JPS58182239A - 半導体素子の特性測定装置 - Google Patents
半導体素子の特性測定装置Info
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- JPS58182239A JPS58182239A JP6490882A JP6490882A JPS58182239A JP S58182239 A JPS58182239 A JP S58182239A JP 6490882 A JP6490882 A JP 6490882A JP 6490882 A JP6490882 A JP 6490882A JP S58182239 A JPS58182239 A JP S58182239A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 17
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 206010041349 Somnolence Diseases 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体素子の特性!1llJ定装置に係り、特
に半導体ウェハーに形成された半導体素子の電気的時性
を測定するウェハープローパの改良に関するものである
。
に半導体ウェハーに形成された半導体素子の電気的時性
を測定するウェハープローパの改良に関するものである
。
半導体素子の製造において、半導体ウェハ〜に形成され
た俵数の半導体素子の電気的特性を順次測定する工程が
ある。この工程での測定にはウェ・・−グローバと呼ば
れるものが用いられる。ウェ・・−グロ〜・この構造は
合成樹脂からなる電気絶縁板にほぼ半導体素子の大きさ
の開孔が設けられ、この開孔内に半導体素子の電惨群に
接触するように突設された探針と、半導体素子の周縁に
接触し7て所在を検知するウェノ・−センサとが設けら
れている。このウェハーセンサの作用はウェハーに行な
らびに列に形成された半導体素子について順次ウエハー
グローパを移して測定を進めて行くときクエへ−周縁の
半導体素子のない部分に至ったときに測定を中止させる
ものである。すなわち、測定すべき正常な半導体素子に
対してはウニ・・−センサと探針群とが所望に接触する
ので、測定が進められる。ところで、ウエハーセ/す2
はM1図に示したように金属の2本のアーム2a、2b
を交差しその両者を弾接させた電気接点から構成されて
おり、2本のアーム2a、2bのうち下部のアーム2b
fJ″−同定され、上部のアーム2aが弾接しており、
例えばウェハーと非接触状態では第2図にポすように両
アーム2a、2bは接触しているので、第4図に示すよ
うに回路の出力はディジタル信号°°0” である。そ
して、第2図に@線矢印で示すようにウェハーが上昇し
半導体索子1に可動アーム2aの先端2a′が接触する
と、第3図に示すように両アーム2a、2bが離隔し、
第5図に示すように1宿路の出力としてディジタル信号
°°1#が発生し、探針による測定が開始される。
た俵数の半導体素子の電気的特性を順次測定する工程が
ある。この工程での測定にはウェ・・−グローバと呼ば
れるものが用いられる。ウェ・・−グロ〜・この構造は
合成樹脂からなる電気絶縁板にほぼ半導体素子の大きさ
の開孔が設けられ、この開孔内に半導体素子の電惨群に
接触するように突設された探針と、半導体素子の周縁に
接触し7て所在を検知するウェノ・−センサとが設けら
れている。このウェハーセンサの作用はウェハーに行な
らびに列に形成された半導体素子について順次ウエハー
グローパを移して測定を進めて行くときクエへ−周縁の
半導体素子のない部分に至ったときに測定を中止させる
ものである。すなわち、測定すべき正常な半導体素子に
対してはウニ・・−センサと探針群とが所望に接触する
ので、測定が進められる。ところで、ウエハーセ/す2
はM1図に示したように金属の2本のアーム2a、2b
を交差しその両者を弾接させた電気接点から構成されて
おり、2本のアーム2a、2bのうち下部のアーム2b
fJ″−同定され、上部のアーム2aが弾接しており、
例えばウェハーと非接触状態では第2図にポすように両
アーム2a、2bは接触しているので、第4図に示すよ
うに回路の出力はディジタル信号°°0” である。そ
して、第2図に@線矢印で示すようにウェハーが上昇し
半導体索子1に可動アーム2aの先端2a′が接触する
と、第3図に示すように両アーム2a、2bが離隔し、
第5図に示すように1宿路の出力としてディジタル信号
°°1#が発生し、探針による測定が開始される。
