JPS5827916B2 - Bit line level control circuit - Google Patents
Bit line level control circuitInfo
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- JPS5827916B2 JPS5827916B2 JP54095697A JP9569779A JPS5827916B2 JP S5827916 B2 JPS5827916 B2 JP S5827916B2 JP 54095697 A JP54095697 A JP 54095697A JP 9569779 A JP9569779 A JP 9569779A JP S5827916 B2 JPS5827916 B2 JP S5827916B2
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、■2Lメモリで非選択セルのシンク電流が半
選択セルを通じて流れるのを防止する非選択ビット線制
御回路1ご関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to (1) an unselected bit line control circuit 1 that prevents sink current of unselected cells from flowing through half-selected cells in a 2L memory;
通常のスタティック型メモリセルは、フリップフロップ
の負荷1こ抵抗を使用し、また素子構造上トランジスタ
間1こ分離領域を必要とすることから占有面積が大きい
。A typical static memory cell occupies a large area because it uses a resistor as a flip-flop load and requires an isolation region between transistors due to its element structure.
その上低消費電力比を図るため1こ負荷を高抵抗1こす
れば更1こ1セル当りの占有面積は増大する。Furthermore, in order to achieve a low power consumption ratio, if one high resistance is applied to one load, the area occupied by one cell will further increase.
従って、通常のメモリセルを用いて半導体メモリの低電
力化、大容量化を進めるとチップ収率の低下をもたらし
高価格となる。Therefore, if semiconductor memories are made to have lower power consumption and larger capacity by using ordinary memory cells, the chip yield will decrease and the cost will increase.
この点l2L(Integrated Injecti
onI、ogie )メモリセルを用(1)れば半導
体メモリの低電力化、大容量化を図るの1こ有利である
。This point l2L (Integrated Injecti
The use of memory cells (1) is advantageous in reducing the power consumption and increasing the capacity of semiconductor memories.
■2Lメモリセルとしては種々の形式が提案されている
が、基本的)こはPNPトランジスタを負荷とした逆動
作のNPN トランジスタIこよるフリップフロップで
ある。(2) Various types of 2L memory cells have been proposed, but basically this is a flip-flop based on a reverse-operating NPN transistor I with a PNP transistor as a load.
その一例を第1図1こ示す。同図aは選択時の等価回路
、同図すは非選択時の等価回路、同図Cは素子構造を示
す断面図である。An example of this is shown in FIG. FIG. 5A is an equivalent circuit when the device is selected, FIG. 2A is an equivalent circuit when it is not selected, and FIG.
同図1こおいてQt 、Q2はPNP型の負荷トランジ
スタ(インジェクタ)、P3+Q4は逆動作トランジス
タであり、これらでフリップフロップを構成する。In FIG. 1, Qt and Q2 are PNP type load transistors (injectors), P3+Q4 are reverse operation transistors, and these constitute a flip-flop.
Q5 、Qaは読出し、書込み用の検出トランジスタで
あり、トランジスタQ1〜Q6でメモリセルMCを構成
する。Q5 and Qa are detection transistors for reading and writing, and transistors Q1 to Q6 constitute a memory cell MC.
w+、w−はワード線対B。、B1はビット線対である
。w+ and w- are word line pair B. , B1 are bit line pairs.
メモリセルMC+ご対する読出し、書込みはトランジス
タQ5.Q6を順方向動作させて行なうが、ここでは書
込み時lこ焦点を合わせて説明する。Reading and writing to memory cell MC+ are performed by transistor Q5. This is performed by operating Q6 in the forward direction, but here, the focus will be focused on writing.
今、第1図aでトランジスタQ3bsオンの記憶状態と
仮定すれば、トランジスタQ3のベース電流はトランジ
スタQ2から供給され、またコレクタ電流はトランジス
タQ1から供給されて同トランジスタQ3は飽和状態1
こある。Now, assuming that the transistor Q3bs is in the ON memory state in FIG.
