JPS58140083A - テトラゾ−ル類の製造方法 - Google Patents
テトラゾ−ル類の製造方法Info
- Publication number
- JPS58140083A JPS58140083A JP2239082A JP2239082A JPS58140083A JP S58140083 A JPS58140083 A JP S58140083A JP 2239082 A JP2239082 A JP 2239082A JP 2239082 A JP2239082 A JP 2239082A JP S58140083 A JPS58140083 A JP S58140083A
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- JP
- Japan
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- trialkylsilyl
- substituted
- tetrazole
- lithium
- compound
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、テトラゾール類の製造方法に関する。
テトラゾール類は生化学的にカルホン酸等価物と見なさ
れ、薬理的に興味が持たれ実際にテトラゾール骨格が分
子中に組みこまれた重要な医薬品が存在する。例えばセ
ファゾリン、セファマンドール、セフォチアム、セフォ
ペラゾン。
れ、薬理的に興味が持たれ実際にテトラゾール骨格が分
子中に組みこまれた重要な医薬品が存在する。例えばセ
ファゾリン、セファマンドール、セフォチアム、セフォ
ペラゾン。
セフメタゾール、モキサラクタムなどがそれである。
しかし、テトラゾール類の合成は従来爆発の危険のある
アジド類をニトリル類と反応させることによっていた。
アジド類をニトリル類と反応させることによっていた。
本発明の目的は、このような危険のない新規なテトラゾ
ール類の製造方法を提供することである。
ール類の製造方法を提供することである。
本発明は、リチウムトリアルキルシリルジアゾメタニド
をエステルと反応させることによって２−置換−５−ト
リアルキルシリルテトラゾールｄ條を製造し、必要に応
じてこれを酸処理することによ）２−置換−テトラゾー
ル類を製造することを賛旨とするものである。
をエステルと反応させることによって２−置換−５−ト
リアルキルシリルテトラゾールｄ條を製造し、必要に応
じてこれを酸処理することによ）２−置換−テトラゾー
ル類を製造することを賛旨とするものである。
本発明における反応原料たるリチウムトリアルキルシリ
ルジアゾメタニドのアルキル基は炭素数１〜４のもの、
好ましくはメチル基でＴｏシ、同一分子内において同種
のものであっても１異種であってもよい。この原料はト
リアルキルシリルジアゾメタンに、ジエチルエーテル中
室温又はそれ以下の温度で、ｎ−ブチルリチウム（以下
［ｎ−ＢｕＬｉＪと略記する）又はリチウムジイソプロ
ピルアミド（以下「ＬＤＡ」と略記する）などの強塩基
を反応させることによって容易に得ることができる。得
られたリチウムトリアルキルシリルジアゾメタニドは単
離するまでもなくそのまま、本発明の反応に使用しうる
。
ルジアゾメタニドのアルキル基は炭素数１〜４のもの、
好ましくはメチル基でＴｏシ、同一分子内において同種
のものであっても１異種であってもよい。この原料はト
リアルキルシリルジアゾメタンに、ジエチルエーテル中
室温又はそれ以下の温度で、ｎ−ブチルリチウム（以下
［ｎ−ＢｕＬｉＪと略記する）又はリチウムジイソプロ
ピルアミド（以下「ＬＤＡ」と略記する）などの強塩基
を反応させることによって容易に得ることができる。得
られたリチウムトリアルキルシリルジアゾメタニドは単
離するまでもなくそのまま、本発明の反応に使用しうる
。
本発明において、エステルとしては、特に限定されない
が・好ましくは脂肪族、芳香族および検素環式カルボン
酸のエステルを使用しうる。
が・好ましくは脂肪族、芳香族および検素環式カルボン
酸のエステルを使用しうる。
これらのエステルにおけるアルコール部分は反応し易い
点で低級アルコールに由来するものが好ましい。
点で低級アルコールに由来するものが好ましい。
前配りチウムトリアルキルシリルジアゾメタニドとエス
テルの反応は約−７８℃〜４０′Ｃ１好ましくは一８０
℃〜５℃で行なうことができる。反応時間としてｔ−１
Ｏ，５〜１０時間程度を採用することができる。
テルの反応は約−７８℃〜４０′Ｃ１好ましくは一８０
℃〜５℃で行なうことができる。反応時間としてｔ−１
Ｏ，５〜１０時間程度を採用することができる。
本発明における反応溶媒としては、ジエチルエーテル、
ジ−ｎ−ブチルエーテルなどのエーテル系溶媒を用いう
る。反応終了後、反応液を氷水で処理し、エーテル層を
分取し、水洗、乾燥後留去すると粗のテトラゾールが得
られ、これを分取薄層クロマトグラフィー、カラムクロ
マトグラフィー又は再結晶によって精製し２−置換−６