従来のウェハーグローバは上述したウェハーセンサ1個
で半導体素子1の所在を検知していたので、第6図に示
すようにウニ・・−周縁の4分円状に欠損した半導体索
子1においても、ウエハセンサ2のみがウェハーに接周
虫していると、III 2が開始される。すなわち、測
定を必要としない半導体索子1に対しても測定が施され
、工程の能率が低下するのみならず、y+j足装置が過
電圧状態を多数回起こすことによ!ll破損することも
あった。
で半導体素子1の所在を検知していたので、第6図に示
すようにウニ・・−周縁の4分円状に欠損した半導体索
子1においても、ウエハセンサ2のみがウェハーに接周
虫していると、III 2が開始される。すなわち、測
定を必要としない半導体索子1に対しても測定が施され
、工程の能率が低下するのみならず、y+j足装置が過
電圧状態を多数回起こすことによ!ll破損することも
あった。
本発明は前記問題点を解消するもので、ウェハーセンサ
の2以上を組として、これらを並列接続させたことを特
徴とするものである。
の2以上を組として、これらを並列接続させたことを特
徴とするものである。
以下、′本発明の実施例を図面によって説明する。
第7図は本発明のウェハーグローパを示すもので、第7
図において、眠気絶縁基板15の開孔12内の四ノjに
突出させて4個のウェハーセンサ2,3.4・5を組と
して、各ウェノ・−センサ2.5.4.5間を、iga
図、第9図に示すように並列接続させたものである。こ
れらウェノ・−センサ2.3.4.5はそれぞれ固定ア
ーム2b、 5b、 4b、 5b と、これに胛接
しウニ・・−に接触して離れる可動アーム2a、 3a
。
図において、眠気絶縁基板15の開孔12内の四ノjに
突出させて4個のウェハーセンサ2,3.4・5を組と
して、各ウェノ・−センサ2.5.4.5間を、iga
図、第9図に示すように並列接続させたものである。こ
れらウェノ・−センサ2.3.4.5はそれぞれ固定ア
ーム2b、 5b、 4b、 5b と、これに胛接
しウニ・・−に接触して離れる可動アーム2a、 3a
。
4a、5aとからなり、個々の講造と動作は第2図。
5g3図、第4図、第5図に示した通りである。なお、
5g7図において、端子6 a、 6 b、 7 a、
7 b、 8 a。
5g7図において、端子6 a、 6 b、 7 a、
7 b、 8 a。
8b、9a、9bは各7−ム2a、 2b、 3a、
3b、 4a。
3b、 4a。
4b、5a、5bに対応して電気的に信号を導出するも
のであり、端子1j、11’ は探針10,10’の信
号を電気的にそれぞれ導出するものである。
のであり、端子1j、11’ は探針10,10’の信
号を電気的にそれぞれ導出するものである。
本実施例において、第10図に示すように、4分円状に
欠損した半導体索子1の場合、6個のウェハーセンサ3
,4.5はウェハーに接触した状態にあるから、ウェハ
ーの存在を検出するが、残りのウェハー七ンサ2はウェ
ハーから離れており、両アーム2 a、2bが接触して
いるから、ウェハーの不存在を検出する。
欠損した半導体索子1の場合、6個のウェハーセンサ3
,4.5はウェハーに接触した状態にあるから、ウェハ
ーの存在を検出するが、残りのウェハー七ンサ2はウェ
ハーから離れており、両アーム2 a、2bが接触して
いるから、ウェハーの不存在を検出する。
上述した状態では第8図の回路の出力信号はディジタル
信号“0″となり、半導体素子の・側足はされない。本
発明の装置では第9図に示されるように並列接続された
全てのウェハーセンサ2.5.4゜5のアーム2a、
5a、 4a、 5a が離隔された状四において、
半導体素子の測定が開始される。
信号“0″となり、半導体素子の・側足はされない。本
発明の装置では第9図に示されるように並列接続された
全てのウェハーセンサ2.5.4゜5のアーム2a、
5a、 4a、 5a が離隔された状四において、
半導体素子の測定が開始される。
本発明によれば、形状不良で測定を要しない半導体素子
を複数のウェハーセンサにより検出して測定をしないよ
うにしたので、異常データ、時間の損失等をソフトを用
いて補正する手間が省略でき、測定速度を向上できると
ともに、測定装置の破損を防止できる効果を有するもの
である。
を複数のウェハーセンサにより検出して測定をしないよ
うにしたので、異常データ、時間の損失等をソフトを用
いて補正する手間が省略でき、測定速度を向上できると
ともに、測定装置の破損を防止できる効果を有するもの
である。
第1図は従来のウェハ〜プローバによる6111定にお
けるウェハーセンサの説明図、第2図、第3図はウェハ