There it is.
従って、そのコレククレベル■2カ低し)ため(ごトラ
ンジスタQ4はオフである。Therefore, the collector level (2) is lowered (transistor Q4 is off).
この状態で逆の情報を書込むため1こはトランジスタQ
5エミッタから電流を引抜きそのベース電流で1〜ラン
ジスクQ2のコレクタ電流、従ってトランジスタQ3の
ベース電流を吸収しトランジスタQ3を非飽矛口の方向
1こ移行させる。In this state, one transistor Q is used to write the opposite information.
A current is drawn from the emitter of 5, and its base current absorbs the collector current of 1 to Randisk Q2, and therefore the base current of transistor Q3, causing transistor Q3 to shift 1 in the non-saturating direction.
この結果■2は上昇するのでトランジスタQ4はオンと
なり、そのコレクタ電流■1が低下してトランジスタQ
3はオフ1こなる(フリップフロップが逆転する)。As a result, ■2 increases, transistor Q4 turns on, and its collector current ■1 decreases, causing transistor Q4 to turn on.
3 is off 1 (the flip-flop is reversed).
この書込み時lこトランジスタQ5を通してビット線B
。During this write, bit line B is connected through transistor Q5.
.
側へ引く書込み電流Iwは所定の書込み閾値電流I w
t hを越えるものでなければならない。The write current Iw drawn to the side is a predetermined write threshold current Iw
It must exceed th.
IwthはトランジスタQ2の電流、換言すればトラン
ジスタQt 、Q2の共通エミッタ1こ流れるインジェ
クタ電流l1njlこ依存する。Iwth depends on the current of the transistor Q2, in other words, the injector current l1njl flowing through the common emitter of the transistor Qt and Q2.
つまり、l1njQK小さい程Iwthは小さくて済み
、小さなIwで高速書込みが可能となる。In other words, the smaller l1njQK is, the smaller Iwth is required, and high-speed writing is possible with a small Iw.
第2図はか\るメモリセルMC,、、MCI□・・・・
・・MC212MC22・・・・・・をnXnビットの
マトリクス状(こ配列した■2Lメモリ装置であり、各
セルはロー選択信号VXI〜■Xnとコラム選択信号V
YI〜■Ynを組合せて選択される。Figure 2 shows the memory cells MC,..., MCI□...
MC212MC22... is a 2L memory device arranged in a matrix of nXn bits, and each cell receives row selection signals VXI to Xn and column selection signal V.
Selected by combining YI to ■Yn.
TXl−TXnはワードドライバ、TYI (TY1’
) TYn”、(TYn’ )はビットドライバ、W
1+(W、・=)〜Wr1+(Wnつはワード線対、B
1〜Bnはビット線対、S、〜Snはコラムセンス回路
、IBO:IBlはビット線電流である。TXl-TXn are word drivers, TYI (TY1'
) TYn”, (TYn') is the bit driver, W
1+(W, .=)~Wr1+(Wn is word line pair, B
1 to Bn are bit line pairs, S and -Sn are column sense circuits, and IBO:IBl are bit line currents.
今、VXl、vYlをHlこしたとすればセルMC11
iり(選択される。Now, if VXl and vYl are crossed by Hl, cell MC11
i (selected)
この時他の行、列のセルは非選択状態Iこあるが、選択
セルMC1、とワード線W1+、W、−を共通)こする
セルMC□2〜MC1nはワード線のみが選択された半
選択状態1こあり、この半選択セルの一つMC11(i
−= 2〜n)とビット線(非選択)を共通1こする
非選択セルMCji(j=2〜n)との関係は第3図の
よう1こなる。At this time, the cells in other rows and columns are in the non-selected state, but the cells MC□2 to MC1n share the selected cell MC1 and the word lines W1+, W, -. There is 1 selection state, and one of the half-selected cells MC11(i
-=2 to n) and the non-selected cell MCji (j=2 to n), which rubs the bit line (unselected) by one, as shown in FIG.
