JPS58199878A - 水性系における腐蝕および沈積を抑制する方法および組成物 - Google Patents
水性系における腐蝕および沈積を抑制する方法および組成物Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F5/00—Softening water; Preventing scale; Adding scale preventatives or scale removers to water, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/08—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/10—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents using organic substances
- C02F5/14—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents using organic substances containing phosphorus
- C02F5/145—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents using organic substances containing phosphorus combined with inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は冷却水系における金属表面の腐蝕およびスケー
ル沈積を抑制する組成物および方法に関する。史に詳し
くは、本発明は可溶亜鉛塩、水溶性スルホン化スチレン
/無水マレイン酸コポリマー、および有機リン酸成分ま
たはその水溶性塩からなる組成物の使用に関する。腐蝕
保護(防止)を増大するため、アゾール化合物や可溶モ
リブデート塩か添加されてよい。またスルホン化スチレ
ン/無水マレイン酸コポリマーと組合せて、他のポリマ
ー物質(水溶性セルロースゴムポリマー類推ひに水溶性
アクリル酸ポリマー類およびコポリマー類を包含)が使
用されてよい。
ル沈積を抑制する組成物および方法に関する。史に詳し
くは、本発明は可溶亜鉛塩、水溶性スルホン化スチレン
/無水マレイン酸コポリマー、および有機リン酸成分ま
たはその水溶性塩からなる組成物の使用に関する。腐蝕
保護(防止)を増大するため、アゾール化合物や可溶モ
リブデート塩か添加されてよい。またスルホン化スチレ
ン/無水マレイン酸コポリマーと組合せて、他のポリマ
ー物質(水溶性セルロースゴムポリマー類推ひに水溶性
アクリル酸ポリマー類およびコポリマー類を包含)が使
用されてよい。
本発明の組成物は、各種広汎な冷却水系における腐蝕お
よびスケール沈積の両方を同時に制御するのに有効であ
ることが認められ、また高いスケールポテンシャ/l/
(scaling potential ’)を有し
、低流量および/′または高熱負荷条件下で作動する冷
却水系において非常に有効である。これまで後者の条件
によれば、腐蝕およびスケール形成の両方を同時に有砺
目、っ経済的に防止することかたとえ不可能でなくとも
、難かしい問題とされてきた。
よびスケール沈積の両方を同時に制御するのに有効であ
ることが認められ、また高いスケールポテンシャ/l/
(scaling potential ’)を有し
、低流量および/′または高熱負荷条件下で作動する冷
却水系において非常に有効である。これまで後者の条件
によれば、腐蝕およびスケール形成の両方を同時に有砺
目、っ経済的に防止することかたとえ不可能でなくとも
、難かしい問題とされてきた。
用語”冷却水”は、水が設備・装置間を循瓜して熱を吸
収しこれを持去る場合に常に適用さ才]る。
収しこれを持去る場合に常に適用さ才]る。
この定義の中には、空気調和系、エンジンジャケット系
、冷蔵系並びに精油所、化学プラント、製鋼所等に見ら
れる多数の工業熱交換器が包含される。
、冷蔵系並びに精油所、化学プラント、製鋼所等に見ら
れる多数の工業熱交換器が包含される。
再循環系(ここで、冷却塔、噴霧油、蒸発復水器等は熱
の放散に役立つ)の使用によって、組成水(make
−up water )の需要において多大な節約か可
能となる。冷却塔を用いる冷却水系において、水は熱伝
達装置を循環し、次いて冷却塔を通過する時循環水の一
部の蒸発によって冷却される。
の放散に役立つ)の使用によって、組成水(make
−up water )の需要において多大な節約か可
能となる。冷却塔を用いる冷却水系において、水は熱伝
達装置を循環し、次いて冷却塔を通過する時循環水の一
部の蒸発によって冷却される。
冷却中に起こる蒸発によって、水中の溶解固体および懸
濁固体は濃縮されるようになる。この蒸発損失に基づき
、循環水は組成水よりも濃縮されるようになる。
濁固体は濃縮されるようになる。この蒸発損失に基づき
、循環水は組成水よりも濃縮されるようになる。
”濃縮のサイクル“とは、組成水と比較して循環水の濃
縮程度を示すのに用いる語句である。例えは、2.0サ
イクルの濃縮は循環水が組成水の2倍の濃度であること
を示す。循環水をある一定サイクルの濃縮に維持するた
め、一部の循環水を系から物理的に除去し、新鮮な組成
水と置換して定常状態の条件を維持しなければならない
。系から除去した循環水を゛ブローダウン(排出水)”
と指称する。
縮程度を示すのに用いる語句である。例えは、2.0サ
イクルの濃縮は循環水が組成水の2倍の濃度であること
を示す。循環水をある一定サイクルの濃縮に維持するた
め、一部の循環水を系から物理的に除去し、新鮮な組成
水と置換して定常状態の条件を維持しなければならない
。系から除去した循環水を゛ブローダウン(排出水)”
と指称する。
再循環系に用いる組成水は、地上水または井戸水源から
得られる。これらの水は通常各種の溶解塩を含有するが
、その址および組成は勿論組成水の源に左右されるだろ
う。一般に組成水は、アルカリ土類金属カチオン(主と
してカルシウムおよびマグネシウム)、およびケイ酸塩
、硫酸塩、重炭酸塩および炭酸塩などのアニオンを含有
する。
得られる。これらの水は通常各種の溶解塩を含有するが
、その址および組成は勿論組成水の源に左右されるだろ
う。一般に組成水は、アルカリ土類金属カチオン(主と
してカルシウムおよびマグネシウム)、およびケイ酸塩
、硫酸塩、重炭酸塩および炭酸塩などのアニオンを含有
する。
蒸発プロセスによって水が濃縮されると、カチオン/ア
ニオン化合物(例えば炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウ
ム、ケイ酸マグネシウム等)の沈澱か起こるか、これは
個々のカチオン/アニオン化合物の溶解性の限度が越え
るためである。金属表面に沈澱C晶出)が起こり、該表
面にイ、1着する場合、生成する沈積を“スケール”と
指称する。スケール形成に影響を及はす要因の幾つかと
しては、温度、熱伝達速度、水速度、溶解固体濃度、濃
縮サイクル、系滞留時間および水pHが挙けられる。
ニオン化合物(例えば炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウ
ム、ケイ酸マグネシウム等)の沈澱か起こるか、これは
個々のカチオン/アニオン化合物の溶解性の限度が越え
るためである。金属表面に沈澱C晶出)が起こり、該表
面にイ、1着する場合、生成する沈積を“スケール”と
指称する。スケール形成に影響を及はす要因の幾つかと
しては、温度、熱伝達速度、水速度、溶解固体濃度、濃
縮サイクル、系滞留時間および水pHが挙けられる。
天然産出水の幾つかは、その未サイクル状態において類
似のスケールポテンシャルを有する。
似のスケールポテンシャルを有する。
冷却系の能率的および経済的作業に対し、工業熱伝達装
置の腐蝕およびスケールの防止は必須である。金属表面
の過剰腐蝕はプロセス装置の購期破損を引起こし、これ
によって装置の交換または修理のため停止時間か必要と
なる。加えて、熱伝達表面の腐蝕生成物の蓄積は水の流
れを妨害し、熱伝達効率を下げ、これによって生産を制
限したりあるいは清浄のた吟停止時間を必要とする。ま
た熱伝達を阻止し水流を妨けるスケール沈積によっても
、効率の減少がもたらされる。
置の腐蝕およびスケールの防止は必須である。金属表面
の過剰腐蝕はプロセス装置の購期破損を引起こし、これ
によって装置の交換または修理のため停止時間か必要と
なる。加えて、熱伝達表面の腐蝕生成物の蓄積は水の流
れを妨害し、熱伝達効率を下げ、これによって生産を制
限したりあるいは清浄のた吟停止時間を必要とする。ま
た熱伝達を阻止し水流を妨けるスケール沈積によっても
、効率の減少がもたらされる。
またスケールは、特異酸素濃度気泡の形成を介して金属
表面の局部腐蝕を急速に付与し、次いてその貫通を引起
こす。沈積から生じる特異酸素濃度気泡によってもたら
される局部腐蝕を通常゛沈積上腐蝕(under−de
posit corrosion ’) ”と指称する
。
表面の局部腐蝕を急速に付与し、次いてその貫通を引起
こす。沈積から生じる特異酸素濃度気泡によってもたら
される局部腐蝕を通常゛沈積上腐蝕(under−de
posit corrosion ’) ”と指称する
。
連邦政府、州および都市の厳しい環境管理および水不足
の到来により、再循環冷却水系は多くの場合、より高い
濃縮サイクルで作・動して水消費量および系からのブロ
ータウン量を減少するように強制される。濃縮サイクル
が増大するにつれて、スケールおよび腐蝕の問題はより
きひしくなるが、それは遭遇する溶解塩濃度かより高く
なるからである。一般に冷却水は、アルカリ性p)I
(pH> 7.5)で腐蝕よりもスケールを生しる傾向
にあり、また中性pH(pH二6〜7,5)ではスケー
ルよりも腐蝕を生しる傾向にある。
の到来により、再循環冷却水系は多くの場合、より高い
濃縮サイクルで作・動して水消費量および系からのブロ
ータウン量を減少するように強制される。濃縮サイクル
が増大するにつれて、スケールおよび腐蝕の問題はより
きひしくなるが、それは遭遇する溶解塩濃度かより高く
なるからである。一般に冷却水は、アルカリ性p)I
(pH> 7.5)で腐蝕よりもスケールを生しる傾向
にあり、また中性pH(pH二6〜7,5)ではスケー
ルよりも腐蝕を生しる傾向にある。
スケール問題を回避するため冷却水に酸を加え。
スケールを制御しうる範囲のpHに維持することかでき
る。しかしながら、酸(通常、硫酸または塩化水素酸)
の添加は攻撃的な塩化物または硫酸塩イオンの濃度を増
大し、このため腐蝕の問題は更に悪化する。また酸を加
える場合、その添加を注−意深く調整しなければならな
い。何故なら、過剰供給はpHをきひしい腐蝕か起こり
うるポイントまで下げ、一方供給不足はplIをスケー
ルか制御されえないポイントまで増大せしめるからであ
る。
る。しかしながら、酸(通常、硫酸または塩化水素酸)
の添加は攻撃的な塩化物または硫酸塩イオンの濃度を増
大し、このため腐蝕の問題は更に悪化する。また酸を加
える場合、その添加を注−意深く調整しなければならな
い。何故なら、過剰供給はpHをきひしい腐蝕か起こり
うるポイントまで下げ、一方供給不足はplIをスケー
ルか制御されえないポイントまで増大せしめるからであ
る。
従来、スルホン化スチレン/無水マレイン酸(SSMA
)コポリマーは周知である。例えは、スケールおよびス
ラッジ沈積を制御し、減少させおよび/′または防止す
るため、かかるコポリマーの使用カコットルウスキイ(
Godlewski ’)らのしj、5゜特許第428
8327に開示されている。フィン7 (CHisia
)のu、s、特許第4048066も同様に重要であ
る。
)コポリマーは周知である。例えは、スケールおよびス
ラッジ沈積を制御し、減少させおよび/′または防止す
るため、かかるコポリマーの使用カコットルウスキイ(
Godlewski ’)らのしj、5゜特許第428