−トリメチルシリルナドラゾールを祷りルナトラゾール
類のトリプルｒろリル基は塩酸−メタノール等で酸処理
することにより容易に除去することが出来る。
ジ−ｎ−ブチルエーテルなどのエーテル系溶媒を用いう
る。反応終了後、反応液を氷水で処理し、エーテル層を
分取し、水洗、乾燥後留去すると粗のテトラゾールが得
られ、これを分取薄層クロマトグラフィー、カラムクロ
マトグラフィー又は再結晶によって精製し２−置換−６
−トリメチルシリルナドラゾールを祷りルナトラゾール
類のトリプルｒろリル基は塩酸−メタノール等で酸処理
することにより容易に除去することが出来る。
次に本発明に関連する反応の代表的反応式を次に示す。
−ＢｕＬｉ
本発明の特徴は、従来法に比べより安全であ）、かつ緩
和な条件で高収率で２−置換−テトラゾール類が得られ
ることである。
和な条件で高収率で２−置換−テトラゾール類が得られ
ることである。
以下に本発明の実施例を示すが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
なお以下に用いるトリメチルシリルジアゾメタンはトリ
メチルシリルジアゾメタン（６５Ｗ／Ｗ％）とへキサメ
チルジシロキサン（８５ｗ／ｗ％）の混合物又は２．２
ｍｍｏｌ ／ｍｌのへキサン溶液として用い、ｎ−ブ
チルリチウムは１５％ヘキサン溶液として使用したー ＼ 実施例１ ２−７エナシルー５−トリメチルシリルナドラゾール（
］）および２−７エナフルテトラゾール（■）の合成 巾 （１） （ＭｅはＣＨ３−を表わす〕 トリメチルシリルジアゾメタン（４２２ｊＶ。
メチルシリルジアゾメタン（６５Ｗ／Ｗ％）とへキサメ
チルジシロキサン（８５ｗ／ｗ％）の混合物又は２．２
ｍｍｏｌ ／ｍｌのへキサン溶液として用い、ｎ−ブ
チルリチウムは１５％ヘキサン溶液として使用したー ＼ 実施例１ ２−７エナシルー５−トリメチルシリルナドラゾール（
］）および２−７エナフルテトラゾール（■）の合成 巾 （１） （ＭｅはＣＨ３−を表わす〕 トリメチルシリルジアゾメタン（４２２ｊＶ。
２、４７７！ｍｏｌ ）の無水ジエチルエーテル（１０
ｍｌ）溶液に０℃でｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液
（１，５２，ｍｌ、 ２．４ Ｆｆｆｍｏｌ ）を滴下
し、そのまま２０分間攪拌する。ついで安息香酸メチル
エステル（１ｇ６１１ｖ、１＃ｆｍｏｌ）の無水ジエチ
ルエーテル（５ｍｌ）Ｉ！液を０ ’Ｃで滴下し、その
まま８時間攪拌する。反応液に氷水を加えジエチルエー
テルで抽出する。ジエチルエーテルノーを水・飽和食塩
水で洗浄後、乾燥（無水硫酸マグネシウム）する。溶媒
を留去し２６２ダの黄色油状物を得る。分取薄層シリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開＃：ベンゼン：ジェテル
エーテル−５二 １）’ｔｉｌｌ製しく１）１８８１１
ｇ（７０，８％）および（１）８岬（１，６％）を得る
。
ｍｌ）溶液に０℃でｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液
（１，５２，ｍｌ、 ２．４ Ｆｆｆｍｏｌ ）を滴下
し、そのまま２０分間攪拌する。ついで安息香酸メチル
エステル（１ｇ６１１ｖ、１＃ｆｍｏｌ）の無水ジエチ
ルエーテル（５ｍｌ）Ｉ！液を０ ’Ｃで滴下し、その
まま８時間攪拌する。反応液に氷水を加えジエチルエー
テルで抽出する。ジエチルエーテルノーを水・飽和食塩
水で洗浄後、乾燥（無水硫酸マグネシウム）する。溶媒
を留去し２６２ダの黄色油状物を得る。分取薄層シリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開＃：ベンゼン：ジェテル
エーテル−５二 １）’ｔｉｌｌ製しく１）１８８１１
ｇ（７０，８％）および（１）８岬（１，６％）を得る
。
（１０−
淡黄色油状物
ＩＲ（Ｆｉｌｍ） ： １７０５（ＣｍＯ） ； １２
５０．８５０（ｓｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） ：
０．４４（９Ｈ，ｓ 、 ＳｉＭｅ ）、 ６．２０
（２Ｈ。
５０．８５０（ｓｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） ：
０．４４（９Ｈ，ｓ 、 ＳｉＭｅ ）、 ６．２０
（２Ｈ。
ｓ、 ＣＨ２）１７．４４〜８．１２（５Ｈ，ｍ＋ ａ
ｒｏｍａｔｉｃＨ）Ｍａｓｓ ｍ／ｅ ： ２６０ （
Ｍ＋）ＣＩ２ ＨＩ６Ｎ４０ Ｓ ｉに対する元素分析
値ニー理論値： Ｃ：５５．８６ｉｎ：６．１９ｉＮ：
２１．６２（％）実測値：Ｃ：５５．２８１：６．１０
；Ｎ：２１．４５（％）（１）ニー ｍｐ、：９９〜１００“Ｃ（ベンゼン−ヘキサンより再
結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７１０（Ｃｍ０）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３） ： ６．１８ （２Ｈ，ａ 、 Ｃ
