JPS5846068B2 - charge-coupled device - Google Patents
charge-coupled deviceInfo
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- JPS5846068B2 JPS5846068B2 JP54000073A JP7379A JPS5846068B2 JP S5846068 B2 JPS5846068 B2 JP S5846068B2 JP 54000073 A JP54000073 A JP 54000073A JP 7379 A JP7379 A JP 7379A JP S5846068 B2 JPS5846068 B2 JP S5846068B2
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- JP
- Japan
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- charge
- signal
- transistor
- shift register
- coupled device
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/15—Charge-coupled device [CCD] image sensors
- H10F39/152—One-dimensional array CCD image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/701—Line sensors
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Data Exchanges In Wide-Area Networks (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は線又は面撮像に用いられる電荷結合型装置(C
CD)に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a charge-coupled device (C) used for line or area imaging.
Regarding CD).
電荷結合型半導体装置は最初W、S、BoyleとG、
E、Sm1thとによって発明された。Charge-coupled semiconductor devices were first developed by W, S, Boyle and G,
It was invented by E. Sm1th.
これはBoyleとSm1thによるベルシステムテク
ニカルジャーナルの第49巻第587頁の”電荷結合型
半導体装置″と米国特許第3858232号明細書に述
べられている。This is described in U.S. Pat. No. 3,858,232, entitled "Charge Coupled Semiconductor Device" by Boyle and Sm1th, Bell System Technical Journal, Volume 49, Page 587.
それ以来電荷結合型装置の発展は多くの刊行物に述べら
れてきた。Since then, the development of charge-coupled devices has been described in many publications.
たとえば1974年2月のサイエンテイフイクアメリカ
ンの第230巻、第2号、第23頁にはG11bert
F、Amelioによく”電荷結合装置″が示されてい
る。For example, in Scientific American, February 1974, Volume 230, No. 2, Page 23, G11bert
A "charge-coupled device" is often shown in F. Amelio.
線及び面撮像装置は電荷蓄積素子の配列によって製造さ
れ、このような装置は商業的に利用し得ることは現在よ
く知られている。It is now well known that line and area imaging devices are fabricated with arrays of charge storage devices and that such devices are commercially available.
たとえばこの出願人であるフェアチャイルドカメラアン
ドインスツルメントコーポレーション(以下フェアチャ
イルド社と云う)の製品CCD101 、CCD110
、CCD121 、CCD201がそれである。For example, the products CCD101 and CCD110 of the applicant Fairchild Camera and Instrument Corporation (hereinafter referred to as Fairchild)
, CCD121, and CCD201.
適当な周知構造において、照射開口に蓄えられた電荷は
シフトレジスタに転送され、かつ適当な信号を与えるこ
とによってシフトレジスタから転送されて、感知され、
増幅され又は電気回路によって利用される。In suitable known constructions, the charge stored in the illumination aperture is transferred to and from the shift register by applying an appropriate signal and sensed;
Amplified or utilized by an electrical circuit.
あいに〈従来技術の電荷結合型撮像装置はCCDの照射
開口に当てられた光の強さまたは間色を示す内部発生の
基準信号を供給することはできなかった。Unfortunately, prior art charge-coupled imagers were unable to provide an internally generated reference signal indicative of the intensity or color tone of the light applied to the illumination aperture of the CCD.
言い換えると、特定の照射開口に当たる光の相対的強さ
に関した情報を他の照射開口との比較においてのみ与え
ることが出来るだけであった。In other words, it was only possible to provide information about the relative intensity of light falling on a particular illumination aperture in comparison with other illumination apertures.
電荷結合型撮像装置のビデオ出力信号は数ボルトたとえ
ば+7〜+10ボルトの直流レベルに加えられるので相
対的情報のみ発生される。The video output signal of a charge-coupled imager is applied to a DC level of several volts, for example +7 to +10 volts, so that only relative information is generated.
このDCレベルは通常、リセット回路、浮遊ゲート電位
、又は増幅器バイアス点及び供給電位によって設定され
る。This DC level is typically set by a reset circuit, a floating gate potential, or an amplifier bias point and supply potential.
従来のCCDの黒及び白信号の正確な電圧レベルは、暗
い所で及び適当な光学的状態によって飽和又は近似飽和
を生ずる状態でCODを動作することによってのみ設定
されていた。The precise voltage levels of the black and white signals of conventional CCDs have been set only by operating the COD in the dark and with appropriate optical conditions to produce saturation or near saturation.
このような手順で行なわれた時でさえ、このようなテス
トで行なわれたセツティングの校正は装置の動作条件た
とえば周囲温度、供給電圧、又は回路ドリフト等の変化
に起因するドリフトを受けた。Even when performed in this manner, the calibration of settings made in such tests is subject to drift due to changes in equipment operating conditions, such as ambient temperature, supply voltage, or circuit drift.
さらに、従来技術の電荷結合型装置は、前の一連のデー
タ全部がシフトレジスタから転送された後、シフトレジ
スタへ新しい組の信号を転送するため電荷結合型装置を
リセットおよび/又は再循環するための外部回路を比較
的多く必要とする。Furthermore, prior art charge-coupled devices are designed to reset and/or recirculate the charge-coupled device to transfer a new set of signals to the shift register after the entire previous series of data has been transferred from the shift register. Requires a relatively large amount of external circuitry.
たとえば、従来の線撮像装置では、一連のカウンタは、
照射開口からシフトレジスタへ電荷のパケットによって
示された新しい組の信号を転送するために転送ゲートを
動かす前に、シフトレジスタの素子へ供給される転送信
号のサイクル数を確めるのに用いられる。For example, in a conventional line imager, a series of counters
Used to ascertain the number of cycles of the transfer signal supplied to the elements of the shift register before moving the transfer gate to transfer the new set of signals represented by the packets of charge from the illumination aperture to the shift register. .
この周辺回路はCCDを用いるシステムを複数にし、価
格を増加する。This peripheral circuitry makes systems using CCDs multiple and increases cost.
本発明のCCD構造は、CCDが感知することができる
最小及び最大光をそれぞれ表わす黒及び白基準信号を供
給するのに用いられる。The CCD structure of the present invention is used to provide black and white reference signals representing the minimum and maximum light, respectively, that the CCD can sense.