同図はセルMC2MCjiのいずJ
れもトランジスタQ3がオンであることを想定したもの
であるが、この場合選択ワード線W1+。The figure assumes that the transistor Q3 of each cell MC2MCji is on, but in this case, the selected word line W1+.
W、−の電位は非選択ワード線Wj+、Wj−の電位よ
り高いので、半導体セルMC11の検出用トランジスタ
は順方向動作となり、図中実線矢印で示すよう1こ非選
択セルMCjiの逆動作トランジスタQ51ζ向けてシ
ンク電流■ ・が流れ出す。Since the potentials of W and - are higher than the potentials of unselected word lines Wj+ and Wj-, the detection transistor of semiconductor cell MC11 operates in the forward direction, and one reverse operation transistor of unselected cell MCji operates as shown by the solid arrow in the figure. A sink current begins to flow toward Q51ζ.
この電流■ ・は選択ワード線から供給されるので選択
セルMC1t(第2図)のインジェクタ電流を増加させ
、ワードドライバTX1の負荷電流を増加させる。Since this current 1 is supplied from the selected word line, it increases the injector current of the selected cell MC1t (FIG. 2) and increases the load current of the word driver TX1.
特1こ、選択セルMC□11こおけるインジェクタ電流
の増加は書込み特性を劣化させる。Particularly, an increase in the injector current in the selected cell MC□11 deteriorates the write characteristics.
これIこ対し、非選択セルMC・・でトランジスタQ4
b′Sオンであると、電流■5.はビットクランプトラ
ンジスタTci側を流れるので、選択セルMC11のイ
ンジェクタ電流は増加しない。On the other hand, in the non-selected cell MC..., the transistor Q4
When b'S is on, the current ■5. flows through the bit clamp transistor Tci side, so the injector current of the selected cell MC11 does not increase.
トランジスタTc1(第2図のTe1−Tcn)は本来
選択コラム(第2図ではビット線対B1)(こおいて非
選択セルMC21〜MC,1へ流入するシンク電流が選
択セルMC11から流出して書込み特性を変化させるの
を避けるため1こ設けたものである。The transistor Tc1 (Te1-Tcn in FIG. 2) is originally connected to the selected column (bit line pair B1 in FIG. 2) (here, the sink current flowing into the non-selected cells MC21 to MC,1 flows out from the selected cell MC11). This one is provided to avoid changing the write characteristics.
そのクランプレベルVcを第4図を参照して説明する。The clamp level Vc will be explained with reference to FIG.
同図は第1図a1こ対応させたものでvl。■はそれぞ
れオン側のトランジスタQ3のベース電位およびコレク
タ電位である。This figure corresponds to Figure 1 a1 and vl. (2) are the base potential and collector potential of the on-side transistor Q3, respectively.
■1はW+からトランジスタQ2のコレクタ、エミッタ
間電圧VOE(Q2)低下した値であり、また■2はW
−からトランジスタQ3のコレクタ、エミッタ間電圧V
OE(Q3)上昇した電位である。■1 is the value that the collector-emitter voltage VOE (Q2) of transistor Q2 has decreased from W+, and ■2 is W
− to collector-emitter voltage V of transistor Q3
OE (Q3) is the increased potential.
書込み電流Iwの流れる側のビット線電位B。Bit line potential B on the side through which write current Iw flows.
はワード線電位W+ VOE(Q3) VBE(Q5
)以下である必要があり、また書込み電流Iwの流れな
い側のビット線電位B□ は、W−+VOE (Q3)
−VBE (Q5)以上である必要があり、これらの関
係からビット線B。is the word line potential W+ VOE (Q3) VBE (Q5
) or less, and the bit line potential B□ on the side where the write current Iw does not flow is W-+VOE (Q3)
-VBE (Q5) or higher, and based on these relationships, bit line B.
、B1の電位は第4図のB。とB1の中間、例えば鎖線
で示すB1/とする。, B1 potential is B in FIG. and B1, for example, B1/ shown by a chain line.