8327に開示されている。フィン7 (CHisia
)のu、s、特許第4048066も同様に重要であ
る。
スチーム発生ボイラーにおけるスラッジ調整剤としてS
SMAコポリマーと可溶有機ホスホン酸化合物の併用使
用が、U、S、特許第4255259および43069
91に教示されている。しかしなから、これらの特許は
本発明の冷却水環境と皆しく異なり、特にボイラー系に
関するものであるので、これらの参考文献において専門
技術者が処理剤に昨鉛イオン源を含ませることについて
の方向あるいは示唆は全く存在しない。専門技術者であ
れば、ボイラー処理プログラムにおける亜鉛の包含か望
ましくないスラッジ形成をもたらすことを容易に認める
だろう。
SMAコポリマーと可溶有機ホスホン酸化合物の併用使
用が、U、S、特許第4255259および43069
91に教示されている。しかしなから、これらの特許は
本発明の冷却水環境と皆しく異なり、特にボイラー系に
関するものであるので、これらの参考文献において専門
技術者が処理剤に昨鉛イオン源を含ませることについて
の方向あるいは示唆は全く存在しない。専門技術者であ
れば、ボイラー処理プログラムにおける亜鉛の包含か望
ましくないスラッジ形成をもたらすことを容易に認める
だろう。
本発明の冷却水環境において、有機リン酸化合物単独で
は十分満足にその機能を果すことはできす、腐蝕制御能
力を改良するため添加成分が必要である。かかるリン酸
化合物の使用については、し+、S、特許第3837
’803.4149969.4003047および38
03048に開示されている。
は十分満足にその機能を果すことはできす、腐蝕制御能
力を改良するため添加成分が必要である。かかるリン酸
化合物の使用については、し+、S、特許第3837
’803.4149969.4003047および38
03048に開示されている。
リン酸化合物を冷却水処理に通常用いられる腐蝕抑制剤
(例えは無機リン酸塩、亜鉛等)と併用すると、改良し
た腐蝕制御が、得られる。しかし、これらの併用によっ
てもその能力に限界があり、腐蝕を制御し同時にスケー
ルのない熱伝達表面を維持することは困難である。更に
、有機リン酸化合物併用によって達成しうる腐蝕および
スケール防止の程度は、冷却水化学(pH、カルシウム
硬度、炭酸塩濃度、重炭酸塩濃度)および冷却系作業条
件(水速度、熱負荷、水泥、濃縮サイクル)の両方に左
右される。
(例えは無機リン酸塩、亜鉛等)と併用すると、改良し
た腐蝕制御が、得られる。しかし、これらの併用によっ
てもその能力に限界があり、腐蝕を制御し同時にスケー
ルのない熱伝達表面を維持することは困難である。更に
、有機リン酸化合物併用によって達成しうる腐蝕および
スケール防止の程度は、冷却水化学(pH、カルシウム
硬度、炭酸塩濃度、重炭酸塩濃度)および冷却系作業条
件(水速度、熱負荷、水泥、濃縮サイクル)の両方に左
右される。
亜鉛化合物と有機リン酸化合物の併用を含む処理剤プロ
グラムの性能は特に、冷却水化学および作業条件に左右
されるが、それは亜鉛化合物と有機リン酸化合物の両方
が不溶塩として沈澱し、これによって腐蝕およびスケー
ル制御に悪影看を及はすからである。亜鉛は温度とpH
の増大によって過度に不溶性となる。冷却水におけるh
1溶曲鉛の沈澱は、亜鉛の予定腐蝕抑制機能を果す能力
を最小化または削減する。加えて、ホットな熱伝達表面
の不溶亜鉛塩の沈澱および沈積は熱伝達を1(11市し
、沈積下腐蝕を引起こす。また不溶ホスホン酸カルシウ
ムの沈澱は、pHおよび/またはカルシウム硬度の十分
に尚い水中に生じうる。曲、鉛の沈澱と同様に、リン酸
カルシウム塩の溶解性はpHおよび温度の増大に伴って
減少する。循環水のホスホン酸塩の沈澱はホスホネート
濃度を、有効なスケール抑制に必要な濃度以下に減少せ
しめ−これによって自然発生塩(例えは炭酸カルシウム
)の過剰スケールがもたらされる。ホスホン酸カルシウ
ムによって起こる、スケールおよび付随的沈積上腐蝕も
既存の高い温度により、熱伝達表面に生しうる。ホスホ
ン酸塩および亜鉛塩の両方の限られた溶解性に基つき、
pH、温度、カルシウム硬度等のいずれの所定条件にお
いても、有機リン酸成分および曲鉛塩の画濃度を厳重に
制御しなけれはならない。何故なら、いずれの物質の供
給過剰も化学スケールを引起こし、一方その供給不足は
自然発生塩の腐蝕および/またはスケールをもたらすか
らである。逆に、亜鉛およびホスホン酸化合物の所定濃
度において、ポテンシャル問題を回避するため、水化学
およびシステム作業パラメーターを密に制御したければ
ならない。
グラムの性能は特に、冷却水化学および作業条件に左右
されるが、それは亜鉛化合物と有機リン酸化合物の両方
が不溶塩として沈澱し、これによって腐蝕およびスケー
ル制御に悪影看を及はすからである。亜鉛は温度とpH
の増大によって過度に不溶性となる。冷却水におけるh
1溶曲鉛の沈澱は、亜鉛の予定腐蝕抑制機能を果す能力
を最小化または削減する。加えて、ホットな熱伝達表面
の不溶亜鉛塩の沈澱および沈積は熱伝達を1(11市し
、沈積下腐蝕を引起こす。また不溶ホスホン酸カルシウ
ムの沈澱は、pHおよび/またはカルシウム硬度の十分
に尚い水中に生じうる。曲、鉛の沈澱と同様に、リン酸
カルシウム塩の溶解性はpHおよび温度の増大に伴って
減少する。循環水のホスホン酸塩の沈澱はホスホネート
濃度を、有効なスケール抑制に必要な濃度以下に減少せ
しめ−これによって自然発生塩(例えは炭酸カルシウム
)の過剰スケールがもたらされる。ホスホン酸カルシウ
ムによって起こる、スケールおよび付随的沈積上腐蝕も
既存の高い温度により、熱伝達表面に生しうる。ホスホ
ン酸塩および亜鉛塩の両方の限られた溶解性に基つき、
pH、温度、カルシウム硬度等のいずれの所定条件にお
いても、有機リン酸成分および曲鉛塩の画濃度を厳重に
制御しなけれはならない。何故なら、いずれの物質の供
給過剰も化学スケールを引起こし、一方その供給不足は
自然発生塩の腐蝕および/またはスケールをもたらすか
らである。逆に、亜鉛およびホスホン酸化合物の所定濃
度において、ポテンシャル問題を回避するため、水化学
およびシステム作業パラメーターを密に制御したければ
ならない。
上述の亜鉛塩およびホスホン酸成分を有する組成物に遭
遇する問題は特に、アルカリ性pH(一般にpH213
)で作動し、叶つ高い炭酸カルシウムスケールポテンシ
ャルを有する冷却水系において厄介である。
遇する問題は特に、アルカリ性pH(一般にpH213
)で作動し、叶つ高い炭酸カルシウムスケールポテンシ
ャルを有する冷却水系において厄介である。
即ち、当該分野において、高スケールポテンシャルの冷
却水系の金属表面の腐蝕およびスケールを有効且つ同時
に抑制しうる処理剤プロクラムを提供することか必要で
ある。
却水系の金属表面の腐蝕およびスケールを有効且つ同時
に抑制しうる処理剤プロクラムを提供することか必要で
ある。
(1)水溶性亜鉛塩、(2)水溶性スルホン化スチレン
/無水マレイン酸(SSMA)コポリマー、(3)有機
リン酸化合物、および必要に応じて(4)アゾール化合
物および/または(5し■溶モリブデート塩を導入する
処理剤プログラムによれば意外にも、冷却水系の増強腐
蝕制御を過剰なス・ケール形成に韓くことなく付与しう
ることかわかった。また、上記SSMAコポリマーと共
に、他のポリマー類(例えは水溶性セルロースゴム物質
またはアクリル酸ポリマーおよびコポリマー)が使用さ
れてもよい。
/無水マレイン酸(SSMA)コポリマー、(3)有機
リン酸化合物、および必要に応じて(4)アゾール化合
物および/または(5し■溶モリブデート塩を導入する
処理剤プログラムによれば意外にも、冷却水系の増強腐
蝕制御を過剰なス・ケール形成に韓くことなく付与しう
ることかわかった。また、上記SSMAコポリマーと共
に、他のポリマー類(例えは水溶性セルロースゴム物質
またはアクリル酸ポリマーおよびコポリマー)が使用さ
れてもよい。
本発明の処理剤プログラムは、各種広範な冷却水化学に
適用しうるものであり、また驚くべきことに高スケール
ポテンシャルを有する水系に有効である。
適用しうるものであり、また驚くべきことに高スケール
ポテンシャルを有する水系に有効である。
上記開示の処理剤プログラムは、pH’)工8て作動し
炭酸カルシウムに対して過飽和の冷却水系に極めて有効
であるが、一般に約7〜9,5のpHおよび二゛、08
のランゲリア・サツレーション インデクス(Lang
elier 5aturation Index )を
有する冷却水に適用しうる(ペッツの「ハンドブックオ
ブ・インダストリアル・ウォーター・コンディショニン
グ」(8版、1980年、177〜178頁)参照)。
炭酸カルシウムに対して過飽和の冷却水系に極めて有効
であるが、一般に約7〜9,5のpHおよび二゛、08
のランゲリア・サツレーション インデクス(Lang
elier 5aturation Index )を
有する冷却水に適用しうる(ペッツの「ハンドブックオ
ブ・インダストリアル・ウォーター・コンディショニン
グ」(8版、1980年、177〜178頁)参照)。
本発明において使用する上記コポリマーは、式二のスル
ホン化スチレン成分と、式: の無水マレイン酸から誘導される成分からなる。
ホン化スチレン成分と、式: の無水マレイン酸から誘導される成分からなる。
かかるコポリマーは、スチレン成分と無水マレイン酸か
ら誘導される成分のモル比1:4〜5:lを有すること
か好ましい。これらのコポリマーの分子量は、約500
〜100000の範囲てあってよい。好ましい分子閂範
囲は1000〜10000である。商業上入手可能なコ
ポリマーの1つは、ナショナル・スターチ市販のj V
ersa”fL−3Jである。この特定コポリマーは、
SS:MAのモノマー比3:1を有し、分子量約300
0〜5000を有している。
ら誘導される成分のモル比1:4〜5:lを有すること
か好ましい。これらのコポリマーの分子量は、約500
〜100000の範囲てあってよい。好ましい分子閂範
囲は1000〜10000である。商業上入手可能なコ
ポリマーの1つは、ナショナル・スターチ市販のj V
ersa”fL−3Jである。この特定コポリマーは、
SS:MAのモノマー比3:1を有し、分子量約300
0〜5000を有している。
上記ポリマーの製造方法の1つは、スチレンと無水マレ
イン酸を所定上ツマー比で共重合することである。各種
水溶性塩(アルカリ金属塩)を形成してポリマーを再溶
解した後、次いて該ポリマーを周知の技法てスルホン化
する。スルホン化の程度は適宜変化させることかできる
か、スチレン成分に対し実質的に・完全なスルホン化が
好ましい。
イン酸を所定上ツマー比で共重合することである。各種
水溶性塩(アルカリ金属塩)を形成してポリマーを再溶
解した後、次いて該ポリマーを周知の技法てスルホン化
する。スルホン化の程度は適宜変化させることかできる
か、スチレン成分に対し実質的に・完全なスルホン化が
好ましい。
上記ポリマーのアルカリ金属塩などの水溶性塩形状への
変換は、通常の方法で遂行される。従って、上記式中の
MはNH4、■1、Na−に等あるイハそれらの混合物
であってよい。
変換は、通常の方法で遂行される。従って、上記式中の
MはNH4、■1、Na−に等あるイハそれらの混合物
であってよい。
当該コポリマーを製造する他の方法は自明の如く、例え
ばし、S、特許第2764576に記載の技法を用いて
先ずスチレンモノマーをスルホン化し、次いて得られる
スルホン化スチレンと無水マレイン酸を共重合すること
である。かかる方法に関する他の詳細および共重合のパ
ラメーターは、U、S。
ばし、S、特許第2764576に記載の技法を用いて
先ずスチレンモノマーをスルホン化し、次いて得られる
スルホン化スチレンと無水マレイン酸を共重合すること
である。かかる方法に関する他の詳細および共重合のパ
ラメーターは、U、S。
特許第2723956に開示されている。
本発明に関連して有用な有機リン酸化合物は、炭素−リ
ン結合、即ち式: %式%) を有する化合物である。
ン結合、即ち式: %式%) を有する化合物である。