黒基準信号はCCDの1つ又はそれ以上の光学的に暗く
、かつ電気的に絶縁された光感動領域によって発生され
る。The black reference signal is generated by one or more optically dark and electrically isolated light sensitive regions of the CCD.
これら照射開口に光が当たるのを妨げると、照射開口か
らの信号は光がないことを示す。If light is prevented from hitting these illumination apertures, the signal from the illumination apertures will indicate the absence of light.
すなわち黒基準信号を表わす。That is, it represents the black reference signal.
この黒信号は、1つ又はそれ以上の照射開口からシフト
レジスタへ転送され、その後CCDから転出させられた
あと、CCDからの他の信号と比較するための基準信号
として用いられ、CODが感知することの出来る一番暗
い光学条件を与える。This black signal is transferred from one or more illumination apertures to a shift register and then transferred out of the CCD, where it is used as a reference signal for comparison with other signals from the CCD and sensed by the COD. Provide the darkest possible optical conditions.
白信号はCCDが感知するいくぶん明るい、言い換える
と暗くない状態を表わす選択されたレベルで発生される
。A white signal is generated at a selected level representing a somewhat brighter, or less dark, condition that the CCD senses.
これはCCDシフトレジスタの1つ又はそれ以上の素子
にあらかじめ決められた最大量の電荷を注入することに
よって行なわれる。This is done by injecting a predetermined maximum amount of charge into one or more elements of the CCD shift register.
これら信号がCCDから転送される時、それらはCCD
が感知する選択された明るい光学的状態を示す基準信号
を供給する。When these signals are transferred from the CCD, they are
provides a reference signal indicative of a selected bright optical condition sensed by the optical sensor.
その上、より少ない又はより多くのあらかじめ決められ
た量の電荷を注入することによって、グレー又は白の所
望の中間色を示す基準信号が作られる。Moreover, by injecting a predetermined amount of charge, either less or more, a reference signal is created that indicates the desired neutral color of gray or white.
黒及び白基準信号の発生はグレ一段階の各端部に固定点
を供給し、それによってCCDが感知する光学的範囲を
決定する。The generation of black and white reference signals provides a fixed point at each end of the gray stage, thereby determining the optical range that the CCD senses.
全光学的範囲にわたるCCD応答の直線性の認識をかね
た基準信号を与えると、CCDの使用者はCCDによっ
て感知される光学的状態のグレーの明度を正確に計測で
きる。Providing a reference signal that also recognizes the linearity of the CCD response over the entire optical range allows the CCD user to accurately measure the gray intensity of the optical conditions sensed by the CCD.
一実施例において、白信号を発生するように注入された
電荷の量はCODが感知する最も明るい光学的状態(照
射開口の飽和に相当する)というよりむしろ直線的に再
生できる最も明るい信号を表わす。In one embodiment, the amount of charge injected to generate a white signal represents the brightest signal that can be linearly reproduced, rather than the brightest optical state that the COD senses (corresponding to saturation of the illumination aperture). .
この白信号と黒信号を用いて、CCDによって発生され
た全中間信号は正確にこれら各間色を感知するため黒と
白の間で直線的に計測され、それによってそれらの正確
な保持、転送、又は再生を容易にする。Using this white and black signal, all intermediate signals generated by the CCD are measured linearly between black and white to accurately sense the colors between each of these, thereby ensuring their accurate retention and transfer. , or facilitate playback.
このことはたとえばファクシミリ装置等によって利用さ
れる。This is utilized, for example, by facsimile machines.
照射開口を有してはいないが、照射開口からの信号を受
けかつ送るのに用いられる他のCCDシフトレジスタと
同様の多くの素子を有している付加分離シフトレジスタ
に電荷パケットたとえば白信号と同様の信号を注入する
ことによって走査終了指示信号が発生される。The charge packets, e.g. the white signal, are placed in an additional separate shift register which does not have an illumination aperture but has many elements similar to other CCD shift registers used to receive and transmit signals from the illumination aperture. An end-of-scan indication signal is generated by injecting a similar signal.
すなわち、信号はシフトレジスタの最遠端へ注入されか
つそのシフトレジスタの唯一の信号である。That is, the signal is injected into the farthest end of the shift register and is the only signal for that shift register.
照射開口によって発生された信号がそれに対応するシフ
トレジスタからステップアウトされるのと同じ率で、空
のシフトレジスタからこの信号をステップアウトするこ
とによって、信号はシフトレジスタの新しい走査を開始
するようにCCDをリセットするための直接正の電気指
示を供給するのに用いられる。By stepping this signal out of an empty shift register at the same rate that the signal generated by the illumination aperture is stepped out of its corresponding shift register, the signal is caused to start a new scan of the shift register. Used to provide a direct positive electrical command to reset the CCD.
一実施例において、白信号は一対のMOSトランジスタ
からの信号を受けるダイオードによって発生される。In one embodiment, the white signal is generated by a diode that receives signals from a pair of MOS transistors.
単lMOSトランジスタのソースは第2M0Sトランジ
スタのドレインに接続され、第lMOSトランジスタの
ドレインとゲートにはバイアス電圧がかけられ、第2M
0Sトランジスタのソースとゲートは互いに接続される
。The source of the single MOS transistor is connected to the drain of the second MOS transistor, and a bias voltage is applied to the drain and gate of the second MOS transistor.
The source and gate of the OS transistor are connected to each other.
第1及び第2トランジスタを適当に設計することにより
かなりの定電圧が入力ダイオードに供給される。By appropriate design of the first and second transistors, a fairly constant voltage can be supplied to the input diode.
人力ダイオードの電荷はその後、照射開口からシフトレ
ジスタへ集められた電荷を転送するのと同一のクロック
信号に応じてシフトレジスタの素子へ転送される。The charge on the human diode is then transferred to the elements of the shift register in response to the same clock signal that transfers the collected charge from the illumination aperture to the shift register.
MOSトランジスタを適当に設計することによりかつ適
当な電圧をそれに供給することにより、注入される電荷
は所望量にされる。By suitably designing the MOS transistor and supplying it with suitable voltages, the injected charge can be made to the desired amount.
第1図には1728個の素子線形撮像アレイに適用され
た本発明の一実施例の概要平面図が示される。FIG. 1 shows a schematic plan view of an embodiment of the invention applied to a 1728 element linear imaging array.