つまり非選択セルへのシンク電流を供給するため1こは
ビット線を十分高いレベルにクランプすれば良いが、反
面書込み電流’I wを充分選択セルから流出させるた
め1こはビットクランプレベルを低く設定する必要があ
り、このため第4図のB。In other words, in order to supply sink current to unselected cells, it is sufficient to clamp the bit line to a sufficiently high level, but on the other hand, in order to sufficiently drain the write current from the selected cell, the bit clamp level must be lowered. It is necessary to set the settings, and for this reason B in Figure 4.
が上限、B1カ下限となる。is the upper limit and B1 is the lower limit.
これらの上下限B。、B1の間B、/にビット線電位を
クランプするには、クランプトランジスタTciのベー
ス1こ与える電圧■cをB1 ’ +V BB (T
c i )とすればよい。These upper and lower limits B. To clamp the bit line potential to B, / between , B1, the voltage ■c applied to the base of the clamp transistor Tci is set to B1' +V BB (T
c i ).
このよう1こすればビット線を共通1こする非選択セル
の内容Iこよって選択セルの書込み特性が変化するのを
原理的1こは阻止可能となるが、その他(こ半選択セル
を通して流れる非選択セルのシンク電流が選択セルの書
込み特性1こ影響を与えるという問題がある。In principle, by rubbing the bit line once, it is possible to prevent the contents of unselected cells that rub the bit line in common from changing the write characteristics of the selected cell. There is a problem in that the sink current of the selected cell affects the write characteristics of the selected cell.
個々の非選択セル1こ流れるシンク電流は微弱であるが
、nXnビットのメモリアレイでは全体として(n−1
)2個の非選択セルがあるのでその総和は犬となり、し
かもそれは非選択セルの記憶状態1こ応じて大きく変化
する。The sink current flowing through each unselected cell is weak, but in an nXn bit memory array, the sink current as a whole (n-1
) Since there are two non-selected cells, the sum is a dog, and it changes greatly depending on the storage state of the non-selected cells.
この点を第5図を参照して説明する1こ、同図a、bは
非選択コラム(ビット線)の代表例を示すもので、MC
1は半選択セル、MC2〜MCnは非選択セル、TCは
ビットクランプ回路である。This point will be explained with reference to FIG. 5. Figures a and b show typical examples of non-selected columns (bit lines).
1 is a half-selected cell, MC2 to MCn are unselected cells, and TC is a bit clamp circuit.
aは半選択セルMC1と非選択セルMC2〜MCnの保
持内容が同じ場合であり、この場合Iこはシンク電流■
、2〜’ snの総和ΣIsは半選択セルMC0から流
れる。a is a case where the contents held in the half-selected cell MC1 and the non-selected cells MC2 to MCn are the same; in this case, the sink current is
, 2~' sn flows from the half-selected cell MC0.
bは半選択セルMC1と非選択セルMC2〜MCnの保
持内容が異なる場合で、この場合Iこは全電流ΣIsが
クランプ回路TCを流れる。b shows a case where the contents held in the half-selected cell MC1 and the non-selected cells MC2 to MCn are different; in this case, the entire current ΣIs flows through the clamp circuit TC.
このような差は第4図1こ示した電位B。、B1の差か
ら生じる。Such a difference is the potential B shown in FIG. , B1.