ｍ２） 、７．４４〜８．１６（５Ｈ，ｍ、 ａｒｏｍ
ａｔｉｃ Ｈ）、 ８．６８（１）ｉｔ ｓｔ ｃＨ−
Ｎ）Ｃ静ｋｉｍＮａＯに対する元素分析値ニー理論値：
Ｃ：５７．４４＋Ｈ：４．２９ｉＮ：２９．７７（％
）実＃Ｉ甑：Ｃ：５７．６ｂｉ）ｌ：４．１１ 、Ｎ：
２９．８８（％）実施例２ ２−７エナシルー５−トリメチルシリルテトラゾール巾
及び２−７エナシルテトラゾール１）の合成 実施例１において、ｎ−ブチルリチウムをリチウムジイ
ソプロピルアミドにかえる他ははぽ同様にしてテトラゾ
ールの合成を行なう。
ｒｏｍａｔｉｃＨ）Ｍａｓｓ ｍ／ｅ ： ２６０ （
Ｍ＋）ＣＩ２ ＨＩ６Ｎ４０ Ｓ ｉに対する元素分析
値ニー理論値： Ｃ：５５．８６ｉｎ：６．１９ｉＮ：
２１．６２（％）実測値：Ｃ：５５．２８１：６．１０
；Ｎ：２１．４５（％）（１）ニー ｍｐ、：９９〜１００“Ｃ（ベンゼン−ヘキサンより再
結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７１０（Ｃｍ０）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３） ： ６．１８ （２Ｈ，ａ 、 Ｃ
ｍ２） 、７．４４〜８．１６（５Ｈ，ｍ、 ａｒｏｍ
ａｔｉｃ Ｈ）、 ８．６８（１）ｉｔ ｓｔ ｃＨ−
Ｎ）Ｃ静ｋｉｍＮａＯに対する元素分析値ニー理論値：
Ｃ：５７．４４＋Ｈ：４．２９ｉＮ：２９．７７（％
）実＃Ｉ甑：Ｃ：５７．６ｂｉ）ｌ：４．１１ 、Ｎ：
２９．８８（％）実施例２ ２−７エナシルー５−トリメチルシリルテトラゾール巾
及び２−７エナシルテトラゾール１）の合成 実施例１において、ｎ−ブチルリチウムをリチウムジイ
ソプロピルアミドにかえる他ははぽ同様にしてテトラゾ
ールの合成を行なう。
ジイソプロピルアミン（２４８”ｆ ＋ ２．４ ｍｍ
ｏｌ ）の無水ジエチルエーテル（５ｇ／）溶液に０
’Ｃでｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（１，５２ｍ
。
ｏｌ ）の無水ジエチルエーテル（５ｇ／）溶液に０
’Ｃでｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（１，５２ｍ
。
２、４ ＃ｇｍｏｌ ）を滴下し、そのまま２０分間攪
拌する。
拌する。
トリメチルシリルジアゾメタン（４２２１ＩＩＩ。
Ｌ４ｍｍｏｌ）の無水ジエチルエーテル（５１１）溶液
に、上記で調製したリチウムジイソプロピルアミドのエ
ーテル溶液をｏｏｃで滴下し、そのまま２０分間攪拌す
る。ついで安息香酸メチルエステル（１８６ダ１ＩＦＦ
ＪｙｌＱｌ）の無水ジエチルエーテル（８耐）溶液を０
°Ｃで滴下し、そのまま８時間攪拌する。後処理、精製
法は実施例１と同じである。（１）２８５１１ｖ（９０
，４％）および（１）６ｑ（８，２％）を得る。
に、上記で調製したリチウムジイソプロピルアミドのエ
ーテル溶液をｏｏｃで滴下し、そのまま２０分間攪拌す
る。ついで安息香酸メチルエステル（１８６ダ１ＩＦＦ
ＪｙｌＱｌ）の無水ジエチルエーテル（８耐）溶液を０
°Ｃで滴下し、そのまま８時間攪拌する。後処理、精製
法は実施例１と同じである。（１）２８５１１ｖ（９０
，４％）および（１）６ｑ（８，２％）を得る。
本例を実施例１と比較すれば明らかなようにｎ−ブチル
リチウムを使用するよりもリチウムジイソプロピルアミ
ドを使用した方がテトラゾールの収率がよい。
リチウムを使用するよりもリチウムジイソプロピルアミ
ドを使用した方がテトラゾールの収率がよい。
実施例８
２−（ｐ−メチルフェナシル）−５−）リメチルシリル
テトラゾール（２）および２−（ｐ−メチル７エナシル
）テトラゾール０の合成（１）
（ｌｖ）実施例２において、安息香酸メチルエステルを
ｐ−）ルイル酸メチルエステル（１５０１ｖ。
テトラゾール（２）および２−（ｐ−メチル７エナシル
）テトラゾール０の合成（１）
（ｌｖ）実施例２において、安息香酸メチルエステルを
ｐ−）ルイル酸メチルエステル（１５０１ｖ。
１３１１ｍｏｌ ）にかえた以外、反応条件、後処理。
精製法は同じとする。（１）２４１１＃Ｉ（８７，８％
）おｊび（Ｉｆ）６”ｆ（２，５％）’ｋｍ；６゜（２
）ニー ｍｐ、 ： ７２〜７８．６°Ｃ（ベンゼン−ヘキサン
よりｅ結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９６（ＣｍＯ
）； １２６０．８４６（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
ｇ）： ０．４４（９Ｈ，ｓ、ＳｉＭｅ）、２．４５（
８Ｈ。
）おｊび（Ｉｆ）６”ｆ（２，５％）’ｋｍ；６゜（２
）ニー ｍｐ、 ： ７２〜７８．６°Ｃ（ベンゼン−ヘキサン
よりｅ結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９６（ＣｍＯ