フェアチャイルド社製品CCD121は本発明以前の製
品の一例として挙げられる。Fairchild product CCD121 is cited as an example of a product prior to the present invention.
第1図にはそれらに当てられる電磁放射線に応じて電荷
を発生する1728個の照射開口が示されている。FIG. 1 shows 1728 illumination apertures that generate electrical charges in response to electromagnetic radiation impinging on them.
周知の方法により各照射開口内に集った電荷は2つのシ
フトレジスタ10又は11の一方に同時に送られる。In a known manner, the charges collected in each illumination aperture are sent simultaneously to one of the two shift registers 10 or 11.
第1図示のように例えば奇数の照射開口に集った電荷は
シフトレジスタ11に転送され、一方偶数の照射開口に
集った電荷はシフトレジスタ10に転送される。As shown in the first diagram, for example, the charges collected in the odd-numbered irradiation apertures are transferred to the shift register 11, while the charges collected in the even-numbered irradiation apertures are transferred to the shift register 10.
シフトレジスタ10,11は各々分離領域12によって
2つの離れたシフトレジスタに分割されている。Shift registers 10 and 11 are each divided into two separate shift registers by a separation region 12.
照射開口1〜1728からシフトレジスタ10.11へ
の電荷転送は電極14に信号φ工を与えることによって
行なわれる。Charge transfer from the irradiation apertures 1 to 1728 to the shift register 10.11 is performed by applying a signal φ to the electrode 14.
この技術はCCD技術では周知であるが、第2a〜2d
図においてさらに詳細に説明されている。This technique is well known in CCD technology, but
It is explained in more detail in the figures.
CCDシフトレジスタの隣接素子における信号の相互混
信は奇数照射開口の電荷を一方向すなわちレジスタ11
に転送することによって、又偶数照射開口の電荷を他方
向すなわちレジスタ10に転送することによって妨げら
れる。Mutual interference of signals in adjacent elements of the CCD shift register causes the charges in the odd-numbered illumination apertures to flow in one direction, i.e., in the register 11.
and by transferring the charge of the even illumination aperture in the other direction, ie to the register 10.
このように電荷パケットはシフトレジスタ10.11の
各々に転送される。Charge packets are thus transferred to each of the shift registers 10.11.
例えば、照射開口1に集められた電荷は電極21の下の
領域に転送され、一方、照射開口3に集められた電荷は
電極23の下の領域に転送される。For example, the charge collected on the illumination aperture 1 is transferred to the area under the electrode 21, while the charge collected on the illumination aperture 3 is transferred to the area under the electrode 23.
電極22の下には電荷は転送されないのでこれは電極2
1.23とは異った電位に維持される。This is because no charge is transferred under electrode 22.
1.23 is maintained at a different potential.
それ故、電極21,23の下の領域に転送された信号は
交錯(Comingling )やそれによる情報損失
からまぬがれる。Therefore, the signals transferred to the area below the electrodes 21, 23 are spared from coming together and the resulting loss of information.
第1図示のように照射開口2からの信号は電極32の下
に転送される。As shown in the first diagram, the signal from the illumination aperture 2 is transferred below the electrode 32.
1728個の照射開口の電荷がシフトレジスタ10.1
1に転送された後、信号φXの電位は変化されて新しい
紐の信号が1728個の照射開口内に集まり始める。The charges of 1728 irradiation apertures are transferred to shift register 10.1.
1, the potential of the signal φX is changed and a new string signal begins to collect within the 1728 illumination apertures.
その後シフトレジスタ素子に適当な信号たとえばφTと
VTを与えることによって、電極下の信号はシフトレジ
スタ10からステップアウトされ、シフトレジスタ11
の下方部分は出力ゲートへ転送される。Thereafter, by applying appropriate signals such as φT and VT to the shift register elements, the signals under the electrodes are stepped out of the shift register 10 and the shift register 11 is stepped out.
The lower part of is transferred to the output gate.
これら信号の出力ゲートへの転送は第1図の矢印30,
31によって示される。The transfer of these signals to the output gate is indicated by the arrow 30 in FIG.
31.
出力ゲートの構造はこの技術分野において周知である。Output gate structures are well known in the art.
たとえば米国特許第3999082号の”電荷結合型増
幅器″゛において示されている。For example, it is shown in US Pat. No. 3,999,082 entitled "Charge Coupled Amplifier".
第1図に示された本発明の一実施例において、1728
個の照射開口からの信号はシフトレジスタ10の下方部
分又はシフトレジスタ11の上方部分には転送されない
。In one embodiment of the invention shown in FIG.
The signals from the illumination apertures are not transferred to the lower part of shift register 10 or the upper part of shift register 11.
シフトレジスタのこれら部分への電荷の転送は、各シフ
トレジスタ10゜11を2つの分離したシフトレジスタ
に効果的に分割する領域12代表的には酸化膜の分離領
域によって妨げられる。Transfer of charge to these portions of the shift register is impeded by isolation regions 12, typically oxide, which effectively divide each shift register 10.11 into two separate shift registers.
各シフトレジスタの電極から次の電極への電荷の転送は
電極下に延びた障壁58間のチャンネル領域15によっ
て行なわれ得る。Transfer of charge from each shift register electrode to the next may be effected by channel regions 15 between barriers 58 extending below the electrodes.
シフトレジスタ11の上方部分とシフトレジスタ10の
下方部分は、基板内の浮遊電荷がシフトレジスタの素子
へ流れたり又そこに蓄えられた情報をひずませることを
妨げる。The upper portion of shift register 11 and the lower portion of shift register 10 prevent stray charges in the substrate from flowing to the elements of the shift register and distorting the information stored therein.
すなわち、浮遊電荷はこれら分離されたシフトレジスタ
によって集められて害のないように処理される。That is, stray charges are collected and harmlessly disposed of by these separate shift registers.
矢印33と40はこれら浮遊電荷のシンク領域又は電源
への転送を示している。Arrows 33 and 40 indicate the transfer of these stray charges to the sink region or power supply.
しかしながら、後述のようにいくつかの実施例では矢印
40で示された信号は外部回路に供給される。However, as discussed below, in some embodiments the signal indicated by arrow 40 is provided to external circuitry.
黒及び白の基準信号は以下に述べるように第1図に示さ
れたCCD構造によって発生される。The black and white reference signals are generated by the CCD structure shown in FIG. 1 as described below.
