条件は、例エ
バスルファずン酸ニッケル２００ｇ／ｌ、スルファミン
酸１ｏｏｇ７ｚ、塩化ニッケル１０　ｇ４　、ホウ酸３
０　ｇ／ｉ　から成るスル７アオン酸ニツケルめっき液
で、液温３０°Ｃ１電流密度０．１〜５Ａ／ｄｍ２、め
１き時間約１００分である。１之めつき膜８の厚さは５
０〜５００μｍが適しておシ、先に記し念ようにニッケ
ル鋼、真ちゅう等の単一膜としてもそれらの僚合膜とし
てもよい。つぎにホトレジスト膜２とニッケル蒸着層の
＃！１の金属薄１１６との界面で剥離し、ホトレジスト
ｊ［２に形放し次パターン３を反転したパターン９を有
するスタンノくを得次。

本方法で形成し逢スタンパの各金属Ｍ間の接着力は１０
０　Ｋｇ７４２以上の大きなｆＥを有したものである。

本爽施例ではめっきＪ［８を形成し次後、剥離を行ない
スタンパを形成したが、めつきＭを形成した後、裏打ち
材で補強し念後、剥離してもｊｌ、ｑ。

補強材としてはアルミニウム、鋼、鉄、真ちゅう等の板
が適している。また補強材は例えばセメダイン、アラル
ダイト等のエポキシ系接着剤でめつき膜８と接着する。

″ ま九本例ではガラス原盤から直接スタンノくを製造する
方法について説明したが、ガラス原盤からマスクを作シ
、ついでマザーを作シ、ついでスタンパを作る方法にお
けるマスクの製造方法についても適用できること＃ｉ言
うまでもない。

本発明により、従来数にレース程度にすぎなかつ次スタ
ンパを構成する金Ｊｌ膜間の接着力を１００Ｋｇ／ｃｍ
２以上に向上できた。これによシスタンピング時の第１
の金属薄膜の剥離がなくなり、極めて寿命の長いスタン
パを製造することができ次、また、接着層である第２の
金属薄Ｍを設けることによシ、第２の金属薄膜が第１の
金属薄膜にくらべて電気伝導率が大きいことから、めっ
き開始時からめっき厚が１μｍ程度に成長するまでの電
流密度を０．０５　ＡＩ、３□２から０．５　’／ｄｍ
’に上昇させることが可能となシ、めっき時間を約２時
間短縮することができ次。さらに第１および第２の金属
薄膜の電気抵抗が小さい念め、通電部であるガラス原盤
の中心から周辺部までの抵抗値が小さくなり、従来にく
らべてめっき膜の均一性を向上させることができた。

【図面の簡単な説明】

第１図のｔａｌ〜ｔｏ＋は、従来のスタンノくを製造す
る・方法を示す図、第２図の（ａｌ〜Ｔｒｉは本発明の
スタンパを製造する方法を示す図である。 １　ガラス原盤 ２、　ホトレジスト膜 五　パターン 歳　金属薄膜 ５　めっき膜 ６、　第１の金属薄膜 ｌ　第２の金属薄膜 ａ　めっき膜 賃　反転したパターン グ／　図　　　　　　　ケ２図 手続補正書（自発） ・ｉｔ　ｆ’ｌの人生 昭和　５６　りＩ　特許願第　１４６２２０　　シＪ。 発明の名称　　スタンパとその製造方法補正をする者 ′・□′孟；”・二・：　　＋＋　　：ｌ　製　作　所
７＋　′　　″　１１１゛勝　茂 代　　　理　　　人 捕ＩＩ：、の内容 １　明細書第２頁、第１４行目の「金円薄膜４」を「金
属薄膜４」に訂正する。 ２　明１１１１Ｉ書第６頁、第８行目の「硝酸水溶液」
を「硫酸水浴液」に訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　所定形状のパターンを有する第１の金属薄膜と、
   接着層となる第２の金属薄膜と、めっき膜とから成るこ
   とを特徴としたスタンパ。 ２　所定形状のパターンを形成した原盤に蒸着法等の気
   相成長法によって第１の金属薄膜を形成し、該金属薄膜
   に同様の気相成長法によって接着材となる第２の金属薄
   膜を形成し、つｂで電気めっき法によってめっき展を形
   成し、必要に応じて裏打材を接着した接菌１の金属薄膜
   と原盤との界面から剥離してなることを特徴とするスタ
   ンパの製造方法。