上記範囲に属する化合物は、下記一般式(6、7,8お
よび9)でそれぞれ示される4種の1つに包含される。
よび9)でそれぞれ示される4種の1つに包含される。
(6)O
−P−OM
)
N1
〔式中、kは炭素数的1〜7の低級アルキル(例えばメ
チル、エチル、ブチル、プロピル、イソプロピル、ペン
チル、インペンチル、ヘキシルおよびヘプチル)、炭素
数1〜7の置換低級アルキル(例えばヒドロキシル、カ
ルボキシル、アミン置換アルキル)、単環式芳香族基(
アリール)(例えはフェニル)、または置換単環式芳香
族基(例えはヒドロキシル、アミン、低級アルキル置換
芳香族基(例えはトリルホスホン酸))、およびMは水
溶性カチオン(例えはナトリウム、カリウム、アンモニ
ウム、リチウム等)または水素である] この式(6)によって包囲される化合物の特定の具体例
としては、以下のものが包含される。
チル、エチル、ブチル、プロピル、イソプロピル、ペン
チル、インペンチル、ヘキシルおよびヘプチル)、炭素
数1〜7の置換低級アルキル(例えばヒドロキシル、カ
ルボキシル、アミン置換アルキル)、単環式芳香族基(
アリール)(例えはフェニル)、または置換単環式芳香
族基(例えはヒドロキシル、アミン、低級アルキル置換
芳香族基(例えはトリルホスホン酸))、およびMは水
溶性カチオン(例えはナトリウム、カリウム、アンモニ
ウム、リチウム等)または水素である] この式(6)によって包囲される化合物の特定の具体例
としては、以下のものが包含される。
C113PO3H2(メチルポスポン酸)C113C1
12PO3F12(エチルホスホン酸)H2 I■00C−C−PO3H2(2−ホスホノブタン・l
。
12PO3F12(エチルホスホン酸)H2 I■00C−C−PO3H2(2−ホスホノブタン・l
。
C1122,4−トリカルボン酸)
l璽2cmcoon
It3
C113−C1−1−PO3H2(イソプロピルホスホ
ン酸)C61I5P03112(ベンゼンホスポン酸)
C6115C■12PO3夏12(ベンシルホスホン酸
)+7) 0 0 111 1 0M OM し式中、klは炭素数的1〜12のアルキレンまたは炭
素数的1〜12の置換アルキレン(例えはヒドロキシル
、アミノ置換アルキレン)、およびMは前記式(6)の
場合と同意義である〕上記式(7)で包囲される化合物
の特定具体例およ、ひその式は、以下の通りであ□・る
。
ン酸)C61I5P03112(ベンゼンホスポン酸)
C6115C■12PO3夏12(ベンシルホスホン酸
)+7) 0 0 111 1 0M OM し式中、klは炭素数的1〜12のアルキレンまたは炭
素数的1〜12の置換アルキレン(例えはヒドロキシル
、アミノ置換アルキレン)、およびMは前記式(6)の
場合と同意義である〕上記式(7)で包囲される化合物
の特定具体例およ、ひその式は、以下の通りであ□・る
。
メチレンジホスホン酸
■203PC■2P031I2
エチリデンジホスホン酸
l1203PCH(C113)PO3112イソプロピ
リデンジホスホン酸 (C(13)2C(PO3H2)2 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(H
EDP’) 0■ H2O5P−〇(CR3)−Po3■2(コレが好まし
い) ヘキサメチレンジホスホン酸 [1203PC112(C)12)4C■−12P03
1I2トリメチレンジホスホン酸 H2O5P(CI−12)3PO3[(2デカメチレン
ジホスホン酸 R203P (CH2’) 1o P 031121−
ヒドロキシプロピリデン−1,1−ジホスホン酸 CH3CH2C(OH)(P031I2)21.6−シ
ヒドロキシー1,6−ジメチルへキサメチレン−1,6
−ジホスホン酸 11203Pct CIl3)(01() (CH2)
4C(C113)(011> PO31121,2−ジ
ヒドロキシ−1,2−ジエチルエチレン−1,2−ジホ
スホン酸 11203PC(0■)(C2■5)(0■)(C21
I5)CPo3■2〔式中、R2は炭素数的1〜4の低
級アルキレンまたはアミノもしくはヒドロキシ置換低級
アルキL/7、R3はL12−P03M2’37、■、
OII、NlI2 、置換アミノ、炭素数1〜6のアル
キル、炭素数1〜6の置換アルキル(置換基として例え
は0H1Ni12)、単環式芳香族基または置換単環式
芳香族基(f+la;L!: L−r例工ff0H1N
H2)、R4ハR3または式: (R5およびに6はそれぞれ水素、炭素数的1〜6の低
級アルキル、置換低級アルキル(置換基として例えはO
H,N1−12)、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、
置換アミノ、単環式芳香族基、または置換単環式芳香族
基(置換基として例えは011、アミン)、R7はに5
、R6または式:に2−PO3M2(R2、Mは前記と
同意義)の基、nは1〜15、およびyは約1〜14で
ある)、およびMは式(6)の場合と同意義] 上記式(8)に対し具体例と考えられる化合物およびそ
の化学式は、以下の通りである。
リデンジホスホン酸 (C(13)2C(PO3H2)2 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(H
EDP’) 0■ H2O5P−〇(CR3)−Po3■2(コレが好まし
い) ヘキサメチレンジホスホン酸 [1203PC112(C)12)4C■−12P03
1I2トリメチレンジホスホン酸 H2O5P(CI−12)3PO3[(2デカメチレン
ジホスホン酸 R203P (CH2’) 1o P 031121−
ヒドロキシプロピリデン−1,1−ジホスホン酸 CH3CH2C(OH)(P031I2)21.6−シ
ヒドロキシー1,6−ジメチルへキサメチレン−1,6
−ジホスホン酸 11203Pct CIl3)(01() (CH2)
4C(C113)(011> PO31121,2−ジ
ヒドロキシ−1,2−ジエチルエチレン−1,2−ジホ
スホン酸 11203PC(0■)(C2■5)(0■)(C21
I5)CPo3■2〔式中、R2は炭素数的1〜4の低
級アルキレンまたはアミノもしくはヒドロキシ置換低級
アルキL/7、R3はL12−P03M2’37、■、
OII、NlI2 、置換アミノ、炭素数1〜6のアル
キル、炭素数1〜6の置換アルキル(置換基として例え
は0H1Ni12)、単環式芳香族基または置換単環式
芳香族基(f+la;L!: L−r例工ff0H1N
H2)、R4ハR3または式: (R5およびに6はそれぞれ水素、炭素数的1〜6の低
級アルキル、置換低級アルキル(置換基として例えはO
H,N1−12)、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、
置換アミノ、単環式芳香族基、または置換単環式芳香族
基(置換基として例えは011、アミン)、R7はに5
、R6または式:に2−PO3M2(R2、Mは前記と
同意義)の基、nは1〜15、およびyは約1〜14で
ある)、およびMは式(6)の場合と同意義] 上記式(8)に対し具体例と考えられる化合物およびそ
の化学式は、以下の通りである。
ニトリロ−トリス(メチレンホスホン酸)N(CH2P
O3■2)3 イミノージ(メチレンホスホン酸) NH(CH2PO3H2)2 n−ブチルアミノ−N、N−ジ(メチレンホスホン酸) C4H9N(C142P03112)2デシルアミノ−
N、N−ジ(メチレンホスホン酸)C10H21N(0
H2P03112)2トリソジウムペンタデシルアミノ
−N、N−シメチレンホスホネート C15量131N(CH21)03■Na)(C112
P03Na2)n−ブチルアミノ−N、N−ジ(エチレ
ンホスホン酸) C4119N(CI12C112P03■2)2テトラ
ソジウムーn−ブチルアミノ=N、N−ジ(メチレンホ
スホネート) C4I量9N(C112P03Na2)2トリアンモニ
ウムテトラデシルアミノ−N、N−シ(メチレンホスホ
ネート) C141129N(CH2PO3(N[l4)2)CI
I2PO31IN114フェニルアミノ−N、N−ジ(
メチレンホスホン酸) C6■5N(C112P03112)24 ヒドロキシ
フェニルアミノ−N、N−ジ(メチレンホスホン酸) HOC6114N(C112PO31I2)2N−プ。
O3■2)3 イミノージ(メチレンホスホン酸) NH(CH2PO3H2)2 n−ブチルアミノ−N、N−ジ(メチレンホスホン酸) C4H9N(C142P03112)2デシルアミノ−
N、N−ジ(メチレンホスホン酸)C10H21N(0
H2P03112)2トリソジウムペンタデシルアミノ
−N、N−シメチレンホスホネート C15量131N(CH21)03■Na)(C112
P03Na2)n−ブチルアミノ−N、N−ジ(エチレ
ンホスホン酸) C4119N(CI12C112P03■2)2テトラ
ソジウムーn−ブチルアミノ=N、N−ジ(メチレンホ
スホネート) C4I量9N(C112P03Na2)2トリアンモニ
ウムテトラデシルアミノ−N、N−シ(メチレンホスホ
ネート) C141129N(CH2PO3(N[l4)2)CI
I2PO31IN114フェニルアミノ−N、N−ジ(
メチレンホスホン酸) C6■5N(C112P03112)24 ヒドロキシ
フェニルアミノ−N、N−ジ(メチレンホスホン酸) HOC6114N(C112PO31I2)2N−プ。
ピア、7エユ7.アミ:ノーN、N−ジ(メチレンホス
ホン酸) C6115(CII2)3N(CH2PO3112)2
テトラソジウムメチルフエニルアミノーN、N−ジ(メ
チレンホスホン酸) C61]5(CH2)2N(C112P03Na2)2
エチレンジアミン−N、N、亀N’−テトラ(メチレン
ホスホン酸) (H203PCH2)2N(CH12)2N(C112
PO3H2)2トリメチレンジアミン−N、N、N、N
−テトラ(メチレンホスホン酸) (11203PCH2)2N(C112)3N(CH2
PO3■2)2ヘプタメチレンジアミン−N、N、#、
N’−テトラ(メチレンホスホン酸) (11203PC112)2N(CH2)7N(CH2
PO3112)2デカメチレンジアミン−N、N、N、
N−テトラ(メチレンホスホン酸) (11203PCI]2)2N(C112)1ON(C
H2PO3■2)2ヘキサメチレンジアミン−N、N、
N、N−テトラ(メチレンホスホン酸) (I]203PCH2)2N(C112)6N(C11
2P03■2)2テトラデカメチレンジアミン−N、N
、N、N テトラ(メチレンホスホン酸) (H203PC■2)2N(C[l2)14N(CH2
PO31置2)2エチレンジアミン−N、N、N−1す
(メチレンホスホン酸) (I−1203PCI12)2N(CH2)2N11C
II2P031I2エチレンジアミン−N、N−ジ(メ
チレンホスホン酸) ■203PC■2N11(C112)2NHC112P
03[12n−へキシルアミン−き、N−ジ(メチレン
ホスホン酸) C6H13N(C112P031i2)2ジエチレント
リアミン−N、N、N、N、N−ペンタ(メチレンホス
ホン酸) (■203PC)12)2N(CH12)2N(C11
2PO3112)−(C112)2N(C1■2P03
■2)2エタノールアミン−N、N−ジ(メチレンホス
ホン酸) ■0(CH2)2N(CH2PO3II2)2n−へキ
シルアミノ−N−(インプロピリデンホスホン酸)−N
−メチレンホスホン酸C謬13N(C(C113)2P
03112)(C112PO3112)トリヒドロキシ
メチルメチルアミノ−N、N−ジ(メチレンホスホン酸
) (HOCH2)3CN(CH2PO3■2)2トリエチ
レンテトラアミン−N、N、N、N、N 。
ホン酸) C6115(CII2)3N(CH2PO3112)2
テトラソジウムメチルフエニルアミノーN、N−ジ(メ
チレンホスホン酸) C61]5(CH2)2N(C112P03Na2)2
エチレンジアミン−N、N、亀N’−テトラ(メチレン
ホスホン酸) (H203PCH2)2N(CH12)2N(C112
PO3H2)2トリメチレンジアミン−N、N、N、N