）； １２６０．８４６（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
ｇ）： ０．４４（９Ｈ，ｓ、ＳｉＭｅ）、２．４５（
８Ｈ。
ｉｔ、 Ｍｅ）、 ６．１２（２Ｈ＊ ｌ＋ ＣＨ２）
９７．８４Ｃ２Ｈ９ｄｌＪ■８Ｈｚ＊ ａｒｏｍａｔｉ
ｃＨ）、 ７．９０（２Ｌ ｄｏ Ｊ−８Ｈｚ＋ａｒｏ
ｍａｔｉｃ Ｈ） Ｃ１ｓＨｘｓＮ４０Ｓｉに対する元素分析値ニー理論値
：Ｃ：６６．９０ｔＨ：６．６１；Ｎ：２０．４２（％
）実測値： Ｃ：５６．５４！Ｈ：６．８２；Ｎ：２０
．８８（％）＠ニー ｍｐ−： １ｇ６〜１８７℃（ベンゼン−ヘキサンより
再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７ＧＧ（ＣｍＯ）Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣ１ｍ）： ２．４７（８Ｈ，ｍ、Ｍｅ）、
６．０７（２Ｈ。
９７．８４Ｃ２Ｈ９ｄｌＪ■８Ｈｚ＊ ａｒｏｍａｔｉ
ｃＨ）、 ７．９０（２Ｌ ｄｏ Ｊ−８Ｈｚ＋ａｒｏ
ｍａｔｉｃ Ｈ） Ｃ１ｓＨｘｓＮ４０Ｓｉに対する元素分析値ニー理論値
：Ｃ：６６．９０ｔＨ：６．６１；Ｎ：２０．４２（％
）実測値： Ｃ：５６．５４！Ｈ：６．８２；Ｎ：２０
．８８（％）＠ニー ｍｐ−： １ｇ６〜１８７℃（ベンゼン−ヘキサンより
再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７ＧＧ（ＣｍＯ）Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣ１ｍ）： ２．４７（８Ｈ，ｍ、Ｍｅ）、
６．０７（２Ｈ。
ｌ ＣＨｘ）、 ７．８８（２Ｌ ｄｏ Ｊ−８Ｈｚ＋
ａｒｏｍａｔｉｃＨ）−７，９０（２Ｈ，ｄ、 Ｊ−
８Ｈｚ＋ ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）、 ８．５７（ＩＨ
，易、ＣＨ■Ｎ） Ｃ１ｅＨｔｏＮａＯに対す、６元素分析（ｔＥニー理論
値：Ｃ：５９．４０；Ｈ：４．９８；Ｎ：２７．７１ｅ
／Ｑ実測値：Ｃ：５９．４８；Ｈ：４．７１Ｎ：２７．
９６輪実施例４ ２−（ｐ−メトキシフェナシル）−５−トリメチルシリ
ルテトラゾールα）および２−（ｐ−メトキシ７エナシ
ル）テトラゾール（資）の合成 （マ） ＠ 実施帽において、安息香酸メチルエステルをｐ−７ニス
酸メチルエステル（１６６＃、１１Ｆ１ｍｏｌ ）にか
えた以外、□反応条件、後処理、精製法は同じとする。
ａｒｏｍａｔｉｃＨ）−７，９０（２Ｈ，ｄ、 Ｊ−
８Ｈｚ＋ ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）、 ８．５７（ＩＨ
，易、ＣＨ■Ｎ） Ｃ１ｅＨｔｏＮａＯに対す、６元素分析（ｔＥニー理論
値：Ｃ：５９．４０；Ｈ：４．９８；Ｎ：２７．７１ｅ
／Ｑ実測値：Ｃ：５９．４８；Ｈ：４．７１Ｎ：２７．
９６輪実施例４ ２−（ｐ−メトキシフェナシル）−５−トリメチルシリ
ルテトラゾールα）および２−（ｐ−メトキシ７エナシ
ル）テトラゾール（資）の合成 （マ） ＠ 実施帽において、安息香酸メチルエステルをｐ−７ニス
酸メチルエステル（１６６＃、１１Ｆ１ｍｏｌ ）にか
えた以外、□反応条件、後処理、精製法は同じとする。
（Ｖ）２８５ダ（８０，９％）および（ＶＤ６１ｑ（２
，７％）を得る。
，７％）を得る。
（マ）−−
ｍｐ、ニア８〜７４°Ｃ（ベンゼン−ヘキサンより再結
晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９６（Ｃ＝０）、１２
４６．８５５（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ） ：
０．４４（９Ｌ トＳｉＭｅ）、 ８．９２ （８Ｈ。
晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９６（Ｃ＝０）、１２
４６．８５５（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ） ：
０．４４（９Ｌ トＳｉＭｅ）、 ８．９２ （８Ｈ。
ＩｓＯＭｅ）、６．１２（２Ｌ ｓｏ ＣＨｚ）、７．
０２（２Ｈ＋ ｃＬＪ−８Ｈｚ＋ ａｒｏｍａｔｉｃＨ
）＠ ７．９６（２ＨＩ ｄ、Ｊｗｘ８ｋｂ。
０２（２Ｈ＋ ｃＬＪ−８Ｈｚ＋ ａｒｏｍａｔｉｃＨ
）＠ ７．９６（２ＨＩ ｄ、Ｊｗｘ８ｋｂ。
ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）
Ｃ１ａｎｔ虐Ｎａ０ｍ５ｋに対する元素分析値ニー理論
値：Ｃ：５８．７７＋Ｈ：６．２５；Ｎ： １９．２９
（へ）実測値：Ｃ：５４．０５ｉ）１：６．８２ｉＮ：
１９．４９（へ）＠ニー ｍｐ、： ９６〜９８℃（ベンゼン−ヘキサンより再結
晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９２（Ｃ＝Ｏ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩｇ）： ８．９０（８Ｈ，ｓ、ＯＭｅ）、６
．１０（ｇＨ。
値：Ｃ：５８．７７＋Ｈ：６．２５；Ｎ： １９．２９
（へ）実測値：Ｃ：５４．０５ｉ）１：６．８２ｉＮ：
１９．４９（へ）＠ニー ｍｐ、： ９６〜９８℃（ベンゼン−ヘキサンより再結
晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９２（Ｃ＝Ｏ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩｇ）： ８．９０（８Ｈ，ｓ、ＯＭｅ）、６
．１０（ｇＨ。
ｉ ＣＨｓ）＋ ７．０８（２Ｈｅ ｄｏ Ｊ−９Ｈｚ
＋ ａｒｏｍａｔｉｃＨ）。
＋ ａｒｏｍａｔｉｃＨ）。
７．９８（２Ｈｅ ｄｏ Ｊ−９Ｈｚｅ ａｒｏｍａｔ
ｉｃ Ｈ）＋ ８．６８（Ｉｎ２畠、Ｃ）ｌ−Ｎ） □ Ｃ＋ｏＨｔ・Ｎ４（ｈに対する元素分析値ニー理論値：
Ｃ：６６．０４；Ｈ：４．６２；Ｎ：２６．６７Ｃ％）
実測値：Ｃ：６５．８４ｉＨ：４．８６ｉＮ：２５．７
９（％）実施例５ ２−（８−フェニルアセトニル）−５−）リメチルシリ
ルテトラゾール面の合成 ■ 実施例２において安息香酸メチルエステルをフェニル酢
酸メチルエステル（１５０＃、１ｓｓｍｏｌ）にかえた
以外、反応条件、後処理は同マドグラフィー（展開液：
クロロホルム：ジエチルエーテル冨１０：１）で′ｌｐ
ｉ製し１８５ダ（４９，２％）の（至）を得る。
ｉｃ Ｈ）＋ ８．６８（Ｉｎ２畠、Ｃ）ｌ−Ｎ） □ Ｃ＋ｏＨｔ・Ｎ４（ｈに対する元素分析値ニー理論値：
Ｃ：６６．０４；Ｈ：４．６２；Ｎ：２６．６７Ｃ％）
実測値：Ｃ：６５．８４ｉＨ：４．８６ｉＮ：２５．７
９（％）実施例５ ２−（８−フェニルアセトニル）−５−）リメチルシリ
ルテトラゾール面の合成 ■ 実施例２において安息香酸メチルエステルをフェニル酢
酸メチルエステル（１５０＃、１ｓｓｍｏｌ）にかえた
以外、反応条件、後処理は同マドグラフィー（展開液：
クロロホルム：ジエチルエーテル冨１０：１）で′ｌｐ
ｉ製し１８５ダ（４９，２％）の（至）を得る。
＃Ｉ＃Ｊニー
ｍｐ、： １００〜１０１’Ｃ（ベンゼン−ヘキサンよ
り再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７８０（Ｃ＝Ｏ）
、１２６０．８５０（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣ１ｉ）
： ０．口（９Ｈ，ｓ 、 ＳｉＭｅ ） 、 ８．
８０ （２）１゜畠、ｃｏｃよｊｌＰｈ） 、５．６２
（２Ｈ，ｓ、Ｃ０ＣＨｘＮ）−７，２０〜７．６２（６
Ｌ ｎｌｌ ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）Ｃ＋５ＨｔａＮ４
０Ｓｉに対する兄事分析ｆ＝ ： −理論値：Ｃ：６６
．９０ｔＨ：６．６１；Ｎ：２０．４２（％）！１１１
Ｊ値：Ｃ：５６．９７；Ｈ：６．６５；Ｎ：２０．６６
（％）実施例６ ２−７エナシルテトラゾール値）の合成中
（１） （１）（目目”ｆ ＋ Ｏ−４ｍｍｏｌ）、製塩＃（２
滴）およびメタノール（１０ｍｌ）の溶液を１時間速流
攪拌する。溶媒を減圧留去後、残留物に水１０１ｔｔ−
加え、５％カセーソーダ水浴液でアルカリ性とした後、
ベンゼンで抽出する。ベンゼン層を水洗、乾燥（無水硫
酸マグネシウム）後溶媒ｉＩＮ云し、無色結晶（１）６
７Ｉｖ（８９，０％）を得る。
り再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７８０（Ｃ＝Ｏ）
、１２６０．８５０（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣ１ｉ）
： ０．口（９Ｈ，ｓ 、 ＳｉＭｅ ） 、 ８．
８０ （２）１゜畠、ｃｏｃよｊｌＰｈ） 、５．６２
（２Ｈ，ｓ、Ｃ０ＣＨｘＮ）−７，２０〜７．６２（６
Ｌ ｎｌｌ ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）Ｃ＋５ＨｔａＮ４
０Ｓｉに対する兄事分析ｆ＝ ： −理論値：Ｃ：６６
．９０ｔＨ：６．６１；Ｎ：２０．４２（％）！１１１
Ｊ値：Ｃ：５６．９７；Ｈ：６．６５；Ｎ：２０．６６
（％）実施例６ ２−７エナシルテトラゾール値）の合成中
（１） （１）（目目”ｆ ＋ Ｏ−４ｍｍｏｌ）、製塩＃（２
滴）およびメタノール（１０ｍｌ）の溶液を１時間速流
攪拌する。溶媒を減圧留去後、残留物に水１０１ｔｔ−
加え、５％カセーソーダ水浴液でアルカリ性とした後、
ベンゼンで抽出する。ベンゼン層を水洗、乾燥（無水硫
酸マグネシウム）後溶媒ｉＩＮ云し、無色結晶（１）６
７Ｉｖ（８９，０％）を得る。
実施例７
２−Ｃｐ−メチルフェナシル）テトラソールα）の合成
面
（ＩＤ （６９Ｍｆ 、 ０．２５ Ｆｌ＋ｆｍｏｌ）
、濃塩酸（２７％）およびメタノール（６ｍｌ）の溶液