従って、第2図のようなりランプ方式では非選択コラム
1こおける非選択セルの保持内容1こ応じて選択ワード
線を流れる電流が大きく変化し、そのワード線電流が最
大のとき(非選択コラム内の保持内容が一致したとき)
1こは選択セルのインジェクタ電流が最大1こ増加して
書込み特性を劣化させる(書込み閾値電流の増加Iこ伴
ない書込みパルス幅が増大する)と共Iこ、ワード・ド
ライバの負荷電流を増加させて選択ワード線レベルを変
動させるため、第4図1こ示すビットクランプレベルの
マージン(BO−Bl’)を減少させる欠点がある。Therefore, in the ramp method as shown in Figure 2, the current flowing through the selected word line changes greatly depending on the content held in the unselected cell in one unselected column, and when the word line current is at its maximum (in the unselected column (when the contents held within match)
This increases the injector current of the selected cell by up to 1, which degrades the write characteristics (the write pulse width increases without increasing the write threshold current), and also increases the load current of the word driver. Since the selected word line level is varied in this way, there is a drawback that the bit clamp level margin (BO-Bl') shown in FIG. 4 is reduced.
本発明は上記欠点を解決するため1こ、■2Lメモリセ
ルを用いた半導体メモリのビット線レベル制御回路1こ
おいて、選択時1こビット線のレベルを選択ビット線の
クランプレベルが低くそして非選択ビット線のクランプ
レベルがそれより高くなるよう1ご設定するクランプレ
ベル切換回路を備えることを特徴とするものであるが、
以下図示の実施例を参照してこれを詳細1こ説明する。In order to solve the above-mentioned drawbacks, the present invention provides (1) a bit line level control circuit for a semiconductor memory using 2L memory cells; It is characterized by comprising a clamp level switching circuit that sets the clamp level of the unselected bit line to be higher than the clamp level of the non-selected bit line.
This will be explained in detail below with reference to the illustrated embodiment.
第6図は本発明の概要を示すもので、B1は選択コラム
、Bi(i=2〜n)非選択コラムである(第2図1こ
対応させている)。FIG. 6 shows an outline of the present invention, in which B1 is a selected column and Bi (i=2 to n) is a non-selected column (corresponding to FIG. 2).
ビットクランプトランジスタTc1.Tc1lこは異な
るクランプレベルVO+VOHが供給される。Bit clamp transistor Tc1. Different clamp levels VO+VOH are supplied to Tc1l.
電圧Voは選択コラムのクランプレベルを定め、第4図
の原則1こ従かうか、vcH(>vO)は第4図1こ示
すトランジスタQ3のベース電位v、(’=W+)以上
1こ設定する。The voltage Vo determines the clamp level of the selected column, and follows the principle 1 in Figure 4, and vcH (>vO) is set to 1 higher than the base potential v of the transistor Q3 shown in Figure 4 ('=W+). do.
第7図はこれを具体化した本発明の一実施例であり、一
つのコラムのみ1こついて示しである。FIG. 7 shows an embodiment of the present invention embodying this, and only one column is shown.
同図1こおいて、MCはメモリセル、Tciはビットク
ランプトランジスタ、TYi、TYi/はットドライバ
であり、該ドライバTYi、TYilはコラム選択信号
■Yで選択される。In FIG. 1, MC is a memory cell, Tci is a bit clamp transistor, TYi, TYi/hat driver, and the drivers TYi, TYil are selected by a column selection signal -Y.
Toはクランプレベル切換回路EXを構成するトランジ
スタであり、同様に■Yで制御される。To is a transistor constituting the clamp level switching circuit EX, and is similarly controlled by Y.
■Yb′SHとなってB。■Yb'SH becomes B.
、B、6(選択されるとトランジスタTYi、TYil
およびT。, B, 6 (transistors TYi, TYil when selected
and T.
がオンとなる。この結果抵抗R1こ電流l06(流れて
トランジスタTc1のベース電位が下がり、このレベル
(第4図の条件を満たす■c)で選択コラム−b、≦ク
ランプされる。turns on. As a result, a current l06 flows through the resistor R1, lowering the base potential of the transistor Tc1, and is clamped at this level ((c) satisfying the condition in FIG. 4) in the selected column -b≦.
これ1こ対し、非選択の場合1こはVYbsLでトラン
ジスタTYi t TYi’ 、T□がオフのため、ト
ランジスタTciのベースIこは■clが印加され、こ
のレベル(第6図のVOH)でビット線はクランプされ
る。On the other hand, in the case of non-selection, the transistors TYit TYi' and T□ are off at VYbsL, so ■cl is applied to the base of the transistor Tci, and at this level (VOH in Fig. 6). The bit line is clamped.