実施例において黒基準信号は数個の光学的にかつ電気的
に分離された付加照射開口Bl、B2.B3によって発
生される。In the exemplary embodiment, the black reference signal is transmitted through several optically and electrically separated additional illumination apertures Bl, B2 . Generated by B3.
無滴このような照射開口はいくつでも設けることはでき
る。Any number of such irradiation apertures can be provided without droplets.
照射開口B1(およびB2およびB3)はアイソレーシ
ョン領域■によって能動照射開口1,2・・・・・・1
728から分離される。The irradiation aperture B1 (and B2 and B3) is divided into active irradiation apertures 1, 2...1 by the isolation area ■.
728.
これら照射開口は、照射開口1゜2・・・・・・172
8内の又はこれらに沿った所望の場所に配置され得るこ
とは理解されよう。These irradiation apertures are 1°2...172
It will be appreciated that they may be located anywhere within or along 8 as desired.
特に、このような照射開口は普通の能動照射開口1・・
・・・・1728に点在され得、照射開口の1端又は他
端、又は両端、又はそれらの組合わせで配置される。In particular, such an illumination aperture is a normal active illumination aperture 1...
... 1728, located at one end or the other end of the illumination aperture, or both ends, or a combination thereof.
第1図においてはそれらは線形アレイの右端に示されて
いる。In FIG. 1 they are shown at the right end of the linear array.
黒照射開口B’l、B2.B3は代表的にはアイソレー
ションセル■によって能動照射開口から分離されている
。Black irradiation aperture B'l, B2. B3 is typically separated from the active illumination aperture by an isolation cell.
これは能動セルのどれか内の電荷が黒基準セルBl 、
B2、又はB3のどれかに漏れるのを妨げるものである
。This means that the charge in any of the active cells is the black reference cell Bl,
This prevents leakage to either B2 or B3.
又このようにすれば窓35を形成するのにも製作公差は
ゆるくてすむ。In addition, in this manner, the manufacturing tolerances for forming the window 35 can be relaxed.
窓35は電磁放射線、代表的には可視光線を照射開口に
当てさせるものである。Window 35 allows electromagnetic radiation, typically visible light, to impinge on the illumination aperture.
第1図には示されていないが窓35の周囲には黒基準セ
ルBl。Although not shown in FIG. 1, there is a black reference cell Bl around the window 35.
B2.B3に光が当たるのを妨げる光シールドがある。B2. There is a light shield that prevents light from hitting B3.
本発明のいくつかの実施例において、窓35はたとえば
青又は他の色の信号が感知されるものであったとしても
所定の波長の可視電磁放射線に対しては不透明な物質で
ある。In some embodiments of the invention, window 35 is a material that is opaque to visible electromagnetic radiation of a predetermined wavelength, even if, for example, a blue or other color signal is to be sensed.
窓35の位置は黒基準照射開口B1.B2、又はB3に
光が当るのを妨げるので、これら照射開口は何ら電荷を
集めない、すなわち可視光線の効果を除いた基板の全状
態を表わす電荷を集める。The position of the window 35 is the black reference irradiation aperture B1. Since they prevent light from hitting B2 or B3, these illumination apertures do not collect any charge, ie they collect a charge that represents the entire state of the substrate excluding the effects of visible light.
このように黒基準照射開口B1.B2.B3は、温度又
は化学組成物、又は他の周囲状態に起因する暗電流又は
他の誤りを自動的に補正する。In this way, the black reference irradiation aperture B1. B2. B3 automatically corrects for dark current or other errors due to temperature or chemical composition, or other ambient conditions.
白基準信号を生ずるための一つの技術はシフトレジスタ
10の左端に示されている。One technique for producing a white reference signal is shown at the left end of shift register 10.
信号vRがダイオード38へ与えられることによって、
信号電荷はダイオードに供給され、φXの電位が適当に
増加する時シフトレジスタ素子39,42?こ転送され
る。By applying the signal vR to the diode 38,
The signal charge is supplied to the diode, and when the potential of φX increases appropriately, the shift register elements 39, 42? This will be transferred.
第4a〜4e図に関して述べるように、この電荷は飽和
となる明るさのレベル又はあまり明るくない状態すなわ
ちグレーのような他の所望基準電荷レベルを示すのに適
当な大きさにされる。As discussed with respect to Figures 4a-4e, this charge is suitably sized to represent a saturated brightness level or other desired reference charge level such as a less bright condition or gray.
この電荷はここでは白基準信号として参照される。This charge is referred to herein as the white reference signal.
信号vTとφ1を加えてシフトレジスタ素子42に注入
された電荷のその部分は、1728個の照射開口によっ
て生ぜられた信号電荷の転送に続いてシフトレジスタ1
0から転送される。That portion of the charge injected into shift register element 42 by adding signals vT and φ1 is transferred to shift register 1 following the transfer of the signal charge produced by the 1728 illumination apertures.
Transferred from 0.
白基準信号は、第1図に示された構造を適当に変形する
ことによりシフトレジスタ10に沿った他の所望の位置
に注入されてもよい。The white reference signal may be injected at other desired locations along shift register 10 by suitably modifying the structure shown in FIG.
電極39の下に注入された白基準信号のその部分は走査
終了(end −of −5can)指示として用いら
れる。That portion of the white reference signal injected below electrode 39 is used as an end-of-5can indication.
すなわち、第1図示のように、白基準信号をシフトレジ
スタ10の最遠端に配置することによって電極39の下
に転送された信号は照射開口1728に生じた信号の後
にシフトレジスタ10から現われる。That is, by placing the white reference signal at the farthest end of shift register 10, as shown in the first illustration, the signal transferred below electrode 39 emerges from shift register 10 after the signal produced at illumination aperture 1728.
それ故、白基準信号はシフトレジスタ10からの信号の
転送完了を示す電気信号としても用いられる。Therefore, the white reference signal is also used as an electrical signal indicating completion of signal transfer from the shift register 10.
それに対して従来の構造は信号φXを与えるのに適当な
時間を探知するため独立した計数装置を必要としていた
。In contrast, prior designs required a separate counting device to find the appropriate time to provide signal φX.