を８時間還流、攪拌する。後処理は実施例６と同様とす
る。
、濃塩酸（２７％）およびメタノール（６ｍｌ）の溶液
を８時間還流、攪拌する。後処理は実施例６と同様とす
る。
粗生成物をベンゼン−ヘキサンより再結晶し、０ｆ３４
１１Ｆ（８１，２％）を得る。
１１Ｆ（８１，２％）を得る。
実施例８
２−（ｐ−メトキシフェナシル）テトラソール（至）の
合成 （２） ｆｆ）（１６７１１ｆ１．０．５４１１！ｍｏｌ）、濃
塩酸（２滴）およびメタノール（ｌａｍｔ／）の溶液を
４時間還流、攪拌する。後処理＃ｉ実施例６と同様とす
る。
合成 （２） ｆｆ）（１６７１１ｆ１．０．５４１１！ｍｏｌ）、濃
塩酸（２滴）およびメタノール（ｌａｍｔ／）の溶液を
４時間還流、攪拌する。後処理＃ｉ実施例６と同様とす
る。
粗生成物をベンゼン−ヘキサンより再結晶しく資）８８
ｑ（７４，７％）を得る。
ｑ（７４，７％）を得る。
実施内９
２−（ｐ−クロロフェナシル）−５−）リメチルシリル
テトラゾール（ｖｌＩｌ）および２−（ｐ−クロロ７エ
ナシル）テトラゾール（ＩＸ）の合成 （Ｖｌ） （ＩＫ）実施例２
において安息香酸メチルをｐ−クロロ安息香酸メチル（
１７０１１ｆ１．１ ｍｍｏｌ）に、トリメチルシリル
ジアゾメタンｆ ２．２ ｍｍｏｌ ／ｍｌのヘキサン
溶液（１，０９ｍ１．２．４ ｍｍｏｌ） Ｋかえた以
外、反応条件、後処理は同じとする。粗生成物を分権薄
層シリカゲルカラムクロマトグラフ（−（展ＭＩＫ：ク
ロロホルム：エタノール■２０：１）で精製しく■）２
６０Ｉｖ（８８，２％）、（［）８Ｊｖ（１，８％）を
得る。
テトラゾール（ｖｌＩｌ）および２−（ｐ−クロロ７エ
ナシル）テトラゾール（ＩＸ）の合成 （Ｖｌ） （ＩＫ）実施例２
において安息香酸メチルをｐ−クロロ安息香酸メチル（
１７０１１ｆ１．１ ｍｍｏｌ）に、トリメチルシリル
ジアゾメタンｆ ２．２ ｍｍｏｌ ／ｍｌのヘキサン
溶液（１，０９ｍ１．２．４ ｍｍｏｌ） Ｋかえた以
外、反応条件、後処理は同じとする。粗生成物を分権薄
層シリカゲルカラムクロマトグラフ（−（展ＭＩＫ：ク
ロロホルム：エタノール■２０：１）で精製しく■）２
６０Ｉｖ（８８，２％）、（［）８Ｊｖ（１，８％）を
得る。
（Ｖｌ） ： −
ｍｐ、： １０１−１０２°Ｃ（ベンゼン−ヘキサンよ
り再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９５（Ｃ＝０
）、１２４５．８５０（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣｂ）
： ０．４４（９Ｈ，ｓ、ＳｉＭｅ）、６−０６（２Ｈ
。
り再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １６９５（Ｃ＝０
）、１２４５．８５０（ＳｉＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣｂ）
： ０．４４（９Ｈ，ｓ、ＳｉＭｅ）、６−０６（２Ｈ
。
ｓ、 ＣＨ２）、 ７．４４（２Ｈ１ｃＬ Ｊ−８Ｈｚ
、 ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）Ｓ７．８２（２Ｈ，ｄｏ
Ｊ−８Ｈｚ、 ａｒｏｍｔｉｃＨ）Ｃ＋ｚＨ＋５ＣｔＮ
ａＯ８ｉに対する元素分析値ニー理論値：Ｃ：４８．８
９嘔Ｈ：６．１８ｉＮ： １９．００（％）実測値：Ｃ
：４８．７４ｉＨ：４．９９ｉＮ：１１２８（％）（Ｗ
） ： − ｍｐ−： １４４〜１４５．５℃（ベンゼンーヘキテン
より再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７０５（Ｃ＝０
）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ）： ６．１Ｇ（２Ｈ，ｓ、ＣＨ
ｚ）、７．５７（２１゜ｄ、Ｊｍ８Ｈｚ、ａｒｏｍａｔ
ｉｃＨ）、７．９６（２Ｈ，ｄ。
、 ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）Ｓ７．８２（２Ｈ，ｄｏ
Ｊ−８Ｈｚ、 ａｒｏｍｔｉｃＨ）Ｃ＋ｚＨ＋５ＣｔＮ
ａＯ８ｉに対する元素分析値ニー理論値：Ｃ：４８．８
９嘔Ｈ：６．１８ｉＮ： １９．００（％）実測値：Ｃ
：４８．７４ｉＨ：４．９９ｉＮ：１１２８（％）（Ｗ
） ： − ｍｐ−： １４４〜１４５．５℃（ベンゼンーヘキテン
より再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）： １７０５（Ｃ＝０
）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ）： ６．１Ｇ（２Ｈ，ｓ、ＣＨ
ｚ）、７．５７（２１゜ｄ、Ｊｍ８Ｈｚ、ａｒｏｍａｔ
ｉｃＨ）、７．９６（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝８Ｈｚ、ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）＋ ８．６０（Ｉ