−テトラ(メチレンホスホン酸) (11203PCH2)2N(C112)3N(CH2
PO3■2)2ヘプタメチレンジアミン−N、N、#、
N’−テトラ(メチレンホスホン酸) (11203PC112)2N(CH2)7N(CH2
PO3112)2デカメチレンジアミン−N、N、N、
N−テトラ(メチレンホスホン酸) (11203PCI]2)2N(C112)1ON(C
H2PO3■2)2ヘキサメチレンジアミン−N、N、
N、N−テトラ(メチレンホスホン酸) (I]203PCH2)2N(C112)6N(C11
2P03■2)2テトラデカメチレンジアミン−N、N
、N、N テトラ(メチレンホスホン酸) (H203PC■2)2N(C[l2)14N(CH2
PO31置2)2エチレンジアミン−N、N、N−1す
(メチレンホスホン酸) (I−1203PCI12)2N(CH2)2N11C
II2P031I2エチレンジアミン−N、N−ジ(メ
チレンホスホン酸) ■203PC■2N11(C112)2NHC112P
03[12n−へキシルアミン−き、N−ジ(メチレン
ホスホン酸) C6H13N(C112P031i2)2ジエチレント
リアミン−N、N、N、N、N−ペンタ(メチレンホス
ホン酸) (■203PC)12)2N(CH12)2N(C11
2PO3112)−(C112)2N(C1■2P03
■2)2エタノールアミン−N、N−ジ(メチレンホス
ホン酸) ■0(CH2)2N(CH2PO3II2)2n−へキ
シルアミノ−N−(インプロピリデンホスホン酸)−N
−メチレンホスホン酸C謬13N(C(C113)2P
03112)(C112PO3112)トリヒドロキシ
メチルメチルアミノ−N、N−ジ(メチレンホスホン酸
) (HOCH2)3CN(CH2PO3■2)2トリエチ
レンテトラアミン−N、N、N、N、N 。
団′−へキサ(メチレンホスホン酸)
(H203PCII2)2N(CH12)2N(C11
PO3H2)−(CH2)2N(C112P03H2)
(CH12)2N(C112P03−Ii2)2N−モ
ノエタノールジエチレントリアミン−N。
PO3H2)−(CH2)2N(C112P03H2)
(CH12)2N(C112P03−Ii2)2N−モ
ノエタノールジエチレントリアミン−N。
4、a−トリ(メチレンホスホン酸)
HOCH2CH2N(CH2PO3[12)(C112
)2N■−(CH2) 2 N < CH2p 03
H2) 2クロルエチレンアミン−N、N−ジ(メチレ
ンホスホン酸) CICH2CH2N(C112PO(OH)2)2(9
)0 1 に9C0211 〔式中、R10はH,CH3またはC2115、R8は
11、炭素数1〜18の直鎖もしくは分枝鎖アルキル、
炭素数5〜12のシクロアルキル、アリール、アルキル
アリール、式: co2II (kloは前記と同意義、n−4−mの合計は多くとも
100の整数である) の基、または式;0X(Xは水素または炭素数1〜4の
直鎖もしくは分枝鎖アルキルである)の基、およびに9
は式:0X(Xは前記と同意義)の基である〕またはそ
の塩。
)2N■−(CH2) 2 N < CH2p 03
H2) 2クロルエチレンアミン−N、N−ジ(メチレ
ンホスホン酸) CICH2CH2N(C112PO(OH)2)2(9
)0 1 に9C0211 〔式中、R10はH,CH3またはC2115、R8は
11、炭素数1〜18の直鎖もしくは分枝鎖アルキル、
炭素数5〜12のシクロアルキル、アリール、アルキル
アリール、式: co2II (kloは前記と同意義、n−4−mの合計は多くとも
100の整数である) の基、または式;0X(Xは水素または炭素数1〜4の
直鎖もしくは分枝鎖アルキルである)の基、およびに9
は式:0X(Xは前記と同意義)の基である〕またはそ
の塩。
上記式(9)の範囲内に属する化合物の1つはチノイ・
ガイギーより「Be1clene 5oo jの商品名
で市販されている。この化合物は下記式の構造を有して
いる。
ガイギーより「Be1clene 5oo jの商品名
で市販されている。この化合物は下記式の構造を有して
いる。
〔式中、lは11またはカチオン、n−4−mの合計は
約2〜6である〕 パ かかる化合物は、ホスフィノカルボン酸化合物と指称さ
れている。式(9)の化合物はマーシャル(Marsh
all )らのU、S、特許第4239648に列挙さ
れており、該特許の全内容を本開示を完結するのに必要
な程度までここに導入する。
約2〜6である〕 パ かかる化合物は、ホスフィノカルボン酸化合物と指称さ
れている。式(9)の化合物はマーシャル(Marsh
all )らのU、S、特許第4239648に列挙さ
れており、該特許の全内容を本開示を完結するのに必要
な程度までここに導入する。
本発明に従って用いられる亜鉛化合物に関し、Zn++
イオンを付与する水溶性亜鉛塩か言及されてよい。亜鉛
塩の具体例として、硝酸亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、酢
酸亜鉛、リン酸アルカリ金属−亜鉛塩ガラス状物、結晶
性ポリリン酸アルカリ金属−亜鉛塩等が包含される。ま
た、溶液状態でZn+“を遊離する他の亜鉛化合物(例
えは酸化亜鉛)も使用可能である。最も重要な基準は可
溶亜鉛の源が存在することである。例えば、亜鉛塩を添
加することに加えて、可溶亜鉛を含有するプロセス流ま
たは廃水流を用いることによってこの基準を満足させて
よい。
イオンを付与する水溶性亜鉛塩か言及されてよい。亜鉛
塩の具体例として、硝酸亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、酢
酸亜鉛、リン酸アルカリ金属−亜鉛塩ガラス状物、結晶
性ポリリン酸アルカリ金属−亜鉛塩等が包含される。ま
た、溶液状態でZn+“を遊離する他の亜鉛化合物(例
えは酸化亜鉛)も使用可能である。最も重要な基準は可
溶亜鉛の源が存在することである。例えば、亜鉛塩を添
加することに加えて、可溶亜鉛を含有するプロセス流ま
たは廃水流を用いることによってこの基準を満足させて
よい。
上記SSMA、亜鉛および有機リン酸の組合せと共に、
他の水溶性ポリマー物質が使用されてよい。かかる使用
に好適な例えばセルロース物質は、ここではセルロース
ゴムと指称する。当該分野で公知の如く、セルロースは
繰返しセロビオース単位からなる。セロビオース単位は
順次、3つのヒドロキシ官能価をそれぞれ有する2つの
無水グルコース単位からなる。ヒドロキシ官能基の11
原子の幾つかをアルキル基で置換することにより、セル
ロースゴムか得られる。無水クルコース単位当りの置換
されるヒドロキシ基の平均数は、置換度(1)Sと略す
)として公知である。各無水グルコース単位に3つのヒ
ドロキシ官能基が含まれているので、最大理論1) S
は3.0である。
他の水溶性ポリマー物質が使用されてよい。かかる使用
に好適な例えばセルロース物質は、ここではセルロース
ゴムと指称する。当該分野で公知の如く、セルロースは
繰返しセロビオース単位からなる。セロビオース単位は
順次、3つのヒドロキシ官能価をそれぞれ有する2つの
無水グルコース単位からなる。ヒドロキシ官能基の11
原子の幾つかをアルキル基で置換することにより、セル
ロースゴムか得られる。無水クルコース単位当りの置換
されるヒドロキシ基の平均数は、置換度(1)Sと略す
)として公知である。各無水グルコース単位に3つのヒ
ドロキシ官能基が含まれているので、最大理論1) S
は3.0である。
セルロースゴムの重合度は整数nで示すことかでき、該
nは無水クルコース単位の数を意味する。
nは無水クルコース単位の数を意味する。
セルロースゴムは長鎖ポリマーであるので、その相対鎖
長は無水グルコース単位数、分子量または粘度値によっ
て特徴づけることができる。
長は無水グルコース単位数、分子量または粘度値によっ
て特徴づけることができる。
本発明による語句“セルロースゴム”とは、カルボキシ
低級アルキルセルロース、変性カルボキシ低級アルキル
セルロースおよびこれらの水溶性塩を指称する。水溶性
塩としては、Na 、 K 、 NH4およびCaの塩
か包含され、Na塩か好ましい。
低級アルキルセルロース、変性カルボキシ低級アルキル
セルロースおよびこれらの水溶性塩を指称する。水溶性
塩としては、Na 、 K 、 NH4およびCaの塩
か包含され、Na塩か好ましい。
ここで用いるカルボキシ低級アルキルセルロースとは、
セルロース分子のヒドロキシ官能基のH原子の幾つかが
、炭素数2〜4の低級アルキルカルボキシ基の1つもし
くはそれ以上で置換されたセルロースポリマーを指称す
る。例えば、ヒドロキシ基のH原子はカルボキシメチル
(C112C0011)。
セルロース分子のヒドロキシ官能基のH原子の幾つかが
、炭素数2〜4の低級アルキルカルボキシ基の1つもし
くはそれ以上で置換されたセルロースポリマーを指称す
る。例えば、ヒドロキシ基のH原子はカルボキシメチル
(C112C0011)。
カルボキシエチル(CH2C112COO11)f:た
はカルホキジプロピル(CH2CH2C112COO明
で置換されてよい。更に、アルキル基はそれ自体他のヒ
ドロキシ基などの置換基を包含していてよい。後者の具
体例としては、例えばカルボキシ2−ヒドロキシエチル
(CH(OH’) CH2C,001−1)やカルボキ
シ2−ヒドロキシプロピル(CH2CH(OH)C[1
2C001()である。
はカルホキジプロピル(CH2CH2C112COO明
で置換されてよい。更に、アルキル基はそれ自体他のヒ
ドロキシ基などの置換基を包含していてよい。後者の具
体例としては、例えばカルボキシ2−ヒドロキシエチル
(CH(OH’) CH2C,001−1)やカルボキ
シ2−ヒドロキシプロピル(CH2CH(OH)C[1
2C001()である。
変性カルボキシ低級アルキルセルロースとは、上記カル
ボキシ低級アルキルセルロース分子において、ヒドロキ
シ官能基のH原子の1つもしくはそれ以上の低級アルキ
ルカルボキシ基の置換に加えて、無水グルコース単位の
残存ヒドロキシ官能基のH原子の幾つかの代わりに置換
される°゛第2゛の官能基を包含するものを指称する。
ボキシ低級アルキルセルロース分子において、ヒドロキ
シ官能基のH原子の1つもしくはそれ以上の低級アルキ
ルカルボキシ基の置換に加えて、無水グルコース単位の
残存ヒドロキシ官能基のH原子の幾つかの代わりに置換
される°゛第2゛の官能基を包含するものを指称する。
これらの“第2”官能基は、炭素数1〜4の置換もしく
は非置換低級アルキル基であって、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロ
ピル、ブチルまたは2−ヒドロキシブチルが挙けられる
。
は非置換低級アルキル基であって、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロ
ピル、ブチルまたは2−ヒドロキシブチルが挙けられる
。
セルロースゴムは周知の方法で製造することができる。
例えば、アルカリセルロースをモノクロル酢酸ナトリウ
ムと反応させることにより、カルボキシメチル誘導体の
ナトリウム塩を製する。また他のカルボキシ低級アルキ
ル種のナトリウム塩も同様に、アルカリセルロース物質
をそれぞれモノクロルプロピオン酸ナトリウムやモノク
ロル酪酸ナトリウムと反応させることにより製造される
。
ムと反応させることにより、カルボキシメチル誘導体の
ナトリウム塩を製する。また他のカルボキシ低級アルキ
ル種のナトリウム塩も同様に、アルカリセルロース物質
をそれぞれモノクロルプロピオン酸ナトリウムやモノク
ロル酪酸ナトリウムと反応させることにより製造される
。
本発明に好適なセルロースゴムは、置換度約0.38〜
2.5および分子量約50000〜250000を有す
る。これらのゴムは、重合度(n)約300〜1200
および粘度20センチボイズ(ゴム溶液濃度2%、Br
ookfield粘鹸計で25°Cにて測定)〜約10
00センチポイズ(ゴム溶液濃度2%、Brookfi
eld粘度計で25°Cにて測定)以下を有するポリマ
ーに相当する。
2.5および分子量約50000〜250000を有す