ーセンサの側面図、M4図および第5図はウエハーセ/
すの回路図、第6図はウェハーセンサによる測定例の説
明図、第7図は本発明の実施例を示す正面図、第8図、
第9図は本発明装置aの回路図、第10図は本発明のウ
ェハ〜プローベによる測定例を示す説明図である。 1・・・半導体素子 2、3.4.5・・・ウェハー七ンナ 2a、 3a、 4a、 5a・・・ウエハーセ/すの
可動アーム2b、 5b、 4b、 5b・・・ウェハ
ーセンサの固定アームto、i0・・・半導体素子を測
定する探針特許出願人 日本電気株式会社
けるウェハーセンサの説明図、第2図、第3図はウェハ
ーセンサの側面図、M4図および第5図はウエハーセ/
すの回路図、第6図はウェハーセンサによる測定例の説
明図、第7図は本発明の実施例を示す正面図、第8図、
第9図は本発明装置aの回路図、第10図は本発明のウ
ェハ〜プローベによる測定例を示す説明図である。 1・・・半導体素子 2、3.4.5・・・ウェハー七ンナ 2a、 3a、 4a、 5a・・・ウエハーセ/すの
可動アーム2b、 5b、 4b、 5b・・・ウェハ
ーセンサの固定アームto、i0・・・半導体素子を測
定する探針特許出願人 日本電気株式会社
Claims (1)
- (1〕 電気絶縁基板に半導体素子の電憧端子に接解
させる探針と、ウェハーの所在を検出するウェー・−セ
ンサとを取付けた半導体素子の特性測定装置において、
前記電気絶縁基板に前記ウニハルセンサの二以上を組と
してこれらを並列接続させたことを特徴とする半導体素
子の特性測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6490882A JPS58182239A (ja) | 1982-04-19 | 1982-04-19 | 半導体素子の特性測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6490882A JPS58182239A (ja) | 1982-04-19 | 1982-04-19 | 半導体素子の特性測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58182239A true JPS58182239A (ja) | 1983-10-25 |
Family
ID=13271618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6490882A Pending JPS58182239A (ja) | 1982-04-19 | 1982-04-19 | 半導体素子の特性測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58182239A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02108983A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Nippon Maikuronikusu:Kk | プローブボード |
US5315237A (en) * | 1990-08-06 | 1994-05-24 | Tokyo Electron Limited | Touch sensor unit of prober for testing electric circuit and electric circuit testing apparatus using the touch sensor unit |
-
1982
- 1982-04-19 JP JP6490882A patent/JPS58182239A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02108983A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Nippon Maikuronikusu:Kk | プローブボード |
US5315237A (en) * | 1990-08-06 | 1994-05-24 | Tokyo Electron Limited | Touch sensor unit of prober for testing electric circuit and electric circuit testing apparatus using the touch sensor unit |
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