Ｈ，ａ、ＣＨｓｇＮ）Ｃ＠Ｈｙ Ｃ１Ｎ４０に対する元
素分析値ニー理論値：Ｃ：４ｇ、６６：Ｈ：８．Ｓ７；
Ｎ：２５．１？（％）実測値： Ｃ：４８．６６ｉＨ：
２．９９；Ｎ：２５．４７（％）実施例１０ ２−（２−オキンプチル）−６−ドリメチルシリルテト
ラゾールα） ■ 実施例２において安息香酸メチルをプロピオン酸メチル
（８８１ｆ、 ｌｊｌｌｍｏｌ）に、ト、リメチルシリ
ルジアゾメタンを２．２ ｍｍｏｌ／ｇ／のヘキサン溶
液（１，０９ｄ、 ２．４ ｍｍｏｌ）にかえた以外、
反応条件、処理は同じとする。粗生成物を分権薄層シリ
カゲルクロマトグラフィー（展開液：クロロホルム：ジ
エチルエーテル−２０： １ ）で精製し淡黄色油状の
α）１８１１ｖ（６１，７％）を得る。
Ｈ，ａ、ＣＨｓｇＮ）Ｃ＠Ｈｙ Ｃ１Ｎ４０に対する元
素分析値ニー理論値：Ｃ：４ｇ、６６：Ｈ：８．Ｓ７；
Ｎ：２５．１？（％）実測値： Ｃ：４８．６６ｉＨ：
２．９９；Ｎ：２５．４７（％）実施例１０ ２−（２−オキンプチル）−６−ドリメチルシリルテト
ラゾールα） ■ 実施例２において安息香酸メチルをプロピオン酸メチル
（８８１ｆ、 ｌｊｌｌｍｏｌ）に、ト、リメチルシリ
ルジアゾメタンを２．２ ｍｍｏｌ／ｇ／のヘキサン溶
液（１，０９ｄ、 ２．４ ｍｍｏｌ）にかえた以外、
反応条件、処理は同じとする。粗生成物を分権薄層シリ
カゲルクロマトグラフィー（展開液：クロロホルム：ジ
エチルエーテル−２０： １ ）で精製し淡黄色油状の
α）１８１１ｖ（６１，７％）を得る。
■ニー
ＩＲ（Ｆｉｌｍ） ： １７８５（Ｃ＝Ｏ）、 １２５
０．８５０（ＳｔＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣｂ） ： ０．
４１（９Ｈ，ｓ、 ＳｉＭｅ）、 １．１０（８Ｈ。
０．８５０（ＳｔＭｅ）ＮＭＲ（ＣＤＣｂ） ： ０．
４１（９Ｈ，ｓ、 ＳｉＭｅ）、 １．１０（８Ｈ。
ｔ、 Ｊ＝７Ｈｚ、 ＣＨ＊Ｃ旦ｊ）１２．４８（２Ｈ
１ｑ＊ Ｊ−７Ｈｚ＋Ｃｊｉ７ＣＨａ） 、 ５．４２
（２Ｈ，ａ 、 ＣＨ２）ＣｓＨ＋ａＮ４０Ｓｉ Ｖ
層対する元素分析値ニー理論値： Ｃ：４５．２５；Ｈ
ニア、６０；Ｎ：２６．８９（％）実測値：Ｃ：４６．
０ＯｉＨニア、６０ｉＮ：２６．４４（％）実施例１１ ２−ニコチニルメチルテトラゾール（至）実施例２にお
いて安息香酸メチルをニコチン酸メチル（１８７Ｍｆ、
１ ｍｍｏｌ）に、トリメチルシリルジアゾメタン
を２．２ ｍｍｏｌ／ｓ／のヘキサン浴液（１，０９ｍ
ｌ ＋ ２．４ ｍｒｎｏｌ）にかえた以外、反応条件
は同じとする。反応液に氷水を加えジエチルエーテルで
抽出する。水層に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えジ
エチルエーテルで抽出する。両ジエチルエーテル抽出液
を合せ水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）する、溶媒
を留去し、残留中を分域薄層シリカゲルクロマトグラフ
ィーにてＮ製し＠５１ｊｖ（２７％）を得る。
１ｑ＊ Ｊ−７Ｈｚ＋Ｃｊｉ７ＣＨａ） 、 ５．４２
（２Ｈ，ａ 、 ＣＨ２）ＣｓＨ＋ａＮ４０Ｓｉ Ｖ
層対する元素分析値ニー理論値： Ｃ：４５．２５；Ｈ
ニア、６０；Ｎ：２６．８９（％）実測値：Ｃ：４６．
０ＯｉＨニア、６０ｉＮ：２６．４４（％）実施例１１ ２−ニコチニルメチルテトラゾール（至）実施例２にお
いて安息香酸メチルをニコチン酸メチル（１８７Ｍｆ、
１ ｍｍｏｌ）に、トリメチルシリルジアゾメタン
を２．２ ｍｍｏｌ／ｓ／のヘキサン浴液（１，０９ｍ
ｌ ＋ ２．４ ｍｒｎｏｌ）にかえた以外、反応条件
は同じとする。反応液に氷水を加えジエチルエーテルで
抽出する。水層に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えジ
エチルエーテルで抽出する。両ジエチルエーテル抽出液
を合せ水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）する、溶媒
を留去し、残留中を分域薄層シリカゲルクロマトグラフ
ィーにてＮ製し＠５１ｊｖ（２７％）を得る。
ｍｐ、：１００〜１０１．５℃（ペンゼンーヘキブンよ
り再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６９５ （Ｃ＝
０ ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ）： ６．１４（２Ｈ，ｓ、
ＣＨ２）、７．４０〜９．２０（４Ｈ＋ ｎ１＋
ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ） 、 ８．６０ （２Ｉ−１
，ｓ 、 ＣＨｚ−Ｎ）ＣｓＨｙ ＮｓＯに対する元
素分析値−一理論値：Ｃ：５０．７９；Ｈ：８．７８；
Ｎ：８７．０２（％）実測値： Ｃ：５１．０１ｉＨ：