る。これらのゴムは、重合度(n)約300〜1200
および粘度20センチボイズ(ゴム溶液濃度2%、Br
ookfield粘鹸計で25°Cにて測定)〜約10
00センチポイズ(ゴム溶液濃度2%、Brookfi
eld粘度計で25°Cにて測定)以下を有するポリマ
ーに相当する。
好ましいセルロースゴムは、200センチポイズ(ゴム
溶液濃度2%、25℃で測定)以下の粘度を有するカル
ボキシメチルセルロースのナトリウム塩である。これら
のゴムは、ハーキュルズ(Hercules )より市
販されている。好ましいセルロースゴム物質はハーキュ
ルズのCMC−7Lシリーズで選定され、これにはハー
キュルズ製品CMC−7LT、 CMC−7L 3−1
−%CMC−7L 1−r、CM C7L I N T
%CM C7L 2N T等カ包含される。CMC7
Lシリーズのポリマーは、約100000以下の平均分
子量および0.7のDSを有すると思われる。かかるゴ
ムの粘度は約20センチボイズ(ゴム濃度2%、25℃
で測定)〜約100センチポイズ(ゴム濃度2%、25
°Cて測定)の範囲にある。好ましいセルロースゴムは
[H’ercules CM C−7L 3 T J
の商品名で市販されている。
溶液濃度2%、25℃で測定)以下の粘度を有するカル
ボキシメチルセルロースのナトリウム塩である。これら
のゴムは、ハーキュルズ(Hercules )より市
販されている。好ましいセルロースゴム物質はハーキュ
ルズのCMC−7Lシリーズで選定され、これにはハー
キュルズ製品CMC−7LT、 CMC−7L 3−1
−%CMC−7L 1−r、CM C7L I N T
%CM C7L 2N T等カ包含される。CMC7
Lシリーズのポリマーは、約100000以下の平均分
子量および0.7のDSを有すると思われる。かかるゴ
ムの粘度は約20センチボイズ(ゴム濃度2%、25℃
で測定)〜約100センチポイズ(ゴム濃度2%、25
°Cて測定)の範囲にある。好ましいセルロースゴムは
[H’ercules CM C−7L 3 T J
の商品名で市販されている。
上記SSMA、亜鉛および有機リン酸と糾合せて使用さ
れてよい他の水溶性ポリマーとしては、アクリル酸をベ
ースとする繰返し単位成分からなる水溶性ポリマーおよ
びコポリマー(以下、アクリル酸ポリマーおよびコポリ
マーと称す)か包含される。かかるポリマーに、アクリ
ル酸ポモポリマー、アクリル酸(または水溶性塩形状)
からなる繰返し単位とアクリル酸の低級アルキル(C1
〜C4)エステルからなる他の繰返し単位とからなるコ
ポリマー、およびアクリル酸(またはその水溶性塩)と
ヒドロキシル化低級アルキル(61〜C4)アクリレー
トのコポリマーのナトリウム塩が包含される(u、s、
特許第4029977号参照)。
れてよい他の水溶性ポリマーとしては、アクリル酸をベ
ースとする繰返し単位成分からなる水溶性ポリマーおよ
びコポリマー(以下、アクリル酸ポリマーおよびコポリ
マーと称す)か包含される。かかるポリマーに、アクリ
ル酸ポモポリマー、アクリル酸(または水溶性塩形状)
からなる繰返し単位とアクリル酸の低級アルキル(C1
〜C4)エステルからなる他の繰返し単位とからなるコ
ポリマー、およびアクリル酸(またはその水溶性塩)と
ヒドロキシル化低級アルキル(61〜C4)アクリレー
トのコポリマーのナトリウム塩が包含される(u、s、
特許第4029977号参照)。
これらの水溶性アクリル酸ポリマーおよびコポリマーは
二当該分野で周知で商業上入手可能である。例えは、登
録商標[Goodrite K −7Q OJとして知
られているフッドリッチ社のポリアクリル酸ナトリウム
並ひにナショナル・スターチから市販のアクリル酸/2
−ヒドロキシプロピルアクリレートコポリマーか挙けら
れる。後者のコポリマーが好ましい。
二当該分野で周知で商業上入手可能である。例えは、登
録商標[Goodrite K −7Q OJとして知
られているフッドリッチ社のポリアクリル酸ナトリウム
並ひにナショナル・スターチから市販のアクリル酸/2
−ヒドロキシプロピルアクリレートコポリマーか挙けら
れる。後者のコポリマーが好ましい。
系中に含まれる金属質が例えばアドミラル黄銅、二成分
黄銅、二成分青銅等の銅である場合、本発明の混合処理
剤にアゾール化合物などの水溶性銅腐蝕抑制剤を加える
ことか望ましい。銅腐蝕抑制剤の具体例として、式: の1,2.3−トリアゾール化合物が包含される。また
本発明の範囲内に、N−アルキル置換1.2.3−トリ
アゾール、または環の4位および/または5位が置換さ
れている水溶性置換1,2.3− ) IJアゾールが
含まれる。好ましい1.2.3− トリアゾールは・式
“ 14 の1.2.3−1−リルトリアゾールである。1,2.
3−トリアゾール類の他の具体例としては、ベンゾトリ
アゾール、4−フェノール−1,2,3=トリアソール
、4−メチル−1,2,3−トリアゾール、4−エチル
−1,2,3−1−リアゾール、5−メチル−1゜2.
3−トリアゾール、5−エチル−1,2,3−1−リア
ゾール、5−プロピル−1,2,3−トリアゾール、お
よび5−ブチル−1,2,3−トリアゾールが包含され
る。またこれらの化合物のアルカリ金属またはアンモニ
ウム塩も使用されてよい。
黄銅、二成分青銅等の銅である場合、本発明の混合処理
剤にアゾール化合物などの水溶性銅腐蝕抑制剤を加える
ことか望ましい。銅腐蝕抑制剤の具体例として、式: の1,2.3−トリアゾール化合物が包含される。また
本発明の範囲内に、N−アルキル置換1.2.3−トリ
アゾール、または環の4位および/または5位が置換さ
れている水溶性置換1,2.3− ) IJアゾールが
含まれる。好ましい1.2.3− トリアゾールは・式
“ 14 の1.2.3−1−リルトリアゾールである。1,2.
3−トリアゾール類の他の具体例としては、ベンゾトリ
アゾール、4−フェノール−1,2,3=トリアソール
、4−メチル−1,2,3−トリアゾール、4−エチル
−1,2,3−1−リアゾール、5−メチル−1゜2.
3−トリアゾール、5−エチル−1,2,3−1−リア
ゾール、5−プロピル−1,2,3−トリアゾール、お
よび5−ブチル−1,2,3−トリアゾールが包含され
る。またこれらの化合物のアルカリ金属またはアンモニ
ウム塩も使用されてよい。
銅腐蝕抑制剤の他の具体例としては、式:のチアゾール
化合物が含まれる。適当なチアゾール類としては、チア
ゾール、2−メルカプトチアゾール、2−メルカプトベ
ンゾチアゾール、ベンゾチアゾール等が包含される。
化合物が含まれる。適当なチアゾール類としては、チア
ゾール、2−メルカプトチアゾール、2−メルカプトベ
ンゾチアゾール、ベンゾチアゾール等が包含される。
また腐蝕防止を高めるため、可溶性モリブデート化合物
が使用されてよい。適当なモリブデン酸類としてはモリ
ブデン酸アルカリ塩が包含され、その具体例としては、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリ
ブデン酸リチウムが挙けられる。またジモリブデン酸ア
ンモニウムやヘプタモリブデン酸アンモニウムなどのモ
リブデン酸アンモニウム化合物も包含される。
が使用されてよい。適当なモリブデン酸類としてはモリ
ブデン酸アルカリ塩が包含され、その具体例としては、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリ
ブデン酸リチウムが挙けられる。またジモリブデン酸ア
ンモニウムやヘプタモリブデン酸アンモニウムなどのモ
リブデン酸アンモニウム化合物も包含される。
本発明の方法にあって、水性系に対する各成分の実施可
能な使用量範囲ば以上の通りである。
能な使用量範囲ば以上の通りである。
成分 ppm55MA
0.5〜約50亜鉛化合物
0.1〜約15(Znイオンとして
) 有機リン化合物 0.2〜約50セルロ
ースゴムおよび/またはアクリル酸含有ポリマー(存在
する場合)0.5〜約50アゾール(存在する場合)0
.2〜約30モリブデン酸塩(存在する場合)0.1〜
約100(モリブデン酸塩 イオンとして) 好ましい使用量は以下の通りである。
0.5〜約50亜鉛化合物
0.1〜約15(Znイオンとして
) 有機リン化合物 0.2〜約50セルロ
ースゴムおよび/またはアクリル酸含有ポリマー(存在
する場合)0.5〜約50アゾール(存在する場合)0
.2〜約30モリブデン酸塩(存在する場合)0.1〜
約100(モリブデン酸塩 イオンとして) 好ましい使用量は以下の通りである。
55MAl〜約251)Pm
亜鉛化合物 0.1〜約10 ノ/(
Zn として) 有機リン化合物 0.2〜約15 〃セル
ロースゴムおよび/またはアクリル酸含有ポリマー(存
在する場合) 1〜約25 ppmアソール(存在
する場合)0.2〜約1o 〃モリブデン酸塩(存在す
る場合)0.1〜約15 〃(モリブデン酸 塩として) 有機リン化合物、SSMAおよびアゾールを合わせて系
に供給し、Zn2+イオン源を別途供給することが好ま
しい。これに代えて、成分のすべてを混合し、単一組成
物として供給してもよい。
Zn として) 有機リン化合物 0.2〜約15 〃セル
ロースゴムおよび/またはアクリル酸含有ポリマー(存
在する場合) 1〜約25 ppmアソール(存在
する場合)0.2〜約1o 〃モリブデン酸塩(存在す
る場合)0.1〜約15 〃(モリブデン酸 塩として) 有機リン化合物、SSMAおよびアゾールを合わせて系
に供給し、Zn2+イオン源を別途供給することが好ま
しい。これに代えて、成分のすべてを混合し、単一組成
物として供給してもよい。
現在入手可能なデータに基づき、最適な腐蝕防止および
スケール制御の両方が望まれる場合、SSMA、亜鉛、
1−ヒドロキシェチリデンジホスホン酸およびトリル)
IJチアゾールらなる処理剤組成物を用いることが好
ましい。
スケール制御の両方が望まれる場合、SSMA、亜鉛、
1−ヒドロキシェチリデンジホスホン酸およびトリル)
IJチアゾールらなる処理剤組成物を用いることが好
ましい。
本発明の組成物は、1つのタルまたは2つのタルに荷造
りされてよい。現在の所、二重タルを採用し、亜鉛を別
のタルに入れることが好ましい。
りされてよい。現在の所、二重タルを採用し、亜鉛を別
のタルに入れることが好ましい。
意図される組成濃度範囲(重量%)は、以下の通りであ
る。
る。
SSMA 1〜20%有機リ
ン化合物 1〜10%銅腐蝕抑制剤
0〜5%亜鉛
0.5〜2.090水
残り(水を加えて全体を100%と
する) 各種組成分の溶解性を増大するため、塩基性物質(例え
は苛性ソーダ)を加えてよい。現在入手可能なデータに
よれは、許容しうる苛性ソーダ濃度範囲は約5〜20重
量%であることが示される。
ン化合物 1〜10%銅腐蝕抑制剤
0〜5%亜鉛
0.5〜2.090水
残り(水を加えて全体を100%と
する) 各種組成分の溶解性を増大するため、塩基性物質(例え
は苛性ソーダ)を加えてよい。現在入手可能なデータに
よれは、許容しうる苛性ソーダ濃度範囲は約5〜20重
量%であることが示される。
SSMA成分に加えて水溶性セルロースゴム物質および
/または水溶性アクリル酸ポリマーを用いる場合、それ
らを別途ドラムで供給するがまたはSSMAと混合する
ことができる。これらの物質は約1〜10%の量(セル
ロースゴムおよび/または水溶性アクリル酸ポリマーの
総量)で存在する。
/または水溶性アクリル酸ポリマーを用いる場合、それ
らを別途ドラムで供給するがまたはSSMAと混合する
ことができる。これらの物質は約1〜10%の量(セル
ロースゴムおよび/または水溶性アクリル酸ポリマーの
総量)で存在する。
次に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、こ
れら実施例は本発明の説明のためのみ意図されるもので
、該実施例によって本発明の技術的範囲やその実施態様
が制限されると見るへきではない。
れら実施例は本発明の説明のためのみ意図されるもので
、該実施例によって本発明の技術的範囲やその実施態様
が制限されると見るへきではない。
手順