領域38からの白基準信号は、シフトレジスタ10の下
方部分から転送された時何らかの周知外部論理回路に転
送され、これはその後信号φXを動作させる。The white reference signal from area 38, when transferred from the lower portion of shift register 10, is transferred to some well-known external logic circuit, which then operates signal φX.
第2a図は埋込チャンネルを用いて作られた時の第1図
に示された構造の一部断面図である。Figure 2a is a partial cross-sectional view of the structure shown in Figure 1 when constructed using buried channels.
代表的にはP導電型の基板50には代表的にはシリコン
ダイオードから成る分離領域51a、51bが直列に形
成されている。Isolation regions 51a and 51b, typically made of silicon diodes, are formed in series on a substrate 50, which is typically of P conductivity type.
P+導電型領域53a。53bは、分離領域51の下に
浮遊イオンが導電路を形成しないように分離領域51の
下に形成されることがある。P+ conductivity type region 53a. 53b may be formed under the isolation region 51 to prevent floating ions from forming a conductive path under the isolation region 51.
基板50に形成されたN導電型領域は周囲の電磁放射線
に応じて電荷を集める。The N conductivity type regions formed in substrate 50 collect charge in response to surrounding electromagnetic radiation.
代表的にはリン、ヒ素又は他のN型物質をドープした埋
込チャンネル領域56at56bと代表的にはボロン又
は他のP型物質をドープした領域58a t 58b
t 58cは以下に述べるように、構造の電位状態図を
変える障壁領域を形成する。Buried channel regions 56at56b, typically doped with phosphorous, arsenic, or other N-type materials, and regions 58a, 58b, typically doped with boron or other P-type materials.
t 58c forms a barrier region that changes the potential phase diagram of the structure, as discussed below.
又第20図には基板50上に電極が示されている。Also shown in FIG. 20 are electrodes on the substrate 50.
電極59aは信号φTを受けるように接続され、一方電
極61aは信号φXを受けるように接続されている。Electrode 59a is connected to receive signal φT, while electrode 61a is connected to receive signal φX.
電極62は信号VPGを受けるように接続される。Electrode 62 is connected to receive signal VPG.
第2a図に示された構造の真下には信号φ工が加えられ
た時領域55に集められた電荷73が電極59aの下の
領域にどのように転送されるかを示す第2b、2c、2
a図の一連の電位状態図が示される。Immediately below the structure shown in FIG. 2a are sections 2b, 2c, and 2c showing how the charge 73 collected in region 55 is transferred to the region below electrode 59a when signal φ is applied. 2
A series of potential state diagrams in diagram a are shown.
一旦電荷が転送されると、第4図において述べるように
それは信号φTとvTを加えることによりCCDから転
送される。Once the charge has been transferred, it is transferred from the CCD by applying the signals φT and vT as described in FIG.
第2b図に示された電位状態図は信号φ工とφTが各々
ゼロ電位の時の第2a図に示された構造の状態を示す。The potential state diagram shown in FIG. 2b shows the state of the structure shown in FIG. 2a when the signals .phi. and .phi.T are each at zero potential.
この状態において電荷は領域55によって作られた電位
の井戸に集まる。In this state, charge collects in the potential well created by region 55.
集められた電荷は第2b図の斜線領域73によって示さ
れる。The collected charge is indicated by the shaded area 73 in Figure 2b.
次に第2c図で示すように、信号φXの電位を増すこと
によって、電極61aの下の電位の井戸を深くし、電荷
76の一部は領域55から転送されて電極61aの下に
一時蓄えられる。Next, as shown in FIG. 2c, by increasing the potential of the signal φX, the potential well under the electrode 61a is deepened, and part of the charge 76 is transferred from the region 55 and temporarily stored under the electrode 61a. It will be done.
次に、第2d図に示すように、信号φTの電位は増加し
それによって電極61aの下に蓄えられた電荷76は電
極59aの下に転送されて領域56aに蓄えられる。Next, as shown in FIG. 2d, the potential of signal φT increases, whereby the charge 76 stored under electrode 61a is transferred under electrode 59a and stored in region 56a.
一旦電荷78が電極59aの下の領域56aに蓄えられ
ると、信号φXの電位は低くされて、適当な信号φT、
VTが電極59aの下の領域56aの電荷78をCCD
装置から所望により他の電気回路へ転送するように加え
られるまで領域55から領域56aへさらに電荷が転送
されるのを妨げる。Once the charge 78 is stored in the region 56a under the electrode 59a, the potential of the signal φX is lowered and the appropriate signal φT,
VT converts the charge 78 in the region 56a under the electrode 59a to CCD.
Further charge is prevented from being transferred from region 55 to region 56a until it is applied to transfer from the device to other electrical circuitry as desired.
第3図は、第1図示の黒セルとは反対側の能動セルの端
部に、すなわち一連のCCD光感知素子、1725.1
726,1727,1728の左側に配置された場合の
一連の4個の黒基準セルの断面図を示している。FIG. 3 shows a series of CCD light sensing elements, 1725.1, at the end of the active cell opposite the black cell shown in FIG.
A cross-sectional view of a series of four black reference cells as placed to the left of 726, 1727, 1728 is shown.
黒基準セルB4.B5.B6jB7は隣接能動セル又は
他の回路から分離セル11、I2によって分離される。Black reference cell B4. B5. B6jB7 are separated from adjacent active cells or other circuitry by isolation cells 11, I2.
カバー36は黒セルB4〜B7に可視光が照射するのを
妨げる。The cover 36 prevents visible light from irradiating the black cells B4 to B7.
カバー36はたとえばアルミニウムのような適当な物質
である。Cover 36 is a suitable material, such as aluminum.
カバー36は代表的には絶縁層37上に形成されそれが
基板50の表面又はそれに形成された領域と接触するの
を妨げる。Cover 36 is typically formed over insulating layer 37 to prevent it from contacting the surface of substrate 50 or areas formed thereon.
黒セルB4〜B7はたとえば温度のような基板内の状態
のみを表わす信号を発生する。Black cells B4-B7 generate signals representing only conditions within the substrate, such as temperature, for example.
分離セルILI2は逆バイアスされたN十拡散ダイオー
ドであって、その領域内の浮遊電荷キャリアを取り除く
働きをする。Isolation cell ILI2 is a reverse biased N+ diffused diode that serves to remove stray charge carriers within its region.