８．５２ｉＮ：８６．８５（’、Ｇ）実施例１２ ２−（ｐ−クロロフェナシル）テトラゾール（Ｖ層）
（■）（ＶＩＤ （１４’？”Ｖ、 Ｏｆ７１ｍｏｌ
）、 （ｌｋ塩酸（２滴）およびメタノール（１０耐）
の浴液を４．５時間ｊｌｔ＆、攪拌する。後処理は実施
例６と同様とする。粗生成物をベンゼン−ヘキサンより
再結晶しω９２ダ（８２，９％）を得る。
り再結晶）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６９５ （Ｃ＝
０ ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ）： ６．１４（２Ｈ，ｓ、
ＣＨ２）、７．４０〜９．２０（４Ｈ＋ ｎ１＋
ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ） 、 ８．６０ （２Ｉ−１
，ｓ 、 ＣＨｚ−Ｎ）ＣｓＨｙ ＮｓＯに対する元
素分析値−一理論値：Ｃ：５０．７９；Ｈ：８．７８；
Ｎ：８７．０２（％）実測値： Ｃ：５１．０１ｉＨ：
８．５２ｉＮ：８６．８５（’、Ｇ）実施例１２ ２−（ｐ−クロロフェナシル）テトラゾール（Ｖ層）
（■）（ＶＩＤ （１４’？”Ｖ、 Ｏｆ７１ｍｏｌ
）、 （ｌｋ塩酸（２滴）およびメタノール（１０耐）
の浴液を４．５時間ｊｌｔ＆、攪拌する。後処理は実施
例６と同様とする。粗生成物をベンゼン−ヘキサンより
再結晶しω９２ダ（８２，９％）を得る。
以上
Claims (2)
- （１） リチウムトリアルキルシリルジアゾメタニド
（ここにアルキル基は炭素数４以下のものであり、同一
分子内の８つのアルキル基は同種のものであっても、互
に異なったものであってもよい。）をエステルと反応さ
せることを特徴とする２−置換−６−トリアルキルシリ
ルテトラ類 ゾール瞭秦※の製造方法。 - （２） リチウムトリアルキルシリルジアゾメタニド
（ここにアルキル基は炭素数４以下のものであ夛、同一
分子内の８つのアルキル基は同種のものであっても、互
に異なったものであっても叢を酸処理することを特徴と
する２−置換−テトラゾール類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2239082A JPS58140083A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | テトラゾ−ル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2239082A JPS58140083A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | テトラゾ−ル類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58140083A true JPS58140083A (ja) | 1983-08-19 |
Family
ID=12081320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2239082A Pending JPS58140083A (ja) | 1982-02-15 | 1982-02-15 | テトラゾ−ル類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58140083A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021080380A1 (en) * | 2019-10-24 | 2021-04-29 | Sk Biopharmaceuticals Co., Ltd. | Method for preparing aryl 2-tetrazol-2-yl ketone with improved selectivity |
-
1982
- 1982-02-15 JP JP2239082A patent/JPS58140083A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021080380A1 (en) * | 2019-10-24 | 2021-04-29 | Sk Biopharmaceuticals Co., Ltd. | Method for preparing aryl 2-tetrazol-2-yl ketone with improved selectivity |
| CN114901647A (zh) * | 2019-10-24 | 2022-08-12 | 爱思开生物制药株式会社 | 具有改进的选择性的制备芳基2-四唑-2-基酮的方法 |
| CN114901647B (zh) * | 2019-10-24 | 2024-04-02 | 爱思开生物制药株式会社 | 具有改进的选择性的制备芳基2-四唑-2-基酮的方法 |
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