冷却水系の腐蝕およびスケール制御剤としての本発明処
理剤の性能を評価するため、再循環器テストシステム(
Recirculator ”rest System
)で試験を行った。再循環器システムは、熱伝達条件
下で腐蝕および汚染を防止しうる処理剤の能力の現実的
目安を付与するよう設計されている。この系において、
被処理水は遠心ポンプにより腐蝕クーポンバイパス台を
通って循環し、談合の中には腐蝕クーポン(アドミラル
黄銅および/または軟鋼)が挿入され、そして被処理水
はプレキシグラスのブロックに入った軟鋼(AISI−
1010)熱交換管を通過する。熱交換管に電気ヒータ
ーが取付けられ、このため管の熱負荷は0〜16000
B T IJ /平方フィー1−/hrに変化し且つ制
卸されるようになっている。腐蝕り汀ポンおよび熱交換
管を通る水速度はいずれの所定流速においても等しく、
またいずれの地点においても0〜4.5フイート/se
cに制御することができる。
理剤の性能を評価するため、再循環器テストシステム(
Recirculator ”rest System
)で試験を行った。再循環器システムは、熱伝達条件
下で腐蝕および汚染を防止しうる処理剤の能力の現実的
目安を付与するよう設計されている。この系において、
被処理水は遠心ポンプにより腐蝕クーポンバイパス台を
通って循環し、談合の中には腐蝕クーポン(アドミラル
黄銅および/または軟鋼)が挿入され、そして被処理水
はプレキシグラスのブロックに入った軟鋼(AISI−
1010)熱交換管を通過する。熱交換管に電気ヒータ
ーが取付けられ、このため管の熱負荷は0〜16000
B T IJ /平方フィー1−/hrに変化し且つ制
卸されるようになっている。腐蝕り汀ポンおよび熱交換
管を通る水速度はいずれの所定流速においても等しく、
またいずれの地点においても0〜4.5フイート/se
cに制御することができる。
循環水のpHおよび温度を自動制御する。脱イオン水に
化学薬品を加えて、被処理水を調製する。
化学薬品を加えて、被処理水を調製する。
供給タンクからユニットの水溜めへ新鮮な被処理水をポ
ンプで送って、連続的な組成調整およびブローダウンの
準備を行い、オーバーフローはフローダウンとして機能
する。再循環系の全系容置は約111である。酸素飽和
を確保するため、循環水を曝気する。
ンプで送って、連続的な組成調整およびブローダウンの
準備を行い、オーバーフローはフローダウンとして機能
する。再循環系の全系容置は約111である。酸素飽和
を確保するため、循環水を曝気する。
予備清浄し計量した金属試験片を一定期間露出して腐蝕
速度を測定し、その後取出し、清浄および再計量する。
速度を測定し、その後取出し、清浄および再計量する。
腐蝕速度は重量損失法で計算する。
この一定期間の重量損失は腐蝕速度を計算するのに用い
られ、ミル7年(mpy’)で報告される。
られ、ミル7年(mpy’)で報告される。
実施例1
本発明組成物によって得られるユニークで予想外の結果
を証明するため、再循環器の研究を用いた。カルシウム
600 p、pm (Ca、CO3ppmとして)、マ
グネシウム200 ppm (Ca CO3ppmとし
て)およびアルカリ度”M”230 Ppwn (Ca
CC03PPとして)を有する、炭酸カルシウムに関
して過飽和のpH8,5冷知水系で研究を行った。1日
当り1系’t==の割合で、系に冷却水を供給し、これ
は1,4日の滞留時間(759v減少)(こ相当する。
を証明するため、再循環器の研究を用いた。カルシウム
600 p、pm (Ca、CO3ppmとして)、マ
グネシウム200 ppm (Ca CO3ppmとし
て)およびアルカリ度”M”230 Ppwn (Ca
CC03PPとして)を有する、炭酸カルシウムに関
して過飽和のpH8,5冷知水系で研究を行った。1日
当り1系’t==の割合で、系に冷却水を供給し、これ
は1,4日の滞留時間(759v減少)(こ相当する。
循環水の全体をT−120丁に維持した。腐蝕クーポン
および熱交換管の両方を通る水速度は1.5フイ一ト/
秒に維持した。熱伝達表面として軟鋼+ Al5I−1
010’)熱交換管を用しA、管の熱負荷(熱輻射束)
は16000B″rU/平方フイート/ h rであっ
た。上述の水化学および試験条件番こよってこの系はス
ケールの傾向か高められ、また軟鋼腐蝕に対する処理か
困難となる。これらの研究結果を表1に示す。
および熱交換管の両方を通る水速度は1.5フイ一ト/
秒に維持した。熱伝達表面として軟鋼+ Al5I−1
010’)熱交換管を用しA、管の熱負荷(熱輻射束)
は16000B″rU/平方フイート/ h rであっ
た。上述の水化学および試験条件番こよってこの系はス
ケールの傾向か高められ、また軟鋼腐蝕に対する処理か
困難となる。これらの研究結果を表1に示す。
表中、
SSMA:=スルホン化スチレン/無水マレイン酸コポ
リマー(55:MAモル比二3:1、P%4〜′400
0 ) ポリマーA=ポリメタクリル酸ナトリウム塩(MW60
00〜8000) ポリマーB=スルホン化ポリスチレン(MW70000
) ポリマーC−ジイソブチレン/無水マレイン酸コポリマ
ー(MW2000〜2400 )ポリマーロ一部分加水
分解ポリアクリルアミド(MW5000) ポリマーE−ポリ無水マレイン酸(MWl、OOO’)
ポリマーF=ポリアクリル酸(MW5000)M B
T−メルカプトベンゾチアゾールTTA= 1.2.3
−トリルトリアゾールHE D P =ヒドロキシェチ
リデンジホスホン酸りn+2−ZnS041120(Z
n+2)#)表■の考察 試験2,4.6および19から明らかな如く、本発明組
成物の使用に付随して効果が高められることか示される
。これらの試験の全てにおいて、熱交換管はスケールや
沈積が比較的なく、軟鋼およびアドミラル黄銅クーポン
の腐蝕速度は優れていた。明確な対比において、ホスホ
ン酸塩およびSSMAポリマーのみからなる組成物(試
験#8)では、熱交換管の局部腐蝕は大であった。
リマー(55:MAモル比二3:1、P%4〜′400
0 ) ポリマーA=ポリメタクリル酸ナトリウム塩(MW60
00〜8000) ポリマーB=スルホン化ポリスチレン(MW70000
) ポリマーC−ジイソブチレン/無水マレイン酸コポリマ
ー(MW2000〜2400 )ポリマーロ一部分加水
分解ポリアクリルアミド(MW5000) ポリマーE−ポリ無水マレイン酸(MWl、OOO’)
ポリマーF=ポリアクリル酸(MW5000)M B
T−メルカプトベンゾチアゾールTTA= 1.2.3
−トリルトリアゾールHE D P =ヒドロキシェチ
リデンジホスホン酸りn+2−ZnS041120(Z
n+2)#)表■の考察 試験2,4.6および19から明らかな如く、本発明組
成物の使用に付随して効果が高められることか示される
。これらの試験の全てにおいて、熱交換管はスケールや
沈積が比較的なく、軟鋼およびアドミラル黄銅クーポン
の腐蝕速度は優れていた。明確な対比において、ホスホ
ン酸塩およびSSMAポリマーのみからなる組成物(試
験#8)では、熱交換管の局部腐蝕は大であった。
試験9〜16などにおいてSSMAの代わりに他のポリ
マーを用いると、熱交換管の許容できないスケールが一
貫して生じ、はとんどの場合許容しえないクーポンの腐
蝕が見られた。同様に試験1、.3.5および17〜1
8においてポリマーを使用しないと、はとんどの場合き
ひしい腐蝕および熱交換器スケールか起った。
マーを用いると、熱交換管の許容できないスケールが一
貫して生じ、はとんどの場合許容しえないクーポンの腐
蝕が見られた。同様に試験1、.3.5および17〜1
8においてポリマーを使用しないと、はとんどの場合き
ひしい腐蝕および熱交換器スケールか起った。
実施例■
種々の冷却水において並ひに熱負荷および水速塵の各種
条件下で、本発明の幾つかの組成物について追加の再循
環器の研究を遂行し、本発明の一般的範囲および感応性
を証明した。試験に供した処理剤ブロクラムを下記表■
の後に要約する。かかる研究に採用した水化学、水速塵
および熱負荷と共に、試験結果を表■に示す。実施例■
と同様、循環7にの温度は120°F、組成調製速度は
1糸容量/日、熱交換器管は軟鋼金属質(Al5I−1
010)であった。研究に用いる水化学の全ては、炭酸
カルシウムにより過飽和であった。加えて水化学および
試験条件は、系が化学的および天然スケールの沈積の傾
向にある如きものであった。
条件下で、本発明の幾つかの組成物について追加の再循
環器の研究を遂行し、本発明の一般的範囲および感応性
を証明した。試験に供した処理剤ブロクラムを下記表■
の後に要約する。かかる研究に採用した水化学、水速塵
および熱負荷と共に、試験結果を表■に示す。実施例■
と同様、循環7にの温度は120°F、組成調製速度は
1糸容量/日、熱交換器管は軟鋼金属質(Al5I−1
010)であった。研究に用いる水化学の全ては、炭酸
カルシウムにより過飽和であった。加えて水化学および
試験条件は、系が化学的および天然スケールの沈積の傾
向にある如きものであった。
処理網 濃度A、 l
−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(11
EDP)5 ppmトリルトリアゾール(TTA )
5 PPm硫酸亜鉛 1水和物 5.5
ppm(′1.n″22ppm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS、MAモル比 −3:1、MW=4000) 15 PPmB
、2−ホスホノブタン・1.2.4−トリカルホン酸
6 PPmベンゾトリアゾール
5 PPm硫酸亜鉛・l水和物
5.5ppm(Zn” 2 ppm ’) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:’MAモル比 =3:1、M〜シ二’4000) 15 PPmC
,ヘキサメチレンジアミン−N、N、N、N−テトラ(
メチレンホスホン酸)6ppmベンゾトリアゾール
5 PPm硫酸亜鉛・1水和物
5.5 pp+n(Zn 2PPm’) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比 =3=1、MW’;4000) 15 PP
mD、 l−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホス
ホン酸 6 ppmトリルトリアゾ
ール 3 PPm硫酸亜鉛・1水和物
5.5 ppm(Zn 2ppm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(55:MAモル比 =3 : 1. MW二4000 ) 15
ppmE、 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジ
ホスホン酸(HE D P ’) 5 ppm
2−ホスホノブタン 1.2.4−ト リカルボン酸 ′2.51)pm トリルトリアゾール 3 円)m硫酸亜
鉛 1水和物 5.51)l)111(Z
n 2ppm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマーfss:MAモル比= 3:1、MW”l−4000)10 PPm1“、1
−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸
6 PPmトリルトリアゾール
3 PPm硫酸亜鉛・l水和物
5.5ppm(Zn2PPm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比= 3:1、MWγ4000) 20 PPmG、
1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸
6 PPmトリルトリアゾール
3 PPm硫酸亜鉛 1水和物
5.5 pprn(Zn 2PP”) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマ=(55:MAモル比 −3:1、N1〜′二4000 ’) 7.