分離セルは、第3図に示されたようにアルミニウム光シ
ールド36にそれらを接続し、その後シールド36に所
望の電位を与えることによって簡単に逆バイアスサレる
。The isolated cells are simply reverse biased by connecting them to an aluminum light shield 36 as shown in FIG. 3 and then applying the desired potential to the shield 36.
第4a図は走査終了指示の動作とともに白基準信号発生
器の動作を示した、第1図の一部断面図である。FIG. 4a is a partial sectional view of FIG. 1, showing the operation of the white reference signal generator as well as the operation of instructing the end of scanning.
第4a図に示された構造の参照番号は第1図の構造を示
したものと同様である。The reference numerals for the structure shown in FIG. 4a are the same as those for the structure in FIG.
白基準信号を発生するため、2つのMOSトランジスタ
71.72が領域38に与えられる信号vRを発生する
のに用いられる。To generate the white reference signal, two MOS transistors 71, 72 are used to generate a signal vR applied to region 38.
第4a図に示されるように、トランジスタ71のゲート
電極は信号vTを受信するように接続され、一方ドレイ
ン電極は信号VDDを受信するように接続される。As shown in FIG. 4a, the gate electrode of transistor 71 is connected to receive signal vT, while the drain electrode is connected to receive signal VDD.
MOSトランジスタ72は、アースに接続されたソース
電極に接続されたゲート電極を有する。MOS transistor 72 has a gate electrode connected to a source electrode connected to ground.
実際にはトランジスタ72は、vTマイナス閾電圧に実
質的に等して信号vRを生ずるためトランジスタ71へ
の定電流源となる。In practice, transistor 72 provides a constant current source to transistor 71 since it produces a signal vR substantially equal to vT minus the threshold voltage.
トランジスタ71.72を適当なものとすることにより
、信号VRは所望の電荷量を注入するように選択される
。By appropriate selection of transistors 71, 72, signal VR is selected to inject the desired amount of charge.
シフトレジスタが照射開口から受ける電荷の注入パケッ
トの最大量すなわち飽和電荷の量は、障壁58によって
生じられた障壁の高さvBと、それが転送される領域す
なわち領域80の物理的寸法により決定される。The maximum amount of charge injection packets that the shift register receives from the illumination aperture, ie, the amount of saturated charge, is determined by the barrier height vB created by barrier 58 and the physical dimensions of the area or region 80 into which it is transferred. Ru.
第4d図の領域77はこの量を図示で示している。Area 77 in FIG. 4d graphically represents this quantity.
しかしながら、領域38から実際に転送される電荷の量
は、障壁58によって生ずる電位障壁VBによって決定
されるように少ない量でよくこれは領域68の物理的寸
法である。However, the amount of charge actually transferred from region 38 may be less as determined by the potential barrier VB created by barrier 58, which is the physical dimension of region 68.
電荷のこの量は第4e図において領域75として図式に
示されている。This amount of charge is shown diagrammatically as area 75 in FIG. 4e.
障壁の高さは両方の場合において等しいので、物理的寸
法68はたとえばCCD照射開口の感光度の直線領域の
上限に相当する飽和電荷の選択された小部分に白信号電
荷を制限するように調整される。Since the height of the barrier is equal in both cases, the physical dimension 68 is adjusted to limit the white signal charge to a selected small fraction of the saturated charge corresponding to the upper limit of the linear range of sensitivity of the CCD illumination aperture, for example. be done.
上述のように白信号を発生する一つの利点は信号の大き
さは処理のパラメータを変えなくとも構造寸法を変える
ことにより変化することである。One advantage of generating a white signal as described above is that the magnitude of the signal can be changed by changing the structure dimensions without changing the processing parameters.
寸法は処理のパラメータより更に正確に制御されるので
、白信号をより正確に制御することが出来る。Since the dimensions are controlled more precisely than the processing parameters, the white signal can be controlled more precisely.
このように直線性が得られるので、黒と白との間のグレ
ーの直線領域で正確に関係づけられたどの照射開口領域
1〜1728によっても信号を生じさせることが出来る
。This linearity allows a signal to be generated by any illumination aperture area 1-1728 that is precisely related to the gray linear region between black and white.
トランジスタ71,72からの信号vRの結果として領
域38に集められた電荷は第1図に示されたシフトレジ
スタ10の上方部分に沿って転送され第4b〜4e図に
示されたように白信号を供給するため他の回路に供給さ
れる。The charge collected in region 38 as a result of signal vR from transistors 71, 72 is transferred along the upper portion of shift register 10 shown in FIG. 1 to produce a white signal as shown in FIGS. 4b-4e. is supplied to other circuits to supply
第4b図に示されるように、信号φXが低い場合、それ
は信号vRの結果として領域38に集められた全電荷7
4をためる電位障壁を作る。As shown in FIG. 4b, when signal φX is low, it is due to the total charge 7 collected in region 38 as a result of signal vR.
Create a potential barrier that stores 4.
次に、第4e図に示すように、低電位で(電極39に供
給された)信号φTを保持し、かつ(電極14に供給さ
れた)信号φXの電位を増加することによって領域38
内の電荷74も又電極14の下に集まる。Next, as shown in FIG. 4e, the area 38 is
The charge 74 within also collects below the electrode 14.
しかしながら、低電位に保持された信号φTは電極14
から電極39へ電荷74が転送されるのを妨げる。However, the signal φT held at a low potential is
This prevents charge 74 from being transferred from the electrode 39 to the electrode 39.
その後、第4d図示のように、電極39に供給された信
号φTの電位は増加し、一方電極65に供給された信号
vTはその前のレベルに保持される。Thereafter, as shown in Figure 4d, the potential of the signal φT supplied to the electrode 39 increases, while the signal vT supplied to the electrode 65 is maintained at the previous level.
これは電極14の下からの電荷74を電極39の下に転
送させる。This causes charge 74 from below electrode 14 to be transferred to below electrode 39.
次に、第4e図示のように、電極39に供給された信号
φTの電位は減少する。Next, as shown in Figure 4e, the potential of the signal φT supplied to the electrode 39 decreases.
実際に、これは電極14の下と領域38に残存する大部
分の電荷から部分75の電荷を分離する電位φTを低く
した結果として電荷75のこの部分は電極vTの下に転
送される。In fact, this lowers the potential φT which separates the charge of portion 75 from the bulk of the charge remaining under electrode 14 and in region 38, so that this portion of charge 75 is transferred under electrode vT.