このVOHはV c tの選定で任意の高レベルとする
ことができる。This VOH can be made to an arbitrarily high level by selecting V c t.
以上述べたよう1こ本発明)こよれば、半選択セルから
非選択セル1こシンク電流が流れることが阻止され、こ
れ1こより、選択セルの書込み特性が安定化されると共
1こ、ビットクランプレベル設定のマージンを減少させ
ない等の利点がある。As described above, according to the present invention, a sink current is prevented from flowing from a half-selected cell to an unselected cell, and as a result, the write characteristics of the selected cell are stabilized. This has advantages such as not reducing the margin for bit clamp level setting.
第1図a、b、cは■2Lメモリの選択時の等価回路図
、非選択時の等価回路図および断面図、第2図はI2
Lメモリ装置全体を示す概略構成図、第3図は半選択セ
ルと非選択セルの回路図、第4図はビットクランプレベ
ルの説明図、第5図a。
bは非選択コラムを流れるシンク電流の代表例を示す説
明図、第6図は本発明の概要を示す説明図、第7図は本
発明の一実施例を示す回路図である。
図中、MC、MC1・・・・・・、MC1,・・・・・
・は■2Lメモリセル、B1は選択ビット線、Biは非
選択ビット線、TOiはビットクランプトランジスタ、
EXはクランプレベル切換回路である。Figure 1 a, b, and c are an equivalent circuit diagram when 2L memory is selected, an equivalent circuit diagram and a cross-sectional diagram when it is not selected, and Figure 2 is an I2
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing the entire L memory device, FIG. 3 is a circuit diagram of half-selected cells and non-selected cells, FIG. 4 is an explanatory diagram of bit clamp levels, and FIG. 5a. b is an explanatory diagram showing a typical example of a sink current flowing through a non-selected column, FIG. 6 is an explanatory diagram showing an outline of the present invention, and FIG. 7 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention. In the figure, MC, MC1..., MC1,...
・■2L memory cell, B1 is selected bit line, Bi is unselected bit line, TOi is bit clamp transistor,
EX is a clamp level switching circuit.
Claims (1)
ベル制御回路1こおいて、選択時1こビット線のレベル
を選択ビット線のクランプレベル6(低くそして非選択
ビット線のクランプレベルがそれより高くなるよう1ご
設定するクランプレベル切換回路を備えることを特徴と
する、非選択ビット線制御回路。In the bit line level control circuit 1 of a semiconductor memory using II"L memory cells, when selected, the level of the selected bit line is set to 6 (lower and the clamp level of unselected bit lines is higher than that). An unselected bit line control circuit comprising a clamp level switching circuit that sets the clamp level to 1.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54095697A JPS5827916B2 (en) | 1979-07-27 | 1979-07-27 | Bit line level control circuit |
DE8080302483T DE3070152D1 (en) | 1979-07-26 | 1980-07-22 | Semiconductor memory device including integrated injection logic memory cells |
EP80302483A EP0023408B1 (en) | 1979-07-26 | 1980-07-22 | Semiconductor memory device including integrated injection logic memory cells |
US06/171,274 US4398268A (en) | 1979-07-26 | 1980-07-23 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54095697A JPS5827916B2 (en) | 1979-07-27 | 1979-07-27 | Bit line level control circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5625289A JPS5625289A (en) | 1981-03-11 |
JPS5827916B2 true JPS5827916B2 (en) | 1983-06-13 |
Family
ID=14144685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54095697A Expired JPS5827916B2 (en) | 1979-07-26 | 1979-07-27 | Bit line level control circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5827916B2 (en) |
-
1979
- 1979-07-27 JP JP54095697A patent/JPS5827916B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5625289A (en) | 1981-03-11 |
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