5 pplnカルホキジメチルセルロース (CMC−7L 3T ) 7.5
ppmH,1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホ
スホン酸 5 ppmトリルトリア
ゾール 3 PPm硫酸亜鉛・1水和
物 5.5 Ppm(Zn+22 PP”
) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比 =3:1、MW’;4000) 1.0 P
Pmカルボキシメチルセルロース (CMC−7L3T) 5 P
))1111、 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−
ジホスホン酸 5 ppmトリルト
リアゾール 3 PPm硫酸亜鉛 1
水和物 5.5 ppm(Zn”’ 2
PPm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比 =3 :1、kIW’;;4000) 15
PPm実施例■ 更に本発明組成物のユニークで予想外の挙動を示スタめ
に、pH−85の脱イオン水で再循環器の研究を行った
。これらの研究で、腐蝕クーポンおよび軟鋼熱交換管を
通る水速度を3フイ一ト/秒に制御した。熱交換管の熱
負荷(熱流量)は8000B ”l’ IJ /平方フ
ィート/hrに維持した。先の実施例と同様に、循環水
の温度は120°F、組成調製速度はl系容量/7日で
ある。
−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(11
EDP)5 ppmトリルトリアゾール(TTA )
5 PPm硫酸亜鉛 1水和物 5.5
ppm(′1.n″22ppm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS、MAモル比 −3:1、MW=4000) 15 PPmB
、2−ホスホノブタン・1.2.4−トリカルホン酸
6 PPmベンゾトリアゾール
5 PPm硫酸亜鉛・l水和物
5.5ppm(Zn” 2 ppm ’) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:’MAモル比 =3:1、M〜シ二’4000) 15 PPmC
,ヘキサメチレンジアミン−N、N、N、N−テトラ(
メチレンホスホン酸)6ppmベンゾトリアゾール
5 PPm硫酸亜鉛・1水和物
5.5 pp+n(Zn 2PPm’) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比 =3=1、MW’;4000) 15 PP
mD、 l−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホス
ホン酸 6 ppmトリルトリアゾ
ール 3 PPm硫酸亜鉛・1水和物
5.5 ppm(Zn 2ppm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(55:MAモル比 =3 : 1. MW二4000 ) 15
ppmE、 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジ
ホスホン酸(HE D P ’) 5 ppm
2−ホスホノブタン 1.2.4−ト リカルボン酸 ′2.51)pm トリルトリアゾール 3 円)m硫酸亜
鉛 1水和物 5.51)l)111(Z
n 2ppm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマーfss:MAモル比= 3:1、MW”l−4000)10 PPm1“、1
−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸
6 PPmトリルトリアゾール
3 PPm硫酸亜鉛・l水和物
5.5ppm(Zn2PPm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比= 3:1、MWγ4000) 20 PPmG、
1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸
6 PPmトリルトリアゾール
3 PPm硫酸亜鉛 1水和物
5.5 pprn(Zn 2PP”) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマ=(55:MAモル比 −3:1、N1〜′二4000 ’) 7.
5 pplnカルホキジメチルセルロース (CMC−7L 3T ) 7.5
ppmH,1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホ
スホン酸 5 ppmトリルトリア
ゾール 3 PPm硫酸亜鉛・1水和
物 5.5 Ppm(Zn+22 PP”
) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比 =3:1、MW’;4000) 1.0 P
Pmカルボキシメチルセルロース (CMC−7L3T) 5 P
))1111、 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−
ジホスホン酸 5 ppmトリルト
リアゾール 3 PPm硫酸亜鉛 1
水和物 5.5 ppm(Zn”’ 2
PPm) スルホン化スチレン/無水マレイ ン酸コポリマー(SS:MAモル比 =3 :1、kIW’;;4000) 15
PPm実施例■ 更に本発明組成物のユニークで予想外の挙動を示スタめ
に、pH−85の脱イオン水で再循環器の研究を行った
。これらの研究で、腐蝕クーポンおよび軟鋼熱交換管を
通る水速度を3フイ一ト/秒に制御した。熱交換管の熱
負荷(熱流量)は8000B ”l’ IJ /平方フ
ィート/hrに維持した。先の実施例と同様に、循環水
の温度は120°F、組成調製速度はl系容量/7日で
ある。
下記表■から認められるように、本発明組成物はスケー
ル形成イオン水の水ボイド(vOid ’)のすはらし
い腐蝕制御を付与した。一方、SSMAを欠く同組合せ
は、効果か無いはかりか軟鋼腐蝕を実際に促進するもの
であった。
ル形成イオン水の水ボイド(vOid ’)のすはらし
い腐蝕制御を付与した。一方、SSMAを欠く同組合せ
は、効果か無いはかりか軟鋼腐蝕を実際に促進するもの
であった。
表■
表中、
HEDP=1−ヒドロキシエチリデン1.1−ジホスホ
ン酸 T T A=ニトリルトリアゾー ル発明者らの知見および所信によれば、以下に示す本発
明の組成物を上記の手順で試験した鳩舎、同様な腐蝕お
よびスケールの減少がもたらされることが認められる。
ン酸 T T A=ニトリルトリアゾー ル発明者らの知見および所信によれば、以下に示す本発
明の組成物を上記の手順で試験した鳩舎、同様な腐蝕お
よびスケールの減少がもたらされることが認められる。
実施例■
SSMA(SS:MAモル比=3:1、MW〜4000
)8%、亜鉛1.0%−ニトリロ−トリス(メチレンホ
スホン酸)59o、ポリアクリル酸ナトリウムホモポリ
マー(MW”;2100)4%、全体を100%とする
に十分な量の水からなる組成物。
)8%、亜鉛1.0%−ニトリロ−トリス(メチレンホ
スホン酸)59o、ポリアクリル酸ナトリウムホモポリ
マー(MW”;2100)4%、全体を100%とする
に十分な量の水からなる組成物。
実施例V
S SMA (S S :MAモル比ココ31、MWγ
4000 )5%、亜鉛1.0%、ヒドロキシプロピリ
デン・ジホスホン酸3%、ポリアクリル酸ナトリウムホ
モポリマー(MW−6000)2%、全体を10090
とするに十分な量の水からなる組成物。
4000 )5%、亜鉛1.0%、ヒドロキシプロピリ
デン・ジホスホン酸3%、ポリアクリル酸ナトリウムホ
モポリマー(MW−6000)2%、全体を10090
とするに十分な量の水からなる組成物。
実施例■
SSMA(SS 、MAモル比=1:1、Mwq160
0)159t;、亜鉛2.0%、[Be1clene5
00J10%、アクリル酸/メチルアクリレートコポリ
マー(A A : MAモル比=3=1、MW:400
0〜6000’)10%、全体を100%とするに十分
な瞳の水からなる組成物。
0)159t;、亜鉛2.0%、[Be1clene5
00J10%、アクリル酸/メチルアクリレートコポリ
マー(A A : MAモル比=3=1、MW:400
0〜6000’)10%、全体を100%とするに十分
な瞳の水からなる組成物。
実施例■
SSMA(SS:MAモル比=3=1、MW;4000
’)4%、亜鉛1.0%、2−アミノ−エチルルホスホ
ン酸1%、カルボキシメチルセルロース(CMC−7L
3T)4%、アクリル酸/2−ヒドロキシプロピルアク
リレートコポリマー(AA/1(PAモル比=3=1、
MWγ6000)4%、全体を100%とするに十分な
量の水からなる組成物。
’)4%、亜鉛1.0%、2−アミノ−エチルルホスホ
ン酸1%、カルボキシメチルセルロース(CMC−7L
3T)4%、アクリル酸/2−ヒドロキシプロピルアク
リレートコポリマー(AA/1(PAモル比=3=1、
MWγ6000)4%、全体を100%とするに十分な
量の水からなる組成物。
実施例■
SSMA(55:MAモル比=3:1、MW)4000
)8%、亜鉛1.0%、1−ヒドロキシエチリデン・
1.1−ジホスホン酸6%、アクリル酸/ヒドロキシエ
チルアクリレートコポリマー(AA/HEAモル比=3
:1、MWγ6000)8%、全体を100%とするに
十分な量の水からなる組成物。
)8%、亜鉛1.0%、1−ヒドロキシエチリデン・
1.1−ジホスホン酸6%、アクリル酸/ヒドロキシエ
チルアクリレートコポリマー(AA/HEAモル比=3
:1、MWγ6000)8%、全体を100%とするに
十分な量の水からなる組成物。
以上の如(、本発明の特定の実施態様について記載およ
び開示したか、本発明の精神および技術的範囲を逸脱し
ない範囲でいかなる改良、変更も本発明の範囲に含まれ
る。
び開示したか、本発明の精神および技術的範囲を逸脱し
ない範囲でいかなる改良、変更も本発明の範囲に含まれ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 水性系と接触する金属の腐蝕およびスケール沈積を
抑制する組成物であって、 (1)溶液状態でZn”+イオンを遊離するのに適した
有効量の水溶性亜鉛化合物、 (2)式: 1式中、MはIIまたは水溶性カチオンである〕のスル
ホン化スチレン成分と式: 〔式中、Mは前記と同意義〕 の無水マレイン酸から誘導される成分とからなる、有効
量の水溶性スルホン化スチレン/無水マレイン酸コポリ
マー、および (3)有効量の有機リン酸化合物またはその水溶性塩 からなることを特徴とする組成物。 2、上記有機リン酸化合物(3)が、式:%式% 〔式中、Rは炭素数1〜6の低級アルキル、炭素数1〜
6の置換低級アルキル、単環式アリール基または置換単
環式芳香族基、 Mは■または水溶性カチオン、 klは炭素数1〜12のアルキレンまたは炭素数1〜1
2の置換アルキレン、 R2は炭素数1〜4の低級アルキレンまたはアミンもし
くはヒドロキシ置換低級アルキレン、R3は〔R2−2
03M2〕、11、OH,NH3、置換アミン、炭素数
1〜6のアルキル、炭素数1〜6の置換ア・ルキル、単
環式芳香族基または置換単環式芳香族基、 R4はR3または式: C式中−R5およびR6はそれぞれ水素、炭素数1〜6
の低級アルキル、置換低級アルキル、ハロケン、ヒドロ
キシ、アミン基、置換アミノ基、単票 環式芳香族基または置換単環式芳香族基、R7はR5、
R6または式ニーに2−103M2(R2、Mは前記と
同意義)の基、nは1〜15、およびyは1〜14であ
る)で示される基、 R10はH−CH3またはC2H5− R8はH1炭素数1〜18の直鎖もしくは分枝鎖アルキ
ル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、アリール基
、アルキルアリール基、式:(式中、kloは前記と同
意義、n+mの合計は多くとも100の整数である) の残基、または式ニー0X(Xは水素または炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基である)の基、およ
び R9は式ニーOX(Xは前記と同意義)の基である〕
・ で示される化合物の群から選ばれる少なくとも1種また
はその水溶性塩である前記第1項記載の組成物。 3 上記有機リン酸化合物が1−ヒドロキシエチリデン
−1,1−ジホスホン酸である前記第2項記載の組成物
。 4、上記有機リン酸化合物が2−ホスホノブタン−1,
2,4−) IJカルボン酸である前記第2項記載の組
成物。 5、上記有機リン酸化合物がニトリロ−トリス((メチ
レンホスホン酸)である前記第2項記載の組成物。 6、上記有機リン酸化合物か式: 〔式中、Zは11またはカチオン、nJ、−mの合計は
2〜6である〕 を有するホスフィノカルボン酸化合物である前記第2項
記載の組成物。 7、上記有機リン酸化合物がへキサメチレンジアミン−
N、x、I、x’−テトラ(メチレンホスホン酸)であ
る前記第2項記載の組成物。 8、上記水溶性スルホン化スチレン/無水マレイン酸コ
ポリマーか、スルホン化スチレン成分ト無水マレイン酸
から誘導される成分のモル比3:1、および分子量30
00〜5000を有する前記第2項記載の組成物。 9、上記水溶性スルホン化スチレン/無水マレイン酸コ