その後、信号φTのパルスの連続によって電荷パケット
75は一電極から次の電極へ漸次転送され、最終的に第
1図に示されたシフトレジスタ10の上方部分の右手端
部に到達し゛、矢印30によって示されるように、必要
に応じて他の回路に供給される。Thereafter, the charge packet 75 is gradually transferred from one electrode to the next by a series of pulses of the signal φT, and finally reaches the right-hand end of the upper portion of the shift register 10 shown in FIG. As shown, the signal is supplied to other circuits as necessary.
シフトレジスタ10の上方部分に関連して上述したのと
同様の方法で、電極39の下に注入された信号は電極4
2の下に注入される。In a manner similar to that described above in connection with the upper part of shift register 10, the signal injected below electrode 39 is transferred to electrode 4.
Injected under 2.
この信号は1728個の照射開口によって発生された1
728個の信号に続いて走査終了信号を供給する。This signal is generated by 1728 illumination apertures.
Following the 728 signals, a scan end signal is supplied.
それによって、注入された電荷は周知の方法で用いられ
、他の電気回路を作動し、CCDに照射開口1〜172
8からシフトレジスタへの新しい組の電荷を転送するよ
うにリセットさせる。Thereby, the injected charge is used in a well-known manner to activate other electrical circuits and expose the CCD to illumination apertures 1-172.
8 to transfer a new set of charges to the shift register.
本発明の構造は従来構造に比べて多くの利点を有する。The structure of the present invention has many advantages over conventional structures.
特に、黒基準セルは暗電流信号に対して、温度効果に対
してクロック信号の変化に対して、出力増幅器の変化に
対して、一般に全感光領域に誘導されるエラーに対して
補償する黒基準信号を供給する。In particular, the black reference cell is a black reference that compensates for dark current signals, for temperature effects, for changes in the clock signal, for changes in the output amplifier, and generally for errors induced in the entire photosensitive area. supply the signal.
一方、白基準セルは白色光又はグレーの所望の明度を表
わす信号を発生することによって多くの利点をもたらす
。On the other hand, a white reference cell provides many advantages by generating a signal representing the desired brightness of white light or gray.
その上、同一の白基準信号は、離れたシフトレジスタに
注入された時CCD装置の動作をリセットするための走
査終了指示として動き、従って従来の大容量CCD装置
に用いられていた計数回路が不必要となる。Moreover, the same white reference signal, when injected into a remote shift register, acts as an end-of-scan indication to reset the operation of the CCD device, thus eliminating the need for counting circuits used in conventional high-capacity CCD devices. It becomes necessary.
第1図は本発明の一実施例の構造を示した概要図、第2
a図は第1図の構造の一部断面図であり、第2b−2d
図は電荷パケットが照射開口からシフトレジスタへいか
に転送されるかを示した第2a図の構造の電位エネルギ
ー状態図、第3図は一組の黒基準セルの断面図、第4a
図は白基準信号を発生する一方法を示した概要図、第4
b−4e図は電荷パケット(白基準信号)が走査終了指
示信号を転送するシフトレジスタ又は普通のCCDシフ
トレジスタにおいてシフトレジスタの1素子から次の素
子へいかに転送されるかを示した第4a図の構造の電位
エネルギー状態図である。
10.11・・・・・・シフトレジスタ、12・・・・
・・分離領域、14・・・・・・電極、1〜1728・
・・・・・照射開口、B1.B2.B3・・・・・・黒
照射開口、35・・・・・・窓、3B・・・・・・ダイ
オード、50・・・・・・基板、51a。
51b・・・・・・分離領域、71,72・・・・・・
トランジスタ。Figure 1 is a schematic diagram showing the structure of one embodiment of the present invention, Figure 2 is a schematic diagram showing the structure of an embodiment of the present invention.
Figure a is a partial sectional view of the structure in Figure 1, and Figure 2b-2d is a partial cross-sectional view of the structure in Figure 1;
Figure 2a is a potential energy state diagram for the structure of Figure 2a showing how charge packets are transferred from the illumination aperture to the shift register; Figure 3 is a cross-sectional view of a set of black reference cells; Figure 4a is a cross-sectional view of a set of black reference cells;
Figure 4 is a schematic diagram showing one method of generating a white reference signal.
Figure b-4e shows how a charge packet (white reference signal) is transferred from one element of the shift register to the next in a shift register that transfers an end-of-scan indication signal or a conventional CCD shift register. FIG. 2 is a potential energy phase diagram of the structure of 10.11...Shift register, 12...
... Separation region, 14 ... Electrode, 1 to 1728.
...Irradiation aperture, B1. B2. B3...Black irradiation aperture, 35...Window, 3B...Diode, 50...Substrate, 51a. 51b... Separation area, 71, 72...
transistor.
Claims (1)
手段と、各収集手段から第2転送手段へ収集された電荷
を転送させるための少くとも1つの第1転送手段と、複
数の収集された電荷を信号処理手段へ転送するための第
2転送手段、光がないことを示す電荷パケットを収集す
るための少くとも1つの暗収集手段と、光の選択された
強さを示す電荷を果状するための少くとも1つの明収集
手段と、暗、明収集手段によって収集された電荷を信号
処理手段に供給するための第3転送手段と、複数の電荷
パケットによって示された情報を得るための信号処理手
段とから成ることを特徴とする周囲の光状態を示す信号
を発生するための電荷結合型装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置において、第2転
送手段と第3転送手段とは同じ手段であることを特徴と
する電荷結合型装置。 3 特許請求の範囲第1項記載の装置において、第1転
送手段を動かすため第1信号を発生するための論理手段
と、明収集手段に収集された電荷の1部を論理手段へ送
るように接続された第4転送手段とを含み、それによっ
て論理手段に第1信号を発生させることを特徴とする電
荷結合型装置。 4 特許請求の範囲第1項記載の装置において、各暗収
集手段は電荷結合型装置の照射開口であり、光は光学的
に不透明なカバーによって各照射開口に入るのを妨げら
れ、明収集手段は電気信号源に接続されたダイオードで
あり、第2転送手段は第1シフトレジスタであることを
特徴とする電荷結合型装置。 5 特許請求の範囲第4項記載の装置において、各収集
手段は電荷結合型装置の照射開口であり、第2転送手段
は第2シフトレジスタと第1シフトレジスタの両方であ
ることを特徴とする電荷結合型装置。 6 %許請求の範囲第3項記載の装置において、第4転
送手段は第3シフトレジスタであることを特徴とする電
荷結合型装置。 7 特許請求の範囲第1項記載の装置において、明収集
手段は第3転送手段に切換自由に接続されたダイオード
であり、第1及び第2トランジスタはそこに信号を供給
するためダイオードに接続されることを特徴とする電荷
結合型装置。 8 特許請求の範囲第7項記載の装置において、第1及
び第2トランジスタは絶縁ゲート電界効果型トランジス
タであり、第1トランジスタのソースは第2トランジス
タのドレインに接続され、第2トランジスタのソースと
ゲートはアース電位に接続され、選択された電気信号は
第1トランジスタのソースとゲートとに供給され、第1
トランジスタのソースはダイオードに接続されているこ
とを特徴とする電荷結合型装置。 9 複数の光感知照射開口と、第1信号出力手段と、照
射開口からの信号を信号出力手段へ送るための第1及び
第2シフトレジスタと、不透明なカバ一手段により光を
さえぎられた付加の選択された数の照射開口と、第2シ
フトレジスタへ接続された入力ダイオードと、人力ダイ
オードへ信号を供給するための回路と、第2信号出力手
段と、そこからの信号を第2信号出力手段へ供給するた
め人力ダイオードに接続された第3シフトレジスタとよ
り成ることを特徴とする電荷結合型装置。 10特許請求の範囲第9項記載の装置において、回路は
一緒に電源に接続された第1及び第2トランジスタを含
むことを特徴とする電荷結合型装置。 11 特許請求の範囲第10項記載の装置において、第
1及び第2トランジスタは絶縁ゲート電界効果型トラン
ジスタであり、第1トランジスタのソースは第2トラン
ジスタのドレインに接続され、第2トランジスタのソー
スとゲートはアース電位に接続され、電源は第1トラン
ジスタのソースとゲートに接続され、第1トランジスタ
のソースはダイオードに接続されていることを特徴とす
る電荷結合型装置。[Scope of Claims] 1. A plurality of collection means each collecting charge packets in response to light, and at least one first transfer means for transferring the collected charge from each collection means to a second transfer means. , a second transfer means for transferring the plurality of collected charges to the signal processing means, at least one dark collection means for collecting charge packets indicative of the absence of light, and a selected intensity of the light. at least one bright collection means for collecting charge indicative of the output signal, third transfer means for supplying the charge collected by the dark and bright collection means to the signal processing means, and a plurality of charge packets represented by charge-coupled device for generating a signal indicative of ambient light conditions, characterized in that the device comprises signal processing means for obtaining information about ambient light conditions. 2. A charge-coupled device according to claim 1, wherein the second transfer means and the third transfer means are the same means. 3. The device according to claim 1, comprising logic means for generating a first signal for moving the first transfer means, and logic means for transmitting a portion of the charge collected by the bright collection means to the logic means. a fourth transfer means connected thereto, thereby causing the logic means to generate the first signal. 4. The apparatus of claim 1, wherein each dark collection means is an illumination aperture of a charge-coupled device, and light is prevented from entering each illumination aperture by an optically opaque cover, and the light collection means is an illumination aperture of a charge-coupled device. is a diode connected to an electrical signal source, and the second transfer means is a first shift register. 5. A device according to claim 4, characterized in that each collection means is an illumination aperture of a charge-coupled device, and the second transfer means are both a second shift register and a first shift register. Charge-coupled device. 6% The charge-coupled device according to claim 3, wherein the fourth transfer means is a third shift register. 7. The device according to claim 1, wherein the light collection means is a diode freely connected to the third transfer means, and the first and second transistors are connected to the diode for supplying signals thereto. A charge-coupled device characterized by: 8. In the device according to claim 7, the first and second transistors are insulated gate field effect transistors, the source of the first transistor is connected to the drain of the second transistor, and the source of the second transistor is connected to the drain of the second transistor. The gate is connected to ground potential, and the selected electrical signal is supplied to the source and gate of the first transistor.
A charge-coupled device characterized in that the source of the transistor is connected to a diode. 9 a plurality of light-sensing illumination apertures, a first signal output means, first and second shift registers for transmitting signals from the illumination apertures to the signal output means, and an opaque cover whose light is blocked by means. a selected number of illumination apertures, an input diode connected to a second shift register, a circuit for supplying a signal to the input diode, a second signal output means, and a second signal output means for transmitting a signal therefrom. A charge-coupled device characterized in that it comprises a third shift register connected to a human power diode for supplying the means. 10. The device of claim 9, wherein the circuit includes first and second transistors connected together to a power source. 11. In the device according to claim 10, the first and second transistors are insulated gate field effect transistors, the source of the first transistor is connected to the drain of the second transistor, and the source of the second transistor is connected to the drain of the second transistor. A charge-coupled device, characterized in that the gate is connected to ground potential, the power supply is connected to the source and gate of the first transistor, and the source of the first transistor is connected to a diode.
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CA1020656A (en) * | 1973-03-22 | 1977-11-08 | Choong-Ki Kim | Buried-channel charge-coupled linear imaging device |
JPS5164823A (en) * | 1974-12-03 | 1976-06-04 | Nippon Electric Co | |
JPS5827711B2 (en) * | 1975-06-24 | 1983-06-10 | 日本電気株式会社 | Kotai Satsuzou Sochi |
-
1979
- 1979-01-05 JP JP54000073A patent/JPS5846068B2/en not_active Expired
- 1979-01-24 DE DE2902532A patent/DE2902532C2/en not_active Expired
- 1979-02-02 FR FR7902731A patent/FR2416602B1/en not_active Expired
-
1984
- 1984-10-26 JP JP59224221A patent/JPS60202963A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60202963A (en) | 1985-10-14 |
DE2902532A1 (en) | 1979-08-09 |
FR2416602A1 (en) | 1979-08-31 |
JPH0414510B2 (en) | 1992-03-13 |
FR2416602B1 (en) | 1986-09-12 |
DE2902532C2 (en) | 1984-05-30 |
JPS54107684A (en) | 1979-08-23 |
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