ポリマーが、スルホン化スチレン成分と無水マレイン酸
から誘導される成分のモル比1:1を有する前記第2項
記載の組成物。 10、水溶性セルロースゴムを更に包含する前記第2項
記載の組成物。 11、上記水溶性セルロースゴムがカルボキシメチルセ
ルロースナトリウムである前記第10項記載の組成物。 12、上記カルボキシメチルセルロースナトリウムか2
00センチポイズ以下(ゴム溶液濃度2%、25℃で測
定)の粘度を有する前記第11項記載の組成物。 13、有効量の水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリ
マーを更に包含する前記第1項記載の組成物。 14、上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマー
が、ポリアクリル酸またはその水溶性塩のホモポリマー
である前記第13項記載の組成物。 】5.上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマー
か、アクリル酸とヒドロキシ低級アルキルアクリレート
(C1〜C4)の水溶性コポリマーである前記第13項
記載の組成物。 16、上記コポリマーか、分子量6000およびアクリ
ル酸と2−ヒドロキシプロピルアクリレ−トノモル比3
:1を有するアクリル酸/2−ヒドロキシプロピルアク
リレートコポリマーである前記第15項記載の組成物。 17、上記コポリマーがアクリル酸/ヒドロキシエチル
アクリレートコポリマーである前記第15項記載の組成
物。 18 上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマ
ーが、アクリル酸成分からなる繰返し単位とアクリル酸
の低級アルキル(C1〜C4)エステルからなる繰返し
単位とを有する水溶性コポリマーである前記第13項記
載の組成物。 19、上記コポリマーが、分子量6000およびアクリ
ル酸とメチルアクリレートのモル比3:1を有するアク
リル酸/メチルアクリレートコポリマーである前記第1
8項記載の組成物。 20、上記有機リン酸化合物が、1−ヒドロキシエチリ
デン−1,1−ジホスホン酸と2−ホスホノブタン−1
,2,4−) IJカルボン酸の混合物である前記第2
項記載の組成物。 21、有効なアゾール化合物およびモリブデート化合物
からなる群から選ばれる腐蝕抑制剤化合物を更に包含す
る前記第2項記載の組成物。 22、上記腐蝕抑制剤がトリル) IJアゾールである
前記第21項記載の組成物。 23、上記腐蝕抑制剤かメルカプトベンゾチアゾールで
ある前記第21項記載の組成物。 24、上記腐蝕抑制剤がベンゾI−IJアゾールである
前記第21項記載の組成物。 25、上記腐蝕抑制剤かモリブデン酸ナトIJウムであ
る前記第21項記載の組成物。 11 26、それぞれ上記水性系に対して、有機リン酸化合物
(3)が0.2〜50ppm、亜鉛化合物(1)が0,
1〜15 PPm−スルホン化スチレン/無水マレイン
酸コポリマー(2)か0.5〜50 ppmの量で存在
する前記第1項記載の組成物。 27、有機リン酸化合物(3)が0.2〜15PPm、
亜鉛化合物(1)か0.1〜10 ppm、水溶性スル
ホン化スチレン/無水マレイン酸コポリマー(2)が1
〜25円)mの社で存在する前記第26項記載の組成物
。 28、それぞれ上記水性系に対して、水溶性セルロース
ゴム物質(4)か0.5〜50 ppm、有機リン酸化
合物(3)が0.2〜50 ppm、亜鉛化合物(1)
か0.1〜15 ppm、スルホン化スチレン/無水マ
レイン酸コポリマー(2)が0.5〜50 ppmの量
で存在するOil記第10項記載の組成物。 29、それぞれ上記水性系に対して、有機リン酸化合物
(3)が02〜50PPm、亜鉛化合物(1)が0.1
〜15 ppm、スルホン化スチレン/無水マレイン酸
コポリマー(2)か0,5〜50 ppm、水溶性アク
リル酸ポリマーまたはコポリマー(4)か0.5〜50
ppmの坩で存在する前記第13項記載の組成物。 30、金属表面の腐蝕およびスケール沈積を抑制する組
成物であって、全組成物重量に基づいて、1〜20小量
%の式: 〔式中、Mはtiまたは水溶性カチオンであるJのスル
ホン化スチレン成分ト式: 〔式中、Mは前記と同意義〕 の無水マレイン酸から誘導される成分からなる水溶性ス
ルホン化スチレン/無水マレイン酸コポリマー(1)、
1〜10重量%の水溶性リン酸成分(2)、0.5〜2
0重量%の水溶液状態でZn イオンを遊離するのに
適した水溶性亜鉛化合物(3)、および全体を100重
量%とするに十分な水から成ることを特徴とする組成物
。 31.6〜20重量%の塩基性物質を更に包含する前記
第30項記載の組成物。 32.上記塩基性物質か筒柱ソーダである前記第31項
記載の組成物。 33、水溶性アゾール化合物およびモリブデート化合物
からなる群から選ばれるO〜5重社%の腐蝕抑制化合物
を史に包含する前記第31項記載の組成物。 34.1〜10小量もの水溶性セルロースゴム物質を史
に包含する前記第30項記載の組成物。 35、上記水溶性セルロースゴム物質かカルホキンメチ
ルセルロ、−スナトリウムポリマーである前記第34項
記載の組成物。 361〜8重量もの水溶性アクリル酸ポリマーまたはコ
ポリマーを更に包含する前記第30項記載の組成物。 37、上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマー
か、ポリアクリル酸門゛たはその水溶性塩のホモポリマ
ーである前記第36項記載の組成物。 38 上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマ
ーか、アクリル酸とヒドロキシル化低級アルキルアクリ
レートの水溶性コポリマーである前記第36項記載の組
成物。 39、上記コポリマーが、分子jt6000およびアク
リル酸と2−ヒドロキシプロピルアクリレートのモル比
3:1を有するアクリル酸/2−ヒドロキシプロピルア
クリレートコポリマーである前記第38項記載の組成物
。 40、上記コポリマーか、アクリル酸/ヒドロキシエチ
ルアクリレートコポリマーである前記第38項記載の組
成物。 41、上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマー
が、アクリル酸成分からなる繰返し単位とアクリル酸の
低級アルキル(01〜C4)エステルからなる繰返し単
位とを有する水溶性コポリマー、である前記第36項記
載の組成物。 42、上記コポリマーが、分子量6000およびアクリ
ル酸とメチルアクリレAトのモル比3:1を有するアク
リル酸/メチルアクI↓レートコポリマーである前記第
41項記載の組成物。 43、冷却水系と接触する金属部のスケール形成および
lN1Jjの傾向にあるタイプの上記冷却水系を処理す
る方法であって、上記冷却水系に有効縁の、(1)溶液
状態でZn2+イオンを遊離するのに適した水溶性亜鉛
化合物、および (2)式: 〔式中、MはIIまたは水溶性カチオンである〕のスル
ホン化スチレン成分と式: 〔式中、〜1は前記と同意義〕 の無水マレイン酸から誘導される成分とからなる一水溶
性スルホン化スチレン/′無水マレイン酸コポリマー、
および (3)有機リン酸化合物またはその水溶性塩を添加する
工程からなることを特徴とする方法。 44、上記有機リン酸化合物か、式: %式% : 〔式中、kは炭素数1〜6の低級アルキル、炭素数1〜
6の置換低級アルキル、単環式アリール基または置換単
環式芳香族基− MはHまたは水溶性カチオン、 kは炭素数1〜12のアルキレンまたは炭素数1〜12
の置換アルキレン、 N2は炭素数1〜4の低級アルキレンまたはアミンもし
くはヒドロキシ置換低級アルキレン、に3はしR2P
03 N12]、■、0■、N112、置換アミノ、炭
素数1〜6のアルキル、炭素数1〜6の置換アルキル、
単環式芳香族基または・置換単環式芳香族基、 R4はに3または式: (R5およびR6はそれぞれ水素、炭素数1〜6の低級
アルキル、置換低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、
アミノ基、置換アミン基、単環式芳香族基または置換単
環式芳香族基、R7はR5、R6または式:R2−PO
3M2 (R2、Mは前記と同意義)の基、nは1〜1
5、およびyは1〜14である) で示される基、 l□ RloはH−C113またはC2115、R8は11、
炭素数1〜18の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基、炭素
数5〜12のシクロアルキル基、アリール基、アルキル
アリール基、式:(Rloは前記と同意義、n−4−m
の合計は多くと−も100の整数である) の残基、または式ニー0X(Xは水素または炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基である゛)の基、お
よび に9は式ニーOX(Xは前記と同意義)の基である〕 で示される化合物の群から選はれる少なくとも1種また
はその水溶性塩である前記第43項記載の方法。 45 上記有機リン酸化合物か1−ヒドロキシエチリ
デン−1,1−ジホスホン酸である前記第44項記載の
方法。 46、上記有機リン酸化合物が2−ホスホノブタン−1
,2,4−トリがルボン酸である前記第44項記載の方
法。 47、上記有機リン酸化合物がニトリロ−トリス(メチ
レンホスホン酸)である前記第44項記載の方法。 48 上記有機リン酸化合物か式: 〔式中、Zは11またはカチオン、n+nlの合計は2
〜6である〕 を有するホスフィノカルボン酸化合物である前記第44
項記載の方法。 49、上記有機リン酸化合物かへキサメチレンジアミン
−N、N、N、N−テトラ(メチレンホスホン酸)であ
る前記第44項記載の方法。 50、上記有機リン酸化合物が、1−ヒドロキシ上チリ
テン−1,1−ジホスホン酸と2−ホスホノブタン−1
,2,4−トリカルボン酸の混合物である前記第44項
記載の方法。 51 有効量のセルロースゴム物質を更に上記冷却水
系に添加する前記第44項記載の方法。 52、上記セルロースゴム物質がカルボキシメチルセル
ロースナトリウムである前記第51項記載の方法。 53、上記カルボキシメチルセルロースナトリウムが2
00センチボイズ以)(ゴム溶液濃度2%、25°Cで
測定)の粘度を有する前記第51項記載の方法。 54、有効量の水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリ
マーを更に上記冷却水系に添加する前記第44項記載の
方法。 55、上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマー
が、ポリアクリル酸またはその水溶性塩のホモポリマー
である前記第54項記載の方法。 56、上記水溶性アクリlし酸ポリマーまたはコポリマ
ーか、アクリル酸とヒドロキシル化低級アルキルアクリ
レートの水溶性コポリマーである前記第54項記載の方
法。 57、上記コポリマーか、分子量6000およびアクリ
ル酸と2−ヒドロキシプロピルアクリレートのモル比3
:1を有するアクリル酸/2−ヒドロキシプロピルアク
リレートコポリマーである前記第56項記載の方法。 58 上記コポリマーがアクリル酸/ヒドロキシエチ
ルアクリレートコポリマーである前記第56項記載の方
法。 59、上記水溶性アクリル酸ポリマーまたはコポリマー
が、アクリル酸成分からなる繰返し単位とアクリル酸の
低級アルキル(01〜C4)エステルからなる繰返し単
位とを有する水溶性コポリマーである前記第54項記載
の方法。 60、上記コポリマーが、分子量6000およびアクリ
ル酸とメチルアクリレートのモル比3:1を有するアク
リル酸/′メチルアクリレートコポリマーである前記第
59項記載の方法。 61、有効なアゾール化合物およびモリブデート化合物
からなる群から選はれる有効量の腐蝕抑制剤化合物を更
に上記水系に添加する前記第44項記載の方法。 62、上記腐蝕抑制剤化合一がトリルトリアゾールであ
る[j11記第6l項記載の方法。 63、上記腐蝕抑制剤化合物がメルカプトベンゾチアゾ
ールである前記第61項記載の方法。 64、それぞれ上記冷却水系に対して、有機リン酸化合
物(3)を0.2〜50PPm、亜鉛化合物(1)を(
)1〜15 ppm、スルホン化スチレン/無水マレイ
ン酸コポリマー(2)を0.5〜50 PPmの址で添
加する前記第43項記載の方法。 65、有機リン酸化合物(3)を0.2〜15 PPT
n、亜鉛化合物(1)を0.1〜10 PPm、スルホ
ン化スチレン/無水マレイン酸コポリマー(2)を1〜
25 ppmの量で添加する前記第64項記載の方法。 66、それぞれ上記冷却水系に対して、セルロースゴム
物質(4)を0.5〜50 ppm、有機リン酸化合物
(3)を0.2〜50 PPm、亜鉛化合物(1)を0
.1〜15PPm、スルホン化スチレン/無水マレイン
酸コポリマー(2)を0.5〜50 PPmの社で添加
する前記第51項記載の方法。 67、それぞれ上記冷却水系に対して、水溶性アクリル
酸ポリマーまたはコポリマー(4)を0.5〜50pp
m、有機り:ノ酸化合物(3)を0.2〜50 ppm
、亜鉛化合物(1)を0.1〜l 5 ppm、スルホ
ン化スチレン/無水マレイン酸コポリマー(2)を0,
5〜5 Q ppnlの口で添加する前記第54項記載
の